JPS6315249A - 光学マスクの製造方法 - Google Patents
光学マスクの製造方法Info
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- JPS6315249A JPS6315249A JP61161113A JP16111386A JPS6315249A JP S6315249 A JPS6315249 A JP S6315249A JP 61161113 A JP61161113 A JP 61161113A JP 16111386 A JP16111386 A JP 16111386A JP S6315249 A JPS6315249 A JP S6315249A
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、集積回路などの半導体装置の製造に使用され
る光学マスクの製造方法に関する。
る光学マスクの製造方法に関する。
従来の光学マスクの製造方法を第２図（ａ）〜（ｅ）の
断面図に示す。まず、第２図（ａ）に示すように、ガラ
ス基板１上に酸化クロムの薄膜２を被着したクロムグレ
ートをきれいに洗浄し、このクロムグレートに感光材で
あるレジスト３を塗布する。通常、光学マスク製造の為
のレジストとしては、露光部が現像時に除去されるポジ
型のものが使われているが、以後、このポジレジストを
単にレジストと記すものとする。レジストとクロム膜の
密着力を高める為、プレベークを行う。つぎに、７．）
！Ｊビータやコンタクトプリンタ等の露光装置によって
第２図（ｂ）Ｋ示すように、マスタマスク５を通してレ
ジスト３の面に紫外線４を照射し、マスクパターンを転
写する。つぎに、焼き付けたレジストパターンを、第２
図（Ｃ）のように現像機で現像する。
断面図に示す。まず、第２図（ａ）に示すように、ガラ
ス基板１上に酸化クロムの薄膜２を被着したクロムグレ
ートをきれいに洗浄し、このクロムグレートに感光材で
あるレジスト３を塗布する。通常、光学マスク製造の為
のレジストとしては、露光部が現像時に除去されるポジ
型のものが使われているが、以後、このポジレジストを
単にレジストと記すものとする。レジストとクロム膜の
密着力を高める為、プレベークを行う。つぎに、７．）
！Ｊビータやコンタクトプリンタ等の露光装置によって
第２図（ｂ）Ｋ示すように、マスタマスク５を通してレ
ジスト３の面に紫外線４を照射し、マスクパターンを転
写する。つぎに、焼き付けたレジストパターンを、第２
図（Ｃ）のように現像機で現像する。
この際、プレートに付着した異物や現像液等を完全に除
去する為に充分なカスケード水洗を行う必要がある。水
洗終了後は、ポストベークを行い、つぎに第２図（ｄ）
のようにクロム膜２に対するエツチング工程を経て、最
後に残ったレジスト３を剥離する事により、第２図（ｅ
）に示すような、元学マスフが完成する。
去する為に充分なカスケード水洗を行う必要がある。水
洗終了後は、ポストベークを行い、つぎに第２図（ｄ）
のようにクロム膜２に対するエツチング工程を経て、最
後に残ったレジスト３を剥離する事により、第２図（ｅ
）に示すような、元学マスフが完成する。
上述した従来の製造方法では以下の様な問題が発生する
。初めに、光学マスクの製造に使用される代表的なりロ
ムプレートの例を第３図に示す。
。初めに、光学マスクの製造に使用される代表的なりロ
ムプレートの例を第３図に示す。
クロムプレートとしては、一般にガラス基板ＩＫクロム
及び酸化クロムの薄膜２を形成したものが使われている
が、成膜時に基板の四隅をホルダで支持する為、その部
分はクロム及び酸化クロムが蒸着されず、ガラスがむき
出しになっている。このガラスと、光学マスク製造工程
で使用されるレジストとは密着力が極めて弱く、プレベ
ーク後行っても密着力はさほど改善されない。又、この
部分はマスクパターンの有効エリア外に当る為、マスク
パターン露光時に露光されない。そこで現像終了後も、
腋部のレジストはガラス上に残ったままカスケード水洗
される事になる。すると、その際にガラスとの密着性が
悪い腋部のレジストは水洗中にはがれてしまい、マスク
パターン部に付着し、欠陥を発生させる要因となる。
及び酸化クロムの薄膜２を形成したものが使われている
が、成膜時に基板の四隅をホルダで支持する為、その部
分はクロム及び酸化クロムが蒸着されず、ガラスがむき
出しになっている。このガラスと、光学マスク製造工程
で使用されるレジストとは密着力が極めて弱く、プレベ
ーク後行っても密着力はさほど改善されない。又、この
部分はマスクパターンの有効エリア外に当る為、マスク
パターン露光時に露光されない。そこで現像終了後も、
腋部のレジストはガラス上に残ったままカスケード水洗
される事になる。すると、その際にガラスとの密着性が
悪い腋部のレジストは水洗中にはがれてしまい、マスク
パターン部に付着し、欠陥を発生させる要因となる。
本発明の光学マスク製造方法は、前記問題点を解決する
為に、クロムプレートに対し、レジスト塗布、マスクパ
ターンの露光、現像と続く工程において、前記マスクパ
ターン露光の前または後に、レジストの塗布されたクロ
ムプレートをガラス面から全面露光する工程をはさんで
いる。
為に、クロムプレートに対し、レジスト塗布、マスクパ
ターンの露光、現像と続く工程において、前記マスクパ
ターン露光の前または後に、レジストの塗布されたクロ
ムプレートをガラス面から全面露光する工程をはさんで
いる。
つぎに本発明を実施例により説明する。
第１図（ａ）〜（ｆ）は本発明の一実施例を製造工程順
に説明するための断面図である。まず第１図（ａ）に示
すように、ガラス基板１に酸化クロム薄膜２を被着した
クロムプレートを洗浄し、それからレジスト３を塗布し
プレベークを行う。このクロームプレートは当然のこと
ながら、第３図に示すように、クロム膜蒸着の際のホル
ダのために四隅部分はクロム膜が剥がれている。つぎに
このクロムプレートを、第１図（ｂ）に示すように、ガ
ラス基板１側から紫外線４で全面露光する。この露光に
より、クロムプレート四隅のガラス基板１に直接接触し
たレジスト３のみが感光され、クロム膜２上のレジスト
３は、クロム膜２により紫外線４が趣光される為、感光
しない。しかる後、第１図（Ｃ）のように、マスターマ
スク５を通し、クロム膜２の１ｌｌｌｌｐ島ら本来のマ
スクパターンの露光を行う。つぎに現像を行う。この現
像により、第１図（ｄ）に示すように、マスクパターン
露光時に露光された部分のレジストとクロムプレート四
隅のガラス基板上のレジストが現像液に溶融し除去され
る。それからポストベークを行い、第１図（ｅ）に示す
クロム膜２に対する工、チングしさらに、レジスト３の
剥離工程を経て第１図（ｆ）に示す光学マスクが完成す
る。
に説明するための断面図である。まず第１図（ａ）に示
