JPS63184298A - スフエロマツク同軸プラズマ銃 - Google Patents
スフエロマツク同軸プラズマ銃Info
- Publication number
- JPS63184298A JPS63184298A JP62015483A JP1548387A JPS63184298A JP S63184298 A JPS63184298 A JP S63184298A JP 62015483 A JP62015483 A JP 62015483A JP 1548387 A JP1548387 A JP 1548387A JP S63184298 A JPS63184298 A JP S63184298A
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- JP
- Japan
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- plasma
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野)
この発明は、核融合研究において最近注目されているス
フェロマクというプラズマ配位を実現するためのスフエ
ロマク同軸プラズマ銃において、プラズマ銃出口部の磁
場分布を可変できるようにしたものに関し、安定したプ
ラズマを生成する磁場分布の最適値を得られるようにし
たものである。
フェロマクというプラズマ配位を実現するためのスフエ
ロマク同軸プラズマ銃において、プラズマ銃出口部の磁
場分布を可変できるようにしたものに関し、安定したプ
ラズマを生成する磁場分布の最適値を得られるようにし
たものである。
スフエロマツクは一口で言うと、プラズマが自分自身の
内部電流によって作られた磁場の助けを借りて閉じ込め
られる配位である。外部トロイダル磁場が要らないため
にドーナッツ形のプラズマの中心軸にプラズマとトポロ
ジカルに交jji 7Iるコイルやブランケットを必要
としない。一方プラズマは1〜カマクのように閉じた磁
力線によって閉じ込められているので、この配位は1−
カマ9の長所(閉じた磁力線)と、ミラー型装置の長所
(簡易なブランケット)を兼ね備えているとち吉える。
内部電流によって作られた磁場の助けを借りて閉じ込め
られる配位である。外部トロイダル磁場が要らないため
にドーナッツ形のプラズマの中心軸にプラズマとトポロ
ジカルに交jji 7Iるコイルやブランケットを必要
としない。一方プラズマは1〜カマクのように閉じた磁
力線によって閉じ込められているので、この配位は1−
カマ9の長所(閉じた磁力線)と、ミラー型装置の長所
(簡易なブランケット)を兼ね備えているとち吉える。
スフェロマック同軸プラズマ銃はこのスフ11]マク配
位を実現するもので、第2図に示J、ように、まずあら
かじめ先がそれぞれ磁化された同軸円柱電極10.12
の間に中性ガスを注入して、内側と外側の電1ffi1
0.12の間に電圧をかけ絶縁破壊によりプラズマ14
を作る。するといわゆるトロイダル磁場が電極間に流れ
る電流によって作られ、またプラズマ14も内側の電極
10を内側にふくむトロイダル型となる(第2図(a)
)。次にプラズマはそのトロイダル磁場圧にJ:り銃の
外側に向かって加速され、内側と外側の電極10゜12
を結ぶように内側のIa JUコイル18と外側の磁場
コイル20で形成されたボロイダル磁力線16を引きの
ばしながらはじき出される。そして最Npにプラズマが
銃から離れる際、ボロイダル磁力線16はト[1イダル
プラズマをかこんだ形で再結合(ma(lnetic
reconnection ) L、トロイダル磁場は
プラズマ14中に残留され、いわゆるスフェロマク配位
が出来上る(第2図(b))。
位を実現するもので、第2図に示J、ように、まずあら
かじめ先がそれぞれ磁化された同軸円柱電極10.12
の間に中性ガスを注入して、内側と外側の電1ffi1
0.12の間に電圧をかけ絶縁破壊によりプラズマ14
を作る。するといわゆるトロイダル磁場が電極間に流れ
る電流によって作られ、またプラズマ14も内側の電極
10を内側にふくむトロイダル型となる(第2図(a)
)。次にプラズマはそのトロイダル磁場圧にJ:り銃の
外側に向かって加速され、内側と外側の電極10゜12
を結ぶように内側のIa JUコイル18と外側の磁場
コイル20で形成されたボロイダル磁力線16を引きの
ばしながらはじき出される。そして最Npにプラズマが
銃から離れる際、ボロイダル磁力線16はト[1イダル
プラズマをかこんだ形で再結合(ma(lnetic
reconnection ) L、トロイダル磁場は
