JPS63137932A - 表面改質プラスチツクフイルム - Google Patents
表面改質プラスチツクフイルムInfo
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- JPS63137932A JPS63137932A JP28429986A JP28429986A JPS63137932A JP S63137932 A JPS63137932 A JP S63137932A JP 28429986 A JP28429986 A JP 28429986A JP 28429986 A JP28429986 A JP 28429986A JP S63137932 A JPS63137932 A JP S63137932A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は表面改質プラスチックフィルムに関し、特にプ
ラスチックフィルムの表面をプラズマ重合膜で処理する
ことにより、表面硬化性および疎水性を改良した表面改
質プラスチックフィルムに関する。
ラスチックフィルムの表面をプラズマ重合膜で処理する
ことにより、表面硬化性および疎水性を改良した表面改
質プラスチックフィルムに関する。
[従来の技術]
従来、プラスチックフィルムの表面改質法の中で、特に
表面の疎水化及び硬化方法としては下記方法が知られて
いる。
表面の疎水化及び硬化方法としては下記方法が知られて
いる。
(1)フッ素化合物を用い、低圧グロープラズマ中でプ
ラスチックフィルム表面をフッ素化することにより疎水
化する方法。
ラスチックフィルム表面をフッ素化することにより疎水
化する方法。
(2)プラスチックフィルム表面に低温プラズマ処理に
よる活性化に際し、電子ビームを照射し、 AIhOz
、5i02等を蒸発させることにより表面を硬化する方
法。
よる活性化に際し、電子ビームを照射し、 AIhOz
、5i02等を蒸発させることにより表面を硬化する方
法。
上述の2方法がプラスチックフィルムの比較的高速な表
面改質法として知られている。
面改質法として知られている。
しかしながら、上記のプラスチックフィルムの表面改質
法は、求めるプラスチックフィルムの表面改質の内、疎
水化又は硬化のいずれか1つのみしか解決していない。
法は、求めるプラスチックフィルムの表面改質の内、疎
水化又は硬化のいずれか1つのみしか解決していない。
一方、最近、プラスチック表面にプラズマ重合法により
薄膜を作製することで表面の疎水性及び硬化処理の両方
を、一様に解決する方法が報告されている。(特開昭5
8−162901号公報)しかしながら、この方法によ
り得られるプラズマ重合膜では、疎水性の目安となる臨
界表面エネルギー及び膜硬度特性は充分に満足されてい
ない現状である。
薄膜を作製することで表面の疎水性及び硬化処理の両方
を、一様に解決する方法が報告されている。(特開昭5
8−162901号公報)しかしながら、この方法によ
り得られるプラズマ重合膜では、疎水性の目安となる臨
界表面エネルギー及び膜硬度特性は充分に満足されてい
ない現状である。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明の目的は、上述の如き欠点を解決した表面改質プ
ラスチックフィルムを提供するものである。
ラスチックフィルムを提供するものである。
さらに本発明の目的は、プラスチックフィルム基材の特
別な前処理無しに、作製されたプラズマ重合膜と、良好
な密着性が得られる表面改質プラスチックフィルムを提
供するものである。
別な前処理無しに、作製されたプラズマ重合膜と、良好
な密着性が得られる表面改質プラスチックフィルムを提
供するものである。
[問題点を解決するための手段]及び[作用]即ち、本
発明はプラスチックフィルムの表面に少なくとも鉛筆硬
度5H以上で、かつ臨界表面エネルギーが28dyne
/cm以下を有するプラズマ重合膜を形成してなること
を特徴とする表面改質プラスチックフィルムである。
発明はプラスチックフィルムの表面に少なくとも鉛筆硬
度5H以上で、かつ臨界表面エネルギーが28dyne
/cm以下を有するプラズマ重合膜を形成してなること
を特徴とする表面改質プラスチックフィルムである。
本発明ではプラスチックフィルムの表面にプラズマ重合
膜を設けることを特徴とするもので、特にその重合膜が
低表面エネルギーで高い膜硬度を有するものである。
膜を設けることを特徴とするもので、特にその重合膜が
低表面エネルギーで高い膜硬度を有するものである。
