JPS6314101A - 光学用透明基板 - Google Patents
光学用透明基板Info
- Publication number
- JPS6314101A JPS6314101A JP61158049A JP15804986A JPS6314101A JP S6314101 A JPS6314101 A JP S6314101A JP 61158049 A JP61158049 A JP 61158049A JP 15804986 A JP15804986 A JP 15804986A JP S6314101 A JPS6314101 A JP S6314101A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butyl
- hydroxyphenyl
- tert
- phenolic antioxidants
- optical
- Prior art date
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- Granted
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学用透明基板に関し、と(に射出成形によっ
て良好な外観を示す投影面積が太き(、かつ、厚みの薄
い光学用透明基板たとえば光学ディスク基板に関する。
て良好な外観を示す投影面積が太き(、かつ、厚みの薄
い光学用透明基板たとえば光学ディスク基板に関する。
透明な熱可塑性樹脂を使用して光学用透明基板を製造す
るための成形方法は種々知られている。なかでも射出成
形法は、生産性すなわち多量の製品を高生産速度で成形
できる面から工業的に最も利用される手段である。
るための成形方法は種々知られている。なかでも射出成
形法は、生産性すなわち多量の製品を高生産速度で成形
できる面から工業的に最も利用される手段である。
ところで、光学用透明基板の1種である光学ディスク基
板のように、その製品形状が投影面積が太き(、かつ、
厚みの薄いようなものであると、射出成形によって製造
するのは以下に詳述する如くなかなか難しい。
板のように、その製品形状が投影面積が太き(、かつ、
厚みの薄いようなものであると、射出成形によって製造
するのは以下に詳述する如くなかなか難しい。
すなわち、透明熱可塑性樹脂たとえばポリメチルメタク
リレート(PMMA) 、ポリカーボネート(PO)、
ポリ4メチルペンテン1 (PNP)などの多くは粘性
が高くてしたがって射出成形にあたっては樹脂温度を高
めて粘性を低下させ流動性を向上させなくてはいけない
、しかし、投影面積が大きくても厚みの薄いものは樹脂
量が少なく、よって射出成形機内での樹脂の滞留時間は
長くなる。また、金型内では肉厚のうすいところを高速
で通過するため、機械的な剪断熱も発生し易い、このよ
うに外部加熱による高温下に長時間滞留し、剪断熱のよ
うな内部加熱も経験する樹脂は、当然ながら分解、劣化
を生じ、得られる製品の機械的強度を弱めたり、焼けこ
げの混入等を生じて光学ディスク基板として使用できな
くなってしまうという問題がある。
リレート(PMMA) 、ポリカーボネート(PO)、
ポリ4メチルペンテン1 (PNP)などの多くは粘性
が高くてしたがって射出成形にあたっては樹脂温度を高
めて粘性を低下させ流動性を向上させなくてはいけない
、しかし、投影面積が大きくても厚みの薄いものは樹脂
量が少なく、よって射出成形機内での樹脂の滞留時間は
長くなる。また、金型内では肉厚のうすいところを高速
で通過するため、機械的な剪断熱も発生し易い、このよ
うに外部加熱による高温下に長時間滞留し、剪断熱のよ
うな内部加熱も経験する樹脂は、当然ながら分解、劣化
を生じ、得られる製品の機械的強度を弱めたり、焼けこ
げの混入等を生じて光学ディスク基板として使用できな
くなってしまうという問題がある。
このほかの問題としては、製造されたディスク基板に微
小なボイドを発生することがしばしばあるという事実が
