JPS63144390A - 表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、小型から大型まで、またモノクロ表示からカ
ラー表示まであらゆる用途に応用可能な高画質低コスト
の表示装置の％’Ｊ造方法に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、透明電極パターン間に遮光膜を有する表示装
置において、金属メッキにより透明電極上に選択的に金
属を析出させ、その金属をフォトマスクとして遮光膜を
形成することにより、アライメント露光が不要な、極め
て簡便な表示装置の製造方法を提供するしのである。

〔従来技術〕

近年液晶、ＥＬ、プラズマ、ＬＥＤ等簿へ１（表示装置
の進展は茗しく、７セグメント表示からフルドツト表示
へ、さらには画素数が６４０Ｘ４００どＣＲＴに匹敵す
るまでに至っている。それに伴って高画質化、カラー化
も進み、そのための手段の一つとして透明電極１ｍに遮
光膜を設ける方式が考案されている。これは、透明電極
間の電圧が印加されない部分、すなわち表示に寄与しな
い部分の光の漏れを防ぎ、見かけの上のコントラスト・
をｎめるためである。特にカラー化の場合は、コントラ
スト−表示色の彩度になるため、この遮光膜は画質向上
のための重要な手段となる。さらにスイッチング素子を
用いたアクティブ型表示装置の場合には、この遮光膜に
より不要の光を除去できるためスイッチング素子の光リ
ークを低減できる効果を有する。

従来、この遮光膜を形成する方法として次の２つが考案
されている。

第１の方法は印刷によるものであり、第８図（１）の如
くバターニングされた透明電極４を有づる基板２上に黒
色インキを印刷することにより遮光膜６を形成すること
ができる。

第２の方法は染色法によるものであり、カラーフィルタ
ーの形成に利用されている方法を応用したものである。

第８図（２）の如くパターニングされた透明型Ｋｉ４を
有する基板上にゼラチン等被染色性の感光性樹脂７を塗
布する（■）、次で透明電極のパターンに対応したフォ
トマスク８を用い露光する（◎）、次いで現像して透明
電極上のゼラチンを除去する（＠）、最後に黒色染料（
一般には複数の染料の混合）を用いてゼラチンを染色し
、遮光膜９を１ｑる（◎）。

〔本発明が解決しようとする問題点） 従来の遮光膜形成方法はそれぞれ次の問題点を有してい
る。

印刷法は、粗いパターンの場合は極めて簡便な方法とし
て優れているが、遮光膜の巾が１００ｕｌＲ以干になる
と均一な遮光帳形成が難しく、また印刷位買精度も悪い
。

一方染色法は、遮光膜の均一性が良く、また露光法を用
いるため位置精度も高い。しかし露光時にアライメント
の必要が有り、しかも透明電極との７ライメントになる
ため作業性が悪く、コストｕｐの大きな要因となってい
る。

本発明の目的は、微細なパターンにおいても遮光膜の均
一性、位置精度が高く、しかも複７！ｔ−な工程を排除
することにより、高画質で低コス１−の表示装置の製造
方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的のために、本発明はパターニングされた透明電
極上に金属メッキにより選択的に金属を析出させ、その
金属をフォトマスクとして使用した。その工程を第２図
に示す。

バターニングされた透明型…４を右づる基板２上に金属
メッキにより透明電極４上にのみ選択的に金属１０を析
出させる（■）。

次いで感光性の黒色樹脂または被染色ｔ！ｔ　ａ　指１
１を塗布する（■）。

次いで基板２の背面より露光する（■）。このとき金属
膜１０はフォトマスクの役目をなす。

次いで現像を行い、露光されなかった金属＋１Ｑ上の感
光性樹脂を除去するく■）、。

次いひ金属のみをエツチングする（［Ｆ］）。

なお、感光性樹脂に被染色性樹脂を用いた場合は、金属
エツチングの前あるいは後工程で染色を行う。

〔作用〕

上記％Ｉ造方法による遮光膜の形成は、透明電極上にの
み選択的に析出した金属をフォトマスクとして使用する
ため、位置精度が極めて高く、また露光時にアライメン
トが不要なため、簡便な露光装置でしかも容易に製造で
きる。従って高画質、ローコストの表示装置を提供する
ことが可能となる。

