JPS63146397A - 薄膜el素子及びその製造方法 - Google Patents
薄膜el素子及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS63146397A JPS63146397A JP61293847A JP29384786A JPS63146397A JP S63146397 A JPS63146397 A JP S63146397A JP 61293847 A JP61293847 A JP 61293847A JP 29384786 A JP29384786 A JP 29384786A JP S63146397 A JPS63146397 A JP S63146397A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- rare earth
- light
- emitting layer
- alkaline earth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- -1 alkaline earth metal sulfide Chemical class 0.000 claims description 27
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910020187 CeF3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSBXGIUJOOQZMP-JLNYLFASSA-N Matrine Chemical compound C1CC[C@H]2CN3C(=O)CCC[C@@H]3[C@@H]3[C@H]2N1CCC3 ZSBXGIUJOOQZMP-JLNYLFASSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N calcium sulfide Chemical compound [Ca]=S JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- ZEGFMFQPWDMMEP-UHFFFAOYSA-N strontium;sulfide Chemical compound [S-2].[Sr+2] ZEGFMFQPWDMMEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜EL素子及びその製造方法に関し、特にア
ルカリ土類金属硫化物を母体とする発光層を有する薄膜
EL素子及びその製造方法に関する。
ルカリ土類金属硫化物を母体とする発光層を有する薄膜
EL素子及びその製造方法に関する。
薄膜EL素子の多色化の為の発光層の母体として硫化カ
ルシウムや硫化ストロンチウム等のアルカリ土類金属硫
化物が注目されている。これらの発光層はスパッタ法や
真空蒸着法を用いて薄膜として透明基板上に形成される
。さらに薄膜EL素子の発光層と成す為には、希土類元
素や遷移金属等の発光中心となる元素、又は、これらの
元素を含む化合物を付活剤としてアルカリ土類金属硫化
物を付活する必要がある。
ルシウムや硫化ストロンチウム等のアルカリ土類金属硫
化物が注目されている。これらの発光層はスパッタ法や
真空蒸着法を用いて薄膜として透明基板上に形成される
。さらに薄膜EL素子の発光層と成す為には、希土類元
素や遷移金属等の発光中心となる元素、又は、これらの
元素を含む化合物を付活剤としてアルカリ土類金属硫化
物を付活する必要がある。
それらの発光層には発光中心元素の単体、フッ化物や塩
化物等のハロゲン化物が添加され、あるいは、更にアル
カリ金属を共付活したものを用いている。上記添加物を
アルカリ土類金属硫化物の母体と混合したものをスパッ
タターゲットや蒸着源として成膜されたもの、あるいは
上記付活剤を母体の供給源とは別の供給源から供給する
いわゆる共蒸着法により成膜された薄膜EL素子が知ら
れている。
化物等のハロゲン化物が添加され、あるいは、更にアル
カリ金属を共付活したものを用いている。上記添加物を
アルカリ土類金属硫化物の母体と混合したものをスパッ
タターゲットや蒸着源として成膜されたもの、あるいは
上記付活剤を母体の供給源とは別の供給源から供給する
いわゆる共蒸着法により成膜された薄膜EL素子が知ら
れている。
例えば、CaSにCe又はCeF3又はCeCe3を用
いそれらを適量混合したもの、あるいは、更にNaOH
等アルカリ金属の水酸化物を加え熱処理したものをスパ
ッタターゲット又は蒸着源として用いて形成した発光層
、又はCaSの供給源とは別にCe又はCeF3又はC
eC13の付活剤供給源を用いて形成した発光層により
緑色の発光を得ている。
いそれらを適量混合したもの、あるいは、更にNaOH
等アルカリ金属の水酸化物を加え熱処理したものをスパ
ッタターゲット又は蒸着源として用いて形成した発光層
、又はCaSの供給源とは別にCe又はCeF3又はC
eC13の付活剤供給源を用いて形成した発光層により
緑色の発光を得ている。
