JPS631406A - 蛋白質非吸着性親水性半透膜およびその製造方法 - Google Patents
蛋白質非吸着性親水性半透膜およびその製造方法Info
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- JPS631406A JPS631406A JP61142735A JP14273586A JPS631406A JP S631406 A JPS631406 A JP S631406A JP 61142735 A JP61142735 A JP 61142735A JP 14273586 A JP14273586 A JP 14273586A JP S631406 A JPS631406 A JP S631406A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0093—Chemical modification
- B01D67/00931—Chemical modification by introduction of specific groups after membrane formation, e.g. by grafting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/66—Polymers having sulfur in the main chain, with or without nitrogen, oxygen or carbon only
- B01D71/68—Polysulfones; Polyethersulfones
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/38—Graft polymerization
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、製薬工業等(二おける各種薬品よりなる注射
薬、輸液、バルク原液、又は用水等の除菌、除パイロジ
エン精製に好適な親水性半導膜文びその製造方法(一関
する。
薬、輸液、バルク原液、又は用水等の除菌、除パイロジ
エン精製に好適な親水性半導膜文びその製造方法(一関
する。
従来、製薬工業においては、その製造された各種薬液よ
り菌又はパイロジエンを除去するにあたり、多くの限外
戸過膜が使用されている。
り菌又はパイロジエンを除去するにあたり、多くの限外
戸過膜が使用されている。
それらの限外戸過膜としては一般(−ポリスルホン(ポ
リエーテルスルホン等も含む)が材料として使用される
が、これはポリスルホンが比較的耐熱性にすぐれており
、かつ製膜され易いからである。
リエーテルスルホン等も含む)が材料として使用される
が、これはポリスルホンが比較的耐熱性にすぐれており
、かつ製膜され易いからである。
−方、ポリスルホンは例えばポリアクリ口ニトリル、ボ
リアミド等と異なり比較的疎水性であるので、膜をその
まま乾燥させると、再び水{=浸漬しても容易にその元
の戸過性能(一回復しない。
リアミド等と異なり比較的疎水性であるので、膜をその
まま乾燥させると、再び水{=浸漬しても容易にその元
の戸過性能(一回復しない。
さらに、ポリスルホンは、製膜技術だけで分画分子量を
下げる事が難かしく、スルホン化、カルボキシル化等の
処理を必要とした。
下げる事が難かしく、スルホン化、カルボキシル化等の
処理を必要とした。
さらにスルホン化又はカルボキンル化は、水の戸過(脱
塩機能)用(=は有効であるが、この膜で蛋白質製剤液
を精製した場合、往々にして蛋白質の吸着又は変質が見
られる。
塩機能)用(=は有効であるが、この膜で蛋白質製剤液
を精製した場合、往々にして蛋白質の吸着又は変質が見
られる。
本発明は製薬工業等の輸液、注射液又はプσセス用水よ
