JPS63184765A - 現像剤用磁性キヤリア - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真法、静電記録法、静電印刷法に使用す
る二成分系現像剤用磁性キャリア、特に軽量で長寿命か
つ現像性に優れた現像剤用磁性キャリアに関する。
る二成分系現像剤用磁性キャリア、特に軽量で長寿命か
つ現像性に優れた現像剤用磁性キャリアに関する。
(従来の技術およびその問題点)
従来、感光体ドラム上に形成された静電荷潜像を可視化
する現像方法としては磁気ブラシ法、ファーブラシ法、
加圧現像法、カスケード法等の方式があるが、得られる
画像の品質の点から磁気ブラシ法が多(採用されている
。
する現像方法としては磁気ブラシ法、ファーブラシ法、
加圧現像法、カスケード法等の方式があるが、得られる
画像の品質の点から磁気ブラシ法が多(採用されている
。
磁気ブラシ法は内部に磁石を設置したスリーブ表面に生
じたキャリア(例えば、鉄粉またはフェライト粒子)に
よる穂に、予めキャリアとの間で摩擦帯電したトナーと
呼ばれる樹脂粒子を担持させて感光体表面に搬送し、感
光体上の逆電荷を有する潜像上にトナーを静電的に付着
させることにより現像する。従って、現像剤としてトナ
ーとキャリアの2成分を含むものを使用する。
じたキャリア(例えば、鉄粉またはフェライト粒子)に
よる穂に、予めキャリアとの間で摩擦帯電したトナーと
呼ばれる樹脂粒子を担持させて感光体表面に搬送し、感
光体上の逆電荷を有する潜像上にトナーを静電的に付着
させることにより現像する。従って、現像剤としてトナ
ーとキャリアの2成分を含むものを使用する。
キャリアとして鉄粉または鉄粉を処理したものは、電気
特性のバラツキが多く、高飽和磁化により硬い穂立ちに
よる画質の低下がみられる。また、鉄粉は比重が大きく
、摩擦帯電時に大きなエネルギーを必要とし、回転トル
クの増大による発熱のためキャリア表面にトナーが付着
しやすくなる。
特性のバラツキが多く、高飽和磁化により硬い穂立ちに
よる画質の低下がみられる。また、鉄粉は比重が大きく
、摩擦帯電時に大きなエネルギーを必要とし、回転トル
クの増大による発熱のためキャリア表面にトナーが付着
しやすくなる。
この鉄粉系のキャリアを改良するものとしてフェライト
キャリアが提案されている。しかしながら、フェライト
キャリアは製造が複雑であり、キャリア自体も鉄粉より
軽いものの(鉄粉の2/3)、更に小型化省エネルギー
化が要求されるようになり必ずしも充分満足するもので
、はない。しかもこれらのキャリアにおいは粒径のバラ
ツキに付随して磁気特性の分布も大きくなるという問題
がある。
キャリアが提案されている。しかしながら、フェライト
キャリアは製造が複雑であり、キャリア自体も鉄粉より
軽いものの(鉄粉の2/3)、更に小型化省エネルギー
化が要求されるようになり必ずしも充分満足するもので
、はない。しかもこれらのキャリアにおいは粒径のバラ
ツキに付随して磁気特性の分布も大きくなるという問題
がある。
キャリアの軽量化に対しては特開昭57−177160
号または特開昭58−23032号公報により、フェラ
イト粒子中に空孔を形成させる方法が提案されている。
号または特開昭58−23032号公報により、フェラ
イト粒子中に空孔を形成させる方法が提案されている。
これらの方法によれば噴霧乾燥等の条件を厳密に調整す
る必要があり、条件の僅かな変動によって得られるキャ
リア粒子は広い密度分布を有するものとなり、現像機内
では、密度の小さいキャリアではトナー粒子との摺擦が
十分であるが、密度の大きいキャリアでは摺擦が不十分
となって、トナーの帯電分布が広くなり、画像品質を著
しく低下させることとなる。
る必要があり、条件の僅かな変動によって得られるキャ
リア粒子は広い密度分布を有するものとなり、現像機内
では、密度の小さいキャリアではトナー粒子との摺擦が
十分であるが、密度の大きいキャリアでは摺擦が不十分
となって、トナーの帯電分布が広くなり、画像品質を著
しく低下させることとなる。
また、キャリアの小粒径化も高画質の観点から要請され
、小粒径キャリアを得る方法としては、特開昭54−6
6134号公報により、バインダー樹脂中に磁性体微粒
子を分散含有させた小粒径キャリアが提案されているが
、このような磁性体分散型キャリアにおいては、磁性体
の均一分散は困難であり、キャリア表面には磁性体が不
均一に分布することとなって、磁気特性のむらおよび電
気特性のむらを生じ、長時間の運転においてはバイング
ー樹脂部分が選択的に摩耗してキャリアの表面特性、特
に電気特性が変化し、結果として現像性の低下を招く。
、小粒径キャリアを得る方法としては、特開昭54−6
6134号公報により、バインダー樹脂中に磁性体微粒
子を分散含有させた小粒径キャリアが提案されているが
、このような磁性体分散型キャリアにおいては、磁性体
の均一分散は困難であり、キャリア表面には磁性体が不
均一に分布することとなって、磁気特性のむらおよび電
気特性のむらを生じ、長時間の運転においてはバイング
ー樹脂部分が選択的に摩耗してキャリアの表面特性、特
に電気特性が変化し、結果として現像性の低下を招く。
特開昭61−34902号公報には多孔性重合体粒子上
に鉄系金属の水酸化物および/または酸化物を沈着させ
、さらに重合体被覆層を設けた磁性粒子が開示されてい
る。この粒子は鉄系金属の水酸化物および/または酸化
物の、単なる沈着に基づくもので、磁性体の脱落が予想
され、そのため磁性体沈着後重合体の被覆層を設ける必
要がある。
に鉄系金属の水酸化物および/または酸化物を沈着させ
、さらに重合体被覆層を設けた磁性粒子が開示されてい
る。この粒子は鉄系金属の水酸化物および/または酸化
物の、単なる沈着に基づくもので、磁性体の脱落が予想
され、そのため磁性体沈着後重合体の被覆層を設ける必
要がある。
更に、特開昭61−93603号の方法によれば、核体
粒子の熱的性質を利用して表面に磁性粉を付着した磁性
粒子が開示されている。この場合、ポリマー粒子表面付
近には磁性粉が強固に付着するものの磁性粉同士の結合
は期待できず、おのずから磁性粉の付着量は限定されて
、キャリアにとって必須要件である磁気特性の制御は不
可能である。
粒子の熱的性質を利用して表面に磁性粉を付着した磁性
粒子が開示されている。この場合、ポリマー粒子表面付
近には磁性粉が強固に付着するものの磁性粉同士の結合
は期待できず、おのずから磁性粉の付着量は限定されて
、キャリアにとって必須要件である磁気特性の制御は不
可能である。
(発明の目的)
本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであっ
て、その目的は、任意の軽量核体粒子の表面を均一な磁
性体メッキ層で被覆した、軽量で現像機の高トルクを必
要とせず磁気特性の制御、例えば従来のキャリアに比べ
、粒径のバラツキにともなう磁気特性のバラツキを制御
した現像剤用キャリアを提供することであり、またキャ
