JPS63152092A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS63152092A
JPS63152092A JP61297629A JP29762986A JPS63152092A JP S63152092 A JPS63152092 A JP S63152092A JP 61297629 A JP61297629 A JP 61297629A JP 29762986 A JP29762986 A JP 29762986A JP S63152092 A JPS63152092 A JP S63152092A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に関するものであり、特にアド
レス信号で指定されたメモリセルのデータのみならず、
該メモリセルを中心として2次元方向周辺の複数のメモ
リセルのデータを同時にアクセス可能としたいわゆるバ
ウンダリフリーの半導体記憶装置に関する。
本発明による半導体記憶装置は、画像データ処理等のよ
うに多次元的データ処理に好適に用いられる。
〔従来の技術〕
例えば画像処理においては画像データを記憶するための
画像メモリが用いられるが、この画像メモリは例えばグ
ラフィックディスプレイ等に表示される画像に対応して
画像データを記憶していることが多い。このような画像
メモリに記憶された画像データは隣接アドレスに記憶さ
れているデータ間で、(1)圧縮する、(2)差分をと
る、(3)なめらかにする、その他のデータ処理を行な
うことがしばしばある。このようなデータ処理を行なう
ためには目的のメモリセルのみならずその周辺のメモリ
セルのデータをも読出して処理を行なうことが必要とさ
れる。従って、このような画像メモリ等においては目的
のメモリセルと共にその周辺のメモリセルに対しても迅
速にアクセスできることが要求される。
またこのような要求はメモリセル単位毎のアクセスに限
らず、マトリクス計算、3次元的データ処理等において
はワード毎についてもあり、隣接アドレスの記憶データ
を高速に読み出せる機能があるとこれらの処理の効率向
上になる。
第17図は従来の半導体記憶装置を示す回路図であって
、目的のメモリセルのみならずその周辺のメモリセルも
アクセス可能であるが、アドレスバウンダリが存在する
ものである(参照:特開昭59−180324号公報の
第2図)。すなわち、ワード線MLO、WLI 、WL
2 、・・・とビット線BLO。
BLl、BL2.BL3.・・・との間に接続されたメ
モリセルMC0O,MC0I、MCO2,・・・、M−
CIO。
MCII、・・・と各ビット線BLO、BLI 、BL
2゜BL3.・・・とデータバスDBO,DBI、DB
2゜DB3との間に接続されたトランスファトランジス
タqO,q、、Q、、O3,・・・とこれらのトランジ
スタの内Q0ないしO3を共通に制御するコラムデコー
ダCDO等によって構成される。
第17図の記憶装置においては、1本のワード線たとえ
ばWLIを選択しかつコラムデゴーダCDOから各トラ
ンジスタQo、Q+、Qz、Qxにコラム選択信号を印
加することによりワード線WL11こ接続されたメモリ
セルのうち4ビツトのメモリセルMC0I、MCII、
MC21,MC31のアクセスたとえばこれらのデータ
を同時に各データバスDBO,DBI、DB2.DB3
上に読出すことが可能である。すなわち、第17図の記
憶装置においては1つのアドレス指定により4ビツト分
のデータが同時に読出されるいわゆる並列続出しが可能
である。
しかしながら、第17図においては、並列読出しが行な
われるメモリセルは予め定められたビットX群に接続さ
れたメモリセルに限定され、相異なるグループのビット
線に接続されたメモリセルを同時に読出すことができな
かった。そのため、目的のメモリセルがたとえばメモリ
セルMC31のように1つのデータ線群の両端にあるビ
ット線に接続されたメモリセルである場合、この目的の
メモリセルの両側のメモリセルを同時に読出すことは不
可能であった。つまり、アドレスバウンダリが存在して
いた。
このため、アドレスバウンダリが存在しないつまりアド
レスバウンダリフリーの半導体記憶装置を本願出願人は
既に提案した(参照:特開昭59−180324号公報
、特開昭61−58058号公報)。かかる半導体記憶
装置について第18図、第19図を参照して説明する。
第18図は従来のバウンダリフリーの半導体記憶装置を
示すブロック回路図である(参照:特開B159−18
