JPS63133122A - 液晶光制御素子の製造方法 - Google Patents

液晶光制御素子の製造方法

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JPS63133122A
JPS63133122A JP28134086A JP28134086A JPS63133122A JP S63133122 A JPS63133122 A JP S63133122A JP 28134086 A JP28134086 A JP 28134086A JP 28134086 A JP28134086 A JP 28134086A JP S63133122 A JPS63133122 A JP S63133122A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
electrode
layer
lower substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP28134086A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Okabe
岡部 正博
Seiji Tanuma
清治 田沼
Hideshi Yoshida
秀史 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 本発明は液晶表示素子において、広い面積(数〜数10
0M)にわたり、液晶層(数〜数10μm)の層の厚さ
を精度よく形成するため、スペーサを混入させた液晶を
印刷法或いはスピンコード法等の塗布法により基板上に
形成し、その上に配向膜や透明電極などを積層した所望
の積層膜を形成した後、その上に上側基板を接着するこ
とを特徴としたもので、層厚の均一化、基板の条件緩和
が達成されたものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶表示素子等の光制御素子の製造方法、特
にその液晶層厚さ制御方法に関する。
〔従来の技術〕
フラットパネルディスプレイとして、液晶表示装置の開
発が行われているが、大容量化、高速化。
表示品質の向上は、以前にも増して重要なものとなって
いる。近年これらの要求に合致する可能性をもつものと
して、強誘電性液晶が発表された。
この液晶を用いた表示装置を製作するには、狭ギャップ
を高精度で実現できる製造方法が必要とされる。
従来の液晶表示素子の製造法を第3図(al〜(C1に
示す。同図fa+は上基板及び下基板の構造を示す図で
、同図に見られる如く、ガラス基板のような下側基板3
01上に、透明電極302と配向膜303とをスパッタ
法などにより形成する。
次いで同図fblに示すように、下側の基板上にグラス
ファイバなどのスペーサ304を塗布する。その後、同
図(C1に見られるように、これの上に上側の基板30
6を重ね合わせ、周囲を封止剤305により封止して液
晶注入用の表示セルを形成する。
このあと図示はしていないが、液晶注入用の封止セル内
に液晶を注入して、液晶表示装置が完成する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の液晶表示素子製造技術では、スペーサに異物が混
入していたり、或いは貼り合わせ工程に至る前に配向膜
上にゴミ等の異物が載ったりして、間隙307が精度よ
く出せないという問題があった。
更に間隙を一定値に保つには、上下の基板面の平坦性に
ついて高度なものが要求され、基板コストが高いという
欠点も生じる。
そこで本発明の目的は、基板に対する平坦性の要求を緩
和し得る、改良された液晶光制御素子の製造方法を提供
することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図fal、 (b)の本発明の原理説明図に示すよ
うに、透明電極、配向膜などを予め形成した基板1上に
、スペーサ3を混入した液晶2を塗布し、次に配向膜、
透明電極などを積層した積層膜4を形成する。
〔作 用〕
本発明の液晶2は基板1の上にスピンコード法などによ
り塗布されるため、基板1の表面に凹凸があっても、こ
れに影響されることなく、均一な層厚を有する液晶層を
形成できる。
〔実 施 例〕
第2図は本発明の一実施例を製造工程の順に示す図であ
る。
同図(alに示すように、ガラス基板、プラスティック
基板などの下側基板201上に、イオンブレーティング
法等によりITO層を被着せしめ、これを所定のパター
ンに従って選択的に除去し、透明な第1の電極202及
び接続電極205を形成する。
なお接続電極205は、第1の電極202とは液晶を挟
んで対向する対向電極の取り出し電極用のバンドである
。なお本実施例では上記第1の電極202を透明電極と
したが、これは必ずしも透明である必要はなく、不透明
電極であってもよい。
次いでこれの上に染色法、印刷法等によってカラーフィ