リアの軽量化により、長期間にわたってキャリア表面に
発熱によるトナーの付着が少なく、安定した画像が得ら
れ、さらに小粒径化によりトナー濃度を高め現像機内で
のトナー濃度のバラツキによる画像の不安定さを改良し
た現像剤用キャリアを提供することである。
て、その目的は、任意の軽量核体粒子の表面を均一な磁
性体メッキ層で被覆した、軽量で現像機の高トルクを必
要とせず磁気特性の制御、例えば従来のキャリアに比べ
、粒径のバラツキにともなう磁気特性のバラツキを制御
した現像剤用キャリアを提供することであり、またキャ
リアの軽量化により、長期間にわたってキャリア表面に
発熱によるトナーの付着が少なく、安定した画像が得ら
れ、さらに小粒径化によりトナー濃度を高め現像機内で
のトナー濃度のバラツキによる画像の不安定さを改良し
た現像剤用キャリアを提供することである。
(問題点を解決するための手段)
即ち、本発明は核体粒子表面に酸化鉄系の磁性体メッキ
層を設けた、飽和磁化(σe)20〜80emu/gを
有する現像剤用磁性キャリアを提供する。
層を設けた、飽和磁化(σe)20〜80emu/gを
有する現像剤用磁性キャリアを提供する。
本発明における核体粒子としては、磁性体メッキ後の比
重が4.0以下となる任意の粒子が適用゛でき、種々の
ゴム弾性体を含む樹脂粒子およびガラスバルーン、シリ
カバルーン、シラスバルーンの如き中空の無機質粒子が
用いられる。なお、本発明に於ける比重は差圧式比重計
(東京サイエンス社製AIRCOMr’AnISON
PYCNOMETE11930型)による測定値である
。比重が4.0を越えると現像剤の耐久性の低下が著し
い。
重が4.0以下となる任意の粒子が適用゛でき、種々の
ゴム弾性体を含む樹脂粒子およびガラスバルーン、シリ
カバルーン、シラスバルーンの如き中空の無機質粒子が
用いられる。なお、本発明に於ける比重は差圧式比重計
(東京サイエンス社製AIRCOMr’AnISON
PYCNOMETE11930型)による測定値である
。比重が4.0を越えると現像剤の耐久性の低下が著し
い。
これらの粒子のうち樹脂粒子を得る方法とじては、樹脂
合成後の粉砕、分級による方法;及び乳化重合、懸濁重
合、非水系懸濁重合、シード重合等の造粒重合により得
る方法があるが、現像機内での流動性に効果的な球形粒
子が得られること、工程が少ないことから収率が高くエ
ネルギーの損失も少ないことなどから造粒重合が好まし
い。
合成後の粉砕、分級による方法;及び乳化重合、懸濁重
合、非水系懸濁重合、シード重合等の造粒重合により得
る方法があるが、現像機内での流動性に効果的な球形粒
子が得られること、工程が少ないことから収率が高くエ
ネルギーの損失も少ないことなどから造粒重合が好まし
い。
粉砕・分級法による場合は下記の樹脂を粉砕、分級する
ことにより得られる。使用し得る樹脂の例としてはポリ
スチレン、ポリα−メチルスチレンなどのスチレン系樹
脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エヂル
などのα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル系樹
脂、フェノール樹脂、ロジン変性フェノールフォルマリ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテル樹脂等が単独もしくは2種以上を溶融混合して用
いられる。
ことにより得られる。使用し得る樹脂の例としてはポリ
スチレン、ポリα−メチルスチレンなどのスチレン系樹
脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エヂル
などのα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル系樹
脂、フェノール樹脂、ロジン変性フェノールフォルマリ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテル樹脂等が単独もしくは2種以上を溶融混合して用
いられる。
乳化重合による場合は、通常、イオン交換水あるいは乳
化剤を溶解したイオン交換水中に重合性モノマーの一部
と重合開始剤を添加して撹拌乳化し、その後、残りの重
合性モノマーの残部を徐々に滴下して0.2〜1μの重
合体粒子を得、この粒子を種として、重合性モノマーを
用いたシード重合より得られる。
化剤を溶解したイオン交換水中に重合性モノマーの一部
と重合開始剤を添加して撹拌乳化し、その後、残りの重
合性モノマーの残部を徐々に滴下して0.2〜1μの重
合体粒子を得、この粒子を種として、重合性モノマーを
用いたシード重合より得られる。
乳化重合に用いられる重合性モノマーとしては重合可能
なモノマーであれば任意のものが適用可能てあり、エチ
レン、プロピレン、スチレン、α−クロロスチレン、α
−メチルスチレン、4−フルオロスチレン、アクリル酸
、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニト
リル、アクリルアミド、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート
(例えば、ジエチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート等)、トリフル
オロエチルメタクリレート、酢酸ビニル、無水マレイン
酸、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、ブタジ
ェン、イソプレン等が単独もしくは混合して用いられる
。
なモノマーであれば任意のものが適用可能てあり、エチ
レン、プロピレン、スチレン、α−クロロスチレン、α
−メチルスチレン、4−フルオロスチレン、アクリル酸
、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタアクリロニト
リル、アクリルアミド、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート
(例えば、ジエチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート等)、トリフル
オロエチルメタクリレート、酢酸ビニル、無水マレイン
酸、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、ブタジ
ェン、イソプレン等が単独もしくは混合して用いられる
。
更に他の添加剤としては、重合開始剤として過酸化水素
、過酢酸、アゾビスイソブチロニトリル、t−ブチルハ
イドロパーオキサイド、過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等のフリーラジカル開始剤や過硫酸ナトリウム−
ホルムアルデヒドスルホキシレートナトリウム、過酸化
水素−アスコルビン酸等のレドックス系開始剤が、乳化