以下、本発明を図面を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明の表面改質プラスチックフィルムを製造
するプラズマ重合装置の一例を示す説明図である。同第
1図において、本発明の表面改質プラスチックフィルム
を製造する方法は、まずプラスチックフィルムの基材1
をプラズマ重合反応槽2内に設置されている平行平板電
極3.4のアノード側の平行平板電極3に設置し、反応
槽2を一度、高真空域I X 10−’Torr以下ま
で排気した後、千ツマーガス、例えばフッ素系モノマー
をモノマーガス取り入れ口5より導入し、数10m T
arr〜数Torrの圧力で平衡に保つ。
するプラズマ重合装置の一例を示す説明図である。同第
1図において、本発明の表面改質プラスチックフィルム
を製造する方法は、まずプラスチックフィルムの基材1
をプラズマ重合反応槽2内に設置されている平行平板電
極3.4のアノード側の平行平板電極3に設置し、反応
槽2を一度、高真空域I X 10−’Torr以下ま
で排気した後、千ツマーガス、例えばフッ素系モノマー
をモノマーガス取り入れ口5より導入し、数10m T
arr〜数Torrの圧力で平衡に保つ。
尚、4はカソード側の平行平板電極である。
次に、反応槽2内に設けた平行平板電極3.4にて放電
を行ない、基材l上に厚さ数nm〜数千nmのプラズマ
重合膜8を作製する。その後、反応槽2内をI X 1
13−’Torr以下まで排気する。
を行ない、基材l上に厚さ数nm〜数千nmのプラズマ
重合膜8を作製する。その後、反応槽2内をI X 1
13−’Torr以下まで排気する。
この様にして得られるプラズマ重合−膜が、本発明の臨
界表面エネルギーが28dyne/cm以下の低表面エ
ネルギーで、鉛筆硬度5H以上の高い膜硬度を有する膜
となる。
界表面エネルギーが28dyne/cm以下の低表面エ
ネルギーで、鉛筆硬度5H以上の高い膜硬度を有する膜
となる。
本発明において、プラズマ重合膜が形成されるプラスチ
ックフィルム基材としては、例えばポリエチレン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリ塩化ビニル等が用いられるが、これ等以
外の材質でも良い。
ックフィルム基材としては、例えばポリエチレン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリ塩化ビニル等が用いられるが、これ等以
外の材質でも良い。
8は本発明による低表面エネルギーで、かつ高い膜硬度
を有するプラズマ重合膜である。
を有するプラズマ重合膜である。
プラズマ重合膜とは有機子ツマ−が低温プラズマ状態の
中で、その高い速度エネルギーを持つ分子、イオン、電
子の衝突によって成膜されたもので、一般には低圧に保
った真空槽内の基材上に形成される。
中で、その高い速度エネルギーを持つ分子、イオン、電
子の衝突によって成膜されたもので、一般には低圧に保
った真空槽内の基材上に形成される。
本発明ていうプラズマ重合膜は、この低圧に保った真空
系の反応槽2内において、平行平板電極3.4内でプラ
ズマを生成し、それにより低表面エネルギーで高い膜硬
度を有する膜を形成するものである。
系の反応槽2内において、平行平板電極3.4内でプラ
ズマを生成し、それにより低表面エネルギーで高い膜硬
度を有する膜を形成するものである。
尚、本発明で使用されるプラズマ重合膜を生成する有機
モノマーとしては、有機化合物であれば特に限定するこ
となく広範囲のものを用い・ることができるが、例えば
、次のような化合物が好適で ”ある。
モノマーとしては、有機化合物であれば特に限定するこ
となく広範囲のものを用い・ることができるが、例えば
、次のような化合物が好適で ”ある。
(1)メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘプタンな
どの脂肪族飽和炭化水素。
どの脂肪族飽和炭化水素。
(2)エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジェン、ペ
ンテン、メチルペンテン、イソプレン、ジメチルペンテ
ンなどのオレフィン類。
ンテン、メチルペンテン、イソプレン、ジメチルペンテ
ンなどのオレフィン類。
(3)アセチレン、プロピン、ブチン、ヘプチンなどの
脂肪族アルキン類。
脂肪族アルキン類。
(4)トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン
、スチレンなどの芳香族炭化水素。
、スチレンなどの芳香族炭化水素。
(5)メチルメタクリレート、酢酸ビニル、メチルビニ
ルケトン、エチレンオキシドなどの含酸素化合物。
