JPH0221264A - 自動分析装置の反応温度制御装置 - Google Patents

自動分析装置の反応温度制御装置

Info

Publication number
JPH0221264A
JPH0221264A JP63171652A JP17165288A JPH0221264A JP H0221264 A JPH0221264 A JP H0221264A JP 63171652 A JP63171652 A JP 63171652A JP 17165288 A JP17165288 A JP 17165288A JP H0221264 A JPH0221264 A JP H0221264A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
cooling
circulating water
water
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63171652A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0731208B2 (ja
Inventor
Hiroyasu Uchida
裕康 内田
Tetsuaki Abe
阿部 哲昭
Hiroaki Ishizawa
石沢 宏明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63171652A priority Critical patent/JPH0731208B2/ja
Priority to EP19890112191 priority patent/EP0350769A3/en
Priority to US07/375,884 priority patent/US4984628A/en
Publication of JPH0221264A publication Critical patent/JPH0221264A/ja
Publication of JPH0731208B2 publication Critical patent/JPH0731208B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L7/00Heating or cooling apparatus; Heat insulating devices
    • B01L7/02Water baths; Sand baths; Air baths
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D23/00Control of temperature
    • G05D23/19Control of temperature characterised by the use of electric means
    • G05D23/1919Control of temperature characterised by the use of electric means characterised by the type of controller
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D23/00Control of temperature
    • G05D23/19Control of temperature characterised by the use of electric means
    • G05D23/20Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Clinical Laboratory Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は自動分析装置の反応温度制御装置に係り、特に
臨床検査用生化学自動分析装置の検体と試薬を反応させ
る反応セル内の反応液の温度を一定に保持する恒温循環
水を得るのに好適な反応温度制御装置に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
臨床検査用生化学自動分析装置においては、分析中の反
応液を一定温度に安定度よく保持することは、正確な分
析結果を得、分析精度の安定化。
高信頼化のための必須条件である。この要求を満すため
、従来の反応温度制御装置は、特開昭59−23016
2号公報に記載のように次のように構成されていた。
通常、制御対象の温度を周囲温度が不定のもとて精度よ
く制御するには、冷却部と加熱部の双方を設け、対象物
の温度をその制御系の中に設けた温度センサでコントロ
ーラにフィードバックして制御温度と温度センサの検知
温度との偏差で冷却部または加熱部を制御することが行
われており、この場合、通常は冷却部を精度よく制御す
ることは困難であるため、これは連続動作として加熱部
を制御している。従来の装置においても、冷却部として
圧縮式冷凍機を用い、そのヒートサイクル中の蒸発器部
分を冷水槽として冷水を作り、一方、冷水槽に隣接して
恒温槽を設け、恒温槽は冷水槽と細孔で接続されていて
、冷水を冷却源として利用するとともに、恒温槽中には
加熱源としてヒータ及び温度センサが設けられていて、
温度センサの出力と制御温度との偏差でヒータをオン、