剤としては、アニオン界面活性剤、例えばステアリン酸
カリウム、オレイン酸カリウム、ドデシルスルホン酸ナ
トリウム、オレイン酸カリウム、ドデシルスルホン酸ナ
トリウム、ラウリル酸ナトリウム等:カチオン界面活性
剤、例えば長鎖第4級アミン塩等があり、非イオン界面
活性剤としてはリルイン酸、ラウリル酸のエチレンオキ
サイド縮合物等が挙げられる。
、過酢酸、アゾビスイソブチロニトリル、t−ブチルハ
イドロパーオキサイド、過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等のフリーラジカル開始剤や過硫酸ナトリウム−
ホルムアルデヒドスルホキシレートナトリウム、過酸化
水素−アスコルビン酸等のレドックス系開始剤が、乳化
剤としては、アニオン界面活性剤、例えばステアリン酸
カリウム、オレイン酸カリウム、ドデシルスルホン酸ナ
トリウム、オレイン酸カリウム、ドデシルスルホン酸ナ
トリウム、ラウリル酸ナトリウム等:カチオン界面活性
剤、例えば長鎖第4級アミン塩等があり、非イオン界面
活性剤としてはリルイン酸、ラウリル酸のエチレンオキ
サイド縮合物等が挙げられる。
また、懸濁重合による場合は、通常、水溶性高分子物質
あるいは難水溶性無機質粉末を溶解または分散させたイ
オン交換水中に撹拌下重合性モノマーを一定速度で滴下
しつつ重合を行なわせしめることにより得られる。
あるいは難水溶性無機質粉末を溶解または分散させたイ
オン交換水中に撹拌下重合性モノマーを一定速度で滴下
しつつ重合を行なわせしめることにより得られる。
懸濁重合に用いられる重合性モノマーとしては重合可能
なモノマーであれば任意のものが適用可能であり、前述
の乳化重合に用いられるモノマーが単独もしくは混合し
て用いられる。
なモノマーであれば任意のものが適用可能であり、前述
の乳化重合に用いられるモノマーが単独もしくは混合し
て用いられる。
また分散剤としては、ゼラチン、デンプン、ポリビニル
アルコール、カルボキシメチルセルロース等の水溶性高
分子物質または硫酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸バ
リウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の難水溶
性塩類、タルク、珪酸、珪藻上等の無機高分子物質等が
用いられる。
アルコール、カルボキシメチルセルロース等の水溶性高
分子物質または硫酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸バ
リウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の難水溶
性塩類、タルク、珪酸、珪藻上等の無機高分子物質等が
用いられる。
更に重合開始剤としてはアゾビスイソブチロニトリル、
アゾビス−4−メトキシジメチルバレロニトリル、アゾ
ビスジメチルバレロニトリル、ジメチルアゾビスイソブ
ヂレートの如きアゾ系重合開始剤、t−ブチルパーオキ
シ2−エチルヘキザノエート、ジーt−ブチルパーオキ
シド、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシドの
如き過酸化物系重合開始剤、場合によっては前記水性開
始剤等が用いられる。
アゾビス−4−メトキシジメチルバレロニトリル、アゾ
ビスジメチルバレロニトリル、ジメチルアゾビスイソブ
ヂレートの如きアゾ系重合開始剤、t−ブチルパーオキ
シ2−エチルヘキザノエート、ジーt−ブチルパーオキ
シド、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシドの
如き過酸化物系重合開始剤、場合によっては前記水性開
始剤等が用いられる。
いずれの方法で核体粒子を得る場合も、平均粒径は好ま
しくはlO〜200μに設定される。粒径はlOμ以下
では感光体表面へのキャリア付着が起こり易く、また2
00μを越えるとスリーブ表面に形成される穂の密度が
粗くなって解像度の低下を招いたり、トナー濃度の制御
が困難となって画像濃度の変化が大きくなる。
しくはlO〜200μに設定される。粒径はlOμ以下
では感光体表面へのキャリア付着が起こり易く、また2
00μを越えるとスリーブ表面に形成される穂の密度が
粗くなって解像度の低下を招いたり、トナー濃度の制御
が困難となって画像濃度の変化が大きくなる。
また本発明の核体粒子として樹脂粒子を適用する場合は
、メッキ層生成過程において自己融着しない粒子が好ま
しい。
、メッキ層生成過程において自己融着しない粒子が好ま
しい。
また中空の無機質粒子はシラスの高温処理、機成燃焼時
のフライアッシュ中からの分離等により得られる。
のフライアッシュ中からの分離等により得られる。
本発明では核体粒子表面上に酸化鉄系の磁性体のメッキ
膜が形成される。換言すれば、核体粒子が磁性体でカプ
セル化され保護した形になる。形成される磁性体はフェ
ライトまたはマグネタイトが一般的である。
膜が形成される。換言すれば、核体粒子が磁性体でカプ
セル化され保護した形になる。形成される磁性体はフェ
ライトまたはマグネタイトが一般的である。
磁性体メッキ層の形成方法は特開昭59−111929
号に提案されているフェライト湿式メッキ法が好ましい
。この公開公報には板状物へのフェライト湿式メッキ法
が提案されているが、粒子に応用した場合、粒子表面の
活性に基づいて選択的にフェライトが形成される。
号に提案されているフェライト湿式メッキ法が好ましい
。この公開公報には板状物へのフェライト湿式メッキ法
が提案されているが、粒子に応用した場合、粒子表面の
活性に基づいて選択的にフェライトが形成される。
フェライト膜の形成は核体粒子が混合された水溶液中に
おいて実施される。水溶液中にはフェライト膜の形成に
必須である第1鉄イオンが存在する。第1鉄イオンは第
1鉄の塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩等の塩の形で水溶液中に
供給される。水溶液が金属イオンとして第1鉄イオンの
みを含む場合には、金属元素として鉄のみを含むスピネ
ル・フェライト、ずなわちマグネタイトF as O4
の膜として得られる。また水溶液中には第1鉄イオンの
他にその他の遷移金属イオンMn+を含んでもよい。
おいて実施される。水溶液中にはフェライト膜の形成に
必須である第1鉄イオンが存在する。第1鉄イオンは第
1鉄の塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩等の塩の形で水溶液中に
供給される。水溶液が金属イオンとして第1鉄イオンの
みを含む場合には、金属元素として鉄のみを含むスピネ
ル・フェライト、ずなわちマグネタイトF as O4
の膜として得られる。また水溶液中には第1鉄イオンの
他にその他の遷移金属イオンMn+を含んでもよい。
その他の金属イオン種としては、亜鉛、コバルト、ニッ
