JPS63142842A - 垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの形式の回路モジユール - Google Patents
垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの形式の回路モジユールInfo
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- JPS63142842A JPS63142842A JP62297904A JP29790487A JPS63142842A JP S63142842 A JPS63142842 A JP S63142842A JP 62297904 A JP62297904 A JP 62297904A JP 29790487 A JP29790487 A JP 29790487A JP S63142842 A JPS63142842 A JP S63142842A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は特許請求の範囲の第1項の上位概念に示された
特殊な回路モジュール、即ち例えばセラミックから形成
される支持板を有する垂直に挿入されるシングル−イン
−ライン形式の特殊な回路モジュールに関する。
特殊な回路モジュール、即ち例えばセラミックから形成
される支持板を有する垂直に挿入されるシングル−イン
−ライン形式の特殊な回路モジュールに関する。
従来技術
この種の回路モジュールそれ自体は例えばヨーロツ・ぐ
特許保護法E−A2−48938号およびE−Bl−4
8938号ならびにドイツ連邦共和国特許出願第P36
05692.8号に示されている。
特許保護法E−A2−48938号およびE−Bl−4
8938号ならびにドイツ連邦共和国特許出願第P36
05692.8号に示されている。
これらの公知の回路モジュールの場合、例えばセラミッ
クから形成される支持体上の個々の個所が、即ち抵抗路
/抵抗面によりおおわれている個々の個所が、局所的に
高温に加熱されてしまう。この公知の従来の回路モジュ
ールの場合、支持体の一方の面に付加的に取り付けられ
た良好な熱伝導の金属の冷却面が、作動時に局所的に生
ずる損失熱を迅速に放散させて、支持体における局所的
な加熱を、支持体がもはやその熱により定められる内部
電圧にもとづいて破損されない程度に著しく低減するこ
とができる。
クから形成される支持体上の個々の個所が、即ち抵抗路
/抵抗面によりおおわれている個々の個所が、局所的に
高温に加熱されてしまう。この公知の従来の回路モジュ
ールの場合、支持体の一方の面に付加的に取り付けられ
た良好な熱伝導の金属の冷却面が、作動時に局所的に生
ずる損失熱を迅速に放散させて、支持体における局所的
な加熱を、支持体がもはやその熱により定められる内部
電圧にもとづいて破損されない程度に著しく低減するこ
とができる。
発明が解決しようとする問題点
へ次のように取υ付ける構成を提供することである。即
ち一方では支持体を即ち回路モソユールをこの回路モジ
ュールを使用する場合に特にスに一スが節約できるよう
に出来るだけ小型にできるようにし、他方では作動時に
著しく高い温度が一各抵抗路/抵抗面の下で局所的にも
一生じてもよいようにし、この場合−冷却を改善するた
めに一抵抗路/抵抗面の面積および支持体の面積をそれ
ほど増加する必要のiい、かつ付加的な補強構成または
冷却構成を設ける必要のない、即ち例えば金属の冷却板
を付加的に取り付ける必要のなく、かつそれにもかかわ
らず製造コストができるだけわずかですむ構成を提供す
ることである。
ち一方では支持体を即ち回路モソユールをこの回路モジ
ュールを使用する場合に特にスに一スが節約できるよう
に出来るだけ小型にできるようにし、他方では作動時に
著しく高い温度が一各抵抗路/抵抗面の下で局所的にも
一生じてもよいようにし、この場合−冷却を改善するた
めに一抵抗路/抵抗面の面積および支持体の面積をそれ
ほど増加する必要のiい、かつ付加的な補強構成または
冷却構成を設ける必要のない、即ち例えば金属の冷却板
を付加的に取り付ける必要のなく、かつそれにもかかわ
らず製造コストができるだけわずかですむ構成を提供す
ることである。
しかし本発明は、やむを得ない場合は冷却板も付加的に
取り付けられるように構成する。
取り付けられるように構成する。
問題点を解決するための手段
この種の寸法の著しく小さいかつ特に高熱に耐見られる
回路モジュールは、本発明により特許請求の範囲第1項
の特徴部分に示された構成により提供される。即ち支持
体を有する垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの
形式の回路モジュールであって、この場合たとえばセラ
ミックから形成されるこの支持体は次の各部材を支持す
るようにし、即ち支持体は −支持体面において設けられ支持体様部に沿ってシング
ル−イン−ラインの形式で取り付けられる金属ピンの列
を外部電気端子として支持するようKし、さらに支持体
は 一厚膜技術および/または薄模技術により形成される1
つまたは複数個のオーム抵抗路/抵抗面を支持するよう
にし、この場合、抵抗路/抵抗面の各第1領域の方がこ