オフ制御して恒温槽の中の水を所定の温度に制御し、恒
温水をポンプで反応槽との間に循環させて反応槽の温度
を一定に保持している。冷却槽内の冷水は、ポンプによ
り試薬性留部との間を循環して、試薬貯留部内に収容し
である試薬を保冷する。そのため、圧縮式冷凍機は装置
が非動作時であっても常に運転状態にあって冷水を一定
温度に維持していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
自動分析装置の反応温度制御装置に対する要求の1つは
、安価で信頼性の高い制御系にあり、この点では従来の
オン、オフ制御はその要求を満たすものであるが、性能
性から次の要求がある。すなわち、正確な分析結果を得
るための温度制御の高精度化であり、また、いま1つは
、電源投入後の装置の立ち上げ時間の短縮のための反応
槽温度の立ち上がり時間の短縮である。オン、オフ制御
においては、温度制御精度上の問題は、温度リップルが
大きいことにあり、第1の要求の制御の高精度化を得る
には、ヒータ及び冷却部の容量は制御が可能な範囲内で
できる限り小さいのがよく。
第2の要求の立ち上がり時間の短縮には、冷却能力及び
ヒータの容量を大きくする必要がある。従来の自動分析
装置においては1反応温度は25゜30@、37°のう
ちからいずれかの温度の選択を可能とし、また、周囲温
度としては、例えば、15〜38℃を許容している。こ
の条件から従来の装置では、冷却部の能力は32℃近辺
の温度の循環水を25℃の制御範囲内に所定の時間内に
冷却し得る能力として、また、ヒータの容量は15℃近
辺の循環水を37℃の制御範囲内に所定の時間で加熱し
得る能力として2つの矛盾した要求で選ばれており、必
ずしもこの2つの要求に対しては満足が得られていたも
のではなかった。また、この方法によると、ヒートサイ
クル中PH7動作時の冷凍負荷が必要以上に大きくなっ
て、その低減も望まれるところである。
本発明の目的は、従来装置での上記した問題点を解決す
るためになされたもので、立ち上がり時間の短かい、か
つ、温度リップルの小さい高精度な反応槽温度制御を実
現して使い勝手のよい正確な分析結果が得られる自動分
析装置の反応温度制御装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、検体と試薬を混和、呈色反応させる反応セ
ルと、この反応セル内の反応液の温度を一定に保持する
恒温水が循環している反応槽と、上記循環恒温水を得る
ための循環水の冷却手段と、ポンプ等の上記循環水の循
環手段と、上記循環水の加熱手段とを環状に接続し、こ
の加熱手段の後方に設けた上記循環水の温度を検知する
温度検知手段と、この温度検知手段からの信号で上記冷
却手段、加熱手段を操作する制御手段とを設け、上記循
環水温度の制御状態あるいは制御目標値に応じて上記冷
却手段での上記循環水の熱交換量を可変とする手段を具
備した構成として達成するようにした。
なお、上記循環水の熱交換量を可変とする手段は、圧縮
式冷凍機等により作られる冷水に少なくも1本の冷却管
を配設して、この冷却管の内側に上記循環水を流し、上
記冷水の外で上記冷却管を継ぐ流路を切り替えるか、バ
イパスする流路を設け、上記循環水と上記冷水との熱交
換量を可変とした構造としてある。
〔作用〕
従来の反応温度制御装置では、立ち上げ時に温度の低い
循環水をヒータで加熱しているときでも、循環水は冷水
と熱交換して冷却され、それをヒータで再加熱していた
ので、立ち上げ時にはヒータの能力はこの冷却量だけ損
失となるため、大容量化し、定常な制御動作時には過剰
能力となって制御精度を低下させていた。
ところで、反応槽循環恒温水の冷却能力を流路を切り替
えることによって制御状態に応じて可変とする本発明に
おいては。
1、反応槽温度制御の立ち上げ時に目標温度に対して循
環水の温度が低い場合は、制御範囲内に到達するまでは
循環水は冷却部をバイアスして冷水と熱交換することな
くヒータ部に流れるため、ヒータ能力の損失はなく、従
ってヒータ容量は小さく設定し得る。
2、循環水の温度が目標値より高い場合は、ヒータはオ
フ状態にあり、制御範囲内に到達するまでは冷却部は制
御精度に関係なく最大冷却能力に選ばれ、立ち上げ時間
の短縮が得られる。
3、制御動作範囲では、冷却部は制御動作からのみ決定
された冷却能力を選び、冷凍負荷の軽減も得られる。
などにより、立ち上がり時間の短縮と、温度制御の高精
度化の双方の要求を満足することができる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を第1図〜第4図を用いて詳細に説
明する。
第1図は本発明の自動分析装置の反応温度制御装置の一
実施例を示す構成図である。第1図において、1は例え
ばフロンR−12を冷媒とする圧縮式冷凍機で、圧縮機
2.凝縮器3.膨張弁4゜蒸発器5等が図示の如く接続
されている。6は冷水槽で、圧縮式冷凍1lfl■の蒸
発器52反反応槽27内熱交換量の異なる第1.第2の
冷却管7.8が設けられ、その外周りは断熱材9で覆れ
ており、上部には断熱する蓋10が設けられている。冷
却槽6の内部の水11は圧縮式冷凍機上の冷媒の蒸発器
5で気化により冷やされて冷水となる。
反応槽側の構成を説明すると、21は反応槽循環ポンプ
、22は筒形のヒータ筒で、配管接続口23.24が設
