JPS63140437A

JPS63140437A - ガイド形成方法

Info

Publication number: JPS63140437A
Application number: JP28430086A
Authority: JP
Inventors: Junji Terada; 順司寺田; Yoshihiro Ogawa; 善広小川; Mizuho Hiraoka; 美津穂平岡; Hiroyuki Imataki; 今滝　寛之
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1986-12-01
Filing date: 1986-12-01
Publication date: 1988-06-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明はガイド形成方法に関し、特にプラズマ重合法に
より光記録媒体の基板上にガイドを形成する方法に関す
る。

［従来の技術］従来、光記録媒体にはデータの記録再生のためのトラッ
キングサーボを助ける目的で案内溝（プリグループ）や
データの記録管理のための番地データ等があらかじめ形
成される。（ブレフォーマツティング）このブレフォーマツティングを形成する方法としては、（１）基板に紫外線硬化樹脂を塗布し、あらかじめ決め
られたプリグループ（溝）や信号ビットパターンに作製
されたスタンパて型押しすることにより転写する２２法（２）上述のスタンパを射出成形の金型に装填して、溶
融した熱可塑性プラスチックを射出して、ディスク基板
の成形とプリグループ（溝）と信号ピットの転写とを同
時に行なう射出成型法の２方法が知られている。

しかしながら、この様な方法によるガイド形成方法は、
次の問題点がある。

従来、不飽和ポリエステル樹脂、不飽和ウレタンオリゴ
マー等紫外線硬化樹脂を用いてガイドな形成する２２法
に於ては、樹脂が硬化することによる収縮が原因で基板
の平面性が損なわれていた。

他方、スタンバを使用することにより、ガイドを転写す
る射出成形法に於ては、ガイド形状の転写欠陥が起こり
、即ち、成形回数が増えるに従い、ガイド形状の寸法が
次第に悪くなり精度が減退する為、連続使用できない欠
点がある。

［発明が解決しようとする問題点］本発明の目的は、上述の如き欠点を解決した光記録媒体
の基板上にガイドを形成する方法を提供するものである
。

さらに、本発明の目的は、光記録媒体を含む連続成膜に
よる作業工程を短縮することができ、かつ連続成膜によ
る防汚効果を増加できるようにし、光記録媒体の耐久性
および精度を向上させたガイドの気相形成方法を提供す
るものである。

［問題点を解決するための手段］即ち、本発明は光記録媒体の基板上にガイドを形成する
方法において、基板上にプラズマ重合法によって感光性
を有するプラズマ重合レジスト膜を設け、該プラズマ重
合レジスト膜にガイド形状のパターンを形成し、次いて
プラズマエツチングを行なうことを特徴とするガイド形
成方法である。

以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。

第１図は本発明のガイド形成方法に使用するプラズマ重
合装置の一例を示す説明図である。同第１図において、
本発明のガイド形成方法は、まず基板ｌをプラズマ重合
反応槽２内に設置されている平行平板電極３．４のアノ
ード側の平行基板３に設置し、反応槽２を一度、高真空
域ｉ　ｘ　ｉｏ−’Ｔｏｒｒ以下まで排気した後、モノ
マーガス、例えばシロキサン系モノマーをモノマーガス
取り入れ口５より導入し、０．Ｉ　Ｔｏｒｒ〜数Ｔｏｒ
ｒの圧力で平衡に保つ。尚、４はカソード側の平行基板
である。

次に、反応槽２内に設けた平行平板電極３，４にて放電
を行ない、前記基板１の表面に、シロキサン系プラズマ
重合！Ｉ８を数百〜数ルの厚みで作製し下地層とする。

放電には１３．５６Ｍ）ｌｚの高周波電源を用いる。そ
の後、反応槽２内を１　ｘ　１０”３Ｔｏｒｒ以下まで
排気する。

次に、ガイド形成用モノマーをモノマーガス取り入れ口
５より１種もしくは２種以上導入し、反応ＩＰ！２内を
０．Ｉ　Ｔｏｒｒ〜ａ　Ｔｏｒｒの圧力で平衡に保ち、
反応槽２内に設けた平行平板電極３，４にて放電を行な
い、前記下地層上に数ルのプラズマ重合レジスト１Ｍ！
９を作製する。

その後、反応槽２内をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ以下ま
で排気する。

次に、上記基板をパターン描画室に移動し、電子ビーム
もしくはＸｉを用いてプラズマ重合レジストｆｆ！９ヘ
ガイド形状のパターン描画を行う。

次に、上記基板を現像室に移動し、ガス圧力数ｍ　Ｔｏ
ｒｒの低ガス圧力でプラズマエツチングを行ない、現像
処理をすることによりガイド形状を有するフィルム被着
物を得ることができる。

