JPS63134511A - シリカゲルの製造方法 - Google Patents
シリカゲルの製造方法Info
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- JPS63134511A JPS63134511A JP61276666A JP27666686A JPS63134511A JP S63134511 A JPS63134511 A JP S63134511A JP 61276666 A JP61276666 A JP 61276666A JP 27666686 A JP27666686 A JP 27666686A JP S63134511 A JPS63134511 A JP S63134511A
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、シリカゲルを製造する方法に係り、特にテト
ラアルコキシシランを原料としてシリカゲルを製造する
方法に関する。
ラアルコキシシランを原料としてシリカゲルを製造する
方法に関する。
[従来の技術]
従来、シリカゲルを製造する方法としては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキ
シシランを酸の存在下に水/アルコキシシランのモル比
5以上の反応条件でIJ口水分解することによりシラノ
ールを経てゾル状シリカとし、次いで静置状態に保持し
ながらゲル状物にした後、室温で数日保持乾燥してシリ
カゲルを得る方法等が知られている。
キシシラン、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキ
シシランを酸の存在下に水/アルコキシシランのモル比
5以上の反応条件でIJ口水分解することによりシラノ
ールを経てゾル状シリカとし、次いで静置状態に保持し
ながらゲル状物にした後、室温で数日保持乾燥してシリ
カゲルを得る方法等が知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、この従来の方法では、加水分解及び重合
によってゲル構造が完結するのに長い日数がかかり、も
しこのゲル熟成時間を省略すると、製造されたシリカゲ
ル中に未反応のアルコキシ基が残留し、このゲルを乾燥
、焼結した際に有機残基が炭化されて黒色の粒子がシリ
カゲルに混入するという問題が生じる。
によってゲル構造が完結するのに長い日数がかかり、も
しこのゲル熟成時間を省略すると、製造されたシリカゲ
ル中に未反応のアルコキシ基が残留し、このゲルを乾燥
、焼結した際に有機残基が炭化されて黒色の粒子がシリ
カゲルに混入するという問題が生じる。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、かかる観点に鑑みて創案されたもので、テト
ラアルコキシシランを加水分解してシリカゲルを製造す
る方法において、水/テトラアルコキシシランの反応モ
ル比が3以上で、かつ、還流条件下に加水分解反応及び
ゾル・ゲル反応を行うシリカゲルの製造方法である。
ラアルコキシシランを加水分解してシリカゲルを製造す
る方法において、水/テトラアルコキシシランの反応モ
ル比が3以上で、かつ、還流条件下に加水分解反応及び
ゾル・ゲル反応を行うシリカゲルの製造方法である。
本発明方法で使用するテトラアルコキシシランは、一般
式Si (OR>4 (但し、式中Rはアルキル基を
示す)で示される化合物であり、例えばテトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシ
シラン等が挙げられる。このテトラアルコキシシランは
、塩化水銀ヤナトリウムアルコラート等を触媒として硅
素とアルコールとを直接接触させて合成する方法、硅素
の塩化物とアルコールとの反応によって合成する方法等
、如何なる方法で製造されたものであってもよい。
式Si (OR>4 (但し、式中Rはアルキル基を
示す)で示される化合物であり、例えばテトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシ
シラン等が挙げられる。このテトラアルコキシシランは
、塩化水銀ヤナトリウムアルコラート等を触媒として硅
素とアルコールとを直接接触させて合成する方法、硅素
の塩化物とアルコールとの反応によって合成する方法等
、如何なる方法で製造されたものであってもよい。
また、テトラアルコキシシランの加水分解を促進するた
め、加水分解触媒を使用することが望ましく、このよう
な触媒としては塩酸、硫酸、炭酸ガス、アンモニア等が
挙げられる。
め、加水分解触媒を使用することが望ましく、このよう
な触媒としては塩酸、硫酸、炭酸ガス、アンモニア等が
挙げられる。
次に、本発明におけるテトラアルコキシシランの加水分
解反応について説明する。テトラアルコキシシランの加
水分解反応はゾル・ゲル反応として古くから知られてい
る。その反応工程は加水分′解と脱水縮合とを繰返しな
がら高分子化することにより進行するため非常に複雑に