けられ、棒状のヒータ251例えば白金を温度検出材と
した温度センサ26がその内部にそれぞれシールされて
図示の如く取り付けられている。27は上方が開放され
、U字断面よりなる円環状の反応槽で、その底面部に恒
温水の循環のための流入配管28と流出配管29が設け
られており、その外表面は断熱材30で断熱されている
。31は、例えば、ガラス管の透明で光学的特性、熱伝
導度のよい材料よりなる円筒状の反応セルで、その中に
検体と試薬とがそれぞれ定量ずつ注入され、混和される
。複数個の反応セル31が反応ディスク32に保持され
て反応槽27内の温度制御された恒温水33中にその下
部を浸して恒温水33によって検体と試薬が混和された
反応液を所定の反応温度に保持される。反応ディスク3
2は図示を省略した回転駆動機構により、図示を省略し
た光度計の周りに所定の間欠回転動作を与えられて反応
セル31内の反応液の反応を吸光度変化として時系列的
に測定する。測定が完了した反応器は、吸い上げ廃棄さ
れ、反応セル31は図示を省略した洗浄装置で洗浄され
、再測定に供される。
34.35はそれぞれ第1及び第2の三方電磁弁であり
、第1及び第2の三方電磁弁34.35及び冷水槽6の
第1及び第2の冷却管7,8は、断熱された配管36〜
46と2つの三方接続管47.48により図示の如く接
続されている。
51は温度センサ26の出力を電圧に変換、増幅する増
幅器、52はA/D変換器、53はマイクロコンピュー
タシステムよりなる温度制御装置の制御部、54はヒー
タ25に印加される交流電源、55は制御部53からの
信号によりヒータ25への交流電源54の印加の断・接
を行うソリッドステートリレー(以下SSRと略す)で
ある。
上記の構成の装置においては、圧縮式冷凍機1のヒート
ポンプ動作により、膨張弁4を出た冷媒は蒸発器5で気
化する際に冷水槽6内の水11から気化熱を吸収するた
め、水11を冷水化する。
この圧縮式冷凍機1の動作は、図示を省略したが冷水1
1の温度検出を行って制御される。一方、反応槽27を
循環する恒温水33の温度制御は次のようにして行われ
る。反応槽27の流出配管口29から配管38に流れ出
た循環水は制御状態によりその流路を2つの三方電磁弁
34.35により選択し、冷却量が立ち上げ時と制御動
作時のそれぞれの状態に応じて3〜4段階で切り替えら
れる。冷水11により冷却された循環水33は、反応槽
循環ポンプ21によってヒータ筒22に送られる。ヒー
タ筒22内では、温度センサ2白により筒内の循環水3
3の温度Tp を検出し、増幅器51により増幅し、A
/D変換器52でA/D変換され制御部53に伝送され
る。温度センサ26により検知された循環水33の温度
があらかじめ設定された目標温度Tiより低ければ5S
R55をオンしてヒータ25により加熱し、もし高けれ
ばヒータ25をオフのままとするように目標温度TIで
オン、オフ制御される。こうして恒温に制御された循環
水33は反応槽27に送られて槽内の反応セル31内の
反応液を反応温度に維持する。
ここで循環水33の冷水槽6での冷却流路は第2図〜第
4図に示したようにその制御状態によって次のように選
択される。
まず、装置の立ち上げ時であって、温度センサ26で検
出される循環水33の温度T、が目標温度TIより低い
場合の流路選択を第2図に示す。
この場合は、循環水33は冷却管7あるいは8のいずれ
をも通ることなく、循環ポンプ21によりヒータ筒22
に送られ、ヒータ25により加熱される。従って従来の
装置でみられた循環水33を冷やしながら温めるといっ
た無駄がなくなり、この場合の立ち」二かり時間を従来
と同じく選ぶならばヒータ25の容量を著しく低減でき
る。
次に、装置の立ちトげ時であって、上記した循環水33
の温度Tpが目標値T、よりも高い場合は、第3図に示
したように冷却流路が選択される。
すなわち、熱交換量の大きい第1の冷却管7が選ばれる
。この第1の冷却管7は制御精度に係りなく循環水33
の冷却速度のみから冷凍機1の能力内で冷却能力を最大
に選ぶことができる。従って温度制御時の制御精度に影
響されることなく、立ち上がり時間の短縮を可能とする
第4図は、循環水33の温度が制御範囲内1例えば、目
標値の±0.1℃以内となったときに選択される流路を
示す。第2の冷却管8の冷却能力は、冷却速度に係りな
く、温度制御精度から適正化された値に選ばれており、
上記したヒータ25の低容量化とあわせ、温度制御精度
の改善、温度リップル幅の低減を得ることができるとと
もに冷凍l!llの負荷低減もあわせて可能とする。
上記したこれらの制御状態における流路の選択は、ヒー
タ25のオン、オフ動作とあわせ制御部53により行わ
れる。また、このヒータ25のオン、オフ動作は、上記
した±0.1℃といった冷却流路の選択条件よりももつ
と狭い範囲で行われる。 以上の説明で明らかなように
本実施例によれば、循環水33を冷却するのに、大きい
冷却速度を必要とするときは、大きい冷却能力を、冷却
を必要としないときは冷やすことな(、また、高精度な
制御を行うときはそれに適正化された冷却能力の選択が
可能とされ、これにより立ち」二げ時間の短縮と制御精
度の改善が互いに干渉することなく達せられるとともに
冷凍機1に対しては負荷軽減によりその高信頼度化、長
寿命化が得られるものである。また、上記した説明では
立ち上げ時と制御状態とで冷却力を切り替える説明をし
