JPS63178573A - レ−ザ発振器 - Google Patents
レ−ザ発振器Info
- Publication number
- JPS63178573A JPS63178573A JP62010874A JP1087487A JPS63178573A JP S63178573 A JPS63178573 A JP S63178573A JP 62010874 A JP62010874 A JP 62010874A JP 1087487 A JP1087487 A JP 1087487A JP S63178573 A JPS63178573 A JP S63178573A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resonator
- oscillation light
- laser
- laser oscillator
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はレーザ発振器に関し、特に発振光のコヒーレン
ス度を低下させることにより、例えば照明用光源として
用いたときの被照射面上に生じるスペックルの減少を図
った半導体露光装置の光源として好適なレーザ発振器に
関するものである。
ス度を低下させることにより、例えば照明用光源として
用いたときの被照射面上に生じるスペックルの減少を図
った半導体露光装置の光源として好適なレーザ発振器に
関するものである。
（従来の技術）
従来より半導体製造装置においてはウェハ面上に転写さ
れる電子回路パターンの解像線幅が使用波長に比例して
くる為になるべく短波長を発する光源が用いられている
。例えば波長２００〜３００ｍｍの遠紫外領域の波長を
発する超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプ等が多く用い
られている。
れる電子回路パターンの解像線幅が使用波長に比例して
くる為になるべく短波長を発する光源が用いられている
。例えば波長２００〜３００ｍｍの遠紫外領域の波長を
発する超高圧水銀灯やキセノン水銀ランプ等が多く用い
られている。
しかしながらこれらの光源は低輝度で指向性かなく、又
ウェハ面上に塗布するフォトレジストの感光性が低い為
、露光時間が長くなりスルーブツトを低下させる原因と
なっていた。
ウェハ面上に塗布するフォトレジストの感光性が低い為
、露光時間が長くなりスルーブツトを低下させる原因と
なっていた。
これに対して最近遠紫外領域に発振波長を有するエキシ
マレーザが開発され、その高輝度性、単色性、指向性等
の良さから半導体製造装置への応用が種々と提案されて
いる。
マレーザが開発され、その高輝度性、単色性、指向性等
の良さから半導体製造装置への応用が種々と提案されて
いる。
しかしながらエキシマレーザはレーザ特有のコヒーレン
スが良い為、半導体製造装置に用いるとマスク面やウニ
へ面に不規則な干渉縞、所謂スペックルが発生してくる
。このスペックルは照明ムラや焼付は誤差を起こし解像
線幅を悪化させる原因となってくる。
スが良い為、半導体製造装置に用いるとマスク面やウニ
へ面に不規則な干渉縞、所謂スペックルが発生してくる
。このスペックルは照明ムラや焼付は誤差を起こし解像
線幅を悪化させる原因となってくる。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は発振光のコヒーレント度を低下させることによ
り例えば照明用の光源として用いた際の被照射面上に生
ずるスペックルを軽減させ、被照射面上を均一照明する
ことのできるレーザ発振器の提供を目的とする。
り例えば照明用の光源として用いた際の被照射面上に生
ずるスペックルを軽減させ、被照射面上を均一照明する
ことのできるレーザ発振器の提供を目的とする。
（問題点を解決するための手段）
レーザ共振器の一部に部分的に光路長を異ならしめる光
学部材を用い、該レーザ共振器の共振器長を部分的に変
化させることにより空間的にコヒーレンス度を低下させ
た発振光を得るようにしたことである。
学部材を用い、該レーザ共振器の共振器長を部分的に変
化させることにより空間的にコヒーレンス度を低下させ
た発振光を得るようにしたことである。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例のレーザ発振器としてエキシ
マレーザにおける共振器部分の概略図である。
マレーザにおける共振器部分の概略図である。
図中１．２は共振器を構成する反射鏡であり、このうち
反射鏡１は段差の付いた高反射率の複数の反射面より成
っており、反射鏡２は僅かの透過率を有する反射面より
成りている。３，４は各々放電用の電極、５は出力され
たレーザ光としての発振光である。
反射鏡１は段差の付いた高反射率の複数の反射面より成
っており、反射鏡２は僅かの透過率を有する反射面より
成りている。３，４は各々放電用の電極、５は出力され
たレーザ光としての発振光である。
一般にレーザ発振器においては２つの反射鏡より成る共
振器内に高エネルギー準位を有する原子を含む物質を入
れて励起し、このとき出る光を２つの反射鏡で繰り返し
反射往復させ、この間に誘導放出を行なわしめて片方の
反射鏡から位相のそろった単色の発振光を放出している
。
振器内に高エネルギー準位を有する原子を含む物質を入
れて励起し、このとき出る光を２つの反射鏡で繰り返し