〔実施例１〕 次の工程により液晶表示装置を作製したく第２図参照）
。

■　透明基板２上にＩＴＯを蒸着し、表示パターンにエ
ツチングを行う（ａ）、。

■　上記基板を次の工程を通して、ＩＴＯ上にのみ無電
解メッキにより阻を析出させる。

■　上記基板に、フタロシアニン系顔料とアントラキノ
ン系顔料を分散させて黒色にしたネガ型感光性樹脂をバ
ーコーターにより塗布し、８０℃１０分ベーキングする
（■）。

■　上記基板を基板背面より露光する（■）。

■　上記基板を現ｍ液に浸漬し、未感光部すなわら限の
感光性樹脂を除去し、２０℃６０分ベーキングする（■
）。

■　上記基板を４０％）ＩＮ（）］中に浸漬し、限をエ
ツチングする（■）。

■　２枚の上記基板を透明電極パターンが直交するよう
に配して液晶を挟持し、液晶表示装置を作製する。

その結果、電圧が印加されない透明電極間からの光の漏
れがないため、高コントラストの表示装置が得られた。

〔実施例２〕 実施例１の製造工程において、感光性樹脂と１ノで被染
色性樹脂であるゼラチンを使用し、限エツチング後に黒
色染料で染色して液晶表示装置を作製したところ、実施
例１と同様の効果が得られた。

〔実施例３〕 実施例１において、遮光膜形成後透明電極上に高分子電
着法（特開昭５９−１１４．５７２　＞によりカラーフ
ィルタ一層を形成して第３図の如く多色液晶表示装置を
作製した。

その結果、遮光膜がない表示装置に比して彩度の高い表
示色が得られた。また従来の染色法によって形成した遮
光膜を用いた多色液晶表示装置と比べ同等の表示品質が
得られ、その製造工程は極めて簡便であった。

なお、カラーフィルターの製造方法は、印刷法染色法な
ど他の製造方法でも同様の効果が得られるが、製造工程
の簡便さ、精度の点から高分子電着法が適している。

〔実施例４〕 実施例１において、限エツヂング前に液晶表示装置の電
極端子部を除いた部分にレジストを塗布し、以下同工程
により第４図の液晶表示装置を作製した。この場合にｔ
ま、端子部にのみ化膜が残るため、実装信頼性が向上し
た。また、ハンダ付が可能になるためＴへＢ基数が使用
できるなど、実装方法の範囲が広がり、液晶表示ｐｉ　
ｉｆｆの用途に応じた実装方法の選択が可能となった。

〔実施例５〕 実施例４において、電極端子部のＩＴＯパターンをＩＣ
ｃｈｉｐが実装可能な形状にして、同様に液晶表示装ｄ
を作製した。

この場合には第５図の如く液晶パネル上にＩＣｃｈｉｐ
ｌ　２が実装可能となった。

〔実施例６〕 実施例４または５において、■エツチングＩＩ換＾Ｕメ
ッキ工程を通し、■上にのみＡｕを析出させた。この場
合には、阻単独よりさらに接続信頼性が向上した。

（実施例７〕 実施例３において、化エツチング前に表示用透明電極に
沿ってその一部にレジストを塗布し、以下同工程により
第６図の液晶表示装置を作製した。

この場合には、表示用透明電極４上に限１０が残るため
、特にカラー液晶表示装置のような透明電極パターン巾
が小さくて透明電極の抵抗値が問題になる場合には、い
わゆるメタル配線をしたＭＡ　ｉ７ｉになるため、表示
画質の低下を防ぐことができた。

〔実施例８〕 第７図の如く、実施例４によって作製した基板１に透明
電極４を仝而に製膜した基板１８と、スイッチ素子１６
とそれに接続した画素電極１５を有する基板１７を組み
合わせて液晶表示装置を作製し、基板１８側よりバック
照明させて表示を行った。