たが、目標温度が上記したように25.30.37℃と
切り替わる場合には、それぞれめ目標温度で適正化され
た冷却力に切り替えることも可能となり、これによれば
さらに精細な制御が可能となる。
また、本実施例では冷却部の流路を切り替えることで制
御状態に応じた冷却力の適正化を行ったが、冷却管を1
本としてその入口と出口間を冷水槽6の外でバイパスす
る流路を設け、制御状態に応じて冷却管に流れる流路と
バイパス流路の流量比を制御して冷却力の適正化をはか
っても同様の効果を期待できる。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明によれば、冷水槽での循環水の冷却
力を循環水の温度制御状態からの要求により制御動作の
立ち上げ時で大きい冷却速度を必要とするときは大きく
し、冷却を必要としないときは冷却することなく、また
、制御動作に入ったときには、制御精度から要求される
適正値に選択が可能となり、温度制御の立ち上げ時間の
短縮化と制御精度の改善を互いに干渉し合うことなく達
せられ、また、冷凍機に対しては、その負荷軽減が著し
く、高信頼度化、長寿命化が得られ、装置に実用して分
析精度の改善、安定化、高信頼化が得られるとともに、
立ち上がり時間の短縮が可能となり、性能上使い勝手上
で大なる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の自動分析装置の反応温度制御装置の一
実施例を示す構成図、第2図〜第4図は本発明における
流路の選択を示した流路図である。 1・・・圧縮式冷凍機、6・・・冷水槽、7,8・・・
冷却管、21・・・反応槽循環ポンプ、22・・・ヒー
タ筒、25・・ヒータ、26・・・温度センサ、27・
・・反応槽、31・・・反応セル、33・・・恒温循環
水、34.35・・三方電磁弁、36〜46・・・配管
、47.48三方接続管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、検体と試薬を反応させる反応セルと、該反応セル内
    の反応液の温度を一定に保持する恒温水が循環している
    反応槽と、前記循環恒温水を得るための循環水の冷却手
    段と、ポンプ等の前記循環水の循環手段と、前記循環水
    の加熱手段とを環状に接続し、前記循環水の温度を検知
    する温度検知手段と、該温度検知手段からの信号で前記
    冷却手段、加熱手段を操作する制御手段とを設け、前記
    循環水温度の制御状態あるいは制御目標値に応じて前記
    冷却手段での前記循環水の熱交換量を可変とする手段を
    具備することを特徴とする自動分析装置の反応温度制御
    装置。 2、前記冷却手段は、圧縮式冷凍機等により作られる冷
    水中に熱交換量の異なる複数個の冷却管を配設して、該
    冷却管の内側に前記循環水を流す構造としたもので、前
    記冷却管を継ぐ流路を電磁弁等で切り替えて前記循環水
    と前記冷水との熱交換量を可変とした構造としてある特
    許請求の範囲第1項記載の自動分析装置の反応温度制御
    装置。 3、前記冷却手段は、圧縮式冷凍機等より作られた冷水
    中に1本の冷却管を配設し、該冷却管の入口と出口を前
    記冷水の外でバイパスする流路を設け、前記冷却管と前
    記バイパス流路の流量比を制御して前記循環水と前記冷
    水との熱交換量を可変とした構造としてある特許請求の
    範囲第1項記載の自動分析装置の反応温度制御装置。 4、前記冷却手段の熱交換量の切り替えを前記循環水の
    温度を検知して目標値との偏差により行うようにした特
    許請求の範囲第1項または第2項または第3項記載の自
    動分析装置の反応温度制御装置。
JP63171652A 1988-07-09 1988-07-09 自動分析装置の反応温度制御装置 Expired - Lifetime JPH0731208B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63171652A JPH0731208B2 (ja) 1988-07-09 1988-07-09 自動分析装置の反応温度制御装置
EP19890112191 EP0350769A3 (en) 1988-07-09 1989-07-04 Apparatus for maintaining liquid temperature at a constant level
US07/375,884 US4984628A (en) 1988-07-09 1989-07-06 Apparatus for maintaining liquid temperature at a constant level

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63171652A JPH0731208B2 (ja) 1988-07-09 1988-07-09 自動分析装置の反応温度制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0221264A true JPH0221264A (ja) 1990-01-24
JPH0731208B2 JPH0731208B2 (ja) 1995-04-10

Family