り、菌やパイロジェン状物質を除芙するに際し、膜カ゛
乾燥しても再び戸過性能が容易に回復出来、かつP液が
変質しない有用な半透膜を提供するものである。
り、菌やパイロジェン状物質を除芙するに際し、膜カ゛
乾燥しても再び戸過性能が容易に回復出来、かつP液が
変質しない有用な半透膜を提供するものである。
さら1二、極めて小分子量の蛋白質もカット出来るポリ
スルホン系半透膜を提供するものである。
スルホン系半透膜を提供するものである。
ここに本発明者は、上記課題を解決する半透膜を鋭意研
究した結果、以下の手段により達成されることが判った
。
究した結果、以下の手段により達成されることが判った
。
すなわち、基材膜の材質がポリスルホンである半透膜に
、中性ヒドロキシル基を含む側鎖がグラフトされ、かつ
中性ヒドロキシル基含有率が膜7グラム当り0.1ない
し!ミリ当置である、球状蛋白(二よる分画分子獣が1
00万以下の非吸着性親水性膜によって、極めて効果的
に課題が解決されることが判った。
、中性ヒドロキシル基を含む側鎖がグラフトされ、かつ
中性ヒドロキシル基含有率が膜7グラム当り0.1ない
し!ミリ当置である、球状蛋白(二よる分画分子獣が1
00万以下の非吸着性親水性膜によって、極めて効果的
に課題が解決されることが判った。
以下本発明について更に具体的詳細(−説明する。
本発明においてグラフト処理される基材膜は、ポリスル
ホン膜であることが必要で、これは半透膜材料としての
充分な機械的性質を保持しているからである。
ホン膜であることが必要で、これは半透膜材料としての
充分な機械的性質を保持しているからである。
次{−、この疎水性ポリスルホン膜にグラフトされるモ
ノマーとしては、/個以上の中性ヒドロキシル基(アル
コール性水酸基)あるいはその前駆体となる官能基を有
し、かつ、グラフト可能でなくてはならない。具体的に
は、2−ヒドロキシェチルーアクリレート、2−ヒドロ
キンエチルーメタクリレ−1・等のアクリル酸又はメタ
クリル酸と多価アルコールのエステル類、及びアリルア
ルコール等の不飽和結合を有するアルコール類、及び酢
酸ビニル、ブロビオン酸ビニル等のエノールエステル類
が挙げられる。特;二好ましいのは不飽和結合を有する
アルコール類及びエノールエステル類である。例えばア
リルアルコール等を前記疎水性膜へグラフトすること(
二より、又、酢酸ビニル等をグラフトし、その後加水分
解させることにより、所望とする中性水酸基を含む側鎖
をもつ非吸々性親水性膜を得ることができる。しがも、
このよう《ニして得られたも゛のについてはコーヒドロ
キシエチルーアクリレート等を用いた場合と異なり、エ
ステル結合を有しないため、側鎖は化学的に極めて安定
であり、酸、アルカリ等の条件下(二おいても容易{二
は化学変化を起こさない。
ノマーとしては、/個以上の中性ヒドロキシル基(アル
コール性水酸基)あるいはその前駆体となる官能基を有
し、かつ、グラフト可能でなくてはならない。具体的に
は、2−ヒドロキシェチルーアクリレート、2−ヒドロ
キンエチルーメタクリレ−1・等のアクリル酸又はメタ
クリル酸と多価アルコールのエステル類、及びアリルア
ルコール等の不飽和結合を有するアルコール類、及び酢
酸ビニル、ブロビオン酸ビニル等のエノールエステル類
が挙げられる。特;二好ましいのは不飽和結合を有する
アルコール類及びエノールエステル類である。例えばア
リルアルコール等を前記疎水性膜へグラフトすること(
二より、又、酢酸ビニル等をグラフトし、その後加水分
解させることにより、所望とする中性水酸基を含む側鎖
をもつ非吸々性親水性膜を得ることができる。しがも、
このよう《ニして得られたも゛のについてはコーヒドロ
キシエチルーアクリレート等を用いた場合と異なり、エ
ステル結合を有しないため、側鎖は化学的に極めて安定
であり、酸、アルカリ等の条件下(二おいても容易{二
は化学変化を起こさない。