なり、これを反応式で完全に記述することは困離である
。そこで、以下に示すような反応式を基に必要水分量を
求めるのが妥当である。
解反応について説明する。テトラアルコキシシランの加
水分解反応はゾル・ゲル反応として古くから知られてい
る。その反応工程は加水分′解と脱水縮合とを繰返しな
がら高分子化することにより進行するため非常に複雑に
なり、これを反応式で完全に記述することは困離である
。そこで、以下に示すような反応式を基に必要水分量を
求めるのが妥当である。
S i (OR>4 +4820
→Si(OH)4+4ROH(1)
Si(OH) →5t02+2820 (2>Si
(OR) 4+2820 \→5i02 +4ROH(3) すなわち、テトラアルコキシシランの加水分解を定量的
に進めるには、上記反応式(1)に基づき、テトラアル
コキシシラン1モルに対して4モルの水を添加する必要
があるが、反応式(2)に基づき脱水縮合で生成する水
分的を考慮すると、反応式(3)に示されるようにテト
ラアルコキシシランに対して2倍モルの水゛を添加すれ
ばよいことになる。
(OR) 4+2820 \→5i02 +4ROH(3) すなわち、テトラアルコキシシランの加水分解を定量的
に進めるには、上記反応式(1)に基づき、テトラアル
コキシシラン1モルに対して4モルの水を添加する必要
があるが、反応式(2)に基づき脱水縮合で生成する水
分的を考慮すると、反応式(3)に示されるようにテト
ラアルコキシシランに対して2倍モルの水゛を添加すれ
ばよいことになる。
加水分解反応は、一般には室温若しくは若干の加温下で
行われるが、本発明は良好なシリカゲルを効率的に製造
するため還流条件下に行うものである。このため、加水
分解反応及びゲル構造の完結が極めて速やかに進行する
。
行われるが、本発明は良好なシリカゲルを効率的に製造
するため還流条件下に行うものである。このため、加水
分解反応及びゲル構造の完結が極めて速やかに進行する
。
水の添加量は、理論的には上記反応式(3)から明らか
なように、テトラアルコキシシラン1モルに対して2モ
ル必要であるが、添加量が少ないと加水分解反応が不十
分となり、ゲル焼成後シリカ中に炭化物を生成する。ま
た、添加量が多いと加水分解反応はうまく進行するが、
ゲル焼成時に多量の水を除去せねばならず、工業的には
有利とは言えない。従って、水の添加量は加水分解反応
を十分行なわしめるに足る聞であって、可及的に少最で
あることが望ましいが、本発明においてはテトラアルコ
キシシラン1モルに対し3モル以上あれば十分である。
なように、テトラアルコキシシラン1モルに対して2モ
ル必要であるが、添加量が少ないと加水分解反応が不十
分となり、ゲル焼成後シリカ中に炭化物を生成する。ま
た、添加量が多いと加水分解反応はうまく進行するが、
ゲル焼成時に多量の水を除去せねばならず、工業的には
有利とは言えない。従って、水の添加量は加水分解反応
を十分行なわしめるに足る聞であって、可及的に少最で
あることが望ましいが、本発明においてはテトラアルコ
キシシラン1モルに対し3モル以上あれば十分である。
3モルより少ないと非常に長い反応時間を必要とする。
水の添加方法は、加水分解反応を行なうときに一括添加
する方法、所定量を幾つかに分割して適当な時間毎に添
加する方法、あるいは定量ポンプで連続的に添加する方
法等のいずれでも差支えないが、ゲル状物を効率的に得
るためには一括添加する方法が優れている。
する方法、所定量を幾つかに分割して適当な時間毎に添
加する方法、あるいは定量ポンプで連続的に添加する方
法等のいずれでも差支えないが、ゲル状物を効率的に得
るためには一括添加する方法が優れている。
加水分解反応を還流条件下で行なうことによりゲル状物
を得るまでの時間が短縮され、また、テトラアルコキシ
シラン1モルに対して3モル以上の水を添加すれば、焼
成後炭化物等のない良好なシリカが得られる。また、水
の添加量の増加に伴いゲル状物を得るまでの時間が短縮
される。さらに、この加水分解反応には溶媒としてアル
コールを添加することが有利で、この場合アルコールの
添加量は、通常テトラアルコキシシラン1モルに対して
0.5〜1モルであるが、特にこの量であ □る必要
はない。アルコールの使用串を多くすればゲル状物を得
るまでの時間が長くなり、逆に、アルコールの使用凶を
少くすれば、加水分解反応中白濁するが、ゲル状物を得
るまでの時間は短縮され、生成するシリカの物性にも特
に影響はない。
を得るまでの時間が短縮され、また、テトラアルコキシ
シラン1モルに対して3モル以上の水を添加すれば、焼
成後炭化物等のない良好なシリカが得られる。また、水
の添加量の増加に伴いゲル状物を得るまでの時間が短縮
される。さらに、この加水分解反応には溶媒としてアル
コールを添加することが有利で、この場合アルコールの
添加量は、通常テトラアルコキシシラン1モルに対して
0.5〜1モルであるが、特にこの量であ □る必要
はない。アルコールの使用串を多くすればゲル状物を得
るまでの時間が長くなり、逆に、アルコールの使用凶を