ある。この現象は射出成形全般に言えることであるとも
受は取れるが、従来この種の問題解決に有効であるとさ
れている材料樹脂の予備乾燥や金型に空気抜きを付ける
手段では、前述の低流動性樹脂を用いた高温射出成形に
よるディスク基板の製造に関しては不充分である。
小なボイドを発生することがしばしばあるという事実が
ある。この現象は射出成形全般に言えることであるとも
受は取れるが、従来この種の問題解決に有効であるとさ
れている材料樹脂の予備乾燥や金型に空気抜きを付ける
手段では、前述の低流動性樹脂を用いた高温射出成形に
よるディスク基板の製造に関しては不充分である。
また別の問題として、ディスクのビット部や案内溝が正
確にディスク基板に転写されないということがある。
確にディスク基板に転写されないということがある。
更にまた別の問題として、ディスク基板表面または内部
にフラッシュと呼ばれる現象を発生することがある。こ
こでフラッシュというのは、ディスクの半径方向に沿っ
て不規則な形のクモリを生じる現象であって、比較的明
瞭な筋状の形状を示すシリバーストリークとは全く別の
現象である。
にフラッシュと呼ばれる現象を発生することがある。こ
こでフラッシュというのは、ディスクの半径方向に沿っ
て不規則な形のクモリを生じる現象であって、比較的明
瞭な筋状の形状を示すシリバーストリークとは全く別の
現象である。
かかる現象は通常の成形品ではそれほど問題ないかもし
れないが、透明基板のような用途においては絶対にあっ
てはならないものである。この現象は、たとえば通常の
シルバーストリークを防止するのに有効であると称され
る材料樹脂の予備乾燥に充分時間をかけてもしばしば発
生し、当業者間における頭痛の種となっている。
れないが、透明基板のような用途においては絶対にあっ
てはならないものである。この現象は、たとえば通常の
シルバーストリークを防止するのに有効であると称され
る材料樹脂の予備乾燥に充分時間をかけてもしばしば発
生し、当業者間における頭痛の種となっている。
更に他の問題は、成形によって得られる透明基板が黄色
く着色してしまう点である。
く着色してしまう点である。
本発明者らは、かる現状に鑑み、光学用透明基板とくに
投影面積が太き(厚みの薄いたとえば光学ディスク基板
のようなものを射出成形しても、機械的性質の低下がな
く、ボイドの発生もな(、ビットまたは案内溝の転写性
もよく、さらにフラッシュの発生もなくかつ着色もない
製品が得られないか検討を重ねた結果本発明に到達した
ものである。
投影面積が太き(厚みの薄いたとえば光学ディスク基板
のようなものを射出成形しても、機械的性質の低下がな
く、ボイドの発生もな(、ビットまたは案内溝の転写性
もよく、さらにフラッシュの発生もなくかつ着色もない
製品が得られないか検討を重ねた結果本発明に到達した
ものである。
すなわち本発明は、β−(3,5−ジ−tert−ブチ
ルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル基を有する
フェノール系酸化防止剤を2種以上配合した透明熱可塑
性樹脂からなることを特徴とする光学用透明基板である
。
ルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル基を有する
フェノール系酸化防止剤を2種以上配合した透明熱可塑
性樹脂からなることを特徴とする光学用透明基板である
。
透明な熱可塑性樹脂としては、前述したPHMA、PC
SPMPのほかにポリスチレン(PS)、あるいは特開
昭60−26024に示されるようなテトラシクロドデ
セン類の単独開環重合体やノルボネン類との開環共重合
体を水添したもの、また別にはノルボルネン、テトラシ
クロドデセン、メチルテトラシクロドデセンなどの環状
オレフィンとエチレンとの共重合体(たとえば特開昭6
0−168708 、同61−115912、同61−
115916 、同6l−120816)などを例示で
きる。
SPMPのほかにポリスチレン(PS)、あるいは特開