ケル、マンガン、銅、バナジウム、アンチモン、リヂウ
ム、モリブデン、ヂタン、ルビジウム、アルミニウム、
シリコン、クロム、錫、カルシウム、カドミウム、イン
ジウム等が例示される。Mn“がコバルトの場合にはコ
バルトフェライト(CoxPes−XO4)、ニッケル
フェライト(N ixF e3−XO4)などが得られ
、Mn+が複数種の場合にも混晶フェライトが得られる
。これらの第1鉄イオン以下の金属イオン種もそれぞれ
水溶性の塩の形で水溶液中に配合される。
ケル、マンガン、銅、バナジウム、アンチモン、リヂウ
ム、モリブデン、ヂタン、ルビジウム、アルミニウム、
シリコン、クロム、錫、カルシウム、カドミウム、イン
ジウム等が例示される。Mn“がコバルトの場合にはコ
バルトフェライト(CoxPes−XO4)、ニッケル
フェライト(N ixF e3−XO4)などが得られ
、Mn+が複数種の場合にも混晶フェライトが得られる
。これらの第1鉄イオン以下の金属イオン種もそれぞれ
水溶性の塩の形で水溶液中に配合される。
本発明では、第1鉄イオンと核体粒子を混入した脱酸素
水溶液に酸化剤溶液を添加することによりフェライト被
膜の形成が始まる。酸化剤の例としては亜硝酸塩、硝酸
塩、過酸化水素、有機過酸化物、過塩素酸または溶存酸
素水等が挙げられる。
水溶液に酸化剤溶液を添加することによりフェライト被
膜の形成が始まる。酸化剤の例としては亜硝酸塩、硝酸
塩、過酸化水素、有機過酸化物、過塩素酸または溶存酸
素水等が挙げられる。
好適には、酸化剤の水溶液を分析化学における滴定法の
如く一定mで溶液中に滴下するのが好ましい。このよう
に、一定量の滴下によると、フェライト膜厚の調整が容
易に行なわれる。
如く一定mで溶液中に滴下するのが好ましい。このよう
に、一定量の滴下によると、フェライト膜厚の調整が容
易に行なわれる。
水溶液のp Hは水溶液中に存在するアニオン、金属イ
オンの種類において適宜選択され、制御されるが、好ま
しくは6〜11、より好ましくは7〜11の範囲とされ
る。p)(の安定化のために、例えば酢酸アンモニウム
などの緩衝液または緩衝効果のある塩を加えてもよい。
オンの種類において適宜選択され、制御されるが、好ま
しくは6〜11、より好ましくは7〜11の範囲とされ
る。p)(の安定化のために、例えば酢酸アンモニウム
などの緩衝液または緩衝効果のある塩を加えてもよい。
本発明の反応を実行させるための温度条件は水溶液の沸
点以下の範囲であればよいが、好ましくは60℃〜90
℃の範囲で行なわれる。また、反応は本質的に脱酸素雰
囲気下で行なわれる。酸素が多量に存在する条件下では
、不必要な酸化反応が進行するので好ましくない。具体
的には窒素雰囲気下で反応を行なうのが好ましい。また
、同様に水溶液中からも酸素を除き、脱酸素水溶液とす
るのが好ましい。
点以下の範囲であればよいが、好ましくは60℃〜90
℃の範囲で行なわれる。また、反応は本質的に脱酸素雰
囲気下で行なわれる。酸素が多量に存在する条件下では
、不必要な酸化反応が進行するので好ましくない。具体
的には窒素雰囲気下で反応を行なうのが好ましい。また
、同様に水溶液中からも酸素を除き、脱酸素水溶液とす
るのが好ましい。
本発明に用いる核体粒子として前記造粒重合により樹脂
粒子を得る場合には該粒子の分散液をそのまま用いても
よいが、粉砕樹脂粒子あるいは他の材質の粒子を用いる
場合には磁気ディスク等の板状物において実施される前
処理、例えばプラズマ処理、アルカリ処理、酸処理ある
いは物理的な処理を行なってもよい。これらの処理を行
なった場合、水溶液に対するぬれ性が改善され、均一な
膜が得られる。
粒子を得る場合には該粒子の分散液をそのまま用いても
よいが、粉砕樹脂粒子あるいは他の材質の粒子を用いる
場合には磁気ディスク等の板状物において実施される前
処理、例えばプラズマ処理、アルカリ処理、酸処理ある
いは物理的な処理を行なってもよい。これらの処理を行
なった場合、水溶液に対するぬれ性が改善され、均一な
膜が得られる。
本発明の好適な方法は先ず脱酸素水に核体粒子を懸濁し
、この際必要により界面活性剤又はアルコール類を添加
して核体粒子の水への馴染みを向上してもよい。次いで
必要によりp I−I IN EMのためにpH緩衝剤
等を混入し、さらに第1鉄イオンを塩の形で混入する。
、この際必要により界面活性剤又はアルコール類を添加
して核体粒子の水への馴染みを向上してもよい。次いで
必要によりp I−I IN EMのためにpH緩衝剤
等を混入し、さらに第1鉄イオンを塩の形で混入する。
また、必要に応じて他の金属イオンを第1鉄イオンと同
時に混入する。全てのものが混入し終わった状態で、前
述の如く滴定法により酸化性を溶液中に滴下することに
より反応を進行させる。この工程では滴下した金属イオ
ン種あるいは酸化剤の濃度により、フェライト膜厚が調
整され、極めて好適である。メッキ操作後の分散液を濾
過、乾燥することにより、フェライトメッキされた粒子
が得られる。
時に混入する。全てのものが混入し終わった状態で、前
述の如く滴定法により酸化性を溶液中に滴下することに
より反応を進行させる。この工程では滴下した金属イオ
ン種あるいは酸化剤の濃度により、フェライト膜厚が調
整され、極めて好適である。メッキ操作後の分散液を濾
過、乾燥することにより、フェライトメッキされた粒子
が得られる。
この方法によれば生成した結晶層への水酸化第1鉄イオ
ンまたはこれと他の金属イオンの吸着が起こるため、浴
中の金属イオンのmを規定することにより結晶層の厚み
が制御される。従って、該金属イオンの濃度を調節する
ことによって磁性の調節されたキャリアが得られる。ま
た、浴中の水酸化第1鉄イオンと他の金属イオンの濃度
を規定することにより、生成した磁性体結晶層の電気伝
導度等も制御される。
ンまたはこれと他の金属イオンの吸着が起こるため、浴
中の金属イオンのmを規定することにより結晶層の厚み
が制御される。従って、該金属イオンの濃度を調節する
ことによって磁性の調節されたキャリアが得られる。ま
た、浴中の水酸化第1鉄イオンと他の金属イオンの濃度
を規定することにより、生成した磁性体結晶層の電気伝
導度等も制御される。
形成される磁性体メッキ層はキャリアとしての飽和磁化
(σe)が20〜80 emu/ g、好ましくは30
〜65e+++u/gになるように調整される。飽和磁
化が20部mu/g未満ではスリーブ上からキャリアが
離脱して感光体ドラム面に付着し、goeau/gを越
えるとスリーブ上に形成される磁気ブラシが硬くなる結
果、中間調の再現性低下、ブラシマーク発生等の欠陥を
招(。従って磁性体のメッキmは上記飽和磁化を有する
範囲内に調整される。
(σe)が20〜80 emu/ g、好ましくは30
〜65e+++u/gになるように調整される。飽和磁
化が20部mu/g未満ではスリーブ上からキャリアが
離脱して感光体ドラム面に付着し、goeau/gを越
えるとスリーブ上に形成される磁気ブラシが硬くなる結
