JPS63187687A - 印刷配線基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷配線基板の製造方法に関する。

〔発明の概要〕

本発明は、印刷配線基板の製造方法において、回路パタ
ーンの接点メッキとして錫ニッケルメッキを用い、少な
くとも接点部及びメッキ用リード部上に錫ニッケルメッ
キが施されメッキ用リード部が互いに連結された回路パ
ターンを形成し、その後、メッキ用リード部を錫ニッケ
ルメッキと共に選択エツチングして回路パターンを分離
する事により、性能を低下させることなく製造工程を簡
略化できるようにしたものである。

〔従来の技術〕

第３図は、従来の金属ベースを用いた印刷配線基板の製
造方法の一例を示す。まず、金属ベース（１）上に絶縁
層（２）を介して銅箔（３）が被着形成されたいわゆる
銅張積層基板（４）を用意する（第３図Ａ。

Ａ’　）。次に、銅箔（３）上にエツチングレジスト（
５）を、形成すべき回路パターン及び各回路パターンの
一端を連結したメッキ用リード部に対応したパターンを
もって被着形成する（第３図Ｂ、Ｂ”）。

次に、エツチングレジスト（５）をマスクとして銅箔（
：３）を選択エツチングし、メッキ用リード部（６）及
びこのメッキ用リード部（６）によって互いに一端が共
通に接続された回路パターン（７）を形成して後（第３
図ｃ、ｃ’　＞。エツチングレジスト（５）を除去する
（第３スＤ、Ｄ’　）。次に、ソルダーレジスト層（８
）を塗布する（第３図Ｅ、Ｅ’　）。この場合のソルダ
ーレジスト層（８）はいわゆる各回路パターン（７）の
接点部（９）及びメッキ用リード部（６）を除（他部全
面に被着形成される。次に、メッキ用リード部（５）の
一部即ち回路パターン（７）に接する部分上にメツキレ
シスト層（１０）を塗布しく第３図Ｆ、Ｆ’　）次でこ
のメツキレシストｊ５（１０）及びソルダーレジスト層
（８）をマスクとしてその接点部（９）にメッキ（１１
）を施す（第３図Ｇ、Ｇ’　）。この場合のメッキとし
てはニッケル及び金メッキを施す。次にメツキレシスト
層（１１）を除去しく第３図Ｈ，Ｈ’）さらにメ・ツキ
用リード部（６）を除く全面にエツチングレジスト層（
１２）を塗布して後（第３図Ｉ、ビ）塩化第２鉄もしく
は塩化第２銅による工・７チンダ液によってメッキ用リ
ード部（６）叩ち、前述のメンキレジストＦｉ（１０）
を除去した部分をエツチング除去し各回路を分離する（
第３図Ｊ、Ｊ’）。しかる後、エツチングレジスト１（
１２）を除去する。

このようにして金属ベースを有する印刷配線基板（１３
）を形成する。

この印刷配線基Ｆｊ、（１３）における接点部（９）は
いわゆる半田付は部となる場合、あるいはコネクタの接
点部となる場合さらにはロータリースインチの摺動部と
なる場合等その使用に応じて夫々使い分けられる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述の従来の製造方法においては第３図Ｇ、Ｇ’の接点
部（９）に対するメッキ工程において耐蝕性、低接触抵
抗等の接点としての性能及び半田付は性を得る為ミ通常
ニッケル＋金もしくは銀のような貴金属が用いられる。

しかしながら金属ベースを用いた印刷配線基板の場合、
メッキ用リード部（６）が製品の端まできているとメッ
キ時において金属ベース（１）とショートしてしまう為
、メッキ用リード部（６）を途中で切除する必要がある
。しかしながら貴金属はエツチング液として安価な塩化
第２鉄液あるいは塩化第２銅液では溶けない為メッキす
る前にメッキ用リード部（６）上にあらかじめメツキレ
シスト層（１０）を塗布する必要がある。これが為に工
程が複雑になる欠点がある。また貴金属メッキは一般的
にコスト高となるを免れない。

本発明は、上述の点に鑑み、接点部のメッキ及びエツチ
ング液の選択により性能を低下させることなく製造工程
を簡略化し、安価に得られるようにした印刷配線基板の
５Ａ造方法を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、少くとも接点部及びメッキ用リード部上に錫
ニッケル合金メッキが施されメッキ用リード部で互いに
連結された回路パターンを形成する工程と、メッキ用リ
ード部を錫ニッケル合金メッキと共にエツチング除去し
、互いに分離した回路パターンを形成する工程を有する
印刷配線基板の製造方法である。

