JPS6318068A - 連続イオンプレ−テイング方法 - Google Patents

連続イオンプレ−テイング方法

Info

Publication number
JPS6318068A
JPS6318068A JP15975186A JP15975186A JPS6318068A JP S6318068 A JPS6318068 A JP S6318068A JP 15975186 A JP15975186 A JP 15975186A JP 15975186 A JP15975186 A JP 15975186A JP S6318068 A JPS6318068 A JP S6318068A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base material
potential
source
evaporation source
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15975186A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kagechika
影近 博
Hiroshi Kibe
洋 木部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP15975186A priority Critical patent/JPS6318068A/ja
Publication of JPS6318068A publication Critical patent/JPS6318068A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、帯鋼等の帯状基材を連続的にイオンプレーテ
ィングする方法の改良に関する。
(従来技術) 従来帯鋼を連続的にイオンプレーティングするには、蒸
着槽内を走行する帯鋼と蒸発源との間に電位をかけて蒸
発源からの蒸発原子をイオン化させて、これを帯鋼表面
に被着させている。しかしこの場合、走行する帯鋼に電
位を付加しなければならないため、その機構が複雑にな
る欠点がある。
(発明が解決しようとする技頓的課題)本発明は、帯状
基材をアース電位として蒸発原子をイオン化しつるよう
にして、その機構を簡素化できる方法を提供することを
目的とする。
(技術的課題を解決する手段) 本発明は、アース電位とした帯状基材が走行する蒸着槽
内に、この基材に対向した被膜形成物質蒸発源と、基材
と蒸発源との間に配置された蒸発原子イオン化用電極と
を備え、電極の電位を蒸発源の電位より高くし、蒸発源
の電位を、イオン化した蒸発原子を加速するための電界
を上記基材との間に発生させうる電位として、イオン化
した蒸発原子を上記基材に被着する連続プレーティング
方法、及びアース電位とした帯状基材が走行する蒸着槽
内に、この基材に対向した被膜形成物質蒸発源と、基材
と蒸発源との間に配置された蒸発原子イオン化用電極と
、イオン化蒸発原子を加速する電界を上記基材との間に
発生させる電界発生手段とを備え、電極に正電位を印加
し、蒸発源の電位をアース電位として、イオン化した蒸
発原子を上記基材に被着する連続イオンプレーティング
方法である。
(発明の詳細な説明) 第1図は、本発明方法を行なうためのlitの1実施例
を示す。図示する装置は、帯状基材1が走行する蒸着横
2内に蒸発源3と電極4とを配置していている。蒸発源
3は、帯状基材1の下方に対向して配置され、また電極
4は、帯状基材1と蒸発源3との間に配置されている。
上記帯状基材1は、アース電位である。また蒸発源3は
、IKV以下程度の電位を直流電源により与えられてお
り、この電位により帯状基材1との間にイオン加速用の
電界を発生するようになっている。一方上記電極4は、
直流型ff16により蒸発源3の電位よりも高い電位、
例えば20〜100■程度高い電位としており、蒸発源
から蒸発した原子をイオン化するようになっている。な
お図中7はシールロールである。
このように構成された装置において、蒸発源3及び電極
4に上記電位を印加した状態で帯状基材1を蒸着槽2内
に走行させると、蒸発源3内の被膜形成物質がイオン化
されかつ加速されて帯状基材にイオンプレーティングさ
れる。
第2図は本発明方法を行なうための別の装置を示す。
第2図の装置は、第1図の装置と異なる点は蒸発源3に
印加せずアース電位とし、この蒸発?13の周囲にリン
グ状の電界発生手段8を配置し、これに直流電源9によ
り電圧、例えば+IKV以下程度印加している点である
第3図は、第2図と同様に電界を形成するための電界発
生手段8−を設けたものである。この電界発生手段8−
は、蒸発源3の周囲に複数個設けである。また第3図の
装置は、RF電源9に接続したRFコイル10を蒸発電
源3上に配置してプラズマを発生するようにしている。
これら電界発生手段8.8−は、蒸発源との間で放電し
ない程度に離間し、かつ蒸発面よりも下方に配置するこ
とが必要である。
これら装置によっても第1図のものと同様に帯状基材の
表面にイオンプレーティングを行なうことができる。
(発明の効果) 本発明によれば、帯状基材に電位をかけることなく、こ
れをアース電位とした状態で、この基材にイオンプレー
ティングを行なうことができ、機構を簡素化できる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図はそれぞれ本発明を行なう装置をし
めず概略説明図である。 1・・・帯状基材、2・・・蒸着槽、3・・・蒸発源、
4・・・電極、5.6.9・・・直流電源、7・・・シ
ールロール、8.8−・・・電界発生手段、9・・・R
F電源、10・・・RFコイル。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 −〇−