本発明において、プラズマ重合レジスト膜が形成される
基板としては、材質はガラス及びポリメタクリル酸メチ
ル（ＰＭＭＡ）　、ポリカーボネート（ｐｃ）等の透明
性と低複屈折率等の光記録ディスク基板としての光学特
性を有するものが好ましい。

８はプラズマ重合膜、９は本発明によるガイドを形成す
るプラズマ重合レジスト膜である。

プラズマ重合膜およびプラズマ重合レジスト膜とは有機
モノマーが低温プラズマ状態の中でその高い速度エネル
ギーを持つ分子、イオン、電子の衝突によって成膜され
たもので、一般には低圧に保った真空槽内の基板上に形
成される。

本発明でいうプラズマ重合レジスト膜は、この低圧に保
った真空系の反応槽ｚ内において、平行平板電極３．４
内でプラズマを生成し、それにより感光性機能を有する
膜を形成するものである。

尚、本発明で使用されるプラズマ重合レジスト膜を生成
する有機上ツマ−としては、アクリル酸基、けい皮酸基
、カルコン酸基、ジアゾニウム塩基、フェニルアジド基
、０−キノアジド基等の感光基を含有するモノマーであ
れば特に限定されないが、該千ツマ−としては例えば、
メチルメタクリルレート、メチル−α−シアノアクリル
レート、メチル−α−クロロアクリルレート、メチルベ
ンテルフルフオン、グリシジルメタクリレート、２−ク
ロロエチルビニルエーテル、クロロアルキルアクリルレ
ート等の七ツマ−が好ましい。

これ等の有機上ツマ−を、第１図の七ツマーガス取り入
れ口５より１種もしくは２種以上導入するか、あるいは
他の有機上ツマー１無機ガスを上記含感光基有機千ツマ
−に少なくとも１種以上同時に導入することでプラズマ
重合レジスト膜を作製する。

尚、本発明で使用されるプラズマ重合膜およびプラズマ
重合レジスト膜を作製する有機モノマーとしては、有機
化合物であれば特に限定することなく広範囲のものを用
いることができるが、例えば、次のような化合物が好適
である。

（１）メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘプタンな
どの脂肪族飽和炭化水素。

（２）エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジェン、ペ
ンテン、メチルペンテン、イソプレン、ジメチルペンテ
ンなどのオレフィン類。

（３）アセチレン、プロペン、ブチン、ヘプチンなどの
脂肪族アルキン類。

（４）トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン
、スチレンなどの芳香族炭化水素。

（５）酢酸ビニル、メチルビニルケトン、エチレンオキ
シドなどの含酸素化合物。

（６）塩化ビニル、塩化ビニリデン、弗化ビニル、弗化
ビニリデン、６−フッ化プロピレンなどのハロゲン化炭
化水素。

（７）テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエ
チレン、トリフルオロイソプロピルメタクリレート、ジ
クロロテトラフルオロエタン、ジクロロジフルオロメタ
ンなどのフッソ系化合物。

（８）ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキ
サンなどのケイ素系化合物。

（９）メチルアミン、ジアリルアミン、エチレンジアミ
ン、ピリジン、ピリミジン、キノリン、４−ビニルピリ
ジン、アセトニトリル、アクリルニトリルなどの含窒素
化合物。

（ｌＯ）テトラメチルチン、テトラメチルゲルマニウム
、銅フタロシアニンなどの有機金属化合物。

これ等の有機上ツマ−を第１図の七ツマーガス取り入れ
口５より１種もしくは２種以上導入するか、あるいは他
の無機ガス種、例えば、Ｎｔ＊　０２＋Ｈ２，Ｈｅ、　
Ａｒ等を上記有機モノマーガス種に少なくとも一種以上
同時に導入することでプラズマ重合膜を作製することが
できる。

［作用］本発明のガイド形成方法は基板上にプラズマ重合法によ
って感光性を有するプラズマ重合レジスト膜を設け、該
プラズマ重合レジスト膜にガイド形状のパターンを形成
し、次いでプラズマエ・ンチングな行なうので寸法精度
が極めて高いガイドな形成することができる。