ルケトン、エチレンオキシドなどの含酸素化合物。
(6)塩化ビニル、塩化ビニリデン、弗化ビニル、弗化
ビニリデン、6−フッ化プロピレン、テトラフルオロエ
チレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロイ
ソプロピルメタクリレート、ジクロロテトラフルオロエ
タン、ジクロロジフルオロメタンなどのハロゲン化炭化
水素。
ビニリデン、6−フッ化プロピレン、テトラフルオロエ
チレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロイ
ソプロピルメタクリレート、ジクロロテトラフルオロエ
タン、ジクロロジフルオロメタンなどのハロゲン化炭化
水素。
(7)ビニルトリエトキシシラン、トリメトキシメチル
シラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのケイ素系化合物
。
シラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ヘキサメチルジシロキサンなどのケイ素系化合物
。
(8)メチルアミン、ジアリルアミン、エチレンジアミ
ン、ピリジン、ピリミジン、キノリン、4−ビニルピリ
ジン、アセトニトリル、アクリルニトリルなどの含窒素
化合物。
ン、ピリジン、ピリミジン、キノリン、4−ビニルピリ
ジン、アセトニトリル、アクリルニトリルなどの含窒素
化合物。
(9)テトラメチルチン、テトラメチルゲルマニウム、
銅フタロシアニンなどの有機金属化合物。
銅フタロシアニンなどの有機金属化合物。
これ等の有機モノマーを第1図の千ツマーガス取り入れ
口5より1種もしくは2種以上導入するか、あるいは他
のashガス種、例えば、N2,0□。
口5より1種もしくは2種以上導入するか、あるいは他
のashガス種、例えば、N2,0□。
N2. He、 Ar等を上記有機子ツマーガス種に少
なくとも一種以上を同時に導入することてプラズマ重合
膜を作製することができる。
なくとも一種以上を同時に導入することてプラズマ重合
膜を作製することができる。
本発明において、プラズマ重合膜は前記の有機子ツマ−
により形成された膜が用いられるが、それ等の中で特に
フッ素系プラズマ重合膜およびシラン系プラズマ重合膜
が好ましい。
により形成された膜が用いられるが、それ等の中で特に
フッ素系プラズマ重合膜およびシラン系プラズマ重合膜
が好ましい。
[実施例]
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
ポリエチレンフィルムを平行平板電極を有する真空装置
の反応槽内のアノード側にセットし、I X 10−’
Torr以下まで排気してから、トリフルオロエチレン
モノマーガスを0.ITorrまで導入し、流量203
CCMテ平衡にしてから、R−F 50Wテ、2膜分間
、プラズマ重合膜の形成を行なった。
の反応槽内のアノード側にセットし、I X 10−’
Torr以下まで排気してから、トリフルオロエチレン
モノマーガスを0.ITorrまで導入し、流量203
CCMテ平衡にしてから、R−F 50Wテ、2膜分間
、プラズマ重合膜の形成を行なった。
重合終了後、反応槽内の圧力をl X IQ−3Tor
r以下まで排気し、5分間放置した。形成されたプラズ
マ重合膜の膜厚は7000■であった。
r以下まで排気し、5分間放置した。形成されたプラズ
マ重合膜の膜厚は7000■であった。
実施例2
ポリカーボネートフィルムを平行平板電極を有する真空
装置の反応槽内のアノード側にセットし、I X 10
−’Torr以下まで排気してから、トリメトキシメチ
ルシランモノマーガスを0.ITorrまで導入し、流
量20SCCM”t”F衡にしてから、R−F 5(I
Wで、50分間、プラズマ重合膜の形成を行なった。
装置の反応槽内のアノード側にセットし、I X 10
−’Torr以下まで排気してから、トリメトキシメチ
ルシランモノマーガスを0.ITorrまで導入し、流
量20SCCM”t”F衡にしてから、R−F 5(I
Wで、50分間、プラズマ重合膜の形成を行なった。
重合終了後、反応槽内の圧力をI X 10−”Tor
r以下まで排気し、5分間放置した。形成されたプラズ
マ重合膜の膜厚は300nmであった。
r以下まで排気し、5分間放置した。形成されたプラズ
マ重合膜の膜厚は300nmであった。
以上の実施例1において、プラスチックフィル牟の表面
にフッ素系プラズマ重合膜を設けることにより、表面エ
ネルギーが36dyne/cmから12dyne/cm
へ低下し、膜硬度は6■であり、テープによる膜剥離テ
