JPS63182568A - 自動分析装置 - Google Patents
自動分析装置Info
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- JPS63182568A JPS63182568A JP1447687A JP1447687A JPS63182568A JP S63182568 A JPS63182568 A JP S63182568A JP 1447687 A JP1447687 A JP 1447687A JP 1447687 A JP1447687 A JP 1447687A JP S63182568 A JPS63182568 A JP S63182568A
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Landscapes
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は自動分析装置の反応槽温度制御装置に係り、特
に臨床検査用生化学自動分析装置等において反応液の反
応温度を一定にして分析性能の安定化、高信頼化をはか
るのに好適な反応槽温度制御装置に関するものである。
に臨床検査用生化学自動分析装置等において反応液の反
応温度を一定にして分析性能の安定化、高信頼化をはか
るのに好適な反応槽温度制御装置に関するものである。
臨床検査用の生化学自動分析装置においては、分析中の
反応液を一定温度、例えば、37±0.05℃に安定度
よく保持することが、分析精度の安定その活性度を維持
するためにはほぼ15°C以下の低温に保冷する必要が
あり、装置周辺の温度が、例えば、15〜35℃と不定
の条件のもとてこの両者の要求を満たすために、従来の
装置は、特開昭59−230162号公報に記載のよう
に、次の如く構成されていた。通常、制御対象の温度を
周囲温度が不定の下で精度良く制御するには、冷却部と
加熱部の双方を設け、対象物の温度をその制御系の中に
設けた温度センサでコントローラにフィードバックして
制御点と該センサの検知温度との偏差で上記の冷却部又
は加熱部を制御することが行われており、この場合通常
は冷却部を精度良く制御することは困難なため、これは
連続動作として加熱部を制御している。上記した従来の
装置においても、冷却部として圧縮式冷凍機を用い、そ
のビー1〜サイクルの中の蒸発器部分を冷水槽として冷
水を作り、その冷水をポンプで試薬貯留部との間を循環
させて、試薬貯留部内に収容している試薬を保冷する。
反応液を一定温度、例えば、37±0.05℃に安定度
よく保持することが、分析精度の安定その活性度を維持
するためにはほぼ15°C以下の低温に保冷する必要が
あり、装置周辺の温度が、例えば、15〜35℃と不定
の条件のもとてこの両者の要求を満たすために、従来の
装置は、特開昭59−230162号公報に記載のよう
に、次の如く構成されていた。通常、制御対象の温度を
周囲温度が不定の下で精度良く制御するには、冷却部と
加熱部の双方を設け、対象物の温度をその制御系の中に
設けた温度センサでコントローラにフィードバックして
制御点と該センサの検知温度との偏差で上記の冷却部又
は加熱部を制御することが行われており、この場合通常
は冷却部を精度良く制御することは困難なため、これは
連続動作として加熱部を制御している。上記した従来の
装置においても、冷却部として圧縮式冷凍機を用い、そ
のビー1〜サイクルの中の蒸発器部分を冷水槽として冷
水を作り、その冷水をポンプで試薬貯留部との間を循環
させて、試薬貯留部内に収容している試薬を保冷する。
一方、前記の冷水槽に隣接して恒温槽を設け、この恒温
槽は前記した冷水槽と細孔で接続して冷水を冷却源とし
て利用するとともに、この恒温槽中には加熱源としてヒ
ータ及び温度センサを設け、この温度センサの出力と制
御点との偏差でヒータを制御して恒温槽の中の水を所定
の温度に制御し、この恒温水をポンプで反応槽との間に
循環させて反応槽の温度を一定に保持していた。
槽は前記した冷水槽と細孔で接続して冷水を冷却源とし
て利用するとともに、この恒温槽中には加熱源としてヒ
ータ及び温度センサを設け、この温度センサの出力と制