接点及び回路パターンのメッキ用リード部上に錫ニッケ
ル合金メッキを施す場合においては、例えば回路パター
ンを形成した後にその接点部及びメッキ用リード部のみ
、又は全パターンに錫ニッケル合金メッキを施してもよ
い。あるいは回路パターン及びメッキ用リード部のパタ
ーン形成の際にあらかじめパターンに対応するように錫
ニッケル合金メッキを施してこの錫ニッケル合金メッキ
をマスクとしてエツチングしてパターンを形成するよう
にしてもよい。従ってこのときはパターン全面に錫ニッ
ケル合金メッキが施される。

またエツチング液としては塩化第２鉄あるいは塩化第２
銅の液を使用し得る。

〔作用〕

少なくとも接点部及びメッキ用リード部上に錫ニッケル
合金メッキが施され、爾後メッキ用リード部をエツチン
グ除去する際には塩化第２鉄もしくは塩化第２銅エツチ
ング液によって錫ニッケル合金メッキと共にその下の胴
部分もエツチング除去している。この為に従来のような
接点部のメッキ前にメッキ用リード部上をエツチングレ
ジスト層で覆う工程あるいはその後エソチングレジスト
層を除去する工程が省略され工程が簡略化する。

またこの錫ニッケル合金メッキは耐摩耗性、耐防蝕性、
低接触抵抗等接点メ・７キとしての性能を有しかつ半田
付は性の良いものである。したがって接点部としての性
能を損うことはない。

〔実施例〕

以下、図面を参照して本発明による印刷配線基板の製造
方法の実施例を説明する。

実施例１ 第１図を参照して説明する。

アルミニウムあるいは鉄等の金属ベースｆｉｌの一面に
絶縁層（２）を介して銅Ｖ３（３１が被着形成されたい
わゆる銅張積層基Ｆｉ、（４）を用意しく第１図Ａ、Ａ
’　）、この銅箔上に印刷法あるいは写真法によってエ
ツチングレジスト層（５）を形成する（第１図Ｂ、Ｂ’
　）。

このエツチングレジスト層（５１は形成すべき回路パタ
ーン及び各回路パターンの一端を連結したメッキ用リー
ド部を含むパターンに対応したパターンに形成される。

次にこのレジスト層（５）をマスクとして銅箔（３）を
塩化第２鉄液あるいは塩化第２銅液によりエツチングし
、メッキ用リード部及びこのメンキ用リード部（６）に
χ互いに連結された回路パターン（７）を形成する（第
１図Ｃ，Ｃ’　）。次に、エツチングレジスト層（５）
を除去する（第１図り、Ｄ’　）。

次に、回路パターン上にソルダーレジスト層（８）を塗
布する（第１図Ｅ、Ｅ”）。このソルダーレジスト１（
８１は、回路パターンの接点部（９）及びメッキ用リー
ド部（６）を除く他部全面に被着形成される。

またソルダーレジスト層（８）は紫外線硬化型あるいは
熱硬化型のソルダーレジストを使用する。

次に、厚さ０．５μ〜２０μ程度の錫ニッケル合金メッ
キ（１５）　　（電気メ・ツキ）をソルダーレジスト層
（８）が被着されない部分すなわち接点部（９）及びメ
ッキ用リード部（６）上に施す（第１図Ｆ、Ｆ’　）。

次に、メッキ用リード部（６）を除く池部全面即ら回路
パターン（７）に対応する部分全面にエツチングレジス
ト層（１２）を被着形成する（第１図Ｇ、　Ｇ”）。

次に塩化第２鉄あるいは塩化第２銅のエツチング液でメ
ッキ用リード部（６）を錫ニッケル合金メッキ（１５）
とともにエツチング除去する（第１図Ｈ１Ｈ’　）。

しかる後、エツチングレジスト層（１２）を除去し目的
の印刷配線基板（１６）を作成する。

尚、ソルダーレジス）　Ｎ　（８）の印刷工程は上剥に
限定されるものではない。

かかる、印刷配線基板の製法によれば、半田付は部ある
いはコレクタの接点部、ロータリースイッチ等の摺動部
となる接点部に錫ニッケル合金メッキを施ずことによっ
て、その接点部の耐摩耗性、良半田付は性、耐防蝕性、
低接触抵抗性を保持することができる。また接点メッキ
として塩化第２鉄、塩化第２銅のエツチング液でエツチ
ングされ、且つ安価な錫ニッケル合金メッキを使用する
ことにより、第３図の従来例と比較した場合に、接点メ
ッキを行なう前にメッキ用リード部上をメンキレジスト
で被覆する工程及びその後そのメツキレシスト層を除去
する工程が省略される為に製造工程が簡略化され、コス
トダウンを図ることができる。