昭60−26024に示されるようなテトラシクロドデ
セン類の単独開環重合体やノルボネン類との開環共重合
体を水添したもの、また別にはノルボルネン、テトラシ
クロドデセン、メチルテトラシクロドデセンなどの環状
オレフィンとエチレンとの共重合体(たとえば特開昭6
0−168708 、同61−115912、同61−
115916 、同6l−120816)などを例示で
きる。
本発明においてとくに有用な透明熱可塑性樹脂は、ガラ
ス転移温度(Tg)が比較的高いものすなわち約100
℃以上のものとくに120℃以上のものである。すなわ
ち、Tgが高いものは、射出成形によつて金型内に流れ
込む時に金型と接触する樹脂表面の樹脂温度が低下し、
比較的早く表面が固化する。このため、樹脂の酸化劣化
に基づくと推定される揮発成分等が樹脂内部に閉じ込め
られて、前述したフラッシュの原因となると推測される
。つまり、Tgが高いほど早く表面が固化が住じ、フラ
ッシュが著しくなるのであり、故にこのような樹脂に本
発明を適用するとフラッシュが防止され有用である。し
たがって、好ましく使用される樹脂はエチレンと環状オ
レフィンの共重合体である。
ス転移温度(Tg)が比較的高いものすなわち約100
℃以上のものとくに120℃以上のものである。すなわ
ち、Tgが高いものは、射出成形によつて金型内に流れ
込む時に金型と接触する樹脂表面の樹脂温度が低下し、
比較的早く表面が固化する。このため、樹脂の酸化劣化
に基づくと推定される揮発成分等が樹脂内部に閉じ込め
られて、前述したフラッシュの原因となると推測される
。つまり、Tgが高いほど早く表面が固化が住じ、フラ
ッシュが著しくなるのであり、故にこのような樹脂に本
発明を適用するとフラッシュが防止され有用である。し
たがって、好ましく使用される樹脂はエチレンと環状オ
レフィンの共重合体である。
β−(3,5−ジ−tert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニル基を有するフェノール系酸化防
止剤は、透明熱可塑性樹脂に配合することによって、光
学材料として使用するに足るだけの外観、すなわちボイ
ド、シリバーストリーク、フラッシュを低減し、色相も
安定させる。勿論ビットの転写性も改良されるので光学
ディスク基板用途にはとくに好適である。
フェニル)プロピオニル基を有するフェノール系酸化防
止剤は、透明熱可塑性樹脂に配合することによって、光
学材料として使用するに足るだけの外観、すなわちボイ
ド、シリバーストリーク、フラッシュを低減し、色相も
安定させる。勿論ビットの転写性も改良されるので光学
ディスク基板用途にはとくに好適である。
このようなフェノール系酸化防止剤としては、たとえば
テトラキス〔メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル
ー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、
β−(3,5−ジ−tert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸アルキルエステルあるいは2.
2′−オキザミドビス〔エチル−3−(3,5−ジ−t
ert−7”チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート〕等が例示できる。β−(3,5−ジ−tert
−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アル
キルエステルとしてはとくに炭素数18以下のアルキル
エステルが好ましい。
テトラキス〔メチレン(3,5−ジ−tert−ブチル
ー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、
β−(3,5−ジ−tert−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸アルキルエステルあるいは2.