果、中間調の再現性低下、ブラシマーク発生等の欠陥を
招(。従って磁性体のメッキmは上記飽和磁化を有する
範囲内に調整される。
本発明のキャリアは、電気抵抗値、摩擦帯電特性の調節
及びキャリア表面がトナーで汚染されるいわゆるスペン
トトナーを防止して耐久性を更に高めることを目的とし
て磁性体メッキ層表面を更に樹脂で被覆することが可能
である。使用し得る樹脂としては四弗化エチレン樹脂、
ポリ弗化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂等がトナー粒
子に対する非粘着性の点から好ましく、被覆方法として
は流動層法、噴霧乾燥法等の一般的な方法が適用できる
。
及びキャリア表面がトナーで汚染されるいわゆるスペン
トトナーを防止して耐久性を更に高めることを目的とし
て磁性体メッキ層表面を更に樹脂で被覆することが可能
である。使用し得る樹脂としては四弗化エチレン樹脂、
ポリ弗化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂等がトナー粒
子に対する非粘着性の点から好ましく、被覆方法として
は流動層法、噴霧乾燥法等の一般的な方法が適用できる
。
(発明の効果)
本発明により得られたキャリアは軽量であり、また、小
粒径にした場合はトナーの濃度を高くできるため長期に
わたって高品質の安定した画像力(得られる。また、装
置も小型化・省エネルギー化ができる。湿式メッキ法に
よりフェライト膜を生成すると均一かつ充分な飽和磁化
を有するキャリアが高温処理等を必要とせずに容5に得
られる。
粒径にした場合はトナーの濃度を高くできるため長期に
わたって高品質の安定した画像力(得られる。また、装
置も小型化・省エネルギー化ができる。湿式メッキ法に
よりフェライト膜を生成すると均一かつ充分な飽和磁化
を有するキャリアが高温処理等を必要とせずに容5に得
られる。
(実施例)
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。実施例中、部および%は
全て¥i量に基づく。
らに限定されるものではない。実施例中、部および%は
全て¥i量に基づく。
寒胤匹上
(核体樹脂粒子合成)
撹拌機、温度計、モノマー滴下ロート、還流冷却器、加
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反応容器にイオン
交換水150部を仕込み、80℃でスチレンとアクリル
酸2−エチルヘキシルの90:10の混合モノマー(A
)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10部を加
え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時間で滴
下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観察した
ところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった。
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反応容器にイオン
交換水150部を仕込み、80℃でスチレンとアクリル
酸2−エチルヘキシルの90:10の混合モノマー(A
)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10部を加
え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時間で滴
下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観察した
ところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった。
次いで同様の装置を用い、種ラテックス0.2部をイオ
ン交換水250部に加え、80℃で10%過硫酸アンモ
ニウム水溶液lO部と混合モノマー(A)100部を8
時間かけて滴下するシード重合で粒径6〜8μのラテッ
クス粒子を得た。次いで同様の装置を用い、該ラテック
ス10部をイオン交換水250部に加え、80℃で10
%過硫酸アンモニウム水溶液10部を加え、その後スチ
レンとテトラエチレングリコールジメタクリレートの8
5:15の混合モノマー(I3)110部を8時間で滴
下して樹脂粒子エマルジョンを得た。樹脂粒子の平均粒
径を湿式粒度分布測定器(コールタ−カウンターTA−
II型;コールタ−社製)により測定したところ平均粒
径は25μであった。
ン交換水250部に加え、80℃で10%過硫酸アンモ
ニウム水溶液lO部と混合モノマー(A)100部を8
時間かけて滴下するシード重合で粒径6〜8μのラテッ
クス粒子を得た。次いで同様の装置を用い、該ラテック
ス10部をイオン交換水250部に加え、80℃で10
%過硫酸アンモニウム水溶液10部を加え、その後スチ
レンとテトラエチレングリコールジメタクリレートの8
5:15の混合モノマー(I3)110部を8時間で滴
下して樹脂粒子エマルジョンを得た。樹脂粒子の平均粒
径を湿式粒度分布測定器(コールタ−カウンターTA−
II型;コールタ−社製)により測定したところ平均粒
径は25μであった。
(磁性体メッキ層生成)
メッキ層生成操作に先立ち、塩化第1鉄、塩化マンガン
、塩化ニッケル、塩化亜鉛、酢酸アンモニウムの50%
(重量比)イオン交換水溶液及び亜硝酸ナトリウムの1
0%(重量比)イオン交換水溶液を調製した。なお他の
実施例及び比較例に於いても前記3種の水溶液を用いた
。
、塩化ニッケル、塩化亜鉛、酢酸アンモニウムの50%
(重量比)イオン交換水溶液及び亜硝酸ナトリウムの1
0%(重量比)イオン交換水溶液を調製した。なお他の
実施例及び比較例に於いても前記3種の水溶液を用いた
。
撹拌機、温度計、酸化剤液、滴下ロート、加熱装置、窒
素ガス導入管を有する磁性体生成装置に前記エマルジョ
ン(固形分30%)100部を仕込みN、ガスを導入し
て該エマルジョン中の酸素を脱気させた。
素ガス導入管を有する磁性体生成装置に前記エマルジョ
ン(固形分30%)100部を仕込みN、ガスを導入し
て該エマルジョン中の酸素を脱気させた。
次いで、予め用意した塩化第1鉄溶液240部(固形分
120部)、酢酸アンモニウム400部(同200部)
を装置内に投入し、充分に撹拌混合しながら70℃に加
温した。その後撹拌を続けながらアンモニア水にてpF
Iを7.2に調整した。
120部)、酢酸アンモニウム400部(同200部)
を装置内に投入し、充分に撹拌混合しながら70℃に加
温した。その後撹拌を続けながらアンモニア水にてpF
Iを7.2に調整した。
この溶液に亜硝酸ナトリウム溶液を約1時間かけて27
0部(固形分27部)を滴下した。滴下・反応中窒素ガ
スの導入、撹拌を続けなから液温70℃、pH7,0〜
7.2の範囲に保ち、該粒子表面にマグネタイトを形成
