JPS63142524A - スライダ支持機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 駆動アーム先端の支持ブロックに可撓膜の外周を気密に
取り付け、該可撓膜の中央にスライダを取り付け、該支
持ブロックと可撓膜との間に圧縮空気を給排し可撓膜を
膨らますことで、スライダの動きを柔軟にし、かつ押圧
力を自由に調整可能とする。

〔産業上の利用分野〕

磁気ディスク装置は、高速回転する磁気ディスク面に磁
気ヘッドで情報を記録／再生することにより、ランダム
に情報を記録／再生できる。本発明は、このような磁気
ディスク装置の製造過程で、磁気ディスク面の処理に使
用されるスライダの支持機構に関する。

〔磁気ディスク装置の概要〕

第４図は本発明装置で磁気ディスクの処理が行なわれる
磁気ディスク装置を示す縦断面図である。

１・・・は磁気ディスクで、スピンドル２に固定されて
いる。各磁気ディスクの表面の記録面にデータを記録／
再生するための磁気ヘッド３は、ジンバルを介してヘッ
ド・アーム４の先端に支持されており、該ヘッド・アー
ム４が積層されてなるキャリッジ１０が回転軸５を中ｒ
Ｃ，−にして、モータ６で回転駆動されることにより、
磁気ヘッド３が磁気ディスク１の所定のトラックにシー
クされる。スピンドル２はモータ７と連結され、該モー
タ７で磁気ディスクト・・が回転される。そして密閉型
の固定磁気ディスク装置においては、磁気ディスクト・
・、磁気ヘッド３・・・および磁気ヘッドを駆動するヘ
ッド・アーム４等の駆動部は、ベース８およびケーシン
グ９で密閉された室ｌｌ中に内臓される。

〔磁気ディスク装置の製造工程〕

このように複数枚の磁気ディスクがスピンドルに取り付
けられて成る磁気ディスク装置を製造する際に、磁気デ
ィスク単板であるいは各磁気ディスクト・・をスピンド
ルに実装後、磁気ディスク面に付着している塵埃や突起
を除去するために、磁気ディスク面のバーニッシュが行
なわれる。

第５図はこのようなバーニッシュ工程を含む磁気ディス
ク装置製造方法を示す工程図である。１２は磁気ディス
ク単板の製造工程であり、これを詳述すると、まず工程
１３で、アルミニウムなどの円板に磁性塗料を塗布し、
次の工程１４でプリキュアを行ない、工程１５でポリッ
シュ加工して突起などを除去し洗浄した後、工程１６で
アフターキュアし、工程１７で潤滑剤を塗布してから、
工程１８でテープバーニッシュを行なって微小突起を除
去した後、工程１９で電気的磁気的特性の試験を行なう
。

これらの試験の結果良品のみが、密閉型固定磁気ディス
ク装置として組立てられる。ところがこうして製造され
た磁気ディスク単板が直ちに組立て工程に供されて組立
てられることは少なく、通常は工程２０で保管ケースに
入れて、１〜３０日程度倉庫に保管される。次の工程に
移送する場合でも、ケースに入れて運搬することが多い
。２１はこのようなケース保管ないしケース搬送工程で
あり、組立て前に工程２２においてケースから取出し、
工程２３で複数枚の磁気ディスク単板をスピンドルに組
付ける。次に工程２４で、各磁気ディスクに対応する磁
気ヘッドが組付けられ、工程２５で磁気ディスク装置ケ
ーシングに収納する。そして工程２６でケーシング内に
清浄な圧縮空気を供給し、別の開口から排出することで
、ケーシング内の清掃を行ない、工程２７で圧縮空気の
給排口を閉じる。

〔従来の技術〕

前記の工程１８におけるテープバーニッシュは、第６図
のように、スピンドル２９に磁気ディスク単板１を取付
けた状態で回転させ、ラッピングテープ３０．３０で両
面同時にバーニッシュする。ラッピングテープ３０は、
繰り出しロール３１から繰り出され、スライダ３２を経
由して巻き取りロール３３で巻き取られる。そしてキャ
リッジ３４によって、磁気ディスク１の径方向に往復動
される。加工条件は、例えば磁気ディスク回転数１３０
ｏｒｐｍ　、押し付は圧５００ｇ、使用ラッピングテー
プはＷＡ＃４０００　テ、５往復させる。

第７図は第６図のスライダ３２の支持機構を示す断面図
である。３５は駆動アームであり、その先端に挿通した
２本の支持軸３６．３６にスライダ３２が取り付けられ
ている。また支持軸３６．３６はそれぞれ圧縮コイルバ
ネ３７．３７に挿通されており、圧縮コイルバネ３７で
スライダ３２が磁気ディスク１の表面に押圧される。