2′−オキザミドビス〔エチル−3−(3,5−ジ−t
ert−7”チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート〕等が例示できる。β−(3,5−ジ−tert
−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アル
キルエステルとしてはとくに炭素数18以下のアルキル
エステルが好ましい。
本発明においては、前記特定のフェノール系酸化防止剤
を2種以上併用することによって目的が達成できる。も
し1種しか用いない場合や他の酸化防止剤だけであった
りすると本発明の目的は達成できない。
を2種以上併用することによって目的が達成できる。も
し1種しか用いない場合や他の酸化防止剤だけであった
りすると本発明の目的は達成できない。
なぜ本発明の構成によればフラッシュ等がなく色相に優
れたものとなるのか不明であるが、本発明者らの推定に
よると、本発明で使用するような構造のフェノール系酸
化防止剤は高Tgの透明熱可塑性樹脂に対し可塑剤的な
作用を示し、少なくとも樹脂表面付近での見掛けのTg
を下げて、金型と接触する樹脂表面の揮発成分(樹脂の
分解、劣化よって発生する低沸点物や樹脂中にもともと
含まれている微量モノマーなど)を表面から逃げ易くし
ていることが一因であるとも考えられる。このような理
由によるのか、本発明では比較的低分子量すなわち60
0以下の分子量を有するフェノール系酸化防止剤がと(
に好適である。
れたものとなるのか不明であるが、本発明者らの推定に
よると、本発明で使用するような構造のフェノール系酸
化防止剤は高Tgの透明熱可塑性樹脂に対し可塑剤的な
作用を示し、少なくとも樹脂表面付近での見掛けのTg
を下げて、金型と接触する樹脂表面の揮発成分(樹脂の
分解、劣化よって発生する低沸点物や樹脂中にもともと
含まれている微量モノマーなど)を表面から逃げ易くし
ていることが一因であるとも考えられる。このような理
由によるのか、本発明では比較的低分子量すなわち60
0以下の分子量を有するフェノール系酸化防止剤がと(
に好適である。
フェノール系酸化防止剤の透明熱可塑性樹脂に対する配
合割合は、樹脂100重量部に対して各0.01〜5重
量部、好ましくは0.05〜3重量部、さらに好ましく
は0.1〜1重量部である。
合割合は、樹脂100重量部に対して各0.01〜5重
量部、好ましくは0.05〜3重量部、さらに好ましく
は0.1〜1重量部である。
尚、上記化合物の配合量の範囲は、多く配合し過ぎると
むしろ透明基板としての初期物性が長期的に安定して保
持できなくなったり、また少な過ぎると本発明の目的と
する効果が発現しにくいか又は発現したとしても実用上
耐えるだけの効果がないことから設定した。
むしろ透明基板としての初期物性が長期的に安定して保
持できなくなったり、また少な過ぎると本発明の目的と
する効果が発現しにくいか又は発現したとしても実用上
耐えるだけの効果がないことから設定した。
本発明の樹脂組成物において、透明樹脂としてチーグラ
ー触媒のようなハロゲン含有触媒で製造されたものを用
いる場合には、残留する触媒残渣中に含まれるハロゲン
が成形機を傷めることがないように、ハロゲン捕捉剤を
併用すべきである。
ー触媒のようなハロゲン含有触媒で製造されたものを用
いる場合には、残留する触媒残渣中に含まれるハロゲン
が成形機を傷めることがないように、ハロゲン捕捉剤を
併用すべきである。
本発明を光学ディスク基板を例にとって説明すると、ま
ず樹脂と上記化合物、必要に応じて本発明の効果を損わ
ない量の他の安定剤とをリボンブレンダー、タンブラー
ブレンダー、ヘンシェルミキサーなどで混合あるいは混
合後押出機、バンバリーミキサ−1二本ロールなどで溶
融混合するか炭化水素や芳香族溶媒に溶解してポリマー
溶液に混合し、その後単軸押出機、ベント式押出機、二
本スクリュー押出機、三本スクリュー押出機、円錐型二
本スクリュー押出機、コニーダー、プラテイフイケータ
ー、ミクストルーダー、二軸コニカルスクリュー押出機
、遊星ねじ押出機、歯車型押出機、スクリューレス押出
機などを用いて射出成形を行い、ディスク成形用の金型
(情報ビットや案内溝を形成するためのスタンバ−のセ
ットされたものも含む)によって成形する。
ず樹脂と上記化合物、必要に応じて本発明の効果を損わ
ない量の他の安定剤とをリボンブレンダー、タンブラー
ブレンダー、ヘンシェルミキサーなどで混合あるいは混
合後押出機、バンバリーミキサ−1二本ロールなどで溶
融混合するか炭化水素や芳香族溶媒に溶解してポリマー
溶液に混合し、その後単軸押出機、ベント式押出機、二
本スクリュー押出機、三本スクリュー押出機、円錐型二
本スクリュー押出機、コニーダー、プラテイフイケータ
ー、ミクストルーダー、二軸コニカルスクリュー押出機
、遊星ねじ押出機、歯車型押出機、スクリューレス押出
機などを用いて射出成形を行い、ディスク成形用の金型
(情報ビットや案内溝を形成するためのスタンバ−のセ
ットされたものも含む)によって成形する。
射出成形の際に使用されるゲートは、公知の種々のもの
を用いてもよいが、収縮や反りの面からセンターピンゲ
ートやセンターディスクゲート、好ましくはゲート径3
m+m以下、とくに0.5〜2.0IIIIlのセンタ
ービンゲート、ゲートK 1 mm以下、とくに0.2
〜0 、8+amのセンターディスクゲートを用いるの
がよい。
を用いてもよいが、収縮や反りの面からセンターピンゲ
ートやセンターディスクゲート、好ましくはゲート径3
m+m以下、とくに0.5〜2.0IIIIlのセンタ
ービンゲート、ゲートK 1 mm以下、とくに0.2
〜0 、8+amのセンターディスクゲートを用いるの
がよい。
射出成形によって得られたディスク基板は、その後記録
層あるいはレーザー光線を反射するための金属層を蒸着
法、スパッタ法などの公知の方法によって形成し、更に
必要に応じて保護層を設けて完成される。
層あるいはレーザー光線を反射するための金属層を蒸着