した。約20分後、溶液を冷却して、濾過、イオン交換
水による洗浄を繰り返した後粒子を取り出し乾燥後磁性
体メッキ粒子(I)を得た。得られた磁性体メッキ粒子
(1)をX線回折及び電子顕微鏡で観察したところ、表
面に均一なマグネタイト結晶層が生成していることが認
められた。得られたメッキ粒子は比重2゜15、電気抵
抗値2XlO’Ω・am、飽和磁化50emu/gであ
った。
0部(固形分27部)を滴下した。滴下・反応中窒素ガ
スの導入、撹拌を続けなから液温70℃、pH7,0〜
7.2の範囲に保ち、該粒子表面にマグネタイトを形成
した。約20分後、溶液を冷却して、濾過、イオン交換
水による洗浄を繰り返した後粒子を取り出し乾燥後磁性
体メッキ粒子(I)を得た。得られた磁性体メッキ粒子
(1)をX線回折及び電子顕微鏡で観察したところ、表
面に均一なマグネタイト結晶層が生成していることが認
められた。得られたメッキ粒子は比重2゜15、電気抵
抗値2XlO’Ω・am、飽和磁化50emu/gであ
った。
(樹脂被覆)
500ccのナスフラスコにシリコン樹脂液(KR97
0t3:信越化学社製)を固形分で5部とメヂルエヂル
ケトン200部を仕込んで混合した後、前記磁性体メッ
キ粒子(I)100部を仕込み、約10分の撹拌混合後
エバポレーターにて脱溶剤を行なった。乾燥後281メ
ツシユの篩により分級し、次いで、気流分級機により1
0μ以下の微粒子を除去することによりキャリア(r)
を得た。キャリア(1)の抵抗は5X10”Ω・cmで
あった。
0t3:信越化学社製)を固形分で5部とメヂルエヂル
ケトン200部を仕込んで混合した後、前記磁性体メッ
キ粒子(I)100部を仕込み、約10分の撹拌混合後
エバポレーターにて脱溶剤を行なった。乾燥後281メ
ツシユの篩により分級し、次いで、気流分級機により1
0μ以下の微粒子を除去することによりキャリア(r)
を得た。キャリア(1)の抵抗は5X10”Ω・cmで
あった。
以下、各実施例及び比較例における配合、条件および特
性は表−1に示す。
性は表−1に示す。
実施例2
(核体粒子分散液製造)
市販のシリカマイクロバルーン(フィライト52/7(
FC): 日本フィライト社製)100部を塩酸0.1
モル水溶液(500部)中に分散後浮上した粒子を取り
出し、破壊しているシリカバルーンを除去するとともに
取り出した粒子をイオン交換水で洗浄し、余分なアルカ
リ金属塩を除去した。
FC): 日本フィライト社製)100部を塩酸0.1
モル水溶液(500部)中に分散後浮上した粒子を取り
出し、破壊しているシリカバルーンを除去するとともに
取り出した粒子をイオン交換水で洗浄し、余分なアルカ
リ金属塩を除去した。
得られだシリカマイクロバルーンを100メツシユ及び
200メツシユのふるいで分級を行ない、平均粒径11
0μmの核体粒子を得た。この核体粒子15部をイオン
交換水70部に分散し、固形分濃度15重量%の核体粒
子分散液を得た。
200メツシユのふるいで分級を行ない、平均粒径11
0μmの核体粒子を得た。この核体粒子15部をイオン
交換水70部に分散し、固形分濃度15重量%の核体粒
子分散液を得た。
(磁性体メッキ層生成)
実施例1と同様な装置に該分散液100部、塩化第1鉄
溶液160部、塩化ニッケル溶液80部、酢酸アンモニ
ウム溶液300部、亜硝酸ナトリウム220部を用い、
pH7,01部度65℃とする以外は実施例1と同様の
操作にて、キャリア(n)を得た。この粒子の一部を塩
酸5モル溶液10ccに投入し、メッキ層を溶解後原子
吸光法及びX線回折にて組成を分析したところ、N x
o、iFe*、soaであることがわかった。
溶液160部、塩化ニッケル溶液80部、酢酸アンモニ
ウム溶液300部、亜硝酸ナトリウム220部を用い、
pH7,01部度65℃とする以外は実施例1と同様の
操作にて、キャリア(n)を得た。この粒子の一部を塩
酸5モル溶液10ccに投入し、メッキ層を溶解後原子
吸光法及びX線回折にて組成を分析したところ、N x
o、iFe*、soaであることがわかった。
実施例3
懸濁重合法により合成し、200メツシユ及び400メ
ツシユの篩で分級洗浄した平均粒径50μの球状フェノ
ール樹脂(PF樹脂Sタイプ;ユニデカ社製)を固形分
30%(重量比)となるように、イオン交換水に分散し
、表−1の配合及び条件下、実施例1と同様の操作によ
り磁性体メッキ粒子(III)及びキャリア(1)を得
た。
ツシユの篩で分級洗浄した平均粒径50μの球状フェノ
ール樹脂(PF樹脂Sタイプ;ユニデカ社製)を固形分
30%(重量比)となるように、イオン交換水に分散し
、表−1の配合及び条件下、実施例1と同様の操作によ
り磁性体メッキ粒子(III)及びキャリア(1)を得
た。
実施例4
(核体粒子製造)
スヂレンーメタクリル酸n−ブヂル共重合体(組成比8
5:15)をビンミルを用いて微粉砕を行なって得た粉
末を熱風中に噴霧して球状化処理を行なった。しかるの
ち50メツシユ及び75メツシユの篩を用いて分級を行
ない、平均粒径200μの核体粒子を得た。
5:15)をビンミルを用いて微粉砕を行なって得た粉
末を熱風中に噴霧して球状化処理を行なった。しかるの
ち50メツシユ及び75メツシユの篩を用いて分級を行
ない、平均粒径200μの核体粒子を得た。
該粒子100部をノニオン系界面活性剤(ノコボール1
0o:三洋化成社製)1部を溶解した233部のイオン
交換水中に分散機(TKホモミクサーM型;特殊機化工
業社製)を用いて均一分散させたのち真空脱泡機に上り
脱泡した。
0o:三洋化成社製)1部を溶解した233部のイオン
交換水中に分散機(TKホモミクサーM型;特殊機化工
業社製)を用いて均一分散させたのち真空脱泡機に上り
脱泡した。
(磁性体メッキ層生成)
実施例1と同様の装置を用い、表−1に示す配合及び条
件にて磁性体メッキ層を生成させてキャリア(IV)を
得た。
件にて磁性体メッキ層を生成させてキャリア(IV)を
得た。
各粒子の特性を表−1に示す。
亙監■旦
(核体樹脂粒子合成)
撹拌機、温度計、モノマー滴下ロート、還流冷却器、加
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反応容器にイオン
交換水150部を仕込み、80’Cでスチレンとアクリ
ル酸2−エヂルヘキシルの90:10の混合モノマー(
A)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10部を
加え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時間で
滴下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観察し
たところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった。
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反応容器にイオン