上述した従来の薄膜EL素子及びその製造方法は、アル
カリ土類金属硫化物を母体とし希土類元素を発光中心と
して添加して形成した薄膜を発光層としているので、母
体内に多くの希土類元素が三価陽イオンとして存在し単
体で付活すると高い発光輝度が得られないという欠点が
ある。又、電荷補償の目的でフッ素又は塩素の一価陰イ
オンを希土類ハロゲン化物の形でアルカリ土類金属硫化
物に添加した場合は、発光輝度は向上するが結晶性が低
下し発光特性が劣化するという欠点がある。
カリ土類金属硫化物を母体とし希土類元素を発光中心と
して添加して形成した薄膜を発光層としているので、母
体内に多くの希土類元素が三価陽イオンとして存在し単
体で付活すると高い発光輝度が得られないという欠点が
ある。又、電荷補償の目的でフッ素又は塩素の一価陰イ
オンを希土類ハロゲン化物の形でアルカリ土類金属硫化
物に添加した場合は、発光輝度は向上するが結晶性が低
下し発光特性が劣化するという欠点がある。
本発明の目的は、発光特性の劣化を防止できる薄膜EL
素子及びその製造方法を提供することにある。
素子及びその製造方法を提供することにある。
本第1の発明の薄膜EL素子は、アルカリ土類金属硫化
物を母体とし希土類窒化物及び希土類りん化物から成る
群から選ばれた一種を含有した薄膜で形成された発光層
を透明基板上に有している。
物を母体とし希土類窒化物及び希土類りん化物から成る
群から選ばれた一種を含有した薄膜で形成された発光層
を透明基板上に有している。
本第2の発明の薄膜EL素子の製造方法は、アルカリ土
類金属硫化物と希土類窒化物あるいは希土類りん化物を
別々の供−給源から透明基板に蒸着して発光層を形成す
る工程を含んで構成される。
類金属硫化物と希土類窒化物あるいは希土類りん化物を
別々の供−給源から透明基板に蒸着して発光層を形成す
る工程を含んで構成される。
アルカリ土類金属硫化物は二価のイオンによるイオン結
晶でありNace構造を有する。一方、希土類窒化物及
び希土類りん化物は化学量論比1のとき、NaCe楕遣
を有する三価イオンによるイオン結晶である。
晶でありNace構造を有する。一方、希土類窒化物及
び希土類りん化物は化学量論比1のとき、NaCe楕遣
を有する三価イオンによるイオン結晶である。
アルカリ土類金属硫化物に三価の陽イオンとなる希土類
及び三価陰イオンとなる窒素又はりんを添加すれば、三
価の希土類の発光中心陽イオンはアルカリ土類金属硫化
物中のアルカリ土類イオンサイトに置換し、窒素又はり
んの三価陰イオンは硫黄イオンサイトに置換する。
及び三価陰イオンとなる窒素又はりんを添加すれば、三
価の希土類の発光中心陽イオンはアルカリ土類金属硫化
物中のアルカリ土類イオンサイトに置換し、窒素又はり
んの三価陰イオンは硫黄イオンサイトに置換する。
上記した方法により付活されたアルカリ土類金属硫化物
を母体とした薄膜EL素子の発光層は、発光中心元素の
価数不整合によるEL発光特性の劣化を避けることを可
能にし、更に付活剤の陽イオン及び陰イオンがそれぞれ
アルカリ土類イオン及び硫黄イオンサイトに置換し、結
晶として固溶状態となることから、比較的高い濃度まで
付活による結晶性の低下や、熱処理等に対する安定性の
低下によるEL発光特性の劣化を防ぐことができる。
を母体とした薄膜EL素子の発光層は、発光中心元素の
価数不整合によるEL発光特性の劣化を避けることを可
能にし、更に付活剤の陽イオン及び陰イオンがそれぞれ
アルカリ土類イオン及び硫黄イオンサイトに置換し、結
晶として固溶状態となることから、比較的高い濃度まで
付活による結晶性の低下や、熱処理等に対する安定性の
低下によるEL発光特性の劣化を防ぐことができる。
更に、発光層を成膜する際、母体のアルカリ土類金属硫
化物と希土類窒化物あるいはりん化物を別々の供給源か
ら透明基板に供給することにより、希土類窒化物あるい
はりん化物を分子の形で母体に添加せしめ、発光中心近
傍の局所的に安定な電荷補償を成しさらに良好な発光特
性を得ることを可能にする。
化物と希土類窒化物あるいはりん化物を別々の供給源か
ら透明基板に供給することにより、希土類窒化物あるい
はりん化物を分子の形で母体に添加せしめ、発光中心近
傍の局所的に安定な電荷補償を成しさらに良好な発光特
性を得ることを可能にする。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例の薄膜EL素子の断面図、第
2図は第1図の薄膜EL素子を製造するための成膜装置
の断面図である。
2図は第1図の薄膜EL素子を製造するための成膜装置
の断面図である。
以下に、第1及び第2図を参照して、SrSを母体とし
CePで付活した発光層を有する薄膜EL素子を例にし
て詳細を説明する。
CePで付活した発光層を有する薄膜EL素子を例にし
て詳細を説明する。
まず、真空蒸着法あるいはスパッタ法等により、ガラス
基板7上に成膜された透明電極8及び第1絶縁体層9か
らなる透明基板を、第2図に示すように、成膜装置内の
基板ホルダ1に取付け、成膜装置内を3 X 10−6
Torr以下の真空度まで引いた。基板温度を500℃
まで上げた後、A素子では別々の電子ビーム加熱皿2.
