JPS6315710A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPS6315710A JPS6315710A JP16022786A JP16022786A JPS6315710A JP S6315710 A JPS6315710 A JP S6315710A JP 16022786 A JP16022786 A JP 16022786A JP 16022786 A JP16022786 A JP 16022786A JP S6315710 A JPS6315710 A JP S6315710A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/70—Maintenance
- B29C33/72—Cleaning
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
この発明は、たとえば光デイスク製造に用いる樹脂成形
用マスターの作成に必要なガラス原盤などを洗浄する洗
浄装置に関する。
用マスターの作成に必要なガラス原盤などを洗浄する洗
浄装置に関する。
（従来の技術）
、光デイスク製造に用いる樹脂成形用マスターの作成に
必要なガラス原盤を洗浄する洗浄手段には一般にブラッ
シング法を採用した洗浄装置が知られている。
必要なガラス原盤を洗浄する洗浄手段には一般にブラッ
シング法を採用した洗浄装置が知られている。
この洗浄装置は、従来第５図に示すように構成されてい
る。すなわち、１はガラス原盤で、あり、これは回転装
＠２によって回転するチャック３に真空吸着されている
。このチャック３のＬ部に（Ｊナイロンなどの材質から
なるブラッシング装置４および洗浄液噴射装置５が設【
」られている。そして、前記ブラッシング装置４は、円
筒状に構成された回転ブラシ６をブラシガイドレール７
に沿って移動させることによって前記ガラス原盤１の表
面をブラッシングＪるようになっており、このどき前記
洗浄液噴射装置５の各ノズル８・・・がら純水もしくは
界面活性剤を混入した純水ガラス原盤１の表面に噴射し
て洗浄するように構成されている。
る。すなわち、１はガラス原盤で、あり、これは回転装
＠２によって回転するチャック３に真空吸着されている
。このチャック３のＬ部に（Ｊナイロンなどの材質から
なるブラッシング装置４および洗浄液噴射装置５が設【
」られている。そして、前記ブラッシング装置４は、円
筒状に構成された回転ブラシ６をブラシガイドレール７
に沿って移動させることによって前記ガラス原盤１の表
面をブラッシングＪるようになっており、このどき前記
洗浄液噴射装置５の各ノズル８・・・がら純水もしくは
界面活性剤を混入した純水ガラス原盤１の表面に噴射し
て洗浄するように構成されている。
したがって、回転装置２によって回転するガラス原盤１
の表面は移動するブラシ６によって一様にブラッシング
される、とともに、洗浄液によ、って洗浄される。この
ようにして一定時間、ガラス原盤１を洗浄したのち、ブ
ラッシング装置４によるブラッシングおよび洗浄液噴射
装＠５が停止し、回転装置２によってガラス原盤１を高
速回転（約２００Ｏｒｐｍ＞させると、ガラス原盤１の
表面に付着した水滴は遠心力によって飛散され乾燥され
ることになる。なお、このとぎガラス原盤１の表面に窒
素ガスを供給して乾燥を促進させる場合もある。
の表面は移動するブラシ６によって一様にブラッシング
される、とともに、洗浄液によ、って洗浄される。この
ようにして一定時間、ガラス原盤１を洗浄したのち、ブ
ラッシング装置４によるブラッシングおよび洗浄液噴射
装＠５が停止し、回転装置２によってガラス原盤１を高
速回転（約２００Ｏｒｐｍ＞させると、ガラス原盤１の
表面に付着した水滴は遠心力によって飛散され乾燥され
ることになる。なお、このとぎガラス原盤１の表面に窒
素ガスを供給して乾燥を促進させる場合もある。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、前述のような洗浄装置によって洗浄、乾
