JPS63150154A

JPS63150154A - 化学研磨装置

Info

Publication number: JPS63150154A
Application number: JP61298486A
Authority: JP
Inventors: Kenji Sato; 賢治佐藤
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 1986-12-15
Filing date: 1986-12-15
Publication date: 1988-06-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、例えば半導体表面の最終処理時等において用
いられる、腐食液を供給しながら被加工物を研磨材に押
し付けてその表面を研磨する、化学研磨装置に関する。

〈従来の技術〉従来の化学研磨装置の基本的な構造を第３図に示す。上
面に研磨クロス３１を貼り付けた回転盤３２が腐食液槽
３３内に配置される。この回転盤３２は軸３４によって
駆動機構３５に連結され、回転駆動される。腐食液槽３
３内には、腐食液タンク３６内の腐食液をポンプ３７等
によって供給口３８を介して順次供給することができ、
また、排液口３９から外部に排出することができる。そ
して、腐食液槽３３内の腐食液面りを研磨クロス３１の
上面よりも上方に保った状態で回転盤３２を回転させ、
被加工物を研磨クロス３１に押圧し、研磨する。

〈発明が解決しようとする問題点〉以上のような従来の化学研磨装置においては、腐食液槽
３３内に回転盤３２を設けている関係上、軸３４のまわ
りをシールする必要があり、特に、駆動機構３５を腐食
液から保護するために、そのシールは厳密なものが要求
される。その為、従来、特別なパツキン４０を装着する
等、複雑な機構を要し、コストアンプの要因となってい
る。

また、腐食液は、腐食液槽３３内において研磨クロス３
１が十分浸るまでの量を必要とし、経済的でないという
問題があった。

本発明は上記に鑑みてなされたもので、従来の構造上の
複雑さを無くするとともに、可及的少量の腐食液の使用
により研磨することのできる、化学研磨装置の従供を目
的としている。

〈問題点を解決するための手段〉上記の目的を達成するだめの構成を、実施例に対応する
第１図を参照しつつ説明すると、本発明は、腐食液を供
給しつつ被加工物Ｗを回転盤２上面に支持された研磨材
（例えば研磨クロス１）に押圧して研磨する装置におい
て、回転盤２の外周に上方に突出する壁体３を配設して
その内部に腐食液を貯留し得るよう構成したことによっ
て、特徴づけられる。

〈作用〉腐食液は回転盤２上に貯留されるから、別途腐食液槽を
設ける必要がなく、従って回転盤２の底部に配設される
回転軸４のシールは特にこれを必要としない。また、研
磨クロス１の貼着面を底面として腐食液が貯留されるか
ら、研磨時に必要な腐食液の量が大幅に削減される。

〈実施例〉本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。

第１図は本発明実施例の構成を示す要部中央縦断面図で
ある。

上面に研磨クロス１が貼着された回転盤２は、その外周
に上方に一様に突出する壁体３が形成されており、全体
として上方に開口するカップ形状をなしている。この回
転盤２の下面には軸４が固着されており、回転盤２はこ
の軸４を介して駆動機構５によって回転駆動される。

回転盤２の上方には、ポンプ７の駆動により腐食液タン
ク６内の腐食液を供給するための供給口８が配設されて
いる。

回転盤２の側方は円筒形状カバー１１で囲まれており、
回転盤２の下方には円錐形状カバー１２が配設されてい
る。そして、この円錐形状カバー１２の頂部を前述した
軸４が貫通している。また、円筒形状カバー１１の、円
錐形状カバー１２との接合部に近接してその上方には、
廃液タンクに接続し得る排液口９が穿たれている。

以上の本発明実施例において研磨は、カップ状の回転盤
２内に腐食液を満たした状態で、駆動機構５により所望
の回転を与え、適当な治具Ｊに装着した被加工物Ｗを研
磨クロス１上に載せることによって行われる。研磨中に
おいては供給口８から適宜に腐食液を供給するが、この
供給により壁体３の上からオーバーフローした腐食液、
すなわち排液は、円錐形状カバー１２の」二面を経て排
液口９へと導かれ、軸４の近傍にまで達することがない
。

第２図に本発明の他の実施例の要部中央縦断面図を示す
。

この実施例では、回転盤２の内部に貯留した腐食液を、
回転盤２内部に挿入された排液口２０を介して吸引ポン
プ２２により廃液タンク２１内強制的に排出するよう構
成している。この例においては、供給口８からの腐食液
の供給量と、吸引ポンプ２２による腐食液の排出量を等
量に調整することにより、回転盤２内の腐食液はオーバ
ーフローすることなく廃液タンク２１内に導かれ、軸４
のまわりには全く腐食液が達する虞れがない。

〈発明の効果〉以上説明したように、本発明によれば、回転盤の外周に
壁体を設けてその内部に腐食液を貯留し得るよう構成し
たので、従来のように回転盤を腐食液槽の内部で回転さ
せる必要がなく、回転盤の回転軸のシールは特に必要で
はなく、構造が面素化されてコストを低減させることが
できるとともに、腐食液は研磨クロス等の研磨材支持面
を底面として貯留されるから、その貯留量は研磨に必要
とする最低の量でよ（、その使用量を大幅に削減するこ
とができる。しかも、本発明は従来装置の簡単な改造に
より実施可能であって、その実用性は大きい。

【図面の簡単な説明】第１図は本発明実施例の構成を示す要部中央縦断面図、第２図は本発明の他の実施例の要部中央縦断面図、第３
図は従来の化学研磨装置の基本的な構造を示す図である
。１・・・研磨クロス２・・・回転盤３・・・壁体４・・・回転軸５・・・駆動機構８・・・供給口９．２０・・・排液口１２・・・円錐形状カバー２２・・・吸引ポンプ特許出願人　　　　　　株式会社島津製作所代　理　人
　　　　　弁理士　西１）新７一

Claims

【特許請求の範囲】

腐食液を供給しつつ被加工物を回転盤上面に支持された
研磨材に押圧して研磨する装置において、上記回転盤の
外周に上方に突出する壁体を配設してその内部に上記腐
食液を貯留し得るよう構成したことを特徴とする、化学
研磨装置。