の抵抗路/抵抗面の第2領域よりもそれぞれ支持体縁部
の金属ピンの近くに設けられるようにし、さらに支持体
は一抵抗路/抵抗面の端子への線路を支持するようにし
、この場合、前記の線路は例えば同じ支持体上に取り付
けられた抵抗路/抵抗面の間にプリントされる線路およ
び/または金属ピン用の接触面と抵抗路/抵抗面のプリ
ントされた端子との間にプリントされる線路として構成
され、場合により付加的に設けられる電気部品たとえば
溶融ヒユーズへの線路および例えば中継装置の電話交換
機接続線路の給電低抗用のコンrンデンサへの線路とす
ることもできるようにした、垂直に挿入されるシングル
−イン−ラインの形式の回路モジュールにおいて、 一金属ピンの近傍に設けられる第1領域を、作動時に該
第1領域が第2領域よりも多量の単位面積当りの例えば
1 x!当りの損失熱エネルギを放出するように構成し
、 −さらに抵抗路/抵抗面への線路の端子をそれぞれ、作
動時に電流が第1領域から第2領域へまたはその逆の方
間へ流れるように、取り付けたのである。
回路モジュールは、本発明により特許請求の範囲第1項
の特徴部分に示された構成により提供される。即ち支持
体を有する垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの
形式の回路モジュールであって、この場合たとえばセラ
ミックから形成されるこの支持体は次の各部材を支持す
るようにし、即ち支持体は −支持体面において設けられ支持体様部に沿ってシング
ル−イン−ラインの形式で取り付けられる金属ピンの列
を外部電気端子として支持するようKし、さらに支持体
は 一厚膜技術および/または薄模技術により形成される1
つまたは複数個のオーム抵抗路/抵抗面を支持するよう
にし、この場合、抵抗路/抵抗面の各第1領域の方がこ
の抵抗路/抵抗面の第2領域よりもそれぞれ支持体縁部
の金属ピンの近くに設けられるようにし、さらに支持体
は一抵抗路/抵抗面の端子への線路を支持するようにし
、この場合、前記の線路は例えば同じ支持体上に取り付
けられた抵抗路/抵抗面の間にプリントされる線路およ
び/または金属ピン用の接触面と抵抗路/抵抗面のプリ
ントされた端子との間にプリントされる線路として構成
され、場合により付加的に設けられる電気部品たとえば
溶融ヒユーズへの線路および例えば中継装置の電話交換
機接続線路の給電低抗用のコンrンデンサへの線路とす
ることもできるようにした、垂直に挿入されるシングル
−イン−ラインの形式の回路モジュールにおいて、 一金属ピンの近傍に設けられる第1領域を、作動時に該
第1領域が第2領域よりも多量の単位面積当りの例えば
1 x!当りの損失熱エネルギを放出するように構成し
、 −さらに抵抗路/抵抗面への線路の端子をそれぞれ、作
動時に電流が第1領域から第2領域へまたはその逆の方
間へ流れるように、取り付けたのである。
本発明の構成により次の効果が示される。即ち抵抗路/
抵抗面の第1領域に生ずる損失熱は冷却空気を介してで
はなく、大部分が金属ピンも介してさらに回路モジュー
ルの挿入される担体板/有孔板を介して放熱される。ま
ず想像されるかもしれないが次のことではないことが多
い、即ち回路モジュールに作動時に生ずる損失熱は大部
分が冷却空気だけを介して放熱されるのではないという
こと、即ち局所的に異なる空気抵抗のため冷却空気がよ
り大きい冷却空気流速度でもって抵抗路/抵抗面の第2
領域の方を、この抵抗路/抵抗面の下側の11領域より
も良好に冷却するのではないということである。実際に
冷却空気は第2領域の方を第1領域よりも一層良好に冷
却するにもかかわらず、第1領域は、これが金属ピンの
設けられる支持体縁部の十分に近傍に取り付けられてい
る時は、作動時に十分に付加的に、この金属ピンを介し
ての即ち担体板を介しての放熱により冷却される。その
上さらに示された効果として、金属ピンの近傍に支持体
に取シ付けられる、抵抗路/抵抗面の第1領域は、この
抵抗路/抵抗面の第2領域よりもより高い損失熱エネル
ギを有してもよいことさえも示される。しかもこの場合
、第1領域の下で支持体における局所的な危険な過熱を
生ぜさせることがない。
抵抗面の第1領域に生ずる損失熱は冷却空気を介してで
はなく、大部分が金属ピンも介してさらに回路モジュー
ルの挿入される担体板/有孔板を介して放熱される。ま
ず想像されるかもしれないが次のことではないことが多
い、即ち回路モジュールに作動時に生ずる損失熱は大部
分が冷却空気だけを介して放熱されるのではないという
こと、即ち局所的に異なる空気抵抗のため冷却空気がよ
り大きい冷却空気流速度でもって抵抗路/抵抗面の第2
領域の方を、この抵抗路/抵抗面の下側の11領域より
も良好に冷却するのではないということである。実際に
冷却空気は第2領域の方を第1領域よりも一層良好に冷
却するにもかかわらず、第1領域は、これが金属ピンの
設けられる支持体縁部の十分に近傍に取り付けられてい
る時は、作動時に十分に付加的に、この金属ピンを介し
ての即ち担体板を介しての放熱により冷却される。その
上さらに示された効果として、金属ピンの近傍に支持体
に取シ付けられる、抵抗路/抵抗面の第1領域は、この
抵抗路/抵抗面の第2領域よりもより高い損失熱エネル
ギを有してもよいことさえも示される。しかもこの場合
、第1領域の下で支持体における局所的な危険な過熱を