反射往復させ、この間に誘導放出を行なわしめて片方の
反射鏡から位相のそろった単色の発振光を放出している
。
このとき発振されてくる光の振動数は共振器の一方の反
射鏡から他方の反射鏡までの距離、所謂共振器長に依存
している。即ち共振器長の等しい領域からは同振動数の
発振光が放出されてくる。
射鏡から他方の反射鏡までの距離、所謂共振器長に依存
している。即ち共振器長の等しい領域からは同振動数の
発振光が放出されてくる。
本実施例ではこのときの性質を利用して共振器中の反射
鏡１を段差の付いた複数の反射面より構成し、共振器中
に共振器長の異なる複数の共振器が存在するように構成
して、共振器毎に異った振動数の発振光が放出するよう
にしている。
鏡１を段差の付いた複数の反射面より構成し、共振器中
に共振器長の異なる複数の共振器が存在するように構成
して、共振器毎に異った振動数の発振光が放出するよう
にしている。
このようにしてレーザ発振器からの発振光５を複数の振
動数の異った発振光の集合より成るようにして取出し、
これにより空間的にコヒーレンス度を低下させた発振光
を得ている。
動数の異った発振光の集合より成るようにして取出し、
これにより空間的にコヒーレンス度を低下させた発振光
を得ている。
特に本実施例ではエキシマレーザ等の共振器中の光束径
が比較的大きく、かつ高出力の得られるレーザ発振器に
適用することにより各々の共振器に相当する領域からの
発振光の撮動数を効果的に異ならしめて、空間的に大き
くコヒーレンス度を低下させた発振光を得ている。
が比較的大きく、かつ高出力の得られるレーザ発振器に
適用することにより各々の共振器に相当する領域からの
発振光の撮動数を効果的に異ならしめて、空間的に大き
くコヒーレンス度を低下させた発振光を得ている。
第２図は本発明の他の一実施例のレーザ発振器における
共振器部分の概略図である。
共振器部分の概略図である。
本実施例において第１図に示す要素と同一要素には同符
番な付している。本実施例では第１図の実施例の段差付
きの反射面を有する反射鏡１を単なる反射！ｔ６に代え
、その代わりに反射鏡６と反射鏡２との間に部分的に光
路長の異なる透明部材７を配置している。
番な付している。本実施例では第１図の実施例の段差付
きの反射面を有する反射鏡１を単なる反射！ｔ６に代え
、その代わりに反射鏡６と反射鏡２との間に部分的に光
路長の異なる透明部材７を配置している。
これにより第１図の実施例と同様に共振器を共振器長の
異なる複数に共振器の集合体として構成し、各共振器か
ら発振されてくる各々異った振動数の一１ｉＬＳ光を隼
介させて′３間的にコヒーレンス度を低下させた発振光
を得ている。
異なる複数に共振器の集合体として構成し、各共振器か
ら発振されてくる各々異った振動数の一１ｉＬＳ光を隼
介させて′３間的にコヒーレンス度を低下させた発振光
を得ている。
尚以上の各実施例において反射鏡２を段差付きの反射面
を有するようにしても良い。又段差付きの反射面を有す
る反射鏡と部分的に光路長の異なる透明部材の双方を同
時に用いても同様に本発明の目的を達成することができ
る。
を有するようにしても良い。又段差付きの反射面を有す
る反射鏡と部分的に光路長の異なる透明部材の双方を同
時に用いても同様に本発明の目的を達成することができ
る。
（発明の効果）
本発明によれば共振器内の共振器長を光学部材を用い部
分的に変化させることにより空間的にコヒーレンス度を
低下させることができ例えば半導体製造装置に用いたと
きに被照射面上のスペックルを軽減させ均一照明を可能
とした照明用光源としてのレーザ発振器を達成すること
ができる。
分的に変化させることにより空間的にコヒーレンス度を
低下させることができ例えば半導体製造装置に用いたと
きに被照射面上のスペックルを軽減させ均一照明を可能
とした照明用光源としてのレーザ発振器を達成すること
ができる。
第１図、第２図は各々本発明の一実施例のレーザ共振器
における共振器部分の概略図である。図中１は段差付き
反射面を有する反射鏡、２，６は各々反射鏡、３．４は
放電用の電極、５は発振光、７は透明部材である。
における共振器部分の概略図である。図中１は段差付き
反射面を有する反射鏡、２，６は各々反射鏡、３．４は
放電用の電極、５は発振光、７は透明部材である。
Claims (2)
- （１）レーザ共振器の一部に部分的に光路長を異ならし
める光学部材を用い、該レーザ共振器の共振器長を部分
的に変化させることにより空間的にコヒーレンス度を低
下させた発振光を得るようにしたことを特徴とするレー
ザ発振器。 - （２）前記光学部材を段差のついた反射面を有する共振
器ミラー若しくは部分的に光路長の異なる透明部材より
構成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