かくして得られた側鎖中でのヒドロキシル基は任意にそ
の濃度を調節できるが、本発明の効果として、M!/グ
ラム当り0.1ないしょミリ当量、好ましくは/ないし
3ミリ当量が必要である。
の濃度を調節できるが、本発明の効果として、M!/グ
ラム当り0.1ないしょミリ当量、好ましくは/ないし
3ミリ当量が必要である。
ここで、膜/グラムとは、膜のかなりマクロ的な重量を
基準(ニシた値のことであり、例えば膜表面の一部、又
は内部の一部だけを収り出した重量のことではない。基
材膜の優れた機械的性質を保持したまま親水化処理され
る(=は、でさるだけ孔の表面により優先的にグラフト
されたほうが目的を達しやすい。したがって、ここで言
う基材膜/グラムと言う意味は膜の全面;二わたって平
等(=加味測定された値を示しており、ごく微視的な観
点での重量を意味していない。
基準(ニシた値のことであり、例えば膜表面の一部、又
は内部の一部だけを収り出した重量のことではない。基
材膜の優れた機械的性質を保持したまま親水化処理され
る(=は、でさるだけ孔の表面により優先的にグラフト
されたほうが目的を達しやすい。したがって、ここで言
う基材膜/グラムと言う意味は膜の全面;二わたって平
等(=加味測定された値を示しており、ごく微視的な観
点での重量を意味していない。
本発明(二よって得られるグラフト化ポリスルホン膜は
、球状蛋白質の分子量で約/θθ万以下の分画分子量を
有している。
、球状蛋白質の分子量で約/θθ万以下の分画分子量を
有している。
こ\で球状蛋白質とは、水中又は血液中等でほぼ球形を
示すものを指し、例えばインシュリン(分子tag千)
、シトクσムC(同/万3千)、γグロプリン(同!万
)、ヘモグロビン(同コ万)、アボフエリチン(同ダ♂
万)、免液グロプリン(沈降常数/9S、分子黴デ0万
)等を指している。
示すものを指し、例えばインシュリン(分子tag千)
、シトクσムC(同/万3千)、γグロプリン(同!万
)、ヘモグロビン(同コ万)、アボフエリチン(同ダ♂
万)、免液グロプリン(沈降常数/9S、分子黴デ0万
)等を指している。
分画分子量の測定は、規格として一律化されていないが
、ここでは蛋白質濃度0.0 2 j%の原液を圧力/
(伺で半透膜に通し、そのカット率がタj%以上になる
蛋白質の最少分子量を指す。
、ここでは蛋白質濃度0.0 2 j%の原液を圧力/
(伺で半透膜に通し、そのカット率がタj%以上になる
蛋白質の最少分子量を指す。
ポリスルホン基材膜の形状は、平膜状、チューブ状、中
空糸膜状のいずれも適用可能であるが、本発明の目的と
して内径0./ないし/0 ミリ、厚み0.0!ないし
jミリなる形状を有する中空糸タイプのものが好ましい
。
空糸膜状のいずれも適用可能であるが、本発明の目的と
して内径0./ないし/0 ミリ、厚み0.0!ないし
jミリなる形状を有する中空糸タイプのものが好ましい
。
本発明の親水性膜の官能基を基材膜にグラフトさせる方
法には、化学処理法等の方法もあるが、電離性放射線を
基材膜に照射する方法が最も良い。
法には、化学処理法等の方法もあるが、電離性放射線を
基材膜に照射する方法が最も良い。
この方法では基材膜を化学的に劣化させることが少ない
、フリーの重合体が出来にくい、及びこのようにして製
造された半透膜が磯琳的、化学的にも優れており、戸過
性能が良いという利点がある。
、フリーの重合体が出来にくい、及びこのようにして製
造された半透膜が磯琳的、化学的にも優れており、戸過
性能が良いという利点がある。
用いられる電離性放射線は、α線、β線、γ線、加速竜
子線、X線などであるが、実用的(−は電子線又はr線
が好ましい。グラフト重合させる方法としては、ポリス
ルホンの基材膜とモノマーの共存下:二放射線を照射し
、グラフト重合させる同時照射法と,ポリスルホン基材
膜のみ(ユあらかじめ放射線を照射し、その後ポリスル