生ぜさせることがない。
従属請求項に示された付加的な構成が、それ自体または
共通に著しく簡単な構成を即ち当該の抵抗路/抵抗面の
著しく簡単な製造を可能とする。すなわち特許請求の範
囲第2項の構成が著しくわずかな製造費用を次のように
して可能にする、即ち抵抗路/抵抗面の形を、当該の抵
抗路/抵抗面が本発明によp値が選定されることにより
、ならびに特許請求の範囲第3項に示れる。
共通に著しく簡単な構成を即ち当該の抵抗路/抵抗面の
著しく簡単な製造を可能とする。すなわち特許請求の範
囲第2項の構成が著しくわずかな製造費用を次のように
して可能にする、即ち抵抗路/抵抗面の形を、当該の抵
抗路/抵抗面が本発明によp値が選定されることにより
、ならびに特許請求の範囲第3項に示れる。
実施例の説明
次に本発明を4つの図面に示された実施例を用いて説明
する。
する。
本発明は特に抵抗面を有する次の回路モジュールのため
に開発された。即ちディノタル電話交換装置(EWSD
)の加入者線路における給電抵抗として使用され、さ
らに特別な場合はさらに付加的な電気部品たとえばコン
デンサおよび/または溶融ヒユーズも支持できる回路モ
ジュールとして開発された。この種の回路モジュールは
ここに著しく多くの数で例えば100,000個で密集
して架の中に収容されており、そのためそれらの冷却が
特別に、高温の夏の気候& の場合に高い交換機能を有する時代において、重大な問
題を形成する。しかし本発明はこの種の交換装置にでは
なく例えば給電装置に取シ付けられる回路モジュールに
も適している。
に開発された。即ちディノタル電話交換装置(EWSD
)の加入者線路における給電抵抗として使用され、さ
らに特別な場合はさらに付加的な電気部品たとえばコン
デンサおよび/または溶融ヒユーズも支持できる回路モ
ジュールとして開発された。この種の回路モジュールは
ここに著しく多くの数で例えば100,000個で密集
して架の中に収容されており、そのためそれらの冷却が
特別に、高温の夏の気候& の場合に高い交換機能を有する時代において、重大な問
題を形成する。しかし本発明はこの種の交換装置にでは
なく例えば給電装置に取シ付けられる回路モジュールに
も適している。
抵抗路/抵抗面は本発明の場合も厚膜−まだは薄膜技術
により製造できる。そのため本発明は特別の製造技術だ
けに制限されるものではない。
により製造できる。そのため本発明は特別の製造技術だ
けに制限されるものではない。
第1図〜第4図に、例えばセラミックから成る支持体T
の実施例が示されている。第1図および第2図に示され
ている支持体は、支持体の面において存在し支持体縁部
TMに沿って取り付けられる、外部電気端子としての金
属eンMの列を支持する。さらにこの支持体Tは線路り
を支持する。この線路りは例えば導電性の接触面LA−
第3図および第牛図−を介して抵抗路/抵抗面と金属ピ
ンMとの接続−第1図および第2図−を形成し、および
/またはこの線路りは例えば、同じ支持体Tの上に取り
付けられている異なる抵抗路/抵抗面H1/H2の間の
電気接続を形成する。
の実施例が示されている。第1図および第2図に示され
ている支持体は、支持体の面において存在し支持体縁部
TMに沿って取り付けられる、外部電気端子としての金
属eンMの列を支持する。さらにこの支持体Tは線路り
を支持する。この線路りは例えば導電性の接触面LA−
第3図および第牛図−を介して抵抗路/抵抗面と金属ピ
ンMとの接続−第1図および第2図−を形成し、および
/またはこの線路りは例えば、同じ支持体Tの上に取り
付けられている異なる抵抗路/抵抗面H1/H2の間の
電気接続を形成する。
この支持体Tはさらに1つまたは2つ以上の抵抗路/抵
抗面H1/H2を支持する。これらの抵抗路/抵抗面の
各々は、それぞれ2つの領域から即ち第1領域H1およ
び第2領域H2から形成される。この場合、第1領域H
1は支持体縁部TMの近傍において金属ピンMのごく近
くに設けられ、第2領域H2は前記の金属ピンMから一
層大きい間隔を有する個所に設けられる。その大約第1
領域H1は第2領域H2と導電接続されている;通常は
第1領域H1は幅が広くさらに連続的に第2領域H2へ
移行する。
抗面H1/H2を支持する。これらの抵抗路/抵抗面の
各々は、それぞれ2つの領域から即ち第1領域H1およ
び第2領域H2から形成される。この場合、第1領域H
1は支持体縁部TMの近傍において金属ピンMのごく近
くに設けられ、第2領域H2は前記の金属ピンMから一
層大きい間隔を有する個所に設けられる。その大約第1
領域H1は第2領域H2と導電接続されている;通常は
第1領域H1は幅が広くさらに連続的に第2領域H2へ
移行する。
この場合、第1領域H1が第2領域H2と異なる点は、
特に電気−および熱!−を導ひく金属ピンMへ近いかま
たは遠いかより区別されることである。
特に電気−および熱!−を導ひく金属ピンMへ近いかま
たは遠いかより区別されることである。
支持体Tは、これが通常の著しく良好な熱伝導性セラミ
ックから形成される時は、この支持体が抵抗路/抵抗面
によりおおわれている各個所−第1図および第2図−で
、局所的に高温に加熱されてしまう。そのため支持体T
により局所的に消費される損失熱が支持体下の上を拡が
υる。そしてこの損失熱は一第2図−一部は有利にはフ