法、スパッタ法などの公知の方法によって形成し、更に
必要に応じて保護層を設けて完成される。
以下本発明の内容を好適な例でもって示すが、本発明は
とくにことわりのない限り何らこれらの例に制限される
ものではない。
とくにことわりのない限り何らこれらの例に制限される
ものではない。
実施例1
荷重2.15kg、温度260℃におけるメルトフロー
ジー) (MFR: AST?l D 1238)が3
5kg/10ninのエチレン・テトラシクロドデセン
共重合体(エチレン含量60モル%)に、テトラキス〔
メチレン−3−(3,5−ジ−ter t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン(A)
、n−オクタデシル−β−(3,5−ジ−ter t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(
B)およびステアリン酸亜鉛(C)を配合し、ヘンシェ
ルミキサーで混合後、スクリュー径40mmの2軸押出
機を使用して230℃の温度でベレットを作成した。
ジー) (MFR: AST?l D 1238)が3
5kg/10ninのエチレン・テトラシクロドデセン
共重合体(エチレン含量60モル%)に、テトラキス〔
メチレン−3−(3,5−ジ−ter t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン(A)
、n−オクタデシル−β−(3,5−ジ−ter t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(
B)およびステアリン酸亜鉛(C)を配合し、ヘンシェ
ルミキサーで混合後、スクリュー径40mmの2軸押出
機を使用して230℃の温度でベレットを作成した。
このベレットを原料として、住友重機P40/25A射
出成形機及びセンターディスクゲートの金型(情報ビッ
ト形成のためのスタンバ−をセットした金型)を使用し
、280℃の温度で直径80mm、厚さ1.Os+−の
ディスク基板を成形し、表1に示した項目を評価した。
出成形機及びセンターディスクゲートの金型(情報ビッ
ト形成のためのスタンバ−をセットした金型)を使用し
、280℃の温度で直径80mm、厚さ1.Os+−の
ディスク基板を成形し、表1に示した項目を評価した。
なおこれらの項目は、目視により評価し、評価基準は悪
1−5良とした。
1−5良とした。
安定剤の配合量は、原料の樹脂100重量部に対する重
量部を示している。
量部を示している。
実施例2
(B)の代わりに2.2′−オキザミドビス〔エチル−
3−(3,5−ジ−terk−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート)(D)を使用するほかは実
施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
3−(3,5−ジ−terk−ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート)(D)を使用するほかは実
施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
実施例3
(A)のかわりに(D)を用いるほかは実施例1と同様
に行った。結果を表1に示す。
に行った。結果を表1に示す。
比較例1
実施例1において(B)を使用しないで(A)の配合量
を増すほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示
す。
を増すほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示
す。
比較例2
実施例1において(、A)を使用しないで(B)の配合
量を増すほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に
示す。
量を増すほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に
示す。
比較例3
実施例2において(A)を使用しないで(D)の配合量
を増すほかは実施例2と同様に行った。結果を表1に示
す。
を増すほかは実施例2と同様に行った。結果を表1に示
す。
比較例4
実施例1において(B)の代わりに1.3.5−1−ジ
メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチルー4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(E)を用
いるほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示す
。
メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチルー4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(E)を用
いるほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示す
。
比較例5
実施例1において(B)の代わりに3.5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(F)を用いる
ほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン(F)を用いる
ほかは実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
本発明によれば、機械的性質に優れ、ボイドの発生もな
く、フラッシュの発生もなく、着色もなく、さらに金型
内のスタンバ−模様の転写性たとえばディスクのビット
部や案内溝が正確に転写できるという優れた効果を示す
。
く、フラッシュの発生もなく、着色もなく、さらに金型