燥を行なった場合にはガラス原盤１０表面には洗浄液や
研磨剤（たとえば酸化セリウム）などの微粒子は存在し
ないものの、ガラス原盤１の表面には活性な水Ｍ基と結
合し、安定化して疎水性を増すことになる。この結果、
後■稈で行われるガラス原盤１の表面への有機物質によ
る］−ティング（たとえばシラン系カップリング剤など
）の密着力が低下してしまうという現象があった。
燥を行なった場合にはガラス原盤１０表面には洗浄液や
研磨剤（たとえば酸化セリウム）などの微粒子は存在し
ないものの、ガラス原盤１の表面には活性な水Ｍ基と結
合し、安定化して疎水性を増すことになる。この結果、
後■稈で行われるガラス原盤１の表面への有機物質によ
る］−ティング（たとえばシラン系カップリング剤など
）の密着力が低下してしまうという現象があった。
この発明は、前記事情に着目してなされたちので、その
目的とするところは、ガラス原盤などの被洗浄物の表面
を能率的に洗浄することができ、被洗浄物に対して有機
物質コーティングの密着力を強化させることができる洗
浄装置を提供することにある。
目的とするところは、ガラス原盤などの被洗浄物の表面
を能率的に洗浄することができ、被洗浄物に対して有機
物質コーティングの密着力を強化させることができる洗
浄装置を提供することにある。
（問題点を解決するための手段及び作用）この発明は、
被洗浄物としてのガラス原盤の表面をブラッシング洗浄
するとともに、このブラッシング中に前記ガラス原盤の
表面に洗浄液をジェット噴射させて洗浄し、洗浄後、ガ
ラス原盤を回転装置によって回転させて遠心力によって
ガラス原盤の表面に付着した洗浄液を飛散させて乾燥さ
せ、さらに乾燥したガラス原盤の表面に紫外線を照射さ
せて化学的に洗浄する紫外線熱１）Ｊ装置を備えたこと
にある。
被洗浄物としてのガラス原盤の表面をブラッシング洗浄
するとともに、このブラッシング中に前記ガラス原盤の
表面に洗浄液をジェット噴射させて洗浄し、洗浄後、ガ
ラス原盤を回転装置によって回転させて遠心力によって
ガラス原盤の表面に付着した洗浄液を飛散させて乾燥さ
せ、さらに乾燥したガラス原盤の表面に紫外線を照射さ
せて化学的に洗浄する紫外線熱１）Ｊ装置を備えたこと
にある。
（実施例）
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は洗浄装置の全体を示すもので、第５図に示した
従来の装置と同一構成部分は同一番号を付して説明を省
略する。チャック３に吸着されたガラス原Ｎ１の上部に
はブラシガイドレール７と平行に照射装置ガイドレール
１０が設けられている。そして、この照射装置ガイドレ
ール１０には紫外線照射装置１１が移動自在に設けられ
ている。この紫外線照射装置１１は、第２図および第３
図に示すように、矩形枠状の照射器本体１２とこの照射
器本体１２に並設された複数本の紫外線ランプ１３・・
・とから構成されている。゛そして、前記紫外線ランプ
１３はたとえば２５４ｎｍと１８５ｎｒＴ１の２つの主
波長域を持つＵ字状管（６５Ｗ）を４本使用している。
従来の装置と同一構成部分は同一番号を付して説明を省
略する。チャック３に吸着されたガラス原Ｎ１の上部に
はブラシガイドレール７と平行に照射装置ガイドレール
１０が設けられている。そして、この照射装置ガイドレ
ール１０には紫外線照射装置１１が移動自在に設けられ
ている。この紫外線照射装置１１は、第２図および第３
図に示すように、矩形枠状の照射器本体１２とこの照射
器本体１２に並設された複数本の紫外線ランプ１３・・
・とから構成されている。゛そして、前記紫外線ランプ
１３はたとえば２５４ｎｍと１８５ｎｒＴ１の２つの主
波長域を持つＵ字状管（６５Ｗ）を４本使用している。
また、前記照射器本体１１には紫外線センサ１４および
不点灯表示ランプ１５が設けられ、前記紫外−ランプ１
４は２５４ｎｍの波長に反応し、前記紫外線ランプ１３