ァンを用いて送風される冷却空気KLにより直接搬送除
去されるが、しかし一部は第1領域H1の近傍に設けら
れている金属ピンMを介してもおよびさらに貫通孔りを
介してもおよび担体板/有孔板LPを介しても、熱伝導
により搬送除去される。
ックから形成される時は、この支持体が抵抗路/抵抗面
によりおおわれている各個所−第1図および第2図−で
、局所的に高温に加熱されてしまう。そのため支持体T
により局所的に消費される損失熱が支持体下の上を拡が
υる。そしてこの損失熱は一第2図−一部は有利にはフ
ァンを用いて送風される冷却空気KLにより直接搬送除
去されるが、しかし一部は第1領域H1の近傍に設けら
れている金属ピンMを介してもおよびさらに貫通孔りを
介してもおよび担体板/有孔板LPを介しても、熱伝導
により搬送除去される。
しかし支持体Tの熱伝導作用には限界がありかつ完全に
は良好でないため、抵抗路/抵抗面は支持体領域におい
て領域H1およびH2の下で多かれ少なかれそれぞれ局
所的な著しい加熱(加熱点)を生ぜさせる。この場合そ
の温度は、特別な防止手段を設けない時は、部分的には
例えば125 ”Cの許容の膜温度を上回わることもあ
る。この局所的な過熱を回避するために、従来は公知技
術では例えばアルミニウム冷却板がこの回路モジュール
に接着された。例えばアルミニウムはセラミック支持体
よりも10倍も良好な熱伝導機能を有するため、有利な
熱放散が達せられる、即ち支持体Tの各個所の温度差が
わずかになる。これにより局所的な温度の低下も、支持
体領域において抵抗路/抵抗面の下で達せられる。しか
しこのアルミニウム板の支持体における取り付けは、特
に過酷な作動条件の下での使用の場合たとえば前述の交
換装置の場合は、時には重大な問題を°生ぜさせる。例
えば前述のドイツ連邦共和国特許出願公報第P3605
692、8号(VPA86P 1073DE)に記載の
前述の交換装置の場合は、細心の注意力を払うことによ
ってのみ、前記の取り付けを行なうことができる。
は良好でないため、抵抗路/抵抗面は支持体領域におい
て領域H1およびH2の下で多かれ少なかれそれぞれ局
所的な著しい加熱(加熱点)を生ぜさせる。この場合そ
の温度は、特別な防止手段を設けない時は、部分的には
例えば125 ”Cの許容の膜温度を上回わることもあ
る。この局所的な過熱を回避するために、従来は公知技
術では例えばアルミニウム冷却板がこの回路モジュール
に接着された。例えばアルミニウムはセラミック支持体
よりも10倍も良好な熱伝導機能を有するため、有利な
熱放散が達せられる、即ち支持体Tの各個所の温度差が
わずかになる。これにより局所的な温度の低下も、支持
体領域において抵抗路/抵抗面の下で達せられる。しか
しこのアルミニウム板の支持体における取り付けは、特
に過酷な作動条件の下での使用の場合たとえば前述の交
換装置の場合は、時には重大な問題を°生ぜさせる。例
えば前述のドイツ連邦共和国特許出願公報第P3605
692、8号(VPA86P 1073DE)に記載の
前述の交換装置の場合は、細心の注意力を払うことによ
ってのみ、前記の取り付けを行なうことができる。
しかし次のような新規の別の方法が求められた。即ち一
公知の/前述の構成になるべくそのまま付加できるよう
に一回路モジュールの小さい寸法にもかかわらずかつ困
難な冷却条件にもかかわらず、この回路モジュールに最
高の熱負荷を許容できるようにするため、選定できる方
法が求められた。しかもこの場合、回路モジュールの製
造は、大量生産においても、異常な位の大きい注意力な
しに即ち特別な困難なしに可能でなければならない。
公知の/前述の構成になるべくそのまま付加できるよう
に一回路モジュールの小さい寸法にもかかわらずかつ困
難な冷却条件にもかかわらず、この回路モジュールに最
高の熱負荷を許容できるようにするため、選定できる方
法が求められた。しかもこの場合、回路モジュールの製
造は、大量生産においても、異常な位の大きい注意力な
しに即ち特別な困難なしに可能でなければならない。
本発明の場合は抵抗路/抵抗膜の最適の配置および寸法
選定が、支持体Tの上で例えばセラミック支持体Tの上
で、定められている。これにより支持体Tの局所的な加
飢が、付加的外アルミニウム板の取り付けを何ら行なわ
iくても、比較的中程度におさえることが可能となる。
選定が、支持体Tの上で例えばセラミック支持体Tの上
で、定められている。これにより支持体Tの局所的な加
飢が、付加的外アルミニウム板の取り付けを何ら行なわ
iくても、比較的中程度におさえることが可能となる。
第1Nおよび第2図に示されているンノグルーインーラ
インーW1図および第2スー用いてかなり多量の付加的
な放熱を、担体板/シリノド板LPの方向へ金属ピンM
を介して行なえるようになる。そのため本発明によれば
一支持体Tの上での温度分布の均一性の改善のだめ)で
−金属ピンMの近傍の第1領域H1での損失熱エネルギ
が、単位面積(例えばzm2)に関して、この金属ピン
Mからは離れている第2領域H2における損失熱エネル
ギよりも、一層高い値1で許容される。
インーW1図および第2スー用いてかなり多量の付加的
な放熱を、担体板/シリノド板LPの方向へ金属ピンM
を介して行なえるようになる。そのため本発明によれば
一支持体Tの上での温度分布の均一性の改善のだめ)で