御点との偏差でヒータを制御して恒温槽の中の水を所定
の温度に制御し、この恒温水をポンプで反応槽との間に
循環させて反応槽の温度を一定に保持していた。
上記した従来技術では、反応槽内で直接的にその温度を
制御するのではなく、恒温槽内で反応槽への循環水の温
度を制御し、この恒温水で反応槽の温度及び反応槽に浸
された反応セルの中の反応液の温度を保持しているため
、恒温槽内で温度の制御が高精度で安定に行われても、
恒温槽から離れた位置にある反応槽の温度を恒温水の循
環で安定よく目標温度に保持するには、装置周辺の温度
影響を受けないようにするため、恒温槽から反応槽まで
の恒温水の循環流路及び反応槽を厳重に断熱する必要が
あり、また、断熱が十分に行われ、反応槽に流入する循
環水が目標温度に精度よく制御されていても、外部から
反応セルに注入される試薬や洗浄水と反応槽内の循環水
との間に温度差があって、この両者の間に熱交換がある
と、反応槽内の水の温度はこれらに影響されて目標温度
からfれてしまうという問題がある。また、これを防ぐ
ために試薬を反応セルに注入する前に目標温度まで加熱
することが考えられるが、このようにすると構成が複雑
になり、実用化し得ない。
制御するのではなく、恒温槽内で反応槽への循環水の温
度を制御し、この恒温水で反応槽の温度及び反応槽に浸
された反応セルの中の反応液の温度を保持しているため
、恒温槽内で温度の制御が高精度で安定に行われても、
恒温槽から離れた位置にある反応槽の温度を恒温水の循
環で安定よく目標温度に保持するには、装置周辺の温度
影響を受けないようにするため、恒温槽から反応槽まで
の恒温水の循環流路及び反応槽を厳重に断熱する必要が
あり、また、断熱が十分に行われ、反応槽に流入する循
環水が目標温度に精度よく制御されていても、外部から
反応セルに注入される試薬や洗浄水と反応槽内の循環水
との間に温度差があって、この両者の間に熱交換がある
と、反応槽内の水の温度はこれらに影響されて目標温度
からfれてしまうという問題がある。また、これを防ぐ
ために試薬を反応セルに注入する前に目標温度まで加熱
することが考えられるが、このようにすると構成が複雑
になり、実用化し得ない。
本発明の目的は、構成が単純で、しかも、反応セル内に
注入された冷たい試薬や洗浄水により反応槽の目標温度
が変化しないようにすることができる自動分析装置の反
応槽温度制御装置を提供することにある。
注入された冷たい試薬や洗浄水により反応槽の目標温度
が変化しないようにすることができる自動分析装置の反
応槽温度制御装置を提供することにある。
上記目的は、反応槽から流れ出た循環恒温水を冷却手段
を経由して循環手段に戻し、上記循環手段の吐出口を加
熱手段と温度検知手段とを近接して配置した温度制御筒
に接続し、この筒内で上記循環恒温水の温度をあらかじ
め設定された目標温度に上記温度検知手段と上記加熱手
段にて温度制御し、この温度制御された循環恒温水を上
記反応槽に給送するとともに一部を上記循環手段の吸込
口側に戻し、上記反応槽内には槽内の循環恒温水の温度
を検知する第2の温度検知を設け、この第2の温度検知
手段による検知温度が上記目標温度と異なるときは、上
記検知温度が上記目標温度に一致するように上記筒内の
上記循環恒温水の制御温度を変える温度制御手段を設け
て達成するようにした。
を経由して循環手段に戻し、上記循環手段の吐出口を加
熱手段と温度検知手段とを近接して配置した温度制御筒
に接続し、この筒内で上記循環恒温水の温度をあらかじ
め設定された目標温度に上記温度検知手段と上記加熱手
段にて温度制御し、この温度制御された循環恒温水を上
記反応槽に給送するとともに一部を上記循環手段の吸込
口側に戻し、上記反応槽内には槽内の循環恒温水の温度
を検知する第2の温度検知を設け、この第2の温度検知
手段による検知温度が上記目標温度と異なるときは、上
記検知温度が上記目標温度に一致するように上記筒内の
上記循環恒温水の制御温度を変える温度制御手段を設け
て達成するようにした。
上記した本発明による温度制御手段では、反応槽に設け
た第2の温度検知手段(以下第2の温度センサという)
が反応槽温度を直接検知し、この温度が目標温度からず