交換水150部を仕込み、80’Cでスチレンとアクリ
ル酸2−エヂルヘキシルの90:10の混合モノマー(
A)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10部を
加え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時間で
滴下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観察し
たところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった。
次いで同様の装置を用い、種ラテックス0.2部をイオ
ン交換水250部に加え、80’Cで10%過硫酸アン
モニウム水溶液lO部と混合モノマー(A)100部を
8時間かけて滴下するシード重合で粒径6〜8μのラテ
ックス粒子を得た。次いで同様の装置を用い、該ラテッ
クス30部をイオン交換水213部に加え、80℃でl
O%過硫酸アンモニウム水溶液10部を加え、その後実
施例1で用いた混合モノマー(I3)93部を8時間で
滴下して樹脂粒子エマルジョンを得た。樹脂粒子の平均
粒径を湿式粒度分布測定器(コールタ−カウンターTA
−n型;コールター社製)により測定したところ平均粒
径は!2μであった。
ン交換水250部に加え、80’Cで10%過硫酸アン
モニウム水溶液lO部と混合モノマー(A)100部を
8時間かけて滴下するシード重合で粒径6〜8μのラテ
ックス粒子を得た。次いで同様の装置を用い、該ラテッ
クス30部をイオン交換水213部に加え、80℃でl
O%過硫酸アンモニウム水溶液10部を加え、その後実
施例1で用いた混合モノマー(I3)93部を8時間で
滴下して樹脂粒子エマルジョンを得た。樹脂粒子の平均
粒径を湿式粒度分布測定器(コールタ−カウンターTA
−n型;コールター社製)により測定したところ平均粒
径は!2μであった。
(磁性体メッキ層生成)
実施例1と同様の装置を用い、表−1に示す配合及び条
件下、磁性体メッキ層生成、樹脂被覆を行ない、磁性体
メッキ粒子(V)及びキャリア(V)を得た。
件下、磁性体メッキ層生成、樹脂被覆を行ない、磁性体
メッキ粒子(V)及びキャリア(V)を得た。
実施例6
(核体粒子合成)
実施例1で得た樹脂粒子を用いた。
(磁性体メッキ后生成及び樹脂波rrJ、)実施例!と
同様の装置を用い、表−■に示す配合及び条件にて磁性
体メッキ層生成、樹脂被覆を行なって磁性体メッキ粒子
(Vl)及びキャリア(VI)を得た。
同様の装置を用い、表−■に示す配合及び条件にて磁性
体メッキ層生成、樹脂被覆を行なって磁性体メッキ粒子
(Vl)及びキャリア(VI)を得た。
X審且L
(核体粒子合成)
実施例1で得た樹脂粒子を用いた。
(磁性体メッキ層生成)
実施例1と同様の装置を用い、表−1に示す配合及び条
件にて磁性体メッキ層生成、樹脂被覆を行なって磁性体
メッキ粒子(■)及びキャリア(■)を得た。
件にて磁性体メッキ層生成、樹脂被覆を行なって磁性体
メッキ粒子(■)及びキャリア(■)を得た。
実施例8
(核体樹脂粒子合成)
イオン交換水600部にポリビニルアルコール(ゴーセ
ノールKH−17:日本合成化学社製)3部を溶解した
媒体を実施例1と同様の反応装置に仕込み、液温を70
℃に昇温したのち20 Orpmで撹拌しつつスチレン
170部、アクリル酸n −゛ ブチル30部、
エチレングリコールジメタアクリレート57部、アゾビ
スジメチルバレロニトリル2.5部の混合物を一定速度
で1.5時間かけて滴下し、撹拌を行ないながら5時間
同じ温度に保持した。冷却後120メツシユおよび18
0メツシユの篩を用いて濾過洗浄を行なったのち、イオ
ン交換水450部に粒子190部を再分散させて固形分
30%の分散液を得た。かくして得られた粒子の平均粒
径は100μであった。
ノールKH−17:日本合成化学社製)3部を溶解した
媒体を実施例1と同様の反応装置に仕込み、液温を70
℃に昇温したのち20 Orpmで撹拌しつつスチレン
170部、アクリル酸n −゛ ブチル30部、
エチレングリコールジメタアクリレート57部、アゾビ
スジメチルバレロニトリル2.5部の混合物を一定速度
で1.5時間かけて滴下し、撹拌を行ないながら5時間
同じ温度に保持した。冷却後120メツシユおよび18
0メツシユの篩を用いて濾過洗浄を行なったのち、イオ
ン交換水450部に粒子190部を再分散させて固形分
30%の分散液を得た。かくして得られた粒子の平均粒
径は100μであった。
(磁性体メッキ朋生成及び樹脂被覆)
実施例1と同様の装置を用いて表−1に示す配合及び条
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層生成
、樹脂被覆を行なって磁性体メッキ粒子(■)、キャリ
ア(■)を得た。
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層生成
、樹脂被覆を行なって磁性体メッキ粒子(■)、キャリ
ア(■)を得た。
実施例9
(核体粒子分散液製造)
市販の球形架橋ボリスヂレン樹脂粒子(ファインパール
PB−3002:住友化学社製)を平均粒径30μに分
級したのち、100部をノニオン系界面活性剤(ノニボ
ール100;三洋化成社製)6部を溶解した233部の
イオン交換水中に分散機(TKホモミクサーM型;特殊
機化工業社製)を用いて均一分散させた。次いで真空脱
泡機により脱泡した。
PB−3002:住友化学社製)を平均粒径30μに分
級したのち、100部をノニオン系界面活性剤(ノニボ
ール100;三洋化成社製)6部を溶解した233部の
イオン交換水中に分散機(TKホモミクサーM型;特殊
機化工業社製)を用いて均一分散させた。次いで真空脱
泡機により脱泡した。
(磁性体メッキ層生成及び樹脂被覆)
実施例1と同様の装置を用い、表−1に示す配合及び条
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層生成
、樹脂被覆を行ない、磁性体メッキ粒子(IX)及びキ
ャリア(IX)を得た。
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層生成
、樹脂被覆を行ない、磁性体メッキ粒子(IX)及びキ
ャリア(IX)を得た。
比較例1
(樹脂粒子合成)
撹拌機、温度計、モノマー滴下ロート、還流冷却器、加
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反・ 応容器に
イオン交換水150部を仕込み、80℃でスヂレンとア
クリル酸2−エチルヘキシルの90:10の混合モノマ
ー(A)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10
部を加え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時