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アース電位とした帯状基材が走行する蒸着槽内に
    、この基材に対向した被膜形成物質蒸発源と、基材と蒸
    発源との間に配置された蒸発原子イオン化用電極とを備
    え、電極の電位を蒸発源の電位より高くし、蒸発源の電
    位を、イオン化した蒸発原子を加速するための電界を上
    記基材との間に発生させうる電位として、イオン化した
    蒸発原子を上記基材に被着する連続プレーティング方法
  2. (2)アース電位とした帯状基材が走行する蒸着槽内に
    、この基材に対向した被膜形成物質蒸発源と、基材と蒸
    発源との間に配置された蒸発原子イオン化用電極と、イ
    オン化蒸発原子を加速する電界を上記基材との間に発生
    させる電界発生手段とを備え、電極に正電位を印加し、
    蒸発源の電位をアース電位として、イオン化した蒸発原
    子を上記基材に被着する連続イオンプレーティング方法
JP15975186A 1986-07-09 1986-07-09 連続イオンプレ−テイング方法 Pending JPS6318068A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15975186A JPS6318068A (ja) 1986-07-09 1986-07-09 連続イオンプレ−テイング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15975186A JPS6318068A (ja) 1986-07-09 1986-07-09 連続イオンプレ−テイング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6318068A true JPS6318068A (ja) 1988-01-25

Family

ID=15700464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15975186A Pending JPS6318068A (ja) 1986-07-09 1986-07-09 連続イオンプレ−テイング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6318068A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5175952A (en) * 1990-07-20 1993-01-05 Shimano Industrial Co., Ltd. Fishing rod and method of manufacturing same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5175952A (en) * 1990-07-20 1993-01-05 Shimano Industrial Co., Ltd. Fishing rod and method of manufacturing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE163689T1 (de) Verfahren und einrichtung zum plasmaaktivierten elektronenstrahlverdampfen
ES8303542A1 (es) Un procedimiento y su aparato correspondiente para la metalizacion ionica de un sustrato.
GB1532759A (en) Production of monocrystalline layers on substrates
JPH0813143A (ja) プラズマ処理方法及び処理装置
JPS6318068A (ja) 連続イオンプレ−テイング方法
SU1482246A1 (ru) Устройство для нанесения покрытий электрическим взрывом фольги
US2752882A (en) Apparatus for evaporation of chemical compounds
JPS6324068A (ja) 連続真空蒸着メツキ装置
KR102171588B1 (ko) 스퍼터링 장치 및 방법
JP2000355757A (ja) 蒸着方法
JPS6320465A (ja) 真空蒸着装置
JPH0751750B2 (ja) 膜形成装置
JP3788632B2 (ja) 連続イオンプレーティング装置
JPS55100975A (en) Hcd type ion plating device
JPH0784650B2 (ja) 真空蒸着方法及び真空蒸着装置
JPS55110774A (en) High vacuum ion plating apparatus
JPS6465261A (en) Vapor deposition method by plasma ionization
JPS622032B2 (ja)
JPS6465254A (en) Production of thin metallic film
JPS56169770A (en) Ionic plating device
JP3038450B2 (ja) アークイオンプレーティング装置
JPS5677379A (en) Metal film depositing apparatus
JPH05132767A (ja) 薄膜形成装置
JPS6014100B2 (ja) 電気的不導体サブストレ−トのためのイオンプレ−ティング方法および装置
JP2001003161A (ja) イオンプレーティング蒸着装置