れている場合には、加熱手段であるヒータと第1の温度
検知手段(以下第1の温度センサという)とが近接して
設けである温度制御筒内の循環恒温水の制御温度をその
偏差に応じて再設定し、常に反応セルへの試薬あるいは
洗浄水の注入、その他の外乱があっても反応槽温度が目
標温度からずれないように温度制御される。
た第2の温度検知手段(以下第2の温度センサという)
が反応槽温度を直接検知し、この温度が目標温度からず
れている場合には、加熱手段であるヒータと第1の温度
検知手段(以下第1の温度センサという)とが近接して
設けである温度制御筒内の循環恒温水の制御温度をその
偏差に応じて再設定し、常に反応セルへの試薬あるいは
洗浄水の注入、その他の外乱があっても反応槽温度が目
標温度からずれないように温度制御される。
それによって反応槽温度は常に目標温度に制御さく6)
れる。また、ヒータと第1の温度センサは隣接して設け
であるので、応答が早く、かつ、温度制御筒で一定温度
に制御された循環恒温水の一部は循環ポンプの吸込口に
戻して十分に温度制御筒内での撹拌が行われるため、反
応槽に流入する循環恒温水は温度脈動が著しく少ないも
のとなり、反応槽温度は目標温度に精度よく一致し、安
定に維持される。
であるので、応答が早く、かつ、温度制御筒で一定温度
に制御された循環恒温水の一部は循環ポンプの吸込口に
戻して十分に温度制御筒内での撹拌が行われるため、反
応槽に流入する循環恒温水は温度脈動が著しく少ないも
のとなり、反応槽温度は目標温度に精度よく一致し、安
定に維持される。
以下本発明を第1図、第2図に示した実施例を用いて詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図は本発明の自動分析装置の反応槽温度制御装置の
一実施例を示す構成図である。第1図において、1は、
例えば、フロンR−12を冷媒とした圧縮式冷凍機で、
圧縮機2.凝縮器3.膨張弁4.蒸発器5等が図示の如
く接続しである。6は冷水槽で、圧縮式冷凍機1の蒸発
器59反反応槽29内冷却のための冷却管7.試薬保冷
庫14への循環冷水の取出し口8および戻り口9が設け
てあり、その外周りは断熱材10で覆い、上部は断熱さ
れた蓋11で覆っである。また、冷水槽6の中に入れら
れた水12は、圧縮式冷凍機上の冷媒の蒸発器5での気
化により冷やされて冷水となる。13は冷水12を冷水
槽6と試薬保冷庫14との間で循環するための冷水循環
ポンプで、その吐出口が試薬保冷庫14の下面に設けた
流入口15に接続しである。一方、流出口16が試薬保
冷庫14の上部に設けてあり、冷水槽6の戻り口9に配
管しである。試薬保冷庫14の外周も断熱材17で断熱
してあり、中には試薬容器18が収納してあり、その上
部には着脱可能に断熱された蓋19が用意されている。
一実施例を示す構成図である。第1図において、1は、
例えば、フロンR−12を冷媒とした圧縮式冷凍機で、
圧縮機2.凝縮器3.膨張弁4.蒸発器5等が図示の如
く接続しである。6は冷水槽で、圧縮式冷凍機1の蒸発
器59反反応槽29内冷却のための冷却管7.試薬保冷
庫14への循環冷水の取出し口8および戻り口9が設け
てあり、その外周りは断熱材10で覆い、上部は断熱さ
れた蓋11で覆っである。また、冷水槽6の中に入れら
れた水12は、圧縮式冷凍機上の冷媒の蒸発器5での気
化により冷やされて冷水となる。13は冷水12を冷水
槽6と試薬保冷庫14との間で循環するための冷水循環
ポンプで、その吐出口が試薬保冷庫14の下面に設けた
流入口15に接続しである。一方、流出口16が試薬保
冷庫14の上部に設けてあり、冷水槽6の戻り口9に配
管しである。試薬保冷庫14の外周も断熱材17で断熱
してあり、中には試薬容器18が収納してあり、その上
部には着脱可能に断熱された蓋19が用意されている。
また、冷水槽6の取出し口8と冷水循環ポンプ13の吸
込口とが断熱された配管20で、冷水循環ポンプ13の
吐出口と試薬保冷庫14の流入口15とが断熱された配
管21で、試薬保冷庫14の流出口16と冷水槽6の戻
り口9とが断熱された配管22で接続しである。
込口とが断熱された配管20で、冷水循環ポンプ13の
吐出口と試薬保冷庫14の流入口15とが断熱された配
