JPS6224229A - 液晶電気光学装置作製方法 - Google Patents
液晶電気光学装置作製方法Info
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- JPS6224229A JPS6224229A JP11584486A JP11584486A JPS6224229A JP S6224229 A JPS6224229 A JP S6224229A JP 11584486 A JP11584486 A JP 11584486A JP 11584486 A JP11584486 A JP 11584486A JP S6224229 A JPS6224229 A JP S6224229A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の利用分野」
本発明は液晶表示パネルまたはアクティブ・マトリック
ス方式による液晶表示パネルに関するものであって、マ
イクロコンピュータ、ワードプロセッサまたはテレビ等
に用いられる液晶表示装置その他の液晶電気光学装置の
作製方法に関する。
ス方式による液晶表示パネルに関するものであって、マ
イクロコンピュータ、ワードプロセッサまたはテレビ等
に用いられる液晶表示装置その他の液晶電気光学装置の
作製方法に関する。
・従来の技術・
：従来の液晶電気光学装置、例えば液晶表示装置
は２つの透明基板の内側にそれぞれ透明導電膜、
□゛配向膜が設けられ、この間に液晶を充填して
、２つの電極間に印加される電圧の有無により「オン」
「オフ」を制御していた。そしてこの表示により
ｉ文字、グラフまたは絵を表示するものである。
１しかしこの２つの透明電極間は、約１０
μもの厚 ｊい間隔を有し、最近はこの間隔も
５μにまでなっ 、゛た。しかしかかる広い間
隔はＴＮ （ツウイステッド・ネマチック）型液晶にお
いては必要であるが、カイラル・スメクチックＣ相を用
いる強誘電性液晶（以下ＦＣＣという）を使用するなら
ば、３μ以下一般には２±０．５μが求められている。
：従来の液晶電気光学装置、例えば液晶表示装置
は２つの透明基板の内側にそれぞれ透明導電膜、
□゛配向膜が設けられ、この間に液晶を充填して
、２つの電極間に印加される電圧の有無により「オン」
「オフ」を制御していた。そしてこの表示により
ｉ文字、グラフまたは絵を表示するものである。
１しかしこの２つの透明電極間は、約１０
μもの厚 ｊい間隔を有し、最近はこの間隔も
５μにまでなっ 、゛た。しかしかかる広い間
隔はＴＮ （ツウイステッド・ネマチック）型液晶にお
いては必要であるが、カイラル・スメクチックＣ相を用
いる強誘電性液晶（以下ＦＣＣという）を使用するなら
ば、３μ以下一般には２±０．５μが求められている。
従来、この１０μの間隔に表面張力を用いて公知のＴＮ
液晶を充填する場合、この間隙を制御するスペーサが考
えだされた。即ちスペーサは一般に有機樹脂の球形を有
する粒子であって、例えばミクロパール５Ｐ−２１０（
平均粒１０．０±０．５μ）を用いている。このミクロ
パールはジビニルベンゼン系架橋重合体であり、透明な
真球微粒子