の寿命を報知するようになっており、不点灯表示ランプ
１５は紫外線によ゛る化学洗浄中に紫外−ランプ１３が
点灯してい□る゛か否゛かを確認す′るためのものであ
る。なお、１６は取手、１７は電源コードである。また
、前記回転装置２、ブラッシング装Ｍ４、洗浄液噴射装
置５および紫外線照射装置１１は制御装置１８によって
制御されるようになっている。
不点灯表示ランプ１５が設けられ、前記紫外−ランプ１
４は２５４ｎｍの波長に反応し、前記紫外線ランプ１３
の寿命を報知するようになっており、不点灯表示ランプ
１５は紫外線によ゛る化学洗浄中に紫外−ランプ１３が
点灯してい□る゛か否゛かを確認す′るためのものであ
る。なお、１６は取手、１７は電源コードである。また
、前記回転装置２、ブラッシング装Ｍ４、洗浄液噴射装
置５および紫外線照射装置１１は制御装置１８によって
制御されるようになっている。
つぎに、前述のように構成された洗浄装置の作用につい
゛て第４図のタイムチャートに基づいて説明する。
゛て第４図のタイムチャートに基づいて説明する。
制御装置１８にプログラムされた洗浄工程順に前記回転
装置２、ブラッシング装置４、洗浄液噴射装置５および
紫外線照射＠置１１に制御信号が入力され、ガ）ス原盤
１を洗浄する。まず、Ｔｌではチャック３が１００〜３
００ｒｐｒｒ＋で回転するとともに、回転ブラシ６が５
０〜３００ｒｐｍで回転する。この回転ブラシ６はブラ
シガイドレール７に沿って移動してガラス原盤１の表面
を虐擦し、同時に洗浄液噴射装置５の各ノズル８・・・
から海面活性剤が混入された純水がガラス原盤１の表面
に噴射される。つぎに、Ｔ２ではチャック３が１００〜
５００ｒ’ｐｍで回転しながら回転ブラシ６が５０〜３
００ｐｐｍで回転してブラッシングを行なう。このとき
、各ノズル８・・・からは純水が噴射される。さらに、
Ｔ２では洗浄液噴射装置５のノズル８・・・から噴射さ
れる純水が３０〜２００Ｋｇ７／ｃＪ程度に加圧された
純水が供給され、かつチャック３が１００〜５００ｐｐ
ｍで回転して高圧ジェット・洗浄が行われる。つぎに、
Ｔ４では各ノズル８・・・から純水が噴射され、かつチ
ャック３が１００〜５００ｒＦ）ｍで回転してリンスが
行われる。このようにして界面活性剤および純水による
洗浄が完了すると、丁５では洗浄液噴射装＠５は停止し
、チャック３が１００〜５００ｒｐｍで回転する。した
がって、ガラス原盤１の表面に付着している洗浄液は遠
心力によって飛散され、王６ではさらにチ１７ツク３が
１００〜４０００ｐｐｍで回転させてガラス原盤１の表
面を乾燥させる。なお、このとき乾燥を促進させるため
に別途のノズルから窒素ガスをガラス原盤１の表面に供
給しでもよい。ガラス原盤１の乾燥工程が完了づると、
Ｔ７では紫外線照射装置１１が作動する。
装置２、ブラッシング装置４、洗浄液噴射装置５および
紫外線照射＠置１１に制御信号が入力され、ガ）ス原盤
１を洗浄する。まず、Ｔｌではチャック３が１００〜３
００ｒｐｒｒ＋で回転するとともに、回転ブラシ６が５
０〜３００ｒｐｍで回転する。この回転ブラシ６はブラ
シガイドレール７に沿って移動してガラス原盤１の表面
を虐擦し、同時に洗浄液噴射装置５の各ノズル８・・・
から海面活性剤が混入された純水がガラス原盤１の表面
に噴射される。つぎに、Ｔ２ではチャック３が１００〜
５００ｒ’ｐｍで回転しながら回転ブラシ６が５０〜３
００ｐｐｍで回転してブラッシングを行なう。このとき
、各ノズル８・・・からは純水が噴射される。さらに、
Ｔ２では洗浄液噴射装置５のノズル８・・・から噴射さ
れる純水が３０〜２００Ｋｇ７／ｃＪ程度に加圧された
純水が供給され、かつチャック３が１００〜５００ｐｐ
ｍで回転して高圧ジェット・洗浄が行われる。つぎに、
Ｔ４では各ノズル８・・・から純水が噴射され、かつチ
ャック３が１００〜５００ｒＦ）ｍで回転してリンスが
行われる。このようにして界面活性剤および純水による
洗浄が完了すると、丁５では洗浄液噴射装＠５は停止し
、チャック３が１００〜５００ｒｐｍで回転する。した