プラズマ14中に残留され、いわゆるスフェロマク配位
が出来上る(第2図(b))。
従来のスフェロマック同軸プラズマ銃は内部電極10と
外部電極12および内部磁場コイル18と外部磁場コイ
ル20の各相対位置が固定的であり、安定したプラズマ
を生成する磁場分布の最適(1「Iをjllることがで
きなかった。
外部電極12および内部磁場コイル18と外部磁場コイ
ル20の各相対位置が固定的であり、安定したプラズマ
を生成する磁場分布の最適(1「Iをjllることがで
きなかった。
この発明は、前記従来の技術における問題点を解決して
安定したプラズマを生成する磁場分布の最適11r1を
得ることができるスフェロマック同軸プラズマ銃を提供
しようとするものである。
安定したプラズマを生成する磁場分布の最適11r1を
得ることができるスフェロマック同軸プラズマ銃を提供
しようとするものである。
〔問題点を解決するための手段)
この発明は、内部電極と外部電極および内部コイルと外
部コイルの各相対位置を軸方向に可変できるように構成
したことを特徴とするものである。
部コイルの各相対位置を軸方向に可変できるように構成
したことを特徴とするものである。
この発明の前記構成によれば、内部電極と外部電極a′
3よび内部磁場コイルと外部磁場の相対位置が略々一致
していれば、プラズマ銃出口部で放電電流と平行な磁場
成分が増えこの磁場を容易に引き込むことができる。
3よび内部磁場コイルと外部磁場の相対位置が略々一致
していれば、プラズマ銃出口部で放電電流と平行な磁場
成分が増えこの磁場を容易に引き込むことができる。
また、これらの相対位置をずらせば、プラズマ銃出口部
で放電電流と直角な磁場成分が増え、EI−レンツ力に
にリプラズマに回転が生じて、スフェロマック配位を安
定に保つことができる。したがって、ずらし徂を適宜設
定して、敢′af電流に対する磁場の平行成分と直交成
分の比率を調整することにより、安定したプラズマを生
成り−る磁場分布の最適値を作ることができる。
で放電電流と直角な磁場成分が増え、EI−レンツ力に
にリプラズマに回転が生じて、スフェロマック配位を安
定に保つことができる。したがって、ずらし徂を適宜設
定して、敢′af電流に対する磁場の平行成分と直交成
分の比率を調整することにより、安定したプラズマを生
成り−る磁場分布の最適値を作ることができる。
なお、以下の実施ヅ1では内部電極と外部電極を絶縁す
る電極絶縁体の厚みに変えることにより相対位1uの可
変を11なっている。
る電極絶縁体の厚みに変えることにより相対位1uの可
変を11なっている。
〔実施例)
この発明の1実施例を第1図に示す。
第1図において、スフエロマク配位を形成する真空容器
のフランジ24には、フランジ絶縁体26を介しで円1
n状の外部電極28が絶縁ボルト30によって固定され
ている。外部電極28の外周面にCま、コイル絶縁体3
2を介して外部コイル34が巻回されている。
のフランジ24には、フランジ絶縁体26を介しで円1
n状の外部電極28が絶縁ボルト30によって固定され
ている。外部電極28の外周面にCま、コイル絶縁体3
2を介して外部コイル34が巻回されている。
外部電極28の後※を部フランジ28aには、リング状
の電極絶縁体36が絶縁ボルト38によっ℃固定されて
いる。゛電極絶縁体36の内周面には放電による高熱か
ら保護するためのホロンナイトライド等の電極絶縁体保
護板48が取り付けられている。絶縁ボルト38は、金
属性ボルトの外周面をポリイミド(カプトン)デープ等
の絶縁材で被覆したものである。
の電極絶縁体36が絶縁ボルト38によっ℃固定されて
いる。゛電極絶縁体36の内周面には放電による高熱か
ら保護するためのホロンナイトライド等の電極絶縁体保
護板48が取り付けられている。絶縁ボルト38は、金
属性ボルトの外周面をポリイミド(カプトン)デープ等
の絶縁材で被覆したものである。
外部電極28の内部空間に(、上内部電極40が同軸上
に収容されている。内部電極40の先端部には化1石保
護板45が取り付1)られている。内部電?4i40内
にはスペーサ42を介して円筒状の内部コイル44が収
容されている。内部コイル44のリード線58は、内部
電極40の後端部から引き出されている。
に収容されている。内部電極40の先端部には化1石保
護板45が取り付1)られている。内部電?4i40内
にはスペーサ42を介して円筒状の内部コイル44が収
容されている。内部コイル44のリード線58は、内部
電極40の後端部から引き出されている。
内部電極40は後端部フランジ40aが絶縁ポル1へ4
6によって電極絶縁体36に固定される。