レーザ発振器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62010874A JPS63178573A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62010874A JPS63178573A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザ発振器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63178573A true JPS63178573A (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=11762480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62010874A Pending JPS63178573A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザ発振器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63178573A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001060550A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-03-06 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レーザビームのスペックル低減方法及びその装置、及びリソグラフィ装置 |
| JP2008277618A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Gigaphoton Inc | 露光用放電励起レーザ装置 |
-
1987
- 1987-01-20 JP JP62010874A patent/JPS63178573A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001060550A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-03-06 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レーザビームのスペックル低減方法及びその装置、及びリソグラフィ装置 |
| JP2008277618A (ja) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Gigaphoton Inc | 露光用放電励起レーザ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3514073B2 (ja) | 紫外レーザ装置及び半導体露光装置 | |
| US20050141583A1 (en) | Method and device for coherence reduction | |
| US5198837A (en) | Laser beam harmonics generator and light exposing device | |
| JPS63178573A (ja) | レ−ザ発振器 | |
| JPH09179309A (ja) | 露光照明装置 | |
| JP3452057B2 (ja) | レーザ光の高調波発生装置、及びそれを用いた露光装置、並びにレーザ光の高調波発生方法、及びそれを用いた露光方法、それを用いたデバイス製造方法 | |
| JPH11233867A (ja) | パルスレーザ光発生装置 | |
| JP2974394B2 (ja) | レーザ露光装置 | |
| JP2526983B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPS59222844A (ja) | マスクの投影複写装置 | |
| JPH11261140A (ja) | 光共振器 | |
| US11870209B2 (en) | Laser system and electronic device manufacturing method | |
| CN113169507B (zh) | 激光系统和电子器件的制造方法 | |
| US3828275A (en) | Polarized multifrequency laser oscillator for holographic contouring | |
| JPH10106927A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| RU2144722C1 (ru) | Лазерная система и двухимпульсный лазер | |
| JPH0769576B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2000357836A (ja) | 超狭帯域化フッ素レーザ装置 | |
| JPH05259539A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JPH0521873A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JP2565133B2 (ja) | 半導体露光装置の照明光学系 | |
| JP2662963B2 (ja) | 狭帯域レーザ装置 | |
| JP2007300008A (ja) | パルスレーザ光源とそのパルスレーザ光源を用いた検査装置 | |
| JPS58222522A (ja) | プロジエクシヨンアライナ | |
| JP3287334B2 (ja) | レーザ光の高調波発生装置、露光装置、レーザ光の高調波発生方法、それを用いた露光方法、及びそれを用いたデバイス製造方法 |