0324号公報)。すなわち、第18図においては、ワ
ード線WLO、WLI 、WL2 、・・・と、ビット
線BLO、BLI 、BL2 、・・・と、これらの各
ワード線およびビット線の間にそれぞれ接続されたメモ
リセルMC0O,MC0I、MCO2,・・・;MCl
0.MCII、MC12・・・と、3本のデータバスD
B−1、DBO、DB+1と、コラムデコーダCDO,
CD1.CD2.・・・と、トランスファトランジスタ
Qo6 、 C61+ QzB ; Qlll 、 Q
z 、 Qzz;・・・等とが設けられて′いる。トラ
ンスファトランジスタQ0゜、 C61、Glozはそ
れぞれビット線BLOとデータバスDB−1、DBO、
DB+1との間に接続され、トランスファトランジスタ
Q+o +Qz、Q+□はそれぞれビット線BLIとデ
ータバスDB−1、DBO、DB+1との間に接続され
、他のトランスファトランジスタも同様に各ビ・ノド線
と各データバス間に接続されている。そして、各コラム
デコーダの出力は、1つのビット線とデータバスDBO
との間に接続されたトランスファトランジスタのゲート
と、該ビット線の両側に位置するビット線とデータバス
DB−1およびDB+1の間に接続された各トランスフ
ァトランジスタのゲートとに接続されている。たとえば
、コラムデコーダCDIは、ビット線BLIとデータバ
スDBOとの間に接続されたトランスファトランジスタ
Q11のゲートと、ビット線BLOとデータバスDB−
1との間に接続されたトランスファトランジスタQ0゜
のゲートと、ビット線BL2とデータバスDB+1との
間に接続されたトランスファトランジスタQ2□のゲー
トとに共通接続されている。なお、各メモリセルMC0
O、MC0I 、・・・は1トランジスタ1キヤパシタ
型であって、1つのキャパシタと、該キャパシタを対応
のビット線に接続させるトランスファトランジスタとに
より構成され、このトランスファトランジスタは対応の
ワード線電位によって制御される。
第18図の記憶装置においては、たとえばワード線WL
Iが選択されてこの電位が高レベルにされると該ワード
線WLIに接続されたメモリセルMC0I 、 MCI
I 、 MC21、MC31、・・・のキャパシタがそ
れぞれ対応するビット線BLO、BLI 。
BL2 、BL3 、・・・に接続される。そして例え
ば、メモリセルMC11がアドレス指定のメモリセルで
ある場合はコラムデコーダCDIからコラム選択信号を
出力することによりトランスファトランジスタQ目と共
にトランスファトランジスタQ(111およびQ2□が
オンとされる。これにより、読出しモードであれば、メ
モリセルMCIIのデータがビット線BLI、トランス
ファトランジスタQll、データバスDBOを介して出
力されるとともに、該メモリセルMCIIの両隣のメモ
リセルMC0IおよびMC21のデータがそれぞれピッ
)線BLOおよびBL2、トランスファトランジスタQ
ooおよびQz、、データバスDB−1およびDB+1
を介して出力される。従って、中心のメモリセルMC1
1のアドレスを指定して該メモリセルMCIIにアクセ
スすることにより同時に該メモリセルMCIIの両側に
隣接するメモリセルMC0IおよびMC21のアクセス
たとえばデータ読出しをも行なうことが可能となる。
しかしながら、第18図の半導体記憶装置では同一ワー
ド線の隣接コラムしか読出せない。画像処理等において
は、同時に2次元的に広がりのあるデータを必要とする
場合が多い。例えば、メモリセルMCIIを中心として
3×3の広がり領域(MCOO,MCl0.MC20)
、(MCOl、MCII。
M C21)、 (M CO2、M C12、M C2
2)のデータを同時に必要とする場合、上述の半導体記
憶装置においては、ワード線WLOの選択及びコラムデ
コーダCDIの選択、WLIの選択及びCDIの選択、
さらにWL2の選択及びCDIの選択のように同様の選
択動作を3度くり返さなければならず、メモリアクセス
動作に複雑さが残ると共に、アクセス時間の短縮が充分
ではない。
第19図も従来のバウンダリフリーの半導体記憶装置を
示すブロック回路図であって、アクセスされるメモリセ
ルに対し、隣接ワー°ド線に接続された隣接メモリセル
も同時に並列的にアクセスするようにしたものである。
第19図においては、チップ全体が第1〜第4のブロッ
ク1〜4に分割されている。6はデータバス選択回路、
7はデ−タパスである。また、第1のブロック1は、デ
ータ線BLO−BL4とワード線WLO,WL4゜WL