少くすれば、加水分解反応中白濁するが、ゲル状物を得
るまでの時間は短縮され、生成するシリカの物性にも特
に影響はない。
従って、アルコールは全く添加しなくてもよいが、反応
を効率的に行なわしめるために適当量加えることが望ま
しい。
を効率的に行なわしめるために適当量加えることが望ま
しい。
加水分解反応によりゾルが生成し、続いてゲル化が進行
するが、本発明においてはこのゾル・ゲル反応も還流条
件下に行い反応を速やかに完結させる。ゾル又はゲル状
物をそのまま還流条件下に保持することにより加水分解
が促進され、アルコールが放出される。これによりアル
コキシ基の残沼分の少ないシリカゲルを短時間で得るこ
とができる。また、還流を行なうことにより加水分解工
程に必要な水を有効に確保できるので、水/テトラアル
コキシシランのモル比3以上で乾燥・焼結工程後に炭化
物が全く混っていないシリカゲルを得ることができる。
するが、本発明においてはこのゾル・ゲル反応も還流条
件下に行い反応を速やかに完結させる。ゾル又はゲル状
物をそのまま還流条件下に保持することにより加水分解
が促進され、アルコールが放出される。これによりアル
コキシ基の残沼分の少ないシリカゲルを短時間で得るこ
とができる。また、還流を行なうことにより加水分解工
程に必要な水を有効に確保できるので、水/テトラアル
コキシシランのモル比3以上で乾燥・焼結工程後に炭化
物が全く混っていないシリカゲルを得ることができる。
[実施例]
以下、実施例及び比較例に基いて、本発明方法を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例1
ガラス製反応容器にテトラメトキシシラン100重量部
とメタノール16.7重量部とを仕込み、これに純水3
5.7重口部を一括添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ
。その後20Or、I)、m、で撹拌しながら加熱し、
還流条件下で加水分解反応を行い、約100分でゲル状
物を得た。さらに還流条件下で3時間保持しゲル構造の
完結を行なった。
とメタノール16.7重量部とを仕込み、これに純水3
5.7重口部を一括添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ
。その後20Or、I)、m、で撹拌しながら加熱し、
還流条件下で加水分解反応を行い、約100分でゲル状
物を得た。さらに還流条件下で3時間保持しゲル構造の
完結を行なった。
得られたゲル状物を乾燥し、さらに1.100″Cで焼
結したところ、炭化物の混じらない白色の良好なシリカ
が得られた。
結したところ、炭化物の混じらない白色の良好なシリカ
が得られた。
実施例2
実施例1と同様の反応容器を使用し、テトラメトキシ2
92100重檗部とメタノール17重量部とを仕込み、
さらに純水47.3重量部を一括添加し、次いで炭酸ガ
スを吹込んだ。実施例1と同様に加水分解反応を行なっ
たところ、約30分でゲル状物が得られた。さらに還流
条件下で約1時間保持し、実施例1と同様にして白色の
良好なシリカを得た。
92100重檗部とメタノール17重量部とを仕込み、
さらに純水47.3重量部を一括添加し、次いで炭酸ガ
スを吹込んだ。実施例1と同様に加水分解反応を行なっ
たところ、約30分でゲル状物が得られた。さらに還流
条件下で約1時間保持し、実施例1と同様にして白色の
良好なシリカを得た。
実施例3
テトラメトキシシラン100重量部とメタノール66.
7重層部とを仕込み、ざらに純水58゜7重量部を一括
添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。実施例1と同様に
加水分解反応を行ない、約90分でゲル状物を得た。ざ
らに還流条件下で1時間保持し、実施例1と同様にして
白色の良好なシリカを得た。
7重層部とを仕込み、ざらに純水58゜7重量部を一括
添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。実施例1と同様に
加水分解反応を行ない、約90分でゲル状物を得た。ざ
らに還流条件下で1時間保持し、実施例1と同様にして
白色の良好なシリカを得た。
実施例4
テトラメトキシシラン100重量部とメタノール8.3
重口部とを仕込み、ざらに純水58.7重量部を一括添
加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。
重口部とを仕込み、ざらに純水58.7重量部を一括添
加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。
実施例1と同様に加水分解反応を行ない、約20分で白
濁したゲル状物を得た。さらに還流条件下で1時間保持
し、実施例1と同様にして白色の良好なシリカを19だ
。
濁したゲル状物を得た。さらに還流条件下で1時間保持
し、実施例1と同様にして白色の良好なシリカを19だ
。
実施例5
テトラメトキシシラン100重量部とメタノール16.