管21で、試薬保冷庫14の流出口16と冷水槽6の戻
り口9とが断熱された配管22で接続しである。
一方、反応槽側の構成を説明すると、23は反応槽循環
ポンプ、24は筒状の温度制御筒で、配管接続口25,
26.27が設けてあり、また、棒状のヒータ28と、
例えば、白金を温度検出材とした第1の制御用温度セン
サ29がその内部にシールして近接して取り付けである
。30は上方が開放されたU字型断面を有する円環状の
反応槽で、その下方底面部に恒温水の循環のための流入
配管口31と流出配管口32とが設けてあり、また、反
応槽3o内の循環恒温水33の水温を検出するための上
記した制御用温度センサ29と同様の第2の制御用温度
センサ34が循環恒温水33中に浸るように設けである
。35は、例えば、ガラス等の透明で光学的特性、熱伝
導性が良好な材料よりなる角筒状の反応セルで、その中
に検体と試薬とがそれぞれ注入され、混和される。複数
個の反応セル35が反応ディスク36に保持されて反応
槽29内の循環恒温水33中にその下部を浸して循環恒
温水33により検体と試薬が混和された反応液を所定の
反応温度に保持する。反応ディスク36は図示を省略し
た駆動機構により、これも図示は省略した光度計の周り
に所定の間欠回転動作を付与されて反応セル35内の反
応液の反応を時系列的に測定する。測定が完了した反応
液は廃棄され、反応セル35は図示を省略した洗浄装置
で洗浄され再測定に供せられる。以上の構成で反応槽循
環ポンプ23の吐出口は温度制御筒24の下部の配管接
続口25に、温度制御筒24の上部の配管接続口27は
反応槽3oの流入配管口31に、反応槽30の流出配管
口32は冷水槽6の冷却管7に、冷却管7の出口は三方
接続管41を介して反応槽循環ポンプ23の吸込口に、
また、温度制御筒24の中央の配管接続口26は三方接
続管41を介して反応槽循環ポンプ23の吸込口にそれ
ぞれ配管37,38,39,40.42で接続しである
。43.44は制御用温度センサ29.34の出力をそ
れぞれ電圧に変換、増幅する増幅器、45.46はA/
D変換器、47はμ−コンピュータシステムよりなる本
温度制御装置の制御部、48は直流電源、49はヒータ
28にに印加される交流電源、50は制御部47からの
信号によりヒータ28への交流電源49の印加の接、断
を行うソリッドステートリレー(以下、SSRと略す)
である。
ポンプ、24は筒状の温度制御筒で、配管接続口25,
26.27が設けてあり、また、棒状のヒータ28と、
例えば、白金を温度検出材とした第1の制御用温度セン
サ29がその内部にシールして近接して取り付けである
。30は上方が開放されたU字型断面を有する円環状の
反応槽で、その下方底面部に恒温水の循環のための流入
配管口31と流出配管口32とが設けてあり、また、反
応槽3o内の循環恒温水33の水温を検出するための上
記した制御用温度センサ29と同様の第2の制御用温度
センサ34が循環恒温水33中に浸るように設けである
。35は、例えば、ガラス等の透明で光学的特性、熱伝
導性が良好な材料よりなる角筒状の反応セルで、その中
に検体と試薬とがそれぞれ注入され、混和される。複数
個の反応セル35が反応ディスク36に保持されて反応
槽29内の循環恒温水33中にその下部を浸して循環恒
温水33により検体と試薬が混和された反応液を所定の
反応温度に保持する。反応ディスク36は図示を省略し
た駆動機構により、これも図示は省略した光度計の周り
に所定の間欠回転動作を付与されて反応セル35内の反
応液の反応を時系列的に測定する。測定が完了した反応
液は廃棄され、反応セル35は図示を省略した洗浄装置
で洗浄され再測定に供せられる。以上の構成で反応槽循
環ポンプ23の吐出口は温度制御筒24の下部の配管接
続口25に、温度制御筒24の上部の配管接続口27は
反応槽3oの流入配管口31に、反応槽30の流出配管
口32は冷水槽6の冷却管7に、冷却管7の出口は三方
接続管41を介して反応槽循環ポンプ23の吸込口に、
また、温度制御筒24の中央の配管接続口26は三方接
続管41を介して反応槽循環ポンプ23の吸込口にそれ
ぞれ配管37,38,39,40.42で接続しである
。43.44は制御用温度センサ29.34の出力をそ