8との間に接続されたメモリセルMC0O〜M C40
、M C04〜M C44、M 008〜MC48から
なるセルブロック11と、トランスファトランジスタが
第19図と同様に接続されてなるビット線選択回路12
と、ローデコーダ13およびその加算回路14とから構
成されている。第2〜第4のブロック2〜3も同様に構
成されている。但し、第2、第3のブロック2.3には
加算回路14は設けられていす、一方、第4のブロック
4には加算回路14に代えて減算回路44が設けられて
いる。
また、コラムデコーダ51 、52が、それぞれ、第1
、第2のブロック1,2と第3、第4のセルブロック3
.4に接続されている。第1〜第4のブロック1〜4の
ビット線選択回路12 、22 、32 、42はデー
タバス71〜74を介してデータバス選択回路6に接続
されている。
ここで各ブロック1〜4はランダムアクセス動作のみに
ついて見ると行アドレス信号A2〜A。
を受けて全く並列的に動作し、最下位2ビツトの行アド
レス信号Ao、A+によっていずれかのブロックをアク
セスするかがデータバス選択回路6側で決定される。従
って、行アドレス信号Ao〜A8をOから1づつカウン
トアツプしたときに選択されるワード線をWL、、WL
I  、・・・WL、とすると、ワード線は、第1のセ
ルブロック11ではWLO、WL4 、WL8 、・・
・、第2のセルブロック21ではWLI 、WL5 、
WL9 、・・・、第3のセルブロック31ではWL 
2 、 WL 6 、 WLIO。
・・・、第4のセルブロック41ではWL3.WL?。
WLllのように、アドレス順に見ると各セルブロック
内では4だけ離れており、隣接するもの、たとえばWL
OとWLI、WLIとWL2とはそれぞれ異なるセルブ
ロックに属し且つ隣り合うセルブロックに設けられてい
る。そして、各ブロック内では、隣接行アドレスにより
指定されるワード線が選択されて同時に動作しているこ
とになる。
よって各ブロックで並列的に選択ワード線のメモリセル
へのデータ出力を行なえば、隣接行アドレスのメモリセ
ルを並列的にアクセスできることになる。ところが、ラ
ンダムアクセスによる中心行アドレスが、両端のブロッ
ク1.4いずれかのワード線を選択しているときは、そ
の行アドレスより1つ前又は後の行アドレスに対応する
ワード線は非選択状態となる。つまり各ブロックを単に
並列動作させても、行アドレス次第では特定アドレス関
係のワード線データを並列に出し得ないことになる。そ
こで、隣接ワード線上のメモリセルを同時アクセスする
モードにおいては両端ブロックについてワード線選択順
序をサイクリックにする工夫が施されている。
なお、第19図では、メモリセルが256にの場合を示
しており、上記メモリセルのアドレス指定としてロー側
には9ビツトのアドレス信号A0〜A、(AOがLSD
、AeがMSD)がデコーダ回路13 、23 、33
 、43に接続されてい。但し、デコーダ回路23及び
33はA2〜A8ビットのみが接続され、デコーダ回路
13はA0〜A、ビットについて加算回路14で処理さ
れたA’Z〜A ’ Bビットテコ−1回路43は減算
回路44で処理されたA″2〜A″82〜A″8ビツト
いる。また、Ao、A+ ビットはデータバス選択回路
6に印加されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、第19図のバウンダリフリーの半導体記
憶装置においては、ロー側に加算回路、減算回路等を設
け、コラム側に特殊なデコーダを設けて3×3のビット
集合体を得ているが、これを4X4.5X5等のビット
集合体に拡張することはほとんど不可能であり、また、
コラムデコーダをビット線ピッチにつまり最小トランジ
スタ寸法で配置しなければならず、このため、コラムデ
コーダのビット線方向の長さの増大を招き、この結果、
大容量化、高集積化を損う。また、コラムデコーダはビ
ット線ピッチと同一で配置され、このため、たとえば、
ビット線ピッチ毎にビット線、3つのトランスファトラ
ンジスタのための配線を行わなければならず、これはメ
モリセルアレイの高集積度を低下させずに行うには高度
の多層配線技術が必要とされ、やはり、大容量化、高集
積化の点で不利である。
従って、本発明の目的は、アクセスされるビット集合体
形状の縮小、拡張が容易であり、大容量化、高集積化を
損わないバウンダリフリーの半導体記憶装置を提供する
ことにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上述の問題点を解決するための手段は第1図に示される