ID=15927184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63171652A Expired - Lifetime JPH0731208B2 (ja) 1988-07-09 1988-07-09 自動分析装置の反応温度制御装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4984628A (ja)
EP (1) EP0350769A3 (ja)
JP (1) JPH0731208B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075920A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Apisute:Kk チラー装置
WO2018012212A1 (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
CN110031378A (zh) * 2019-05-16 2019-07-19 贵州大学 一种煤层注二氧化碳测试渗透率装置
JP2021128066A (ja) * 2020-02-13 2021-09-02 株式会社日立ハイテク 自動分析装置

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2597926B2 (ja) * 1990-11-15 1997-04-09 清水建設株式会社 低温度冷水製造蓄熱システム
JP2501244B2 (ja) * 1990-11-30 1996-05-29 タバイエスペック株式会社 温度制御方法
US5189960A (en) * 1991-11-18 1993-03-02 Fredric Valentini Apparatus and method for controlling temperature of printing plate on cylinder in rotary press
JPH05253790A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Toshiba Mach Co Ltd 工作機械の超精密温度制御システム及びその制御方法
US5515910A (en) * 1993-05-03 1996-05-14 Micro Control System Apparatus for burn-in of high power semiconductor devices
US5413166A (en) * 1993-05-07 1995-05-09 Kerner; James M. Thermoelectric power module
US5395451A (en) * 1993-05-26 1995-03-07 Schmidt-Bretten, Inc. Paint temperature control system
US5692556A (en) * 1994-01-14 1997-12-02 Hafner; Erich Precision temperature test chamber
JP3188363B2 (ja) 1994-01-21 2001-07-16 エフエスアイ・インターナショナル・インコーポレーテッド 循環クーラントを用いた温度コントローラ及びそのための温度制御方法
US5598888A (en) * 1994-09-23 1997-02-04 Grumman Aerospace Corporation Cryogenic temperature gradient microscopy chamber
US5795784A (en) 1996-09-19 1998-08-18 Abbott Laboratories Method of performing a process for determining an item of interest in a sample
US5856194A (en) 1996-09-19 1999-01-05 Abbott Laboratories Method for determination of item of interest in a sample
JP3010443B2 (ja) * 1998-01-27 2000-02-21 株式会社小松製作所 温度制御装置および温度制御方法
US6044903A (en) * 1998-02-20 2000-04-04 Frigid Units, Inc. Water conditioning assembly
JP3490360B2 (ja) * 1999-11-30 2004-01-26 イノテック株式会社 温度制御システム
GB0121375D0 (en) * 2001-09-04 2001-10-24 Ashe Morris Ltd Temperature control systems
US6749016B2 (en) * 2002-01-14 2004-06-15 Smc Kabushiki Kaisha Brine temperature control apparatus using a three-way proportional valve