すように、ガラス基板１に酸化クロム薄膜２を被着した
クロムプレートを洗浄し、それからレジスト３を塗布し
プレベークを行う。このクロームプレートは当然のこと
ながら、第３図に示すように、クロム膜蒸着の際のホル
ダのために四隅部分はクロム膜が剥がれている。つぎに
このクロムプレートを、第１図（ｂ）に示すように、ガ
ラス基板１側から紫外線４で全面露光する。この露光に
より、クロムプレート四隅のガラス基板１に直接接触し
たレジスト３のみが感光され、クロム膜２上のレジスト
３は、クロム膜２により紫外線４が趣光される為、感光
しない。しかる後、第１図（Ｃ）のように、マスターマ
スク５を通し、クロム膜２の１ｌｌｌｌｐ島ら本来のマ
スクパターンの露光を行う。つぎに現像を行う。この現
像により、第１図（ｄ）に示すように、マスクパターン
露光時に露光された部分のレジストとクロムプレート四
隅のガラス基板上のレジストが現像液に溶融し除去され
る。それからポストベークを行い、第１図（ｅ）に示す
クロム膜２に対する工、チングしさらに、レジスト３の
剥離工程を経て第１図（ｆ）に示す光学マスクが完成す
る。
以上説明した様に、本発明を実施する事により、クロム
プレート四隅のガラス基板に直接接触しているレジスト
も現像時に完全に除去されるわけで、現像後のカスケー
ド水洗時に腋部のレジストがはがれてパターン部に付着
した為に発生する欠陥を完全に防止することができるａ
Ｋなる。
プレート四隅のガラス基板に直接接触しているレジスト
も現像時に完全に除去されるわけで、現像後のカスケー
ド水洗時に腋部のレジストがはがれてパターン部に付着
した為に発生する欠陥を完全に防止することができるａ
Ｋなる。
尚、ガラス面からの露光は、実施例に示した様なプレベ
ーク後の一括露光に限る必要は無く、プレベーク前やマ
スクパターン露光後に行ったり、四隅のみを部分的に分
割露光しても本発明の効果を伺ら損う事は無い。
ーク後の一括露光に限る必要は無く、プレベーク前やマ
スクパターン露光後に行ったり、四隅のみを部分的に分
割露光しても本発明の効果を伺ら損う事は無い。
第１図（ａ）〜（ｆ）は本発明の一実施例の製造工程を
説明するための工１！ａＪ［の断面図、第２図（ａ）〜
（ｅ）は従来の光学マスク製造方法を説明するための工
程順の断面図、第３図は光学マスクの製造に使用される
クロムプレートの平面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・クロム膜、
３・・・・・・レ−／ｘ）、４・・・・・・紫外線、５
・・・・・・マスターマスク。 代理人 弁理士 内 原 皿・′″゛゛ニアｂ＼
ａ、 −−° ・−シ′
説明するための工１！ａＪ［の断面図、第２図（ａ）〜
（ｅ）は従来の光学マスク製造方法を説明するための工
程順の断面図、第３図は光学マスクの製造に使用される
クロムプレートの平面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・クロム膜、
３・・・・・・レ−／ｘ）、４・・・・・・紫外線、５
・・・・・・マスターマスク。 代理人 弁理士 内 原 皿・′″゛゛ニアｂ＼
ａ、 −−° ・−シ′
Claims (1)
- ガラス基板上にクロムまたは酸化クロム等の薄膜を形成
したプレートにレジストを塗布、プレベークし、マスク
パターンを露光後、現像、エッチングを行って光学マス
クを製造する方法において、前記レジスト塗布後現像工
程に至る前に、ガラス基板側からプレートを露光する工
程がはさまれている事を特徴とする光学マスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61161113A JPS6315249A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61161113A JPS6315249A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学マスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6315249A true JPS6315249A (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=15728853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61161113A Pending JPS6315249A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6315249A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006128379A1 (fr) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Kinoptics Technologies Inc. | Matrice de filtres pour affichage a cristaux liquides et son procede de fabrication |
| GB2443808A (en) * | 2006-11-17 | 2008-05-21 | Johnson Electric Sa | Moulded carbon brush |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP61161113A patent/JPS6315249A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006128379A1 (fr) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Kinoptics Technologies Inc. | Matrice de filtres pour affichage a cristaux liquides et son procede de fabrication |
| US7588866B2 (en) | 2005-06-01 | 2009-09-15 | Kinoptics Technologies Inc. | Filter arrays for liquid crystal displays and methods of making the same |
| GB2443808A (en) * | 2006-11-17 | 2008-05-21 | Johnson Electric Sa | Moulded carbon brush |
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