。第1図において、メモリセルはn行×m列のメモリセ
ルブロックB0゜、Boa+・・・、Bo。
ll−1;BIG + 811 +・・・+BI+1m
−1;・・・i B n−++。。
B n−1+1+ ・・’ + B11−1+M−1に
分割されている。n個の同一の行選択手段RDは各行の
メモリセルブロックに共通に設けられ、m個の同一の列
選択手段CDは各列のメモリセルブロックに共通に設け
られている。また、第1のスイッチ手段R3Wは各行選
択手段にローアドレス八つもしくは該ローアドレスの隣
りのローアドレスA、+1を与え、第2のスイッチ各列
選択手段にコラムアドレスA。
もしくは該コラムアドレスの隣りのコラムアドレスA、
+1を与える。そして、整列手段は各行選択手段および
前記各列選択手段によりアクセスされた各メモリセルブ
ロックのnxm個のセルを再整列する。これにより、所
望の矩形状のビット集合体のアクセスを可能とする。な
お、AIは外部から入力されるローアドレスの総ビット
数にのうち下位loginビットを除いた上位の(k 
−1Cgzn)ビットで作られる10進アドレスベクト
ル表記であり、同様に、A、は外部から入力されるコラ
ムアドレスの総ビット数lのうち下位log2mビット
を除いた上位の(1−1Cgzm)ビットで作られる1
0進アドレスベクトル表記である。
〔作 用〕
上述の手段によれば、ローデコーダ、コラムデコーダは
共に通常の回路手法により構成される。
また、整列手段はnXm個のセルを再配列する際に一部
のセルを無効化することによりn’Xm’個(n′≦n
、m’≦m)のビット集合体のアクセスを可能とする。
つまり、ビット集合体の縮小、拡大が可能となる。
〔実施例〕
まず、第2図を参照してバウンダリフリーを説明する。
第2図においては、1Mビットのビットマツプ構成が示
されている。つまり、X方向に沿って1024個のメモ
リ′セルが配置され、Y方向に沿って1024個のメモ
リセルが配置されている。この場合、1つのローの選択
は10ビツトのローアドレスRAO−RA9によって行
われ、1つのコラムはIOビットのコラムアドレスCA
O−CA9によって行われる。ここで、4×4の矩形状
のビット集合体を同時にアクセスする場合を杷定しく。
iこの場合、ビットマツプ上にポインティングビットP
Bを指定してアクセスすると、ポインティングビットP
Bの近傍ビット(太線枠内)もアクセスされることにな
る。ビットマツプ上のいずれのビットもこのようなポイ
ンティングビットPBとなり得る場合には、チップ内に
おいてバウンダリが存在しない、つまりバウンダリフリ
ーとなる。
また、ポインティングピントPBがチップの限界に近づ
くと、チップバウンダリが存在する。そこで、このよう
なチップバウンダリを消滅させるために、バウンダリを
循環的にする。たとえば、第3A図に示すごとく、バウ
ンダリがチップのローバウンダリを超えたときには、ロ
ーアドレスの小さ領域も同時にアクセスするようにし、
また、第3B図に示すごとく、バウンダリがチップのコ
ラムバウンダリを超えたときには、コラムアドレスの小
さい領域も同時にアクセスするようにし、さらに、第3
C図に示すごと、バウンダリがチップのローバウンダリ
、コラムバウンダリの両方を超えたときには、ローアド
レスおよびコラムアドレスの両方が小さい領域も同時に
アクセスするようにする。これにより、チップバウンダ
リフリーの半導体記憶装置が得られる。
本発明はチップ内でもアドレスバウンダリフリ−であり
且つアンプバウンダリフリーでもある半導体記憶装置に
関する。
第4図は本発明に係る半導体記憶装置(チップ)の一実
施例を示す回路図である。第4図においては、I M 
(1048576)ビットのメモリセルが16セルブロ
ツクB 00 r B o+ r・・・+Bsiに分割
されている。つまり、各セルブロックBoo + Bo
+ +・・・。
B5ffは64K (65536)ビットである。ここ
で、メモリセルのビットマツプ(第2図参照)は第5図
に示すごとくブロック割付けされる。
4つのセルブロックB0゜+ Bo+ + Boz +
 Botに対しては1つのローデコーダRDOが共通に
設けられ、4つのセルブロックB、。+ B II +
 B I2+B13に対しては1つのローデコーダRD
Iが共通に設けられ、4つのセルブロックB2゜+BZ
l+Bzz、Bz3に対しては1つのローデコーダRD
2が共通に設けられ、4つのセルブロックB:l(1+