6によって電極絶縁体36に固定される。
これにより、外部電極28と内部電極40は電極絶縁体
36によって絶縁される。
36によって絶縁される。
内部電極40の内部後端部には電磁弁50が収容され、
絶縁ボルト52によって内部電極後端部フランジ/lO
aに取り付けられている。ガス管54からはプラズマ生
成用の中性ガスが注入され、電磁弁50から矢印で示す
経路を通って内部電極40と外部電極28の間の空間5
6に供給される。
絶縁ボルト52によって内部電極後端部フランジ/lO
aに取り付けられている。ガス管54からはプラズマ生
成用の中性ガスが注入され、電磁弁50から矢印で示す
経路を通って内部電極40と外部電極28の間の空間5
6に供給される。
内部電極40と外部電極28との間に電圧を印加して放
電を生じさせると、注入されている中性ガスがプラズマ
化する。すると、いわゆるトロイダル磁場が電極40.
28間に流れる放電°心流60によって作られ、また、
プラズマも内部電極40を内側にふくむ1−ロクダル型
どなる。そして、プラズマはその]−ロイダル磁場圧に
より出口方向く右方向)に向かって加速され、内部コイ
ル44と外部コイル34によって内部電極40と外部電
!f+ 28を結ぶように形成されたポロイダル磁力線
62を引き伸ばしながらはじき出される。そして最後に
プラズマが銃から離れる際ボロイダル磁力線はトロイダ
ルプラズマをかこんだ形で再結合し、トロイダルI4磁
場はプラズマ22中に残留されてスフ10マク配位がで
きる上る。
電を生じさせると、注入されている中性ガスがプラズマ
化する。すると、いわゆるトロイダル磁場が電極40.
28間に流れる放電°心流60によって作られ、また、
プラズマも内部電極40を内側にふくむ1−ロクダル型
どなる。そして、プラズマはその]−ロイダル磁場圧に
より出口方向く右方向)に向かって加速され、内部コイ
ル44と外部コイル34によって内部電極40と外部電
!f+ 28を結ぶように形成されたポロイダル磁力線
62を引き伸ばしながらはじき出される。そして最後に
プラズマが銃から離れる際ボロイダル磁力線はトロイダ
ルプラズマをかこんだ形で再結合し、トロイダルI4磁
場はプラズマ22中に残留されてスフ10マク配位がで
きる上る。
第1図の構成では、内部電極40と外部電極28の先端
部の軸方向位置および内部コイル44ど外部コイル34
の軸方向位置がそれぞれ揃っている。このとき、第4図
に示すように、放電電流60と平行な磁力線成分が大き
く、磁力線を容易にトラップすることができる。
部の軸方向位置および内部コイル44ど外部コイル34
の軸方向位置がそれぞれ揃っている。このとき、第4図
に示すように、放電電流60と平行な磁力線成分が大き
く、磁力線を容易にトラップすることができる。
一方、第1図の構成において電極絶縁体36のI7さ゛
を変えて第3図のようにすると、内部電極40が外部電
極28に対して、また内部コイル44が外部コイル34
に対してそれぞれ左方向に後退する。このとき、第5図
に示すように、放電電流60に対し、…力rA62は直
交する成分が大きくなる。したがって、プラズマはロー
レンツ力によってこの銃の中心軸を中心どして回転する
。
を変えて第3図のようにすると、内部電極40が外部電
極28に対して、また内部コイル44が外部コイル34
に対してそれぞれ左方向に後退する。このとき、第5図
に示すように、放電電流60に対し、…力rA62は直
交する成分が大きくなる。したがって、プラズマはロー
レンツ力によってこの銃の中心軸を中心どして回転する
。
したがって第1図の構成に比べると磁力線のトラップし
易さは減少するが、プラズマ22の強い回転が得られる
ので、スフ10マク配位を安定に保つことができる。
易さは減少するが、プラズマ22の強い回転が得られる
ので、スフ10マク配位を安定に保つことができる。
以上説明したように、この発明によれば、内部電極と外
部電極および内部コイルを外部コイルの各相対位置を軸
方向に可変できるようにしたので内部゛電極と外部電極
のすらしfatを適宜設定して、放電電流に対する14
i場の平行成分と直交成分の比率を調整することにより
、安定したプラズマを生成する磁場分布の最適値を作る
ことができる。
部電極および内部コイルを外部コイルの各相対位置を軸
方向に可変できるようにしたので内部゛電極と外部電極
のすらしfatを適宜設定して、放電電流に対する14
i場の平行成分と直交成分の比率を調整することにより
、安定したプラズマを生成する磁場分布の最適値を作る
ことができる。
第1図は、この発明の一実施例を示を断面図である。
第2図は、スフェロマク同軸プラズマ銃の原理を説明す