実施例２ 第２図を参照して説明する。

アルミニウムあるいは鉄等の金属ベース（１）の−面に
絶縁層（２）を介して銅箔（３）が被着された銅張積層
基板（４）を用意しく第２図Ａ、Ａ”）　、印刷法ある
いは写真法で銅箔（３）上にメツキレジスｌ一層（１７
）を形成する（第２図Ｂ、Ｂ’　）。ごのメツキレシス
ト層（１７）は各回路パターンとこれに連接されたメッ
キ用リード部を有するパターンの逆パターン（ネガパタ
ーン）をもって形成する。

次にメツキレシスト層（１７）をマスクに錫ニッケル合
金メッキ（１５）を行う（第２１ｍＣ，Ｃ”）。

すなわちこの錫ニッケル合金メッキ（１５）は、各回路
パターン及びメッキ用リード部を含むパターンをもって
形成される。

次にメツキレシスト層（１７）を除去しく第２図り、Ｄ
”）　、アルカリエツチング液あるいはＨ２０２系のエ
ツチング液で錫ニッケル合金メッキ（１５）をマスクと
して銅’；ｆＪ　（３１を選択エツチング除去し、回路
パターン（メッキ用リード部（６）を含む）（７）を形
成する（第２図Ｅ、Ｅ’　）。

次に、ソルダーレジスト層（８）を印刷する（第２図Ｆ
、Ｆ’）。このソルダーレジスト層（８）は第１図の場
合と同様にメッキ用リード部（６）及び接点部（９）を
除く他部全面に塗布される。

次に、エツチングレジスト層（１２）をメッキ用リード
部（６）を除く回路パターン側の全面に塗布する（−第
２図Ｇ、Ｇ’　）。次いで塩化第２銅あるいは塩化第２
鉄のエツチング液によってメッキ用リード部（６）をエ
ツチング除去して各回路パターン（７）を分離する（第
２図Ｈ，ＩＩ’　）。

しかる後、エツチングレジスト１（１２）を除去し目的
の印刷配線基板（１８）を作成する。

尚ソレダーレジス）Ｎ（８１の印刷工程は上剥に限定さ
れるものではない。

実施例２の製法においても第１図の実施例１を同様に従
来法から比べてその製造工程の簡略化及びコストダウン
が図られる。

実施例３ 実施例１及び２には片面回路パターンを有する印刷配線
基板の例であるが、これと同様な工程が両面回路パター
ンを有する印刷配線基板のいわゆるスルーホール基板に
も通用できるものである。

また上剥では金属ベースを有した印刷配線基板の製造に
通用したが絶縁基板上に回路パターンを形成する通常の
印刷配線基板の製造にも適用できるものである。

（発明の効果〕 本発明によれば回路パターンの接点メッキとして、接点
メ・／キに使用可能でかつ半田付は性の良いしかも塩化
第２鉄あるいは塩化第２銅のエツチング液でエツチング
可能な錫ニッケル合金メッキを使用したことにより、従
来の金属メッキを使用した場合に比べてその製造工程を
簡略化することができかつ接点メッキ自体も安価に得ら
れるものであり、印刷配線基板を安価に提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ−１は本発明による印刷配線基板の製造方法の
一実施例を示す工程順の断面図、第１図Ａ′〜■′はそ
の平面図、第２図Ａ　−Ｉは本発明の印刷配線基板の製
造方法の他の実施例を示す工程順の断面図、第２図Ａ′
〜１′はその平面図、第３図Ａ−には従来の印刷配線基
板の製法の例を示す工程順の断面図、第３図Ａ′〜に′
はその平面図である。 （１）は金属ベース、（２）は絶縁層、（３）は銅箔、
（６）はメッキ用リード部、（７）は回路パターン、（
８）はソルダーレジスト層、（１２）はエツチングレジ
スト層、（１５）は錫ニッケル合金メッキ（電気メッキ
）である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ａ　少くとも接点部及びメッキ用リード部上に錫ニッケ
   ル合金メッキが施され上記メッキ用リード部で互いに連
   結された回路パターンを形成する工程。 ｂ　上記メッキ用リード部を錫ニッケル合金メッキと共
   にエッチング除去し互いに分離された回路パターンを形
   成する工程を有する印刷配線基板の製造方法。