US6822202B2 (en) * 2002-03-15 2004-11-23 Oriol, Inc. Semiconductor processing temperature control
CN101219403B (zh) * 2007-10-17 2012-06-20 上海电力学院 液冷降温式恒温槽系统及智能控温方法
DE102008016663A1 (de) * 2008-04-01 2009-10-08 Efficient Energy Gmbh Verflüssiger für eine Wärmepumpe und Wärmepumpe
US7543455B1 (en) * 2008-06-06 2009-06-09 Chengjun Julian Chen Solar-powered refrigerator using a mixture of glycerin, alcohol and water to store energy
US20100206543A1 (en) * 2009-02-13 2010-08-19 Tylisz Brian M Two-stage heat exchanger with interstage bypass
JP5432779B2 (ja) * 2010-03-12 2014-03-05 シスメックス株式会社 分析装置
JP5496771B2 (ja) * 2010-05-13 2014-05-21 株式会社Kelk 温度制御装置を用いた温度制御方法
CN102305851B (zh) * 2011-07-26 2014-03-26 珠海森龙生物科技有限公司 一种生化分析仪的恒温系统
CN102430979A (zh) * 2011-10-13 2012-05-02 清华大学 抛光液温度控制装置和抛光液输送设备
US20150144300A1 (en) * 2013-11-22 2015-05-28 Thermo Fisher Scientific (Asheville) Llc Recirculating Bath With Global Voltage Compatibility
CN105080630B (zh) * 2014-04-15 2017-09-15 中国石油化工股份有限公司 岩心夹持器的恒温系统及其实验方法
US10222312B2 (en) * 2016-06-28 2019-03-05 Anton Paar Quantatec, Inc. Cryogenic temperature controller for volumetric sorption analyzers
CN106952749B (zh) * 2017-04-28 2018-09-28 南通南铭电子有限公司 电容器引出线化成液温度控制装置及其温度控制方法
CN110756243A (zh) * 2019-11-26 2020-02-07 深圳大学 恒温控温水浴装置及用途
CN111729703A (zh) * 2020-07-07 2020-10-02 山西钢科碳材料有限公司 恒温水浴装置
CN112269413B (zh) * 2020-11-10 2022-08-19 上海宇航系统工程研究所 一种便携式激光散热装置的控制方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60176172U (ja) * 1984-04-28 1985-11-21 オリンパス光学工業株式会社 恒温装置
JPS6110559U (ja) * 1984-06-26 1986-01-22 株式会社島津製作所 自動化学分析装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3047274A (en) * 1959-02-18 1962-07-31 Warren M Wilson Variable area heat exchanger
DE1126428B (de) * 1960-02-05 1962-03-29 Dr Med Kurt Sokol Vorrichtung zum Einfrieren von Sperma, insbesondere Bullensperma
US3227207A (en) * 1963-03-04 1966-01-04 Alan L Litman Thermal environmental control apparatus
US3229754A (en) * 1963-03-14 1966-01-18 Phillips Petroleum Co Heating and cooling temperature control system
US3370454A (en) * 1965-11-24 1968-02-27 Tenney Engineering Inc Constant temperature bath for calibrating immersion type instruments
CS180312B1 (en) * 1975-10-24 1977-12-30 Michal Kostura Equipment for automatic temperature control of metallic casting moulds
CH651392A5 (de) * 1980-06-10 1985-09-13 Ciba Geigy Ag Waermeflusskalorimeter.