ルタ203を形成し、更にその上にポリイミドを塗布し
、これにラビング法を施して配向膜204を形成する。
次に同図(b)に見られるように、接続電極205の一
部をマスク206で覆った上で、スペーサ208を混入
した液晶をスピンコード法、ロールコート法などにより
塗布して、液晶層207を形成する。ここで塗布する液
晶にスペーサに混入させておくのは、液晶層207の厚
さを一定に保つためである。
また本実施例のように液晶を塗布法を用いて形成するこ
とにより、下地の状態に関係なく液晶層207の上面を
平坦な面とすることができる。従って本実施例では下側
基板201表面の平坦度に対する要求は、従来の製造方
法による場合より緩いものとすることができる。
更にその上にポリイミドを塗布し、これにラビング法を
施して配向膜209を形成する。
次いで同図fc)に示すように、上記マスク206を取
り除き、同時にマスク206上に被着していた液晶層2
07及び配向膜209の不要部を除去して、接続電極2
05の表面を露出させる。次いで、この電極205表面
から上記配向膜上に導出された透明な対向電極210を
形成する(同図(C))。
次いでこのようにして所定の膜を積層した積層膜211
を形成した後、その上に、同図fdlに見られるように
、透明な接着剤2例えば水ガラスのような接着層212
を介して上側基板213を貼り合わせる。なお、液晶2
07の漏出を防止するため、その周辺部に封止剤を塗布
する等の方法で封止してもよい。
以上述べた如く本実施例では液晶層207の表面を、下
地に多少の凹凸があっても平坦に形成できるので、下側
基板201の表面の平坦度に対す要求を緩和でき、しか
も狭い間隙を精度よく且つ容易に形成できる。
なお本発明は上記一本実施例に限定されるものではなく
、例えば曲面状の基板上に液晶層を形成する場合や、単
純マトリクスを構成する場合にも適用できる。
また本発明は、強誘電性液晶のように粘性の高い液晶を
用いて液晶光制御素子を製作する場合に、極めて有効で
あり、従って高速の液晶光制御素子の製作が容易となる
。粘性の低い通常のネマティック液晶を用いる場合には
、加工時の温度を低くすることによって、これまた本発
明を通用することができる。
本発明を実施するに際し、下側基板201及び上側基板
213は透明、不透明のいずれかに限定されるものでは
なく、光の入射面を透明にすればよいことは言うまでも
ない。
〔発明の効果°〕
以上説明したごとく本発明によれば、下側基板の平坦性
に対する条件が緩和されるのみなす、曲面形状の基板を
用いて液晶パネルを形成することも可能であり、適用分
野が拡大される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明一実施例の説明図、 第3図は従来の液晶表示装置の製造方法説明図である。 図において、1,201は基板、2,207は液晶層、
3.208はスペーサ、202は第1の電極、210は
対向電極、4.211 は積層膜、212は接着層、2
13は4ジ谷p月原理JとD万m 第1図       (。 」) 本発明の一冗栖4列註萌詔 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 対向配置される一対の基板のうちの、下側基板(1、2
    01)表面に所定のパターンに従って第1の電極(20
    2)を形成した後、該第1の電極上を含む前記下側基板
    上に、所定寸法のスペーサ(208)を混入した液晶層
    (207)を塗布法により形成する工程と、該液晶層上
    に所定の膜を積層した積層膜(211)を形成したのち
    、その上に上側基板(210)を接着する工程とを含む
    ことを特徴とする液晶光制御素子の製造方法。
JP28134086A 1986-11-25 1986-11-25 液晶光制御素子の製造方法 Pending JPS63133122A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0339929A (ja) * 1989-07-07 1991-02-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61196229A (ja) * 1985-02-21 1986-08-30 オボニック・イメ−ジング・システムズ・インコ−ポレイテッド 改良されたアクテイブマトリクス液晶デイスプレイ及びその製法

Patent Citations (1)

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JPS61196229A (ja) * 1985-02-21 1986-08-30 オボニック・イメ−ジング・システムズ・インコ−ポレイテッド 改良されたアクテイブマトリクス液晶デイスプレイ及びその製法

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