れぞれ電圧に変換、増幅する増幅器、45.46はA/
D変換器、47はμ−コンピュータシステムよりなる本
温度制御装置の制御部、48は直流電源、49はヒータ
28にに印加される交流電源、50は制御部47からの
信号によりヒータ28への交流電源49の印加の接、断
を行うソリッドステートリレー(以下、SSRと略す)
である。
」二足の構成の装置においては、圧縮式冷凍機1のヒー
トポンプ動作により、膨張弁4を出た冷媒は蒸発器5で
気化する際、冷水槽6内の水12から気化熱を吸収する
ため、冷水槽6内の水12を冷水化する。この圧縮式冷
凍機1の動作は、図示を省略したが、冷水12の温度検
出を行って制御される。冷水12を冷水循環ポンプ13
で試薬保冷庫14に循環して試薬保冷庫14をほぼ15
℃以下の低温に維持してその中の試薬容器18を保冷す
る。一方、反応槽30を循環する恒温水33は、反応槽
30から出て配管39を経て冷水槽6の冷却管7を流れ
ることにより冷却管7の周囲の冷水12で冷却されて反
応槽循環ポンプ23によって温度制御筒24に送られる
。温度制御筒24内では制御用温度センサ29により筒
内の循環恒温水33の温度Tpが検出され、増幅器43
により、増幅され、A/D変換器45でA/D変換され
制御部47に伝送され、その温度があらかじめ設定され
た制御温度Tcより低ければS S R50を○Nにし
てヒータ28により加熱し、もし高ければヒータ28は
OFFのままとするよう制御温度Tcで0N−OFF制
御される。こうして恒温に制御された循環恒温水は、温
度制御筒24の出口で一部を反応槽循環ポンプ23の吸
込口に戻しながら反応槽30に送られて槽内の反応セル
35内の反応液を目標温度に維持する。ここで反応槽3
0内の循環恒温水33の温度Toが第2の温度センサ3
4で検出され、増幅、A/D変換されて制御部47へ送
られ、あらかじめ制御部47に与えられている目標温度
Tiと比較され、差があれば、その差がなくなるように
温度制御筒24内での制御温度T’cが制御部47内で
変更、再設定される。この制御部47の温度制御処理を
第2図に示す。第2図において、一点鎖線内の温度制御
筒24内での循環恒温水33の温度Tpの検出とヒータ
28の○N/○F″Fは、循環恒温水33の温度脈動を
小さくするため極めて短い周期で処理されるが、制御温
度Tcの変更、再設定は反応槽30内での循環恒温水3
3の温度TOが安定するまでの遅れ時間NLを考慮する
必要がある。
トポンプ動作により、膨張弁4を出た冷媒は蒸発器5で
気化する際、冷水槽6内の水12から気化熱を吸収する
ため、冷水槽6内の水12を冷水化する。この圧縮式冷
凍機1の動作は、図示を省略したが、冷水12の温度検
出を行って制御される。冷水12を冷水循環ポンプ13
で試薬保冷庫14に循環して試薬保冷庫14をほぼ15
℃以下の低温に維持してその中の試薬容器18を保冷す
る。一方、反応槽30を循環する恒温水33は、反応槽
30から出て配管39を経て冷水槽6の冷却管7を流れ
ることにより冷却管7の周囲の冷水12で冷却されて反
応槽循環ポンプ23によって温度制御筒24に送られる
。温度制御筒24内では制御用温度センサ29により筒
内の循環恒温水33の温度Tpが検出され、増幅器43
により、増幅され、A/D変換器45でA/D変換され
制御部47に伝送され、その温度があらかじめ設定され
た制御温度Tcより低ければS S R50を○Nにし
てヒータ28により加熱し、もし高ければヒータ28は
OFFのままとするよう制御温度Tcで0N−OFF制
御される。こうして恒温に制御された循環恒温水は、温
度制御筒24の出口で一部を反応槽循環ポンプ23の吸
込口に戻しながら反応槽30に送られて槽内の反応セル
35内の反応液を目標温度に維持する。ここで反応槽3
0内の循環恒温水33の温度Toが第2の温度センサ3
4で検出され、増幅、A/D変換されて制御部47へ送
られ、あらかじめ制御部47に与えられている目標温度
Tiと比較され、差があれば、その差がなくなるように
温度制御筒24内での制御温度T’cが制御部47内で
変更、再設定される。この制御部47の温度制御処理を
第2図に示す。第2図において、一点鎖線内の温度制御