ホン基材膜{=モノマーを接触反応させてグラフト重合
させる前照射法がある。同時照射法ではポリスルホン基
材膜へのモノマーのグラフト重合が進行すると同時に、
グラフト重合に関与しないモノマーのみが単独重合し、
ポリスルホン基材膜の空孔を閉塞するという問題が生じ
るので前照射法が好ましい。前照射′法では、ポリスル
ホン基材膜にモノマーを接触させる以前に基材膜にあら
かじめ放射線を照射し、モノマーと接触させるまでの間
マイナス70℃以下に保ち、50℃以下、好ましくは/
!℃〜!O℃の低温でモノマーと接触させてグラフト重
合を行なう。放射線を照射したのちにポリスルホン基材
膜を低温保存しない場合は、生成ラジカルが急速に減衰
し、室温(コタ℃)で3θ分経過するとその数は半分に
なる。更(二、それと同時に生成ラジカルがallの吸
着酸素と反応し、目的物質の耐熱耐薬品性を損なうとい
う欠陥を生じる。又、グラフト重合温度が60℃以上に
なると、グラフよ重合にあずからないモノマーの単独熱
重合物が生成し、ポリスルホン膜の微孔を閉塞するとか
、反応後の後処理工程では抽出されない単独熱重合物が
親水化の後(二流出してきて二次公害の原因となる、と
いった問題が生じる。更に必要に応じて、グラフト後、
架橋剤の存在下又は非存在下状態で、さら(=電子線又
はγ線照射させる事が出来る。
子線、X線などであるが、実用的(−は電子線又はr線
が好ましい。グラフト重合させる方法としては、ポリス
ルホンの基材膜とモノマーの共存下:二放射線を照射し
、グラフト重合させる同時照射法と,ポリスルホン基材
膜のみ(ユあらかじめ放射線を照射し、その後ポリスル
ホン基材膜{=モノマーを接触反応させてグラフト重合
させる前照射法がある。同時照射法ではポリスルホン基
材膜へのモノマーのグラフト重合が進行すると同時に、
グラフト重合に関与しないモノマーのみが単独重合し、
ポリスルホン基材膜の空孔を閉塞するという問題が生じ
るので前照射法が好ましい。前照射′法では、ポリスル
ホン基材膜にモノマーを接触させる以前に基材膜にあら
かじめ放射線を照射し、モノマーと接触させるまでの間
マイナス70℃以下に保ち、50℃以下、好ましくは/
!℃〜!O℃の低温でモノマーと接触させてグラフト重
合を行なう。放射線を照射したのちにポリスルホン基材
膜を低温保存しない場合は、生成ラジカルが急速に減衰
し、室温(コタ℃)で3θ分経過するとその数は半分に
なる。更(二、それと同時に生成ラジカルがallの吸
着酸素と反応し、目的物質の耐熱耐薬品性を損なうとい
う欠陥を生じる。又、グラフト重合温度が60℃以上に
なると、グラフよ重合にあずからないモノマーの単独熱
重合物が生成し、ポリスルホン膜の微孔を閉塞するとか
、反応後の後処理工程では抽出されない単独熱重合物が
親水化の後(二流出してきて二次公害の原因となる、と
いった問題が生じる。更に必要に応じて、グラフト後、
架橋剤の存在下又は非存在下状態で、さら(=電子線又
はγ線照射させる事が出来る。
以下、実施例により本発明の構成及び効果を具体的(=
述べるが、いずれも本発明を限定するものではない。
述べるが、いずれも本発明を限定するものではない。
実施例/及び比較例/
DMACを主溶剤として紡糸し、水中で凝固された外径
i.3 m、内径0.6−のポリスルホン(銘柄P−3
!θθ。米U.C.C,社tM)半透性中空糸膜な凍結
乾燥させ、電子加速器(加圧電圧/.夕MoV、電子線
電流/ mA )を用いて窒素雰囲気下/θOKGYで
電子線を照射した後、あらかじめ溶存酸素をj ppm
以下にした酢酸ビニール蒸気にあててグラフトさせた。
i.3 m、内径0.6−のポリスルホン(銘柄P−3
!θθ。米U.C.C,社tM)半透性中空糸膜な凍結
乾燥させ、電子加速器(加圧電圧/.夕MoV、電子線
電流/ mA )を用いて窒素雰囲気下/θOKGYで