駆動アーム３５は第６図のキャリッジ３４に取り付けら
れ、キャリッジ３４で駆動アーム３５を矢印ａ１で示す
ように磁気ディスク面と垂直方向に移動することで、ス
ライダ３２のロード、アンロードが行なわれる。スライ
ダ３２が磁気ディスク面にロードされた状態では、スラ
イダ３２が圧縮コイルバネ３７で磁気ディスク面に押圧
され、このときのバネ圧で、第６図のラッピングテープ
３０が磁気ディスク面に押圧される。そしてキャリッジ
３４で駆動アーム３５を矢印ａ２で示すように、前後方
向に往復させることで、磁気ディスク面全面をラッピン
グテープ３０でバーニッシュする。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところがこのようなスライダ支持構造では、スライダ３
２は、磁気ディスク面に対し垂直方向にしか移動できず
、スライダ３２の移動の自由度が制限されるため、スラ
イダ３２に巻き付けられているラッピングテープ３０の
張力により、支持軸３６が駆動アーム３５に引っ掛かっ
たりすると、スライダ３２が矢印ａ１方向に自由に移動
不能となる。その結果、ラッピングテープ３０を所定の
圧力で磁気ディスク面に押圧不可能となる。また圧縮コ
イルバネ３７のハネ圧は一定であるため、スライダ３２
の磁気ディスク面への押圧力を自由に調整することがで
きない。

本発明の技術的課題は、従来のスライダ支持機構におけ
るこのような問題を解消し、スライダが自由に変動でき
、またスライダの磁気ディスク面への押圧力を容易にか
つ正確に調整可能とすることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

第１図は本発明によるスライダ支持機構の基本原理を説
明する断面図である。３５は駆動アームであり、その先
端に支持ブロック３８が固設されている。そしてこの支
持ブロック３８に、ゴムなどのような可撓性の膜３９の
外周が気密に取り付けられ、可撓膜３９の中央にスライ
ダ３２が取り付けられている。また支持ブロック３８と
可撓膜３９との間に、圧縮空気給排用の空気路４０が接
続されている。

〔作用〕

第１図（ａ）のように、駆動アーム３５をキャリッジに
よって、矢印ａ２方向に駆動し、磁気ディスク１上にス
ライダ３２を移動した後、空気路４０から圧縮空気を供
給すると、（ｂ）のように可撓膜３９が空気圧で膨らみ
、空気圧でスライダ３２が磁気ディスク１の面に押圧さ
れる。磁気ディスク１は高速回転しているため、スライ
ダ３２で磁気ディスク面がバーニッシュされる。またス
ライダ３２でラッピングテープ３０を磁気ディスク面に
押圧すると、ラッピングテープ３０で磁気ディスク面が
バーニッシュされる。空気圧でスライダ３２を磁気ディ
スク面に押圧した状態で、駆動アーム３５を磁気ディス
ク面の半径方向に移動すると、磁気ディスク面全面がバ
ーニッシュ加工される。

空気路４０からの圧縮空気の供給を停止し、大気に開放
すると、可撓膜３９が収縮し、可撓膜３９に取り付けら
れたスライダ３２が、（ａ）図のように支持ブロック３
８側に退避し、磁気ディスク面から離れる。

この状態で、キャリッジで駆動アーム３５を後退させ、
磁気ディスク面のバーニッシュ加工を終了する。

なお本発明装置は、磁気ディスク面の拭き取りやポリッ
シュなどの処理にも適用できる。

〔実施例〕

次に本発明によるスライダ支持機構が実際上どのように
具体化されるかを実施例で説明する。第２図は本発明に
よるスライダ支持機構の実施例を示す断面図で、（ａ）
はアンロード状態、（ｂ）はロード状態である。この実
施例では、可撓膜３９の外周は、止め環４１で支持ブロ
ック３８に押圧固定されている。

またこの止め環４１は、アンロード時のスライダ３２の
ス］・ツバ−作用も兼ねている。したがって（ａ）のよ
うに、アンロード状態では、スライダ３２は止め環４１
に支持される。また支持ブロック３８には、可焼成３９
との対向面に、空気室４２が形成されている。

この空気室４２に空気路４０から圧縮空気を供給すると
、の）のように、可撓膜３９が膨れてスライダ３２を磁
気ディスク１側に突出させ、バーニッシュ処理などのた
めにロードが行なわれる。また空気室４２を大気に開放
すると、空気室４２中が大気圧となり、可撓膜３９によ
って、スライダ３２が止め環４１に当接するまでアンロ
ードされる。なお空気室４２をコンプレッサの吸気側に
接続し、空気室４２を負圧にすれば、可撓膜３９の外側
と空気室４２側との差圧によって、スライダ３２が止め
環側に確実に吸着され、ロード・アンロードが確実とな
る。