B31 、B3□、B、に対しては1つのローデコーダ
RD3が共通に設けられている。これらローデコーダR
DO−RD3は同一構成である。他方4つのセルブロッ
クB0゜+ B lo + B z。、B、。に対して
は1つのコラムデコーダCDOが共通に設けられ、4つ
のセルブロックB++ + B+++ Bz+ + k
に対しては1つのコラムデコーダCD1が共通に設けら
れ、4つのセルブロックB。@ + B l□182Z
IBzzに対しては1つのコラムデコーダCD2が共通
に設けられ、4つのセルブロックBoz+B+3+82
3.1333に対しては1つのコラムデコーダCD3が
共通に設けられている。これらのコラムデコーダCDO
〜CD3も同一構成である。
10ビツトのローアドレスRAO〜RA9のうち上位8
ビツトRA2〜RA9はインクリメンタINHによって
+1 (10進表示)加算され、この結果、+0アドレ
ス(スルー)および+1アドレス(インクリメント)の
2つのアドレスがロー側スイッチR3WO−RSW3に
供給される。そして、これらのロー側スイッチR3WO
〜R3W3は10ビツトのローアドレスのうち下位2ビ
ットRAO,RAIに応じて2つのアドレス、すなわち
+0アドレスおよび+1アドレ、スを切替えて各ローデ
コーダRDO−RD3に供給する。他方、10ビツトの
コラムアドレスCAO−CA9のうち上位8ビツトCA
2〜CA9はインクリメンタINCによって+1 (1
0進表示)加算され、この結果、+0アドレス(スルー
)および+1アドレス(インクリメント)の2つのアド
レスがコラム側スイッチcswo〜C3W3に供給され
る。
そして、これらのコラム側スイッチcswo〜C3W3
は10ビツトのコラムアドレスのうち下位2ビットCA
O,CAIに応じて2つのアドレス、すなわち+0アド
レスおよび+1アドレスを切替えて各コラムデコーダC
D0−CD3に供給する。ただし、この場合、各セルブ
ロックは、後述するように、2つのビット線がアクセス
される構成をとっているため、コラム側スイッチC3W
O−C3W3からの1ビツト出力は、コラムデコーダで
なく、セレクタS0゜+S+。、S2゜、Sz。;・・
・;S3゜+ S 3I+ S 3□、S33に送出さ
れる。
16個のセレクタ5(111+ Sho + S20 
+ Szo ; −:S 30 + S :lI + 
S 3□+ S 33はブロックデータバスBDBI、
BDB2を介してバス整列回路BACに接続されている
。このバス整列回路BACは下位アドレスRAO、RA
I 、CAO、CALに応じてセレクタSoa〜S33
と入出力端子■0゜■016との接続を制御する。
また、制御回路C0NTはチップイネーブル信号τ丁、
リード/ライト信号R/W等に応じて各部を制御する。
第6図は第4図のセルブロックB i jの詳細な回路
図である。第6図においては、フォールプツトビット線
を用いている。つまり、第7図の部分詳細図を示すよう
に、各センスアンプSA一方側に接続された1対のビッ
ト線と各ワード線との交差点に、1個置きにメモリセル
が設けられている。
なお、第7図におけるセンスアンプSAは、ラインPS
Aとビット線BLO,B丁丁との間に交差結合されたP
チャネルトランジスタおよびラインNSAとビット線B
LO,NTTとの間に結合されたNチャネルトランジス
タにより構成され、ラインPSAが高電位に且つライン
NSAが低電位にされたときに動作する。また、第6図
において、ローデコーダRDiは256個のワード線W
LX、。。
W L i+ 、、・・・+ W L = 、t s 
sから1つのワード線を選択するのに対し、コラムデコ
ーダCDjはその列選択信号CDJ、。、CD、、、、
・・・* CD j+ + 2 ’により2対のビット
線たとえばBLO、BLO;BLI。
BLIを選択してブロック内データバスDB、j、。。
DB、j、。I D B 1j+ r + D B i
j+ 1に接続し、さらに、これらの2対のブロック内
データバスDB、j、。。
DB、j、。r D B rJ+ I r D B i
j+ 1のいずれ1対がスイッチS ijによって選択
されてブロックデータバスBDB4j、BDBtJ、に
接続される。
スイッチS i jは、2つのデータバスラッチLO。
Llおよび2つのセレクタ5ELO,LELIにより構
成され、また、各セレクタは、第6図に示すごとく、イ
ンバータI、アンド回路CI+ G 2+オア回路G3
により構成されている。つまり、コラムアドレスの1ビ
フトCSW、に応じてデータバスラッチLO,Llのい