JPS5841358A (ja) * 1981-09-04 1983-03-10 Hitachi Ltd 自動分析装置
US4526012A (en) * 1982-09-29 1985-07-02 Kanto Seiki Kabushiki Kaisha Liquid temperature regulator
EP0175882A1 (de) * 1984-09-07 1986-04-02 Contraves Ag Temperiervorrichtung zu einem Laborreaktor
FR2580060B1 (ja) * 1985-04-05 1989-06-09 Nec Corp
GB2175685B (en) * 1985-05-30 1989-07-05 Aisin Seiki Heat exchange arrangements.
GB2179128A (en) * 1985-06-18 1987-02-25 Paxman Briston Coolers Ltd Apparatus for cooling liquids
US4784213A (en) * 1986-04-08 1988-11-15 Temptronic Corporation Mixing valve air source

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60176172U (ja) * 1984-04-28 1985-11-21 オリンパス光学工業株式会社 恒温装置
JPS6110559U (ja) * 1984-06-26 1986-01-22 株式会社島津製作所 自動化学分析装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075920A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Apisute:Kk チラー装置
WO2018012212A1 (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
CN110031378A (zh) * 2019-05-16 2019-07-19 贵州大学 一种煤层注二氧化碳测试渗透率装置
JP2021128066A (ja) * 2020-02-13 2021-09-02 株式会社日立ハイテク 自動分析装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0350769A3 (en) 1991-01-30
EP0350769A2 (en) 1990-01-17
US4984628A (en) 1991-01-15
JPH0731208B2 (ja) 1995-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0221264A (ja) 自動分析装置の反応温度制御装置
CN100565207C (zh) 化学分析装置
US4518700A (en) Method and apparatus for regulating the temperature of an analytical instrument reactor
WO2023104218A2 (zh) Pcr热循环装置及控制方法
CN2283516Y (zh) 精密低温双槽恒温浴
CN106290161A (zh) 一种用于动态吸收光谱采集的样品池
JPH06101911A (ja) 非共沸混合冷媒を用いた冷凍サイクル
CN218239542U (zh) 一种新型生化分析仪制冷装置
JPH0527674U (ja) 反応槽循環水流量調整装置
JP2010142196A (ja) 細胞培養装置及び細胞培養カセット
CN109078666A (zh) 一种节能型低温恒温实验设备
CN208810110U (zh) 一种多功能循环水浴的实现装置
JPH0623766B2 (ja) 自動分析装置
JP2012141253A (ja) 自動分析装置
CN111929088A (zh) 一种高效节能的空气源热泵冷水机组测试系统以及方法
JP2806090B2 (ja) 冷凍装置の運転制御装置
JPH018992Y2 (ja)
JP2591991Y2 (ja) ガスクロマトグラフのカラム用恒温槽
CN216440669U (zh) 一种高低温双控的恒温循环器
Pobell et al. The 3 He-4 He Dilution Refrigerator
JPH0725672Y2 (ja) 高温・低温引張り試験機
JPH0327252Y2 (ja)
JPS63156976A (ja) 冷凍サイクル装置
KR870008161A (ko) 냉방시스템의 용량제어 시스템 및 용량제어방법
SU744417A1 (ru) Устройство дл термостатировани образца в резонаторе спектрометра эпр

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080410

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090410

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090410

Year of fee payment: 14