−金属ピンMの近傍の第1領域H1での損失熱エネルギ
が、単位面積(例えばzm2)に関して、この金属ピン
Mからは離れている第2領域H2における損失熱エネル
ギよりも、一層高い値1で許容される。
本発明によれば支持体Tは技術思想的に少くとも2つの
領域に分割される。このことを図面に分離線A−Aで示
す。この場合、金属ピンMと線A−Aとの間に設けられ
ている一方の即ち第1領域は、線A−Aより上の、金属
ピンMからは離れている方のもう一方の支持領域よりも
一層高い損失熱エネルギを有する。そのため本発明の場
合は抵抗路/抵抗膜H1/H2もこの線A−Aにより2
つの領域に分割される。即ち第1領域H1と第2領域へ
分割される。この場合この第1領域の損失熱エネルギは
一部は直接に冷却空気KLにより放熱されるが、しかし
大部分は金属ピンMを介してさらにプリント板/有孔板
PLを介しての熱案内により放熱される。
領域に分割される。このことを図面に分離線A−Aで示
す。この場合、金属ピンMと線A−Aとの間に設けられ
ている一方の即ち第1領域は、線A−Aより上の、金属
ピンMからは離れている方のもう一方の支持領域よりも
一層高い損失熱エネルギを有する。そのため本発明の場
合は抵抗路/抵抗膜H1/H2もこの線A−Aにより2
つの領域に分割される。即ち第1領域H1と第2領域へ
分割される。この場合この第1領域の損失熱エネルギは
一部は直接に冷却空気KLにより放熱されるが、しかし
大部分は金属ピンMを介してさらにプリント板/有孔板
PLを介しての熱案内により放熱される。
他方、第2領域H2の損失熱エネルギは大部分が冷却空
気KLによってのみ放熱される。このことは第2図に示
されている。
気KLによってのみ放熱される。このことは第2図に示
されている。
このように値の選定される損失熱エネルギを著しく小さ
い回路モジュールにおいて許容できるようにするために
、例えば第1領域H1のオーム固有抵抗が第2領域H2
のオーム固有抵抗とは異なるようKされる。これらの固
有抵抗はこれらの領域から放出される損失熱エネルギに
比例する。これにより次のことが可能になる、即ち第1
図〜第蛋図に示されているよって第1領域H1において
即ち線A−Aと放熱用の金属ピンMとの間の支持体Tの
、Hlの下側の第1領域における熱損失エネルギによる
負荷を、支持体Tのもう一方の、線A−Aの上側の第2
領域における熱損失エネルギによる負荷よりも一層大き
く許容できる。
い回路モジュールにおいて許容できるようにするために
、例えば第1領域H1のオーム固有抵抗が第2領域H2
のオーム固有抵抗とは異なるようKされる。これらの固
有抵抗はこれらの領域から放出される損失熱エネルギに
比例する。これにより次のことが可能になる、即ち第1
図〜第蛋図に示されているよって第1領域H1において
即ち線A−Aと放熱用の金属ピンMとの間の支持体Tの
、Hlの下側の第1領域における熱損失エネルギによる
負荷を、支持体Tのもう一方の、線A−Aの上側の第2
領域における熱損失エネルギによる負荷よりも一層大き
く許容できる。
領域H1における固有抵抗を領域H2における固有抵抗
よりも、例えば次のようにして高くすることができる。
よりも、例えば次のようにして高くすることができる。
即ち領域H1において抵抗路/抵抗面の幅−第2図およ
び第3図−および/または厚さ一層4図−を、それぞれ
電流方向に垂直に測定して、第2領域H2におけるこれ
らの抵抗路/抵抗面の相応の幅ないし相応の厚さよりも
小さくすることにより、高いオーム抵抗に構成できる。
び第3図−および/または厚さ一層4図−を、それぞれ
電流方向に垂直に測定して、第2領域H2におけるこれ
らの抵抗路/抵抗面の相応の幅ないし相応の厚さよりも
小さくすることにより、高いオーム抵抗に構成できる。
この場合、本発明により著しく高いオーム抵抗の領域面
H1が、電気的−および熱的に!−良導体の金属ピンM
にできるだけその近傍に取り付けられる。
H1が、電気的−および熱的に!−良導体の金属ピンM
にできるだけその近傍に取り付けられる。
本発明の場合、このように値の選定された抵抗路/抵抗
面H1/H2は、唯1つだけではなく同時に複数個が唯
1つの支持体Tの上に取り付けられる一層2図−8 第4図に示されている実施例のように、領域面H1およ
びH2の厚さを、支持体面に垂直に測定して、異なる値
に形成したい時はこのことを例えば次のようにして行な
う。即ち厚膜−スクリーンプリント技術を使用する場合
は、厚い方の領域面H2を膜抵抗イーストディスクを複
数回プリントするより製造し、この場合それぞれ次の上
側のイースト膜を、その下側のR−スト膜が十分に乾燥
/硬化してからはじめてプリントとすることにより行な
える。薄膜−蒸着−または−ス・2ツタリング技術の使
用の場合は、厚い方の領域面H2を、第1領域H1を保
護する相応のマスクを用いて、抵抗膜を一層長い時間の
間または蒸着/ス・卆ツタリングを複数回行なうことに
より製造するようにして、行なわれる。
面H1/H2は、唯1つだけではなく同時に複数個が唯
1つの支持体Tの上に取り付けられる一層2図−8 第4図に示されている実施例のように、領域面H1およ
びH2の厚さを、支持体面に垂直に測定して、異なる値
に形成したい時はこのことを例えば次のようにして行な
う。即ち厚膜−スクリーンプリント技術を使用する場合
