JPS63170463U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63170463U JPS63170463U JP6148987U JP6148987U JPS63170463U JP S63170463 U JPS63170463 U JP S63170463U JP 6148987 U JP6148987 U JP 6148987U JP 6148987 U JP6148987 U JP 6148987U JP S63170463 U JPS63170463 U JP S63170463U
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- JP
- Japan
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- section
- processed
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- processing
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- Pending
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例である連続真空処理
装置を示す構成図、第２図は本考案の装置の搬送
動作を説明する部分詳細図である。 １……取入室、２……処理室、３……カセツト
上下装置、４……水平搬送装置、５……カセツト
、６……被処理物、７……センサ、８……ヒータ
、９……スパツタ電極、１０……トレイ、１１…
…基板。
装置を示す構成図、第２図は本考案の装置の搬送
動作を説明する部分詳細図である。 １……取入室、２……処理室、３……カセツト
上下装置、４……水平搬送装置、５……カセツト
、６……被処理物、７……センサ、８……ヒータ
、９……スパツタ電極、１０……トレイ、１１…
…基板。
Claims (1)
- 搬入部と処理部と搬出部とを具備し、搬入部か
ら処理すべき被処理物を処理部へ連続して送り込
みながら所望の処理を施す連続真空処理装置にお
いて、前記搬入部内で複数の被処理物を垂直方向
に移動させる第１の搬送手段と、該第１の搬送手
段により搬送した被処理物を前記処理部へ水平に
送り込む第２の搬送手段と、前記第２の搬送手段
により搬送される被処理物が前記第１の搬送手段
によつて搬送される被処理物の搬送位置を脱しき
らないうちに前記第２の搬送される被処理物の通
過を検出する検出手段と、該検出手段による検出
によつて前記第１の搬送手段による次の被処理物
の搬送制御を行う制御手段とを具備したことを特
徴とする連続真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6148987U JPS63170463U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6148987U JPS63170463U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170463U true JPS63170463U (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=30894876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6148987U Pending JPS63170463U (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63170463U (ja) |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP6148987U patent/JPS63170463U/ja active Pending
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