筒24内での循環恒温水33の温度Tpの検出とヒータ
28の○N/○F″Fは、循環恒温水33の温度脈動を
小さくするため極めて短い周期で処理されるが、制御温
度Tcの変更、再設定は反応槽30内での循環恒温水3
3の温度TOが安定するまでの遅れ時間NLを考慮する
必要がある。
以上の制御部47の温度制御動作の説明で明らかなよう
に、装置周辺の温度変化あるいは冷たい試薬や洗浄水の
反応セル35への連続的に注入等による反応槽30内の
循環恒温水33の温度TOが目標温度Th に対してず
れが生じても、そのずれを解消する方向に温度制御筒2
4での制御温度’I’ cが常に制御部47により管理
されるため、反応セル35内の反応液は常に所定の反応
目標温度に精度よく安定に維持される。
に、装置周辺の温度変化あるいは冷たい試薬や洗浄水の
反応セル35への連続的に注入等による反応槽30内の
循環恒温水33の温度TOが目標温度Th に対してず
れが生じても、そのずれを解消する方向に温度制御筒2
4での制御温度’I’ cが常に制御部47により管理
されるため、反応セル35内の反応液は常に所定の反応
目標温度に精度よく安定に維持される。
また、反応槽30内での循環恒温水33の流速は、光度
計に雑音を与えるため、その上限値が決められる。しか
し、循環恒温水33の温度脈動は温度制御筒24内での
ヒータ28の周囲での流速の大きさ、すなわち、熱伝達
率を改善することと流路内での撹拌を十分に与えること
ば大幅に軽減される。本実施例によれば、温度制御筒2
4を出た循環恒温水33の一部を反応槽循環ポンプ23
の吸込側へ返すようにているので、反応槽30内での循
環恒温水33の流量を少なく制御しても、温度制御筒2
4内でのその流量を大とし、循環恒温水33に撹拌作用
を与えるとともに、ヒータ28と温度センサ29とを極
めて近接して配置したので、循環恒温水33の温度脈動
を低減することができる。
計に雑音を与えるため、その上限値が決められる。しか
し、循環恒温水33の温度脈動は温度制御筒24内での
ヒータ28の周囲での流速の大きさ、すなわち、熱伝達
率を改善することと流路内での撹拌を十分に与えること
ば大幅に軽減される。本実施例によれば、温度制御筒2
4を出た循環恒温水33の一部を反応槽循環ポンプ23
の吸込側へ返すようにているので、反応槽30内での循
環恒温水33の流量を少なく制御しても、温度制御筒2
4内でのその流量を大とし、循環恒温水33に撹拌作用
を与えるとともに、ヒータ28と温度センサ29とを極
めて近接して配置したので、循環恒温水33の温度脈動
を低減することができる。
さらに、温度制御筒242反応槽30とこれらを接続す
る配管38,39,40.42等は、上記の説明では断
熱については特にこだわらなかったが、この場合でも反
応槽3o内の循環恒温水33の温度では精度、安定度に
は影響が少ない。
る配管38,39,40.42等は、上記の説明では断
熱については特にこだわらなかったが、この場合でも反
応槽3o内の循環恒温水33の温度では精度、安定度に
は影響が少ない。
上記したように、本発明の実施例によれば、試薬の保冷
のための冷水槽6の中で冷却管7を介して反応槽30へ
の循環恒温水33を冷却して反応槽循環ポンプ23によ
りヒータ28と制御用温度センサ29を入れである温度
制御筒24に送り、ヒータ28の0N10FF動作によ
り温度制御された循環恒温水33を反応槽30に供給す
るとともに、その一部を反応槽循環ポンプ23の入口に
戻すことで、ヒータ部での熱伝導度を高めるとともに、
循環恒温水33に十分な撹拌を与え、温度制御での温度
脈動を極めて小さくし、さらに、反応槽30内の循環恒
温水33の温度を制御用温度センサ34で検知し、目標
反応温度とのずれを温度制御筒24での制御温度の再設
定により解消するようにしたので、反応槽30の温度、
すなわち、反応セル35内の反応液の温度を目標とする
反応温度に高精度に安定度よく制御することができ、分
析精度の向上、安定化、高信頼化が得られ、極めて大な
る効果が得られる。
のための冷水槽6の中で冷却管7を介して反応槽30へ
の循環恒温水33を冷却して反応槽循環ポンプ23によ
りヒータ28と制御用温度センサ29を入れである温度