がって、ガラス原盤１の表面に付着している洗浄液は遠
心力によって飛散され、王６ではさらにチ１７ツク３が
１００〜４０００ｐｐｍで回転させてガラス原盤１の表
面を乾燥させる。なお、このとき乾燥を促進させるため
に別途のノズルから窒素ガスをガラス原盤１の表面に供
給しでもよい。ガラス原盤１の乾燥工程が完了づると、
Ｔ７では紫外線照射装置１１が作動する。
すなわち、照射器本体１２が照射器ガイドレール１０に
ガイドされて移動するとともに、紫外線ランプ１３・・
・が点灯する。したがって、Ｔ８ではガラス原盤１の表
面に紫外線が照射され、紫外線によって化学的な洗浄が
行われる。なお、照射器本体１２とガラス原盤１との間
隔は０〜１００ｍの範囲で任意に調節することができる
。また、Ｔ１〜Ｔ８は０〜９９９９９秒の範囲で任意に
設定できる。
ガイドされて移動するとともに、紫外線ランプ１３・・
・が点灯する。したがって、Ｔ８ではガラス原盤１の表
面に紫外線が照射され、紫外線によって化学的な洗浄が
行われる。なお、照射器本体１２とガラス原盤１との間
隔は０〜１００ｍの範囲で任意に調節することができる
。また、Ｔ１〜Ｔ８は０〜９９９９９秒の範囲で任意に
設定できる。
また、ガラス洗浄における紫外線照射による化学的効果
は、理論的にも、また実験的には報告されており、前者
は、Ｕｌｔｒａ−■ｔｏｌｅｔＰｒｏｄｕｔｓ Ｉｎ
ｅ。
は、理論的にも、また実験的には報告されており、前者
は、Ｕｌｔｒａ−■ｔｏｌｅｔＰｒｏｄｕｔｓ Ｉｎ
ｅ。
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ３ｎｌｌｅｔｔｎＡ−１０
６（１９７７）等に、後者は、Ｒ，Ｒ。
６（１９７７）等に、後者は、Ｒ，Ｒ。
Ｓｏｗｅｌｌ ｅｔ ａｌ、Ｊ、Ｖａｃ、３ｃｉ。
Ｔｅｃｈ、１１，４７４ （１９７４）等に記載されて
いる。
いる。
なお、前記−実施例においては、光デイスク製造に用い
る樹脂成形用マスターの製作に必要どなるガラス原盤の
洗浄について説明したが、ＳｌやＧ ａ Ａ Ｓなどの
半導体材料、水晶振動子、表面弾性波素子、磁気ヘッド
などの電子部品の洗浄、レンズ、液晶表示素子、光ファ
イバなどの光学部品、Ｓｔ Ｎ４ 、ＡｇＮ、Ａｇ２Ｏ
３などのセラミック部品などの洗浄に対しても有効であ
る。
る樹脂成形用マスターの製作に必要どなるガラス原盤の
洗浄について説明したが、ＳｌやＧ ａ Ａ Ｓなどの
半導体材料、水晶振動子、表面弾性波素子、磁気ヘッド
などの電子部品の洗浄、レンズ、液晶表示素子、光ファ
イバなどの光学部品、Ｓｔ Ｎ４ 、ＡｇＮ、Ａｇ２Ｏ
３などのセラミック部品などの洗浄に対しても有効であ
る。
さらに、紫外線照射装置として前記一実施例では２５４
ｎｍと１８５ｎｍの２つの主波長域を持つ紫外線ランプ
を使用したが、波長３０８ｎｍの×ｅｃ ｌエキシマレ
ーザ−１波長２４８ｎｍのＫ ｒ Ｆ エキシマレーザ
−１波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ−などを単
体もしくは組合せた紫外線領域におけるレーザ光を照射
することにより化学的効果を期待でき有効である。
ｎｍと１８５ｎｍの２つの主波長域を持つ紫外線ランプ
を使用したが、波長３０８ｎｍの×ｅｃ ｌエキシマレ
ーザ−１波長２４８ｎｍのＫ ｒ Ｆ エキシマレーザ
−１波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ−などを単
体もしくは組合せた紫外線領域におけるレーザ光を照射
することにより化学的効果を期待でき有効である。
以上説明したように、この発明によれば、被洗浄物の表
面を洗浄液とブラッシングによる機械的洗浄と紫外線を
照射する化学的洗浄とが１つの装置によって連続的に行
なうことができるという効果がある。
面を洗浄液とブラッシングによる機械的洗浄と紫外線を
照射する化学的洗浄とが１つの装置によって連続的に行
なうことができるという効果がある。
第１図乃至第４図はこの発明の一実施例を示すもので、