は、厚い方の領域面H2を膜抵抗イーストディスクを複
数回プリントするより製造し、この場合それぞれ次の上
側のイースト膜を、その下側のR−スト膜が十分に乾燥
/硬化してからはじめてプリントとすることにより行な
える。薄膜−蒸着−または−ス・2ツタリング技術の使
用の場合は、厚い方の領域面H2を、第1領域H1を保
護する相応のマスクを用いて、抵抗膜を一層長い時間の
間または蒸着/ス・卆ツタリングを複数回行なうことに
より製造するようにして、行なわれる。
オーム抵抗のそれぞれ所望の値の正確な設定調整のため
に、第3図に示されているように、焦束されたレーザ光
線を用いて公知のように低部 抗路/抵抗面の区間を一部分またはでを分難する。抵抗
路/抵抗膜のそれぞれ所定の抵抗値の移動させる一層2
図も参照のこと−0この場合、第3図および第2図1(
示されているように第1領域%H1においてレーザ光線
の走行路を例えばHlの縁の個所から開始させる時は、
さらにこのレーザ加工により、との乗1領域H1の固有
抵抗が第2領域H2の固有抵抗よりも本発明のように高
くされる。同様に、第3図において形成される抵抗路/
抵抗面H1/H2とは異なる抵抗値も、レーザ光線によ
り設定調整できる。
に、第3図に示されているように、焦束されたレーザ光
線を用いて公知のように低部 抗路/抵抗面の区間を一部分またはでを分難する。抵抗
路/抵抗膜のそれぞれ所定の抵抗値の移動させる一層2
図も参照のこと−0この場合、第3図および第2図1(
示されているように第1領域%H1においてレーザ光線
の走行路を例えばHlの縁の個所から開始させる時は、
さらにこのレーザ加工により、との乗1領域H1の固有
抵抗が第2領域H2の固有抵抗よりも本発明のように高
くされる。同様に、第3図において形成される抵抗路/
抵抗面H1/H2とは異なる抵抗値も、レーザ光線によ
り設定調整できる。
即ち第4図に示されている抵抗路/抵抗面H1/H2も
次のようにして同様に設定調整できる、即ちレーザ光線
走行路をそれぞれ第1領域H1において縁の個所から開
始し、これによりここでもこの第1領域H1の本発明に
よる値選定が要求されるようにして設定調整される。
次のようにして同様に設定調整できる、即ちレーザ光線
走行路をそれぞれ第1領域H1において縁の個所から開
始し、これによりここでもこの第1領域H1の本発明に
よる値選定が要求されるようにして設定調整される。
発明の効果
本発明により、放熱効果の改善された作動時に高い温度
を許容できる、したがって製造コストの低い寸法の小さ
い回路モジュールが提供される。
を許容できる、したがって製造コストの低い寸法の小さ
い回路モジュールが提供される。
第1図および第2図は本発明により構成される回路モ・
ジュールの実施例の断面図およびこの断面に垂直な側面
図、第3図は特許請求の範囲第2項に示された抵抗路/
抵抗面の値選定に対する実施例の部分平面図、第4図は
特許請求の範囲第3項に示された抵抗路/抵抗面の値選
定に対する実施例の部分断面図を示す。 A−A・・・線、D・・・貫通孔、Hl・・・抵抗路/
抵抗面の第1領域、H2・・・抵抗路/抵抗面の第2領
域、KL ・冷却空気、L・・・導線、LA・・・端子
、LP・・・担体板/有孔板、M・・・金属ピン、T・
・・支持体、TM・支持体縁部。 IG 2 IG 3 IG4
ジュールの実施例の断面図およびこの断面に垂直な側面
図、第3図は特許請求の範囲第2項に示された抵抗路/
抵抗面の値選定に対する実施例の部分平面図、第4図は
特許請求の範囲第3項に示された抵抗路/抵抗面の値選
定に対する実施例の部分断面図を示す。 A−A・・・線、D・・・貫通孔、Hl・・・抵抗路/
抵抗面の第1領域、H2・・・抵抗路/抵抗面の第2領
域、KL ・冷却空気、L・・・導線、LA・・・端子
、LP・・・担体板/有孔板、M・・・金属ピン、T・
・・支持体、TM・支持体縁部。 IG 2 IG 3 IG4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、支持体(T)を有する垂直に挿入されるシングル−
イン−ラインの形式の回路モジュールであつて、この場
合この支持体(T)は次の各部材を支持するようにし、
即ち支持体は−支持体平面に設けられかつ支持体縁部(
TM)に沿つてシングル−イン−ラインの形式で取り付
けられる金属ピン(M)の列を外部電気端子として支持
するようにし、さらに支持体は 厚膜技術および/または薄膜技術により形成される1つ
または複数個のオーム抵抗路/抵抗面(H1/H2)を
支持するようにし、この場合、抵抗路/抵抗面(H1/
H2)の各第1領域(H1)の方がこの抵抗路/抵抗面
(H1/H2)の第2領域(H2)よりもそれぞれ支持
棒縁部(TM)の金属ピン(M)の近くに設けられるよ
うにし、さらに支持体は −抵抗路/抵抗面(H1/H2)の端子(LA)への線
路(L)を支持するようにした、支持体(T)を有する
垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの形式の回路
モジュールにおいて、 −金属ピン(M)の近傍に設けられる第1領域(H1)
を、作動時に該第1領域が第2領域(H2)よりも多量
の単位面積当りの損失熱エネルギを放出するように構成