制御筒24に送り、ヒータ28の0N10FF動作によ
り温度制御された循環恒温水33を反応槽30に供給す
るとともに、その一部を反応槽循環ポンプ23の入口に
戻すことで、ヒータ部での熱伝導度を高めるとともに、
循環恒温水33に十分な撹拌を与え、温度制御での温度
脈動を極めて小さくし、さらに、反応槽30内の循環恒
温水33の温度を制御用温度センサ34で検知し、目標
反応温度とのずれを温度制御筒24での制御温度の再設
定により解消するようにしたので、反応槽30の温度、
すなわち、反応セル35内の反応液の温度を目標とする
反応温度に高精度に安定度よく制御することができ、分
析精度の向上、安定化、高信頼化が得られ、極めて大な
る効果が得られる。
なお、上記の説明では、温度制御動作をマイクロコンピ
ュータシステムにより処理したが、これをマルチプレク
サ、オペアンプよりなるコンパレーター等で構成した電
子回路で処理するようにしてもよく、同様な効果が期待
できる。
ュータシステムにより処理したが、これをマルチプレク
サ、オペアンプよりなるコンパレーター等で構成した電
子回路で処理するようにしてもよく、同様な効果が期待
できる。
また、反応槽30への循環恒温水33の冷却手段として
試薬冷却のための冷水槽6を利用したが、これを単独の
冷却装置としてもよいことはいうまでもない。
試薬冷却のための冷水槽6を利用したが、これを単独の
冷却装置としてもよいことはいうまでもない。
以上説明したように、本発明によれば、反応槽の循環恒
温水の温度を目標反応温度に高精度で安定に維持するこ
とができ、分析精度の向上、高信頼度化をはかることが
できるという効果がある。
温水の温度を目標反応温度に高精度で安定に維持するこ
とができ、分析精度の向上、高信頼度化をはかることが
できるという効果がある。
第1図は本発明の自動分析装置の反応槽温度制御装置の
一実施例を示す構成図、第2図は第1図の制御部の動作
の一実施例を示すフローチャートである。
一実施例を示す構成図、第2図は第1図の制御部の動作
の一実施例を示すフローチャートである。
Claims (1)
- 1、検体と試薬を混和させて異色反応させる反応セルと
、該反応セル内の反応液の温度を一定に保持するための
恒温水が循環している反応槽と、前記循環恒温水を得る
ための冷却手段、加熱手段及び温度検知手段を備えた温
度制御手段と、ポンプ等の恒温水の循環手段とを具備し
たものにおいて、前記反応槽から流れ出た前記循環恒温
水を前記冷却手段を経由して前記循環手段に戻し、前記
循環手段の吐出口を前記加熱手段と前記温度検知手段と
を近接して配置した温度制御筒に接続し、該筒内で前記
循環恒温水の温度をあらかじめ設定された目標温度に前
記温度検知手段と前記加熱手段にて温度制御し、この温
度制御された循環恒温水を前記反応槽に給送するととも
に一部を前記循環手段の吸込口側に戻し、前記反応槽内
には槽内の循環恒温水の温度を検知する第2の温度検知
手段を設け、該第2の温度検知手段による検知温度が前
記目標温度と異なるときは、前記検知温度が前記目標温
度に一致するように前記筒内の前記循環恒温水の制御温
度を変える温度制御手段を設けたことを特徴とする自動
分析装置の反応槽温度制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62014476A JPH0623766B2 (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 自動分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62014476A JPH0623766B2 (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 自動分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63182568A true JPS63182568A (ja) | 1988-07-27 |