内のスタンバ−模様の転写性たとえばディスクのビット
部や案内溝が正確に転写できるという優れた効果を示す
。
よって光学ディスク基板、大型ディスプレイ基板、透明
電極基板、透明電気回路基板、VD作業用CRTカバー
などの投影面積は大きいが厚みの薄い光学用透明基板製
品の製造に好適に用いることができる。
電極基板、透明電気回路基板、VD作業用CRTカバー
などの投影面積は大きいが厚みの薄い光学用透明基板製
品の製造に好適に用いることができる。
Claims (6)
- (1)β−(3、5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオニル基を有するフェノール系
酸化防止剤を2種以上配合した透明熱可塑性樹脂からな
ることを特徴とする光学用透明基板。 - (2)テトラキス〔メチレン(3、5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メ
タン、β−(3、5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸アルキルエステルおよび
2、2′−オキザミドビス〔エチル−3−(3、5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕から選ばれる少なくとも2種を配合してなる
特許請求の範囲第1項に記載の光学用透明基板。 - (3)透明熱可塑性樹脂のガラス転移温度が100℃以
上である特許請求の範囲第1項または第2項に記載の光
学用透明基板。 - (4)光学用透明基板が、投影面積が大きく、かつ、厚
みの薄いものである特許請求の範囲第1項ないし第3項
のいずれかに記載の光学用透明基板。 - (5)光学用透明基板が光ディスク基板である特許請求
の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載の光学用透
明基板。 - (6)射出成形によつて製造される特許請求の範囲第1
項ないし第5項のいずれかに記載の光学用透明基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61158049A JP2504957B2 (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 光学用透明基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61158049A JP2504957B2 (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 光学用透明基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6314101A true JPS6314101A (ja) | 1988-01-21 |
| JP2504957B2 JP2504957B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=15663173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61158049A Expired - Fee Related JP2504957B2 (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 光学用透明基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2504957B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5203228A (en) * | 1988-06-17 | 1993-04-20 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Joint structure between crankshaft and connecting rod |
| JP2002069249A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Mitsui Chemicals Inc | パイプ用ポリオレフィン樹脂組成物およびその用途 |
| US6576695B1 (en) * | 1997-09-02 | 2003-06-10 | Ajinomoto Co., Inc. | Thermoplastic resin composition comprising polyglycerin fatty acid esters, and resin molded article obtained therefrom |
-
1986
- 1986-07-07 JP JP61158049A patent/JP2504957B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6576695B1 (en) * | 1997-09-02 | 2003-06-10 | Ajinomoto Co., Inc. | Thermoplastic resin composition comprising polyglycerin fatty acid esters, and resin molded article obtained therefrom |
| JP2002069249A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Mitsui Chemicals Inc | パイプ用ポリオレフィン樹脂組成物およびその用途 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2504957B2 (ja) | 1996-06-05 |
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