ずれか一方をブロックデータバスBDB、、、BDB、
、に接続する。
第6図の示すセルブロックB ijの構成によれば、各
コラムデコーダCDJが128ビツト構成となるので、
コラムデコーダの縮小側に役立ち、従って、大容量化、
高集積化に役立つものであるが、本発明においては、こ
のようなセルブロック構成は単なる一例にすぎない。つ
まり、オープンビット線型であってもよい。また、各コ
ラムデコーダCD。
が256対のビット線から1対のビット線を直接選択さ
せるように構成してもよい。この場合、各コラム側スイ
ッチC3WO−C3WIからの8ビツトアドレスはすべ
て対応のコラムデコーダCDjに供給され、また、スイ
ッチS ijは削除される。
第4図において、第5図の太線枠に示す4×4のビット
集合体(第2図も同一)をアクセスする場合には、ポイ
ンティングビリトを左上隅とするために、ビットマツプ
X座標としてミ (CA9 、CA8 、・・・、 CA O)= (0
000000011)また、ビットマツプY座標として
、 (RA9 、RA8 、・・・、 RA O) = (
0000000001)が外部より与えられる。つまり
、各セルブロックB ijに与えるアドレスの上位16
ビツト(RA9〜RA2 、CA9〜CA2)が同一で
あれば、第5図の太線枠で示すような4×4のアドレス
バウンダリが論理平面に存在する。このとき、ボインテ
ィングピントよりX座標(コラム)が大きい4ビツトお
よびY座標(ロー)が大きい4ビツトを常にアクセスす
るためには、ローデコーダRDO〜RD3およびコラム
デコーダCD0−CD3に入力される上位16ビツトを
+0(スルー)か+1 (インクリメント)かの場合分
けして入力すればよい。このようにして、第5図の太線
枠で示すアドレスバウンダリは消滅する。
上述の+0 (スルー)か+1 (インクリメント)か
の場合分けは各セルブロックB i j毎に行わなけれ
ばならないが、各行のセルブロックたとえばB 06 
y B 01 + B 02 + B 03はローデコ
ーダRDOを共通とし、各列のセルブロックたとえばB
o。。
B、。、B2゜、B3゜はコラムデコーダCDOを共通
としているので、8個のロー側スイッチR3WQ−RS
W3およびコラム側スイッチcswo〜C3W3のみで
よい。
第9図に示すように、各スイッチRSWO〜R3W3 
 (もしくはcswo〜C3W3)は、ロー(もしくは
コラム)アドレスの下位2ビットRAO,RAI  (
もしくはCAO,CAI)をデコードするデコーダDE
C1と、デコーダDEC1の出力SWTに応じて動作す
る8ビツトのセレクタSELとからなる。ここで、デコ
ーダDEC工は、そのデコード論理が各スイッチにより
異なり、第1表に示すような論理式を満たす回路である
以下余白 男−」−一表 R3WO(RAO)+  (RAI) R3WI      (RAI) R3W2      (RAO)  ・ (RAI)R
3W3       φ C3WO(CAO)+  (CAL) C3WI      (CAI) C3W2     (CAO)−(CAL)C3W3 
      φ ここでは、ビット集合体がロ一方向幅もコラム方向幅も
同一なために、ロー側スイッチの論理式とコラム側スイ
ッチの論理式とが一致しているが、ビット集合体が2X
8.3X5 、・・・等のようにロ一方向幅とコラム方
向幅が異なれば当然異なる。
第1表の論理式は第10図により説明される。
ここで、第10図はローアドレスバウンダリを示す図で
あって、横方向の3本の太線がローアドレスの上位8ビ
ツトRA9〜RA2によるローアドレスバウンダリであ
る。ここで、4ブロックB0.。
B+Jr Bzj+ B3jはビットマツプ平面のY座
標(ロー)の下位2ビツトの違いを有する。アクセスさ
れる4×4のビット集合体の形態としては、I、n、I
[I、It/の4通りである。形fitの場合には、ロ
ーアドレスバウンダリをまたぐことはないので、各セル
ブロックB。j + B lj + B 2J + B
 :ljには同一の外部アドレスRA9〜RA2がその
まま(スルー)で供給される。形lIrの場合には、セ
ルブロックB。jのローアドレスだけ+1 (インクリ
メント)させ、形Bmの場合には、セルブロックB Q
j + B Ijの各ローアドレスを+1 (インクリ
メント)させ、形[rVの場合には、セルブロックB0
、+ B Ij + B Zj各ローアドレスを+1 
(インクリメント)させる。これを整理すると、第2表
のごとくなる。