第１図は洗浄装置全体の縦断正面図、第２図は紫外線照
射装置の側面−１第３図は第２図は平面図、第４図はタ
イムチャート図、第５図は従来の洗浄装置の縦断正面図
である。 １・・・ガラス原盤（被洗浄物）、２・・・回転装置、
３・・・チャック、４・・・ブラッシング装置、５・・
・洗浄液噴射装置、１１・・・紫外線照射装置。 出願人代理人 弁即十 鈴汀武彦 −１０＝
第１図は洗浄装置全体の縦断正面図、第２図は紫外線照
射装置の側面−１第３図は第２図は平面図、第４図はタ
イムチャート図、第５図は従来の洗浄装置の縦断正面図
である。 １・・・ガラス原盤（被洗浄物）、２・・・回転装置、
３・・・チャック、４・・・ブラッシング装置、５・・
・洗浄液噴射装置、１１・・・紫外線照射装置。 出願人代理人 弁即十 鈴汀武彦 −１０＝
Claims (1)
- 被洗浄物の表面をブラッシング洗浄するブラッシング装
置と、このブラッシング中に前記被洗浄物の表面に洗浄
液をジェット噴射させる洗浄液噴射装置と、前記被洗浄
物を支持し被洗浄物の表面に付着した洗浄液を飛散させ
て乾燥させる回転装置と、乾燥した被洗浄物の表面に紫
外線を照射させて化学的に洗浄する紫外線照射装置と、
前記各装置を制御する制御装置とを具備したことを特徴
とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16022786A JPS6315710A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16022786A JPS6315710A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6315710A true JPS6315710A (ja) | 1988-01-22 |
| JPH0362128B2 JPH0362128B2 (ja) | 1991-09-25 |
Family
ID=15710455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16022786A Granted JPS6315710A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6315710A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5634980A (en) * | 1993-03-31 | 1997-06-03 | Sony Corporation | Method for washing substrates |
| US6140659A (en) * | 1997-05-16 | 2000-10-31 | Nec Corporation | Method and apparatus for removing residual dirt adhered on dies |
| JP2003145548A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-20 | Towa Corp | 樹脂成形用金型のクリーニング方法及び装置 |
| CN105798034A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-07-27 | 芜湖真空科技有限公司 | 玻璃清洗设备 |
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-
1986
- 1986-07-08 JP JP16022786A patent/JPS6315710A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH0362128B2 (ja) | 1991-09-25 |
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