JPH0623766B2 JPH0623766B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=11862111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62014476A Expired - Lifetime JPH0623766B2 (ja) | 1987-01-24 | 1987-01-24 | 自動分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0623766B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0433113U (ja) * | 1990-07-03 | 1992-03-18 | ||
JP2007017403A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Shimadzu Corp | 試料恒温装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56132566A (en) * | 1980-03-21 | 1981-10-16 | Olympus Optical Co Ltd | Thermostat photometrical apparatus |
JPS57144975A (en) * | 1981-03-05 | 1982-09-07 | Toshiba Corp | Reaction tank of automatic biochemical analyzer |
JPS57171268A (en) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | Olympus Optical Co Ltd | Reaction tank |
JPS60176172U (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-21 | オリンパス光学工業株式会社 | 恒温装置 |
JPS6146851A (ja) * | 1984-08-11 | 1986-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 太陽熱温水器 |
JPS61219865A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | Hitachi Ltd | 反応槽恒温装置 |
-
1987
- 1987-01-24 JP JP62014476A patent/JPH0623766B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56132566A (en) * | 1980-03-21 | 1981-10-16 | Olympus Optical Co Ltd | Thermostat photometrical apparatus |
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JPS61219865A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | Hitachi Ltd | 反応槽恒温装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0433113U (ja) * | 1990-07-03 | 1992-03-18 | ||
JP2007017403A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Shimadzu Corp | 試料恒温装置 |
JP4492466B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2010-06-30 | 株式会社島津製作所 | 試料恒温装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0623766B2 (ja) | 1994-03-30 |
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