し、 −さらに抵抗路/抵抗面(H1/H2)への線路(L)
の端子(LA)をそれぞれ、作動時に電流が第1領域(
H1)から第2領域(H2)へまたはその逆の方向へ流
れるように、取り付けたことを特徴とする垂直に挿入さ
れるシングル−イン−ラインの形式の回路モジュール。 2、第1領域(H1)の膜の幅を即ち第1領域のコンダ
クタンスを、第2領域(H2)の膜の幅よりもすなわち
第2領域のコンダクタンスよりも小さい値にした特許請
求の範囲第1項に記載の回路モジュール。 3、第1領域(H1)の膜の厚さをすなわち第1領域(
H1)のコンダクタンスを、第2領域(H2)の膜の厚
さよりも即ち第2領域のコンダクタンスよりも小さい値
にした特許請求の範囲第1項または第2項に記載の回路
モジュール。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3640694 | 1986-11-28 | ||
DE3640694.5 | 1986-11-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63142842A true JPS63142842A (ja) | 1988-06-15 |
Family
ID=6315002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62297904A Pending JPS63142842A (ja) | 1986-11-28 | 1987-11-27 | 垂直に挿入されるシングル−イン−ラインの形式の回路モジユール |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4801916A (ja) |
EP (1) | EP0268935B1 (ja) |
JP (1) | JPS63142842A (ja) |
KR (1) | KR880006967A (ja) |
AT (1) | ATE70661T1 (ja) |
BR (1) | BR8706423A (ja) |
DE (1) | DE3775349D1 (ja) |
DK (1) | DK168778B1 (ja) |
FI (1) | FI875254A (ja) |
GR (1) | GR3003994T3 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10889522B2 (en) | 2016-09-02 | 2021-01-12 | Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation | Wollastonite crystallized glass for artificial tooth and method for coloring same |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR910008832A (ko) * | 1989-10-20 | 1991-05-31 | 다니이 아끼오 | 면실장형 네트워어크 전자부품 |
JPH03291869A (ja) * | 1990-04-09 | 1991-12-24 | Hitachi Ltd | 電子装置 |
US5039851A (en) * | 1990-05-23 | 1991-08-13 | Galileo Electro-Optics Corporation | Plug in detector module |
DE102018101792B4 (de) * | 2018-01-26 | 2021-03-25 | Harting Electric Gmbh & Co. Kg | Leiterkartenverbinder und dazugehörige Leiterkartenanordnung zur Übertragung hoher Stromstärken |
Citations (1)
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---|---|---|---|---|
JPS5844561U (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-25 | 篠塚 正男 | 直結式自動変速装置 |
Family Cites Families (8)
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US2978664A (en) * | 1958-11-05 | 1961-04-04 | Texas Instruments Inc | Resistive element |
DE1245458B (de) * | 1966-04-27 | 1967-07-27 | Telefunken Patent | Integrierte Schaltung, deren Traegerplaettchen gut waermeleitfaehig ist |
US4118112A (en) * | 1976-12-03 | 1978-10-03 | Xerox Corporation | Method for reducing power dissipation in tapered resistor devices |