電子線を照射した後、あらかじめ溶存酸素をj ppm
以下にした酢酸ビニール蒸気にあててグラフトさせた。
このグラフト膜をさらに♂0℃の苛性ソーダ30%水溶
液で合計コグ時間反応させ、分画分子1 t,o o
o、グラフト率3ミリ当量/グラム膜の限外戸過膜(実
施例膜−/)を得た。
液で合計コグ時間反応させ、分画分子1 t,o o
o、グラフト率3ミリ当量/グラム膜の限外戸過膜(実
施例膜−/)を得た。
一方、同じポリスルホン基材膜に同じく屯子線を照射さ
せたのち、アクリル酸をグラフトさせて限外戸過膜(分
画分子tt t,o o o、グラフト率2.5ミリ当
量/グラム膜)を得た(比較例膜一/見なお、上記限外
戸過膜は乾燥萌にさら(二硫千課をコθMr照射し、そ
の後架橋させた。
せたのち、アクリル酸をグラフトさせて限外戸過膜(分
画分子tt t,o o o、グラフト率2.5ミリ当
量/グラム膜)を得た(比較例膜一/見なお、上記限外
戸過膜は乾燥萌にさら(二硫千課をコθMr照射し、そ
の後架橋させた。
さらに比較のため(二、未処理のポリスルホン膜(分画
分子!fi / 3,0 0 0 )を比較例膜−2と
した。
分子!fi / 3,0 0 0 )を比較例膜−2と
した。
これらの膜の戸過速度、及び水に浸漬した後いったん乾
燥させて再び水に浸漬したときの透水速度保持率を以下
に示す。
燥させて再び水に浸漬したときの透水速度保持率を以下
に示す。
実施例 比較例 比較例
膜一/ 膜−/ 膜−コ
さらに上記3種の膜の0./%ビタミンB一72液の吸
看性を測定したところ、膜の蛋白への吸着性は以下のよ
うであった。
看性を測定したところ、膜の蛋白への吸着性は以下のよ
うであった。
実施例 比較例 比較例
膜−/ 膜一/ 膜一コ
*)一定時間id後の液中の蛋白の減少率なお、浸漬液
は浸漬後、比較例膜−2においてpHが酸性側1二0.
7変化した。
は浸漬後、比較例膜−2においてpHが酸性側1二0.
7変化した。
実施例コおよび比較例ユ
実施例/とほぼ同じような方法で得られたポリスルホン
の中空糸状半透膜(外径八〇閣、内径0.jtm)に、
アリルアルコールを実施例/と同様な方法で電子線照射
後グラフトさせ、実施例膜−2を得た。
の中空糸状半透膜(外径八〇閣、内径0.jtm)に、
アリルアルコールを実施例/と同様な方法で電子線照射
後グラフトさせ、実施例膜−2を得た。
また、実施例/の方法において溶剤および添加剤を調節
することにより、各種の分画分子量を有する比較例膜−
3、グを得た。これらの膜の透水速度及び、ビタミンB
−ノコ(分子量/,o o o )の阻止率を以下に示
す。
することにより、各種の分画分子量を有する比較例膜−
3、グを得た。これらの膜の透水速度及び、ビタミンB
−ノコ(分子量/,o o o )の阻止率を以下に示
す。
実施例 比較例 比較例
膜−2 膜−3 膜−グ
上記の結果は、膜の透水速度を極端{=落しても、低い
分子量を有する蛋白質を高程度に阻止出来る性能を有す
る半透膜は、ポリスルホン単独では困難であり、本発明
{=よれば実現される事を示している。
分子量を有する蛋白質を高程度に阻止出来る性能を有す
る半透膜は、ポリスルホン単独では困難であり、本発明
{=よれば実現される事を示している。
なお、上記実施例/、2と比較例/におけるグラフト率
は、すべて重量法によった。
は、すべて重量法によった。
本発明の膜は、そのままドライ状態で使用が可能であり
、ナニタリー性その他の多くの点で従来の製薬工業用水
をはじめとする液精製用限外F過膜としてすぐれている
。
、ナニタリー性その他の多くの点で従来の製薬工業用水
をはじめとする液精製用限外F過膜としてすぐれている
。
さら(二本発明によれば、透水速度を極端}二落すこと
な《分画分子達の低いポリスルホン膜が製造できるので
、業界の品質向上、収率アツブ{一役立つO 特許出願人 旭化成工業株式会社 −4′.