その結果、遮光膜かない場合と比べてスイッチング素Ｔ
の光リークが少い高画質の表示が得られた。また従来の
製造方法による遮光膜を用いた場合と比べ同等の表示品
質が（ｑられた。

なお、本発明は液晶のみでなく、ＥＬ、プラズマ、ＬＥ
Ｄ等、各種表示装置に適用することができる。

〔発明の効果〕

以上詳説した如く、本発明はパターニングされた透明電
極上に金属メッキにより選択的に金属を析出させ、その
金属をフォトマスクとして使用することにより透明電穫
間に遮光膜を形成した表示装置の製造方法である。従っ
て従来のようなアライメント露光等が不要なため、位置
精度の極めて高い遮光膜を形成することができ、高画質
の表示装置を提供することができる。またその製造工程
は複雑な装置を必要とぜず、極めて簡便なものであり、
遮光膜形成によるコスト上昇を抑えることが可能である
。さらにはパネル上へのＩｃチップ実装など、基板上に
メタライジングが必要な場合は、本発明の金属メッキに
よる金属をそのまま併用することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明するため表示装置の断面断面模式
図および斜視図を示す。また第９は従来の遮光膜製造方
法の模式図を示す。　ｃ１λ（→１・・・偏光板　　　
　　　２・・・透明基板２３．４・・・透明電極 ５．６，９．１５・・・遮光膜 ７・・・被染色性樹脂　　　８・・・フォトマスク１０
・・・金属、　　　　　１１・・・遮光性樹脂１２・・
・ＩＣチップ　　　１３・・・液晶、１４・・・カラー
フィルター １５・・・画素電極　　　１６・・・スイッチング素子
１７．１８・・・基板 出願人　　セイコー電子工業株式会社 代理人　　弁理士　　最　上　　　務　Ｓ１゛、″ （他１名）〜、 コ 液、Ｉ１１ヘホ挾置の繰式餌面図 第１図 ↑　！　↑　↑　↑　↑　↑ 先 本発明（こよる返先月健製遺方法項式ニオ對２第２図 □す 本発明にＪろ実犯別のＩｐＴ面イ叉八図へ３図 本宅ａ、１１１１１：よる大杷１ｒ層飼視図第４図 本ｆ：明１てよろ大絶伊ｊの糾視図 弔５図 本宅８月１−Ｊる大方色汐°１のｒ面１賞八図弔６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）２枚の透明電極基板のうち、少くとも一方がパター
   ニングされた透明電極とその透明電極間隙に遮光膜を有
   する基板であり、該基板間に電気光学材料を挟持してな
   る表示装置において、遮光膜が、 （１）パターニングされた透明電極上に金属メッキによ
   り選択的に金属を析出させる工程。 （２）感光性の遮光性樹脂を塗布する工程。 （３）基板の背面より露光する工程。 （４）現像工程。 （５）金属エッチング工程。 の製造工程により形成されることを特徴とする表示装置
   の製造方法。 ２）上記感光性の社交性遮光性感光性の被染色性樹脂で
   あり、現像工程後に染色工程を設けたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の表示装置の製造方法。 ３）上記遮光膜を形成した基板上に、少くとも２色以上
   のカラーフィルターを透明電極パターンに対応して設け
   たことを特徴とする特許請求の範囲第１または２項記載
   の表示装置の製造方法。 ４）上記金属エッチング工程において、少くとも表示電
   極端子部以外の金属をエッチングしたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１または２項記載の表示装置の製造方
   法。 ５）上記金属エッチング工程において、表示用透明電極
   に沿ってその一部を残して金属をエッチングしたことを
   特徴とする特許請求の範囲第１または２項記載の表示装
   置の製造方法。 ６）前記透明電極基板のうち少くとも一方がスイッチ素
   子または非線形素子を有していることを特徴とする特許
   請求の範囲第１または２項記載の表示装置の製造方法。