［実施例］以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。

実施例１アクリル基板を平行平板電極を有する真空装置の反応槽
内のアノード側にセットし、１　ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ
以下まで排気してから、ジメチルジメトキシシランモノ
マーガスを０．５Ｔｏｒｒまで導入し、流量２０３ＣＣ
Ｍで平衡にしてから、Ｒ−Ｆ　５０Ｗで、３０分間、プ
ラズマ重合膜の形成を行なった。

重合終了後、反応槽内の圧力をＩ　Ｘ　１Ｏ−３Ｔｏｒ
ｒ以下まで排気し、５分間放置した。

その後、テトラメチルスズ（ＴＭＴ）モノマーガスとメ
タクリル酸メチルモノマーガスを、各々流量Ｉ　ＳＣＣ
Ｍ、２０ＳＣＣＭで０．２Ｔｏｒｒまで導入し、平衡に
してから、Ｒ−Ｆ　５０Ｗで、４０分間プラズマ重合レ
ジスト膜の形成を行なった。

重合終了後、七ツマーガスの導入を止め、反応槽内の圧
力をＩ　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒ以下まで排気し、５分間
放置した。

次に、上記基板を真空状態を維持させたままパターン描
画室に移動させ、電子ビームで加速電圧１８ＫＶ、照射
量５００　ｇ　Ｃ１ｃｍ”　”？’、幅０．６　ｇテプ
ラズマ重合レジスト膜へガイドを描画した。

次に、上記基板を真空状態を維持させたまま現像室へ移
動した。

現像室内の圧力が０．０３Ｔｏｒｒになるまで水素ガス
を導入し、プラズマエツチングにより現像を行った。

プラズマエツチング終了後、ｌ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ
以下まで排気した。

次に、上記ガイド形状が形成された基板上に磁性層、保
護層を形成し、光記録ディスクを作製した。

実施例２ガラス基板を平行平板電極を有する真空装置の反応槽内
のアノード側にセットし、ｌ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ以
下まで排気してから、ヘキサメチルジシロキサンモノマ
ーガスを０．ＩＴｏｒｒまで導入し、流量１１０５ＣＣ
で平衡にしてから、Ｒ−Ｆ　５０Ｗで、１５分間、プラ
ズマ重合膜の形成を行なった。

重合終了後１反応槽内の圧力をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒ
ｒ以下まで排気し、５分間放置した。

その後、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）モノマーガスと
スチレンモノマーガス（Ｓｔ）を、各々流量２０ＳＣＣ
Ｍ、４　ＳＣＣＭで０．５Ｔｏｒｒまで導入し、平衡に
しテカラ、Ｒ−Ｆ　２０Ｗで、６０分間プラズマ重合レ
ジスト膜の形成を行なった。

重合終了後、モノマーガスの導入を止め、反応槽内の圧
力を１　ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ以下まて排気し、５分間
放置した。

次に、上記基板を真空状態を維持させたままパターン描
画室に移動させ、電子ビームで加速電圧２０ＫＶ、照射
量５００　ＪＬ　Ｃ／ｃｍ”で、幅０．６延てプラズマ
重合レジスト膜へガイドを描画した。

次に、上記試料を真空状態を維持させたまま現像室に移
動した。

現像室内の圧力が０．０３Ｔｏｒｒになるまで酸素ガス
を導入し、Ｒ−Ｆ　２００　Ｗにてプラズマエツチング
により現像を行った。

プラズマエツチング終了後、１　ｘ　１０””Ｔｏｒｒ
以下まて排気した。

次に、上記ガイド形状が形成された試料上に磁性層、保
護層を形成し、光記録ディスクを作製した。

［発明の効果］以上説明した様に、本発明のガイド形成方法は光記録デ
ィスクのガイドなプラズマ重合法で気相形成することに
より、■ディスクの平面性の改善、■ガイド形状の寸法
精度減退の改善、■光記録ディスクの連続成膜による記
録特性の耐久性、精度が向上する等の利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のガイド形成方法に使用するプラズマ重
合装置の一例を示す説明図である。ｌ・・・基板２・・・反応槽３．４・・・平行平板電極５・・・モノマーガス取り入れ口６・・・高周波電源７・・・排気口８・・・プラズマ重合膜９・・・プラズマ重合レジスト膜第１図排気口

Claims

【特許請求の範囲】

光記録媒体の基板上にガイドを形成する方法において、
基板上にプラズマ重合法によって感光性を有するプラズ
マ重合レジスト膜を設け、該プラズマ重合レジスト膜に
ガイド形状のパターンを形成し、次いでプラズマエッチ
ングを行なうことを特徴とするガイド形成方法。