以下余白 勇−」L−表 この第2表をボインティングビット位置を示すローアド
レスの下位2ビットRA1.RAOで論理式化したもの
が第1表である。
なお、コラムアドレス側も同様である。
このようにして、ビットマツプ上からバウンダリフリー
の4×4のビット集合体をアクセスたとえばデータ読出
しできるが、このまま、データが入出力端子10.〜■
0..に読出されると、画像データの近傍処理としては
不都合である。たとえば、第11図(A)に示すブロッ
ク対応の4×4のビット集合体は、整列せずに読出すと
、第11図(B)に示すごとくなり、ビットマツプ上の
ポインティングビットと他の近傍ビットとが4×4形状
の論理関係が保持されず、この結果、4×4の面アクセ
スが場所毎に異なってしまう。実際には、第11図(C
)に示すような入出力端子配列が望まれる。つまり、 1)ポインティングビットPBは常に入出力端子■0゜
にアクセスされる。
2)ポインティングビットPBから順にX方向にインク
リメントした位置にある4ビツトが10.。
10+  、IOz  、IChの順にアクセスされる
3)その次に、Y方向にインクリメントされ、そして2
)と同様に、X方向にインクリメントした位置にある4
ビツトが104  、 I Os  、 T O&。
IO,の順にアクセスされる。
ポインティングピットPBのアドレスに関係なく常にビ
ットマツプ上から第11図(C)に示す■0対応で4×
4のビット集合体をア、クセスするために、バス整列回
路BACが設けられている。
バス整列回路BACは、その詳細図を第12図に示すよ
うに、セルブロックB ijに接続されたブロックデー
タバスBDB、、が16個の入出力端子10o〜IO+
sの1つに接続されるように動作するデマルチプレクサ
回路DMPX実際には、16個のデマルチプレクサ)と
、デマルチプレクサ回路DMPXの各デマルチプレクサ
を制御するデコーダPEC2とを有する。この場合、デ
コーダDEC2はロー、コラムアドレスの下位4ビツト
RALRAO、CAL 、CAOに応じてデマルチプレ
クサ回路DMPXを制御する。なお、デマルチプレクサ
回路DMPX内のアンド回路はたとえば第13図に示す
CMOSスイッチで構成される。このように構成された
バス整列回路BACは、第3表に示す対応で、パスブロ
ックB□、と入出力端子■Okとを接続する。
ただし、第3表内の数字はIOの番号を示す。
たとえば「14」は■014を示す。
上述の実施例においては、第14図(A)に示すごとく
、ポインティングビットPBを4×4のビット集合体の
左上隅に位置させているが、ポインティングピットPB
の位置を第14図(B)に示すごとく変更することもで
きる。この場合には、第4図における内部アドレス演算
部(つまり、インクリメンクINR、INC)を第15
図、第16図に示すごとく一般形とする。たとえば、第
15図においては、外部ローアドレスRAO〜RA9に
対して2つの減算も行える10ビット加算器ADI、A
D2を設け、それぞれにおいて、lRo =−1(10
進表示)、IRI =O(10進表示)を加算する。加
算器ADIの10ビツト出力のうち上位8ビツトを+O
アドレスとして用い、上位2ビツトを第4図のローアド
レスRAO。
RAIとして用いる。他方、加算器AD2の10ビツト
出力のうち上位8ビツトを+1アドレスとして用い、上
位2ビツトは無視される。第16図においても同様であ
る。このようにして、第14図(B)に示すごとく、ポ
インティングピットPBの位置を変更できる。なお、I
Ro 、IR,。
C,、C,を他の値に変更することによりボインティン
グピッ)PBの位置を4×4面内の任意の位置に変更す
ることもでき、さらに、RD  r RI+C,、C,
をセットするレジスタを内蔵させてポインティングピッ
トPBの位置を、可変とすることもできる。ここで、ポ
インティングビットPBの位置を変更したときには、バ
ス整列回路BACも変更されることは言うまでもない。
また、第14図(C)に示すごとく、バス整列回路BA
Cの一部をハイインピーダンスにすれば、4×4面形状
のバウンダリフリーアクセスを3×3面形状のバウンダ
リフリーアクセスに変更できる。つまり、同一チップで
複数種の面形状のバウンダリフリーアクセスが容易に可
能となる。
なお、上述の実施例においては、ビットマツプを平面(
X 、 Yの2次元)として与えているが、空間(X 
、 Y 、 Zの3次元)に拡張した場合にも、同様な
階層的手法により本発明を拡張適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、任iの大きさのビ