7重量部とを仕込み、炭酸ガスを吹き込みながら20O
r、p、m、で撹拌し、還流条件下に純水58.7重口
部を4分割し1時間毎に添加して加水分解反応を行なっ
た。約260分程でゲル状物が得られた。さらに還流条
件下で1時間保持し、実施例1と同様にして白色の良好
なシリカを得た。
7重量部とを仕込み、炭酸ガスを吹き込みながら20O
r、p、m、で撹拌し、還流条件下に純水58.7重口
部を4分割し1時間毎に添加して加水分解反応を行なっ
た。約260分程でゲル状物が得られた。さらに還流条
件下で1時間保持し、実施例1と同様にして白色の良好
なシリカを得た。
実施例6
テトラメトキシシラン100ff11部とメタノール1
6.7重口部とを仕込み、炭酸ガスを吹き込みながら2
0Or、p、m、で撹拌し還流条件下に保った。これに
純水58.7重口部を5.2d/分の速度で定量ポンプ
で連続添加して加水分解反応を行なった。約30分でゲ
ル状物が得られた。そのまま還流条件下で1時間保持し
、実施例1と同様にして白色の良好なシリカを得た。
6.7重口部とを仕込み、炭酸ガスを吹き込みながら2
0Or、p、m、で撹拌し還流条件下に保った。これに
純水58.7重口部を5.2d/分の速度で定量ポンプ
で連続添加して加水分解反応を行なった。約30分でゲ
ル状物が得られた。そのまま還流条件下で1時間保持し
、実施例1と同様にして白色の良好なシリカを得た。
比較例1
ガラス製反応容器にテトラメトキシ992100重ω部
とメタノール16.7重量部とを仕込み、ざらに純水3
3.0重口部を一括添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ
。その後実施例1と同様にして加水分解反応を行なった
。約150分でゲル状物を得た。ざらにそのまま還流条
件下で3時間保持し、実施例1と同様に乾燥・焼結した
ところ、シリカ中に異色炭化物が発生した。
とメタノール16.7重量部とを仕込み、ざらに純水3
3.0重口部を一括添加し、次いで炭酸ガスを吹込んだ
。その後実施例1と同様にして加水分解反応を行なった
。約150分でゲル状物を得た。ざらにそのまま還流条
件下で3時間保持し、実施例1と同様に乾燥・焼結した
ところ、シリカ中に異色炭化物が発生した。
比較例2
テトラメトキシシラン100重1部とメタノール17重
量部とを仕込み、さらに純水58.7重量部を一括添加
し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。
量部とを仕込み、さらに純水58.7重量部を一括添加
し、次いで炭酸ガスを吹込んだ。
室温で撹拌しながら加水分解反応を行なった。ゲル状物
を得るのに約250分を要した。得られたゲル状物をざ
らに室温で1日間保持して乾燥し、さらに1,100℃
で焼結したところ、炭化物が少量混ざっているシリカを
得た。この方法で良好なシリカを得るには、ゲル状物を
室温で3日間以上保持する必要があった。
を得るのに約250分を要した。得られたゲル状物をざ
らに室温で1日間保持して乾燥し、さらに1,100℃
で焼結したところ、炭化物が少量混ざっているシリカを
得た。この方法で良好なシリカを得るには、ゲル状物を
室温で3日間以上保持する必要があった。
[発明の効果]
本発明によれば、従来に比べ加水分解反応時に添加する
水の母が少なく、また、極めて短時間にゲル構造の完結
したシリカゲルを得ることができるので、プロセス経済
上極めて有利であり、工業上効率的にシリカゲルをlJ
!造することができる。
水の母が少なく、また、極めて短時間にゲル構造の完結
したシリカゲルを得ることができるので、プロセス経済
上極めて有利であり、工業上効率的にシリカゲルをlJ
!造することができる。
また、本発明方法で得られたシリカゲルは焼結後に炭化
物が生成せず、白色の良好な物性を有するシリカとなる
。
物が生成せず、白色の良好な物性を有するシリカとなる
。
Claims (2)
- (1)テトラアルコキシシランを加水分解してシリカゲ
ルを製造する方法において、水/テトラアルコキシシラ
ンのモル比3以上、かつ、還流条件下に加水分解反応及
びゾル・ゲル反応を行うことを特徴とするシリカゲルの
製造方法。 - (2)加水分解反応をアルコールの存在下に行う特許請
求の範囲第1項記載のシリカゲルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61276666A JPH0645452B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | シリカゲルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61276666A JPH0645452B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | シリカゲルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63134511A true JPS63134511A (ja) | 1988-06-07 |
JPH0645452B2 JPH0645452B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=17572623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61276666A Expired - Lifetime JPH0645452B2 (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | シリカゲルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645452B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024071055A1 (ja) * | 2022-09-27 | 2024-04-04 | 国立大学法人 東京大学 | SiO2を含有する原料を直接接合したSiO2含有物の製造方法 |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP61276666A patent/JPH0645452B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024071055A1 (ja) * | 2022-09-27 | 2024-04-04 | 国立大学法人 東京大学 | SiO2を含有する原料を直接接合したSiO2含有物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0645452B2 (ja) | 1994-06-15 |
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