な《分画分子達の低いポリスルホン膜が製造できるので
、業界の品質向上、収率アツブ{一役立つO 特許出願人 旭化成工業株式会社 −4′.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61142735A JPH07121345B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 非吸着性親水性半透膜およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61142735A JPH07121345B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 非吸着性親水性半透膜およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS631406A true JPS631406A (ja) | 1988-01-06 |
JPH07121345B2 JPH07121345B2 (ja) | 1995-12-25 |
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ID=15322358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61142735A Expired - Fee Related JPH07121345B2 (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 非吸着性親水性半透膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07121345B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6331501A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 複合半透性膜およびその製造方法 |
EP0272841A2 (en) * | 1986-12-23 | 1988-06-29 | Pall Corporation | Filtration media |
FR2631247A1 (fr) * | 1988-05-10 | 1989-11-17 | Asahi Chemical Ind | Membrane semi-permeable tres selective et hydrophile en surface |
WO1997010048A1 (en) * | 1995-09-12 | 1997-03-20 | Pall Corporation | Filtration medium |
US5643968A (en) * | 1993-01-15 | 1997-07-01 | The Graver Company | Process for producing ion exchange membranes, and the ion exchange membranes produced thereby |
EP0823281A1 (en) * | 1996-08-09 | 1998-02-11 | Millipore Corporation | Polysulfone copolymer membranes and process |
JP2017080689A (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-18 | 日東電工株式会社 | 気泡液濃縮用分離膜、膜エレメント及び膜モジュール |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6253390B2 (ja) | 2013-12-18 | 2017-12-27 | 川崎重工業株式会社 | アルカリ水電解用隔膜及びその製造方法並びにアルカリ水電解装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58189906A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | 株式会社日立製作所 | 電線の供給装置 |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP61142735A patent/JPH07121345B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58189906A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | 株式会社日立製作所 | 電線の供給装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6331501A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 複合半透性膜およびその製造方法 |
EP0272841A2 (en) * | 1986-12-23 | 1988-06-29 | Pall Corporation | Filtration media |
EP0272841A3 (en) * | 1986-12-23 | 1988-11-30 | Pall Corporation | Filtration media |
JPS63302908A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-12-09 | ポール・コーポレーション | 蛋白質吸着性の低い濾過媒体 |
FR2631247A1 (fr) * | 1988-05-10 | 1989-11-17 | Asahi Chemical Ind | Membrane semi-permeable tres selective et hydrophile en surface |
US5643968A (en) * | 1993-01-15 | 1997-07-01 | The Graver Company | Process for producing ion exchange membranes, and the ion exchange membranes produced thereby |
WO1997010048A1 (en) * | 1995-09-12 | 1997-03-20 | Pall Corporation | Filtration medium |
EP0823281A1 (en) * | 1996-08-09 | 1998-02-11 | Millipore Corporation | Polysulfone copolymer membranes and process |
US5885456A (en) * | 1996-08-09 | 1999-03-23 | Millipore Corporation | Polysulfone copolymer membranes and process |
JP2017080689A (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-18 | 日東電工株式会社 | 気泡液濃縮用分離膜、膜エレメント及び膜モジュール |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07121345B2 (ja) | 1995-12-25 |
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