間で滴下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観
察したところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった
。
熱装置、窒素ガス導入管を有する重合反・ 応容器に
イオン交換水150部を仕込み、80℃でスヂレンとア
クリル酸2−エチルヘキシルの90:10の混合モノマ
ー(A)1部と10%の過硫酸アンモニウム水溶液10
部を加え、その後上記混合モノマー(A)99部を3時
間で滴下して種ラテツクスを得た。粒子を電子顕微鏡観
察したところ、はぼ単分散で、粒径は0.6μであった
。
次いで同様の装置を用い、種ラテックス0.2部をイオ
ン交換水235部に加え、80℃で10%過硫酸アンモ
ニウム水溶液10部と実施例1で用いた混合モノマー(
[3)100部を8時間かけて滴下するシード重合で粒
径6〜8μのラテックス樹脂粒子を得た。
ン交換水235部に加え、80℃で10%過硫酸アンモ
ニウム水溶液10部と実施例1で用いた混合モノマー(
[3)100部を8時間かけて滴下するシード重合で粒
径6〜8μのラテックス樹脂粒子を得た。
樹脂粒子の平均粒径を測定したところ7.5μであった
。
。
(磁性体メッキ層生成及び樹脂被覆)
実施例1と同様の装置を用い、表−1に示す配合及び条
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層の生
成、樹脂被覆を行ない磁性体メッキ粒子(X)及びキャ
リア(X)を得た。
件下、実施例1と同様な操作により磁性体メッキ層の生
成、樹脂被覆を行ない磁性体メッキ粒子(X)及びキャ
リア(X)を得た。
実施例1〜9および比較例1で得たキャリア(1)〜(
X)および比較例2として市販の平均粒径50μを有す
るフェライトキャリア(刈)とについて、下記配合で通
常の乾式トナー製造方法により得た平均粒径11μのト
ナーを混合して現像剤とし、普通紙用複写機(U−Bi
x 3000小西六写真工業社製)の改造機により複
写テストを行なった結果を表−1に示す。
X)および比較例2として市販の平均粒径50μを有す
るフェライトキャリア(刈)とについて、下記配合で通
常の乾式トナー製造方法により得た平均粒径11μのト
ナーを混合して現像剤とし、普通紙用複写機(U−Bi
x 3000小西六写真工業社製)の改造機により複
写テストを行なった結果を表−1に示す。
(トナー配合)
重量比
スヂレン樹脂 85(商品名「
ピコラスティックD150J。
ピコラスティックD150J。
ハーキエレス社製)
カーボンブラック 8(商品名[
モナーク880に キャボット社製) ポリプロピレンワックス 7(商品名「
ビスコール550 Pに 工注化成社製) オイルブラック 2(商品名[
ボントロンS−34J。
モナーク880に キャボット社製) ポリプロピレンワックス 7(商品名「
ビスコール550 Pに 工注化成社製) オイルブラック 2(商品名[
ボントロンS−34J。
オリエント化学社製)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、核体粒子表面に酸化鉄系の磁性体メッキ層を設けた
、飽和磁化20〜80emu/gを有する現像剤用磁性
キャリア。 2、メッキ後の粒子の比重が4.0以下である第1項記
載の現像剤用磁性キャリア。 3、磁性体メッキ層がフェライトである第1項記載の現
像剤用磁性キャリア。 4、磁性体メッキ層がフェライト湿式メッキ法により形
成される第1項記載の現像剤用磁性キャリア。 5、核体粒子が樹脂粒子である第1項記載の現像剤用磁
性キャリア。 6、磁性体メッキ後の平均粒子が10〜60μである第
1記載の現像剤用磁性キャリア。 7、磁性体メッキ層表面に樹脂被覆を行った第1項〜第
6項記載の現像剤用磁性キャリア。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CA000545974A CA1330869C (en) | 1986-09-03 | 1987-09-02 | Magnetic carrier used for developer |
EP87112879A EP0258895B1 (en) | 1986-09-03 | 1987-09-03 | Magnetic carrier used for developer |
US07/092,876 US4816364A (en) | 1986-09-03 | 1987-09-03 | Magnetic carrier particles for electrophotographic developer having plated layer of iron oxide |
DE8787112879T DE3784286T2 (de) | 1986-09-03 | 1987-09-03 | Als entwickler benutzter magnetischer traeger. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20980386 | 1986-09-03 | ||
JP61-209803 | 1986-09-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63184765A true JPS63184765A (ja) | 1988-07-30 |
Family
ID=16578854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62075494A Pending JPS63184765A (ja) | 1986-09-03 | 1987-03-26 | 現像剤用磁性キヤリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63184765A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197077A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | キャリア芯材及びそれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP62075494A patent/JPS63184765A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014197077A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | キャリア芯材及びそれを用いた電子写真現像用キャリア及び電子写真用現像剤 |
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