及び2bに入れたSrSペレット3及びCeP 4を用
い、B素子ではSrSとCePを混合し1000℃で熱
処理したべし・y I”を用い電子ビームで加熱し薄膜
SrS :CeP発光層10を厚さ5ooo人に成膜し
た。
基板7上に成膜された透明電極8及び第1絶縁体層9か
らなる透明基板を、第2図に示すように、成膜装置内の
基板ホルダ1に取付け、成膜装置内を3 X 10−6
Torr以下の真空度まで引いた。基板温度を500℃
まで上げた後、A素子では別々の電子ビーム加熱皿2.
及び2bに入れたSrSペレット3及びCeP 4を用
い、B素子ではSrSとCePを混合し1000℃で熱
処理したべし・y I”を用い電子ビームで加熱し薄膜
SrS :CeP発光層10を厚さ5ooo人に成膜し
た。
その後、真空を破らずに第2絶縁体層11を成膜し、最
後に上部電極12を形成した。このように作成した薄膜
EL素子は青色の発光を示した。
後に上部電極12を形成した。このように作成した薄膜
EL素子は青色の発光を示した。
第3図は第2図に示す成膜装置で形成された薄膜EL素
子のエックス線回折によるCe濃度に対する格子定数及
び半価幅との相関を示す特性図である。
子のエックス線回折によるCe濃度に対する格子定数及
び半価幅との相関を示す特性図である。
第3図に示すように、CePの濃度をO〜5moe%ま
で変化させて格子定数a及び立方晶(111)面による
回折線の半価幅Δ2θを測定したところ、A素子・B素
子ともに格子定数aはほぼベガード法則に従う変化を示
し、また半価幅Δ2θも著しく大きな変化は見出されず
、この濃度領域でCePがSrSにだいたい固溶してお
り、良好な結晶性を有している。
で変化させて格子定数a及び立方晶(111)面による
回折線の半価幅Δ2θを測定したところ、A素子・B素
子ともに格子定数aはほぼベガード法則に従う変化を示
し、また半価幅Δ2θも著しく大きな変化は見出されず
、この濃度領域でCePがSrSにだいたい固溶してお
り、良好な結晶性を有している。
CeF3で付活した発光層SrS:Ce、Fを有する従
来の薄膜EL素子はやはり青色の発光を示す、 SrS
:CeP発光層薄膜と同様にエックス線回折による結晶
解析を行ったところ、第3図に示すように、半価幅△2
θは、SrS:CePに比べ著しい増加を示し、CeF
3で付活したSrS層はCePで付活したものに比べ結
晶性が悪い。
来の薄膜EL素子はやはり青色の発光を示す、 SrS
:CeP発光層薄膜と同様にエックス線回折による結晶
解析を行ったところ、第3図に示すように、半価幅△2
θは、SrS:CePに比べ著しい増加を示し、CeF
3で付活したSrS層はCePで付活したものに比べ結
晶性が悪い。
第4図は第1図の薄膜EL素子の印加電圧対輝度の相関
を示す特性図である。
を示す特性図である。
第4図に示すようにSrS:CeP発光層を有する輝度
特性を曲線Aで示す第1図の薄膜EL素子の方が、Sr
S:Ce、F発光層を有する輝度特性を曲線Bで示す従
来の薄膜EL素子より高い飽和輝度と低い発光開始電圧
及び鋭い発光の立上りを有する良好な発光特性を示し、
また同じ濃度ではA素子の方がB素子より5〜10%高
い発光輝度を示した。
特性を曲線Aで示す第1図の薄膜EL素子の方が、Sr
S:Ce、F発光層を有する輝度特性を曲線Bで示す従
来の薄膜EL素子より高い飽和輝度と低い発光開始電圧
及び鋭い発光の立上りを有する良好な発光特性を示し、
また同じ濃度ではA素子の方がB素子より5〜10%高
い発光輝度を示した。
以上の実施例ではSrSを母体とし、CePで付活して
いるが、CaSを母体としCePで付活したものもCe
F3を付活した従来のものより、良好な結晶性と発光特
性を示す同様な結果を示した。
いるが、CaSを母体としCePで付活したものもCe
F3を付活した従来のものより、良好な結晶性と発光特
性を示す同様な結果を示した。
また、CePで付活したものは、CeF3で付活したも
ののように長時間の700℃までの高温熱処理による著
しい輝度の低下は見られなかった。
ののように長時間の700℃までの高温熱処理による著
しい輝度の低下は見られなかった。
11発明の効果〕
以上説明したように本発明の薄膜EL素子は、粘度類窒
化物あるいは粘度類りん化物を含有する発光層を設ける
ことにより、結晶性の劣化なく電荷補償を成し、ひいて
は良好な発光特性を得ることができるという効果がある
。また、粘度類窒化物あるいは粘度類りん化物を母体で
あるアルカリ土類金属硫化物と別の供給源から基板に供
給して発光層を形成することにより、更に良好な発光特
性を得ることができるという効果がある。
化物あるいは粘度類りん化物を含有する発光層を設ける
ことにより、結晶性の劣化なく電荷補償を成し、ひいて
は良好な発光特性を得ることができるという効果がある
。また、粘度類窒化物あるいは粘度類りん化物を母体で
あるアルカリ土類金属硫化物と別の供給源から基板に供
給して発光層を形成することにより、更に良好な発光特
性を得ることができるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例の薄膜EL素子の断面図、第
2図は第1図の薄膜EL素子を製造するための成膜装置
の断面図、第3図は第2図に示す成膜装置で形成された
薄膜EL素子のCe濃度に対する格子定数及び半価幅と
の相関を示す特性図、第4図は第1図の薄膜EL素子の
印加電圧対輝度の相関を示す特性図である。 1・・・基板ホルダ、2..2b・・・電子ビーム加熱
皿、3・・・SrSペレット、4・・・CeP 、5・
・・シャッタ、6−.6b・・・膜厚計、7・・・ガラ
ス基板、8・・・透明電極、9・・・第1絶縁体層、1