DE2655841C3 (de) * | 1976-12-09 | 1981-11-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Integrierter Widerstandsbaustein zum Einlöten in eine Flachbaugruppe |
DE3031912A1 (de) * | 1980-08-23 | 1982-04-01 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Anordnung zur potentialunabhaengigen waermeabfuehrung |
LU83439A1 (de) * | 1980-09-25 | 1981-10-29 | Siemens Ag | Gehaeuseloses,senkrecht steckbares single-in-line-schaltungsmodul |
DE3605692A1 (de) * | 1986-02-21 | 1986-11-06 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Temperaturaenderungen ausgesetzte anordnung |
-
1987
- 1987-11-11 AT AT87116665T patent/ATE70661T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-11-11 EP EP87116665A patent/EP0268935B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-11 DE DE8787116665T patent/DE3775349D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-11-16 US US07/121,007 patent/US4801916A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-11-27 BR BR8706423A patent/BR8706423A/pt not_active IP Right Cessation
- 1987-11-27 JP JP62297904A patent/JPS63142842A/ja active Pending
- 1987-11-27 DK DK625387A patent/DK168778B1/da active
- 1987-11-27 KR KR870013393A patent/KR880006967A/ko not_active Application Discontinuation
- 1987-11-27 FI FI875254A patent/FI875254A/fi not_active IP Right Cessation
-
1992
- 1992-03-11 GR GR910401859T patent/GR3003994T3/el unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844561U (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-25 | 篠塚 正男 | 直結式自動変速装置 |
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US10889522B2 (en) | 2016-09-02 | 2021-01-12 | Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation | Wollastonite crystallized glass for artificial tooth and method for coloring same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8706423A (pt) | 1988-07-12 |
FI875254A (fi) | 1988-05-29 |
DK625387D0 (da) | 1987-11-27 |
US4801916A (en) | 1989-01-31 |
DK625387A (da) | 1988-05-29 |
EP0268935B1 (de) | 1991-12-18 |
DK168778B1 (da) | 1994-06-06 |
GR3003994T3 (ja) | 1993-03-16 |
KR880006967A (ko) | 1988-07-25 |
FI875254A0 (fi) | 1987-11-27 |
EP0268935A1 (de) | 1988-06-01 |
ATE70661T1 (de) | 1992-01-15 |
DE3775349D1 (de) | 1992-01-30 |
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