また（ｂ）のように、可撓膜３９が膨らみ、スライダ３
２がロードされた状態では、スライダ３２の中央が可撓
膜３９で支持され、かつ可撓膜３９は可撓性をもってい
るので、スライダ３２は矢印で示すように、あらゆる方
向に容易に変動できる。そのため、スライダ３２にラッ
ピングテープ３０による張力が作用したり、スライダ３
２を磁気ディスク面の半径方向に移動する際の力が作用
したりしても、スライダー１　〇− ３２は安定し易い方向に柔軟に変動できる。したがって
バーニッシュなどの加工も安定して円滑に行なうことが
できる。

またスライダ３２は、空気室４２に供給される圧縮空気
の空気圧によって磁気ディスク面に押圧されるため、圧
縮空気圧を制御することで、スライダ３２の押圧力を制
御することができる。したがって圧力空気源と空気路４
０との間に圧力調整器を設け、空気室４２に供給する圧
縮空気圧を制御することによって、スライダ３２の押圧
力を定量的に設定することもでき、バーニッシュ加工等
を均一にかつ高精度に行なうことが可能となる。

なお支持ブロック３８、可撓膜３９、止め環４１および
スライダ３２は、磁気ディスク面側から見た形状が、円
形であってもよいが、矩形でもよい。とくにスライダ３
２は、ラッピングテープ３０を支持する上では、矩形の
方が安定性に優れている。

第３図は本発明を両面式バーニッシュ装置のスライダ支
持機構に実施した例の断面図である。１枚の磁気ディス
ク１を両面から挟むように、磁気ディスク１の両側に本
発明によるスライダ支持機構が配設されている。そして
両スライダ支持機構の空気路４０．４０から圧縮空気を
供給することで、図示のようにスライダ３２．３２が磁
気ディスク１の両面に押圧されている。この状態で、両
スライダ３２．３２は一緒に矢印ａ２で示すように、磁
気ディスク１の半径方向に移動され、バーニッシュなど
の加工が行なわれる。加工終了後、それぞれの空気路４
０．４０を大気に開放するか、あるいは負圧にすると、
スライダ３２．３２は止め環４１．４１に当接するまで
退避し、磁気ディスク面からアンロードされる。

なお本発明装置は、磁気ディスク用円板のバーニッシュ
や拭き取りなどの加工ないし処理であれば、第５図の磁
気ディスク単板の製造過程、あるい磁性塗膜形成後のい
ずれの工程でも適用可能である。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、駆動アーム３５の先端の
支持ブロック３８に可撓膜３９の外周を取り付け、該可
撓膜３９の中央にスライダ３２を取り付け、可撓膜３９
を膨らませることで、スライダ３２を磁気ディスク面に
押圧する構成になっている。そのため、可撓膜３９を膨
らませた状態では、スライダ３２が任意の方向に自由に
変動でき、円滑かつ安定して均一な磁気ディスク面処理
が可能となる。また可撓膜３９と支持ブロック３８間に
供給される圧縮空気の圧力で、スライダ３２の磁気ディ
スク面への押圧力が決まるため、圧縮空気の圧力を制御
することで、スライダ３２の押圧力を調整し、所望の押
圧力で加工でき、高精度の加工が可能となる。スライダ
３２の磁気ディスク面側へのロード・アンロードは、空
気路４０への圧縮空気の給排のみで行なえるので、ロー
ド・アンロードのための機構および動作が簡素化される
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるスライダ支持機構の基本原理を説
明する断面図、第２図は本発明スライダ支持機構の実施
例を示す断面図、第３図は本発明を両面式バーニッシュ
装置に実施した例を示す断面図、第４図は本発明の装置
でバーニッシュ加工が行なわれる磁気ディスク装置の断
面図、第５図は密閉型固定磁気ディスク装置の製造方法
を工程順に示す図、第６図は従来の磁気ディスクバーニ
ッシュ装置を示す側面図、第７図は従来のスライダ支持
機構の側面図である。 図において、１・・・は磁気ディスク、２はスピンドル
、３０はラッピングテープ、３２はスライダ、３５は駆
動アーム、３８は支持ブロック、３９は可撓膜、４０は
空気路をそれぞれ示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 駆動アームの先端にスライダを支持し、磁気ディスク面
   の処理を行なう装置におけるスライダ支持機構において
   、 駆動アーム（３５）先端に支持ブロック（３８）を取り
   付け、該支持ブロック（３８）に可撓膜（３９）の外周
   を気密に取り付け、該可撓膜（３９）の中央にスライダ
   （３２）を取り付けたこと、 支持ブロック（３８）と可撓膜（３９）との間に、圧縮
   空気給排用の空気路（４０）を接続したこと、を特徴と
   するスライダ支持機構。