0・・・SrS:CeP発光層、11・・・第2絶縁体
層、12・・・上部電極。 r( 代理人 弁理士 内 原 晋1.7+、、−箭1回 CeJJ (ywl 幻 箔3図 EP7Jr1首后V)
2図は第1図の薄膜EL素子を製造するための成膜装置
の断面図、第3図は第2図に示す成膜装置で形成された
薄膜EL素子のCe濃度に対する格子定数及び半価幅と
の相関を示す特性図、第4図は第1図の薄膜EL素子の
印加電圧対輝度の相関を示す特性図である。 1・・・基板ホルダ、2..2b・・・電子ビーム加熱
皿、3・・・SrSペレット、4・・・CeP 、5・
・・シャッタ、6−.6b・・・膜厚計、7・・・ガラ
ス基板、8・・・透明電極、9・・・第1絶縁体層、1
0・・・SrS:CeP発光層、11・・・第2絶縁体
層、12・・・上部電極。 r( 代理人 弁理士 内 原 晋1.7+、、−箭1回 CeJJ (ywl 幻 箔3図 EP7Jr1首后V)
Claims (2)
- (1)アルカリ土類金属硫化物を母体とし希土類窒化物
及び希土類りん化物から成る群から選ばれた一種を含有
した薄膜で形成された発光層を透明基板上に有すること
を特徴とする薄膜EL素子。 - (2)アルカリ土類金属硫化物と希土類窒化物あるいは
希土類りん化物を別々の供給源から透明基板に蒸着して
発光層を形成する工程を含むことを特徴とする薄膜EL
素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61293847A JPS63146397A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 薄膜el素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61293847A JPS63146397A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 薄膜el素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63146397A true JPS63146397A (ja) | 1988-06-18 |
Family
ID=17799925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61293847A Pending JPS63146397A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 薄膜el素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63146397A (ja) |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61293847A patent/JPS63146397A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000068072A (ja) | 薄膜エレクトロルミネッセンスデバイスとその製造方法 | |
JPS63236294A (ja) | El素子およびその製造法 | |
JPS6346117B2 (ja) | ||
US5099172A (en) | Thin film electroluminescent device | |
JPS63146397A (ja) | 薄膜el素子及びその製造方法 | |
US5976412A (en) | Fluorescent material | |
JP3133829B2 (ja) | Elディスプレイ素子の製造方法 | |
JPS6244984A (ja) | 薄膜エレクトロ・ルミネセンス素子およびその製造方法 | |
JPH02148595A (ja) | 薄膜el素子およびその製造方法 | |
US5182491A (en) | Thin film electroluminescent device | |
JPH0265094A (ja) | 薄膜el素子及びその製造方法 | |
JP5192854B2 (ja) | 蛍光体及びこれを用いた表示パネル | |
US5892333A (en) | Electroluminescent device and method for producing the same | |
JP2897716B2 (ja) | 蛍光体 | |
JPS61253797A (ja) | エレクトロルミネセンス素子の製造方法 | |
JP3511731B2 (ja) | エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JPS60172196A (ja) | エレクトロルミネセンス素子およびその製造法 | |
JPS63915B2 (ja) | ||
JPH0265092A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 | |
JPS62140395A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 | |
KR100341532B1 (ko) | 형광체의제조방법 | |
JPH0266872A (ja) | 白色発光薄膜el素子 | |
JPS62105393A (ja) | El素子 | |
JPS61273894A (ja) | 薄膜el素子 | |
JPH0869881A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 |