ストに対して充分に耐える1膜であった。
にフッ素系プラズマ重合膜を設けることにより、表面エ
ネルギーが36dyne/cmから12dyne/cm
へ低下し、膜硬度は6■であり、テープによる膜剥離テ
ストに対して充分に耐える1膜であった。
また、実施例2において、プラスチックフィルムの表面
にシラン系プラズマ重合膜を設けるととにより、表面エ
ネルギーが45dyne/cmから28dyne/cm
へ低下し、膜硬度は9Hであり、テープによる膜剥離テ
ストに対して充分に耐える膜てあった。
にシラン系プラズマ重合膜を設けるととにより、表面エ
ネルギーが45dyne/cmから28dyne/cm
へ低下し、膜硬度は9Hであり、テープによる膜剥離テ
ストに対して充分に耐える膜てあった。
[発明の効果]
以上説明した様に、本発明の表面改質プラスチックフィ
ルムは、高い膜硬度と低表面エネルギーの疎水性のプラ
ズマ重合膜を有し、また該プラズマ重合膜はプラスチッ
クフィルムとの密着性に優れ、極めて利用価値の高いも
のである。
ルムは、高い膜硬度と低表面エネルギーの疎水性のプラ
ズマ重合膜を有し、また該プラズマ重合膜はプラスチッ
クフィルムとの密着性に優れ、極めて利用価値の高いも
のである。
第1図は本発明の表面改質プラスチックフィルムを製造
するプラズマ重合装置の一例を示す説明図である。 1・・・基材 2・・・反応槽 3.4・・・・平行平板電極 5・・・千ツマーガス取り入れ口 6・・・高周波電源 7・・・排気口 8・・・プラズマ重合膜
するプラズマ重合装置の一例を示す説明図である。 1・・・基材 2・・・反応槽 3.4・・・・平行平板電極 5・・・千ツマーガス取り入れ口 6・・・高周波電源 7・・・排気口 8・・・プラズマ重合膜
Claims (3)
- (1)プラスチックフィルムの表面に少なくとも鉛筆硬
度5H以上で、かつ臨界表面エネルギーが28dyne
/cm以下を有するプラズマ重合膜を形成してなること
を特徴とする表面改質プラスチックフィルム。 - (2)プラズマ重合膜がフッ素系プラズマ重合膜である
特許請求の範囲第1項記載の表面改質プラスチックフィ
ルム。 - (3)プラズマ重合膜がシラン系プラズマ重合膜である
特許請求の範囲第1項記載の表面改質プラスチックフィ
ルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28429986A JPS63137932A (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 表面改質プラスチツクフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28429986A JPS63137932A (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 表面改質プラスチツクフイルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63137932A true JPS63137932A (ja) | 1988-06-09 |
Family
ID=17676731
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28429986A Pending JPS63137932A (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 | 表面改質プラスチツクフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63137932A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014063759A (ja) * | 2008-03-28 | 2014-04-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 触媒層転写フィルム |
-
1986
- 1986-12-01 JP JP28429986A patent/JPS63137932A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014063759A (ja) * | 2008-03-28 | 2014-04-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 触媒層転写フィルム |
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