る図である。 第3図は、第1図のプラズマ銃において電極絶縁体36
の厚みを変えた場合の構成を示す断面図である。 第4図は、第1図の構成における放電電流と磁力線の位
置関係を示す図である。 第5図は、第3図の構成における放電電流と磁力線の位
置関係を示す図である。 28・・・外部電極、40・・・内部電極、34・・・
外部コイル、44・・・内部コイル。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 28 夕Fy臣t&ν 第4図 第5図 4藉活点 中 心 図
る図である。 第3図は、第1図のプラズマ銃において電極絶縁体36
の厚みを変えた場合の構成を示す断面図である。 第4図は、第1図の構成における放電電流と磁力線の位
置関係を示す図である。 第5図は、第3図の構成における放電電流と磁力線の位
置関係を示す図である。 28・・・外部電極、40・・・内部電極、34・・・
外部コイル、44・・・内部コイル。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 28 夕Fy臣t&ν 第4図 第5図 4藉活点 中 心 図
Claims (1)
- 内部電極と外部電極および内部コイルと外部コイルの各
相対位置を軸方向に可変できるように構成したことを特
徴とするスフェロマック同軸プラズマ銃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62015483A JPS63184298A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | スフエロマツク同軸プラズマ銃 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62015483A JPS63184298A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | スフエロマツク同軸プラズマ銃 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63184298A true JPS63184298A (ja) | 1988-07-29 |
Family
ID=11890040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62015483A Pending JPS63184298A (ja) | 1987-01-26 | 1987-01-26 | スフエロマツク同軸プラズマ銃 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63184298A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2721628A4 (en) * | 2011-06-17 | 2014-12-31 | Univ Missouri | SYSTEMS AND METHOD FOR GENERATING A SELF-LIMITED HIGH-DENSITY AIRFLOW |
JP2018124312A (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-09 | 株式会社Ihi | プラズマ光源 |
-
1987
- 1987-01-26 JP JP62015483A patent/JPS63184298A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2721628A4 (en) * | 2011-06-17 | 2014-12-31 | Univ Missouri | SYSTEMS AND METHOD FOR GENERATING A SELF-LIMITED HIGH-DENSITY AIRFLOW |
US9338874B2 (en) | 2011-06-17 | 2016-05-10 | The Curators Of The University Of Missouri | Systems and methods to generate a self-confined high destiny air plasma |
JP2018124312A (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-09 | 株式会社Ihi | プラズマ光源 |
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