ット集合体のアクセスに拡張できる性格を有し、しかも
デコーダは通常のものを用いることができるので大容量
化、高集積化を損わないバウンダリフリーの半導体記憶
装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
・第1図は本発明の基本構成図、 第2図はビットマツプ構成を示す図、 第3A図〜第3C図はバウンダリフリーを説明する図、 第4図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示す
ブロック回路図、 第5図は本発明に係るビットマツプのブロック割付けを
示す図、 第6図は第4図のセルブロックの詳細な回路図、第7図
は第6図の部分詳細図、 第8図は第6図のセレクタの詳細な回路図、第9図は第
4図のロー側スイッチ(コラム側スイッチ)の詳細な回
路図、 第10図はローアドレスバウンダリを説明する図、 第11図は第4図のセルブロックデータを示す図、 第12図は第4図のバス整列回路の詳細な回路図・ 第13図は第12図の部分回路図、 第14図はポインティングピットの位置を説明する図、 第15図、第16図は第4図に付加される内部アドレス
演算回路を示す回路図、 第17図は従来のアドレスバウンダリが存在する半導体
記憶装置を示すブロック回路図、第18図、第19図は
従来のバウンダリフリーの半導体記憶装置を示すブロッ
ク回路図である。 Bo。+Bo++’セルブロック、 RDO〜RD3:ローデコーダ、 CD0−CD3 :コラムデコーダ、 R3WO〜R3W3 :ロー側スイッチ、cswo〜C
3W3 :コラム側スイッチ、BAC:バス整列回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、n行×m列のメモリセルブロック (B_0_0、
    B_0_1、・・・、B_0_、_m_−_1;B_1
    _0、B_1_1、・・・、B_1_、_m_−_1;
    ・・・;B_n_−_1_、_0、B_n_−_1_、
    _1、・・・、B_n_−_1_、_m_−_1)と、
    該各行のメモリセルブロックに共通に設けられたn個の
    同一の行選択手段(RD)と、 前記各列のメモリセルブロックに共通に設けられたm個
    の同一の列選択手段(CD)と、 前記各行選択手段にローアドレス(A_R)もしくは該
    ローアドレスの隣りのローアドレス(A_R+1)を与
    える第1のスイッチ手段(RSW)と、前記各列選択手
    段にコラムアドレス(A_C)もしくは該コラムアドレ
    スの隣りのコラムアドレス(A_C+1)を与える第2
    のスイッチ手段(CSW)と、 前記各行選択手段および前記各列選択手段によりアクセ
    スされた各メモリセルブロックのn×m個のセルを再整
    列する整列手段と、 を具備し、 所望の矩形状のビット集合体のアクセスを可能とした半
    導体記憶装置。
JP61297629A 1986-12-16 1986-12-16 半導体記憶装置 Granted JPS63152092A (ja)

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US07/132,442 US4811297A (en) 1986-12-16 1987-12-14 Boundary-free semiconductor memory device
KR1019870014361A KR910002202B1 (ko) 1986-12-16 1987-12-15 바운더리-프리 반도체 메모리 장치
EP19870402882 EP0272980A3 (en) 1986-12-16 1987-12-16 Boundary-free semiconductor memory device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0289279A (ja) * 1988-09-26 1990-03-29 Nec Corp 半導体メモリ

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JPH0289279A (ja) * 1988-09-26 1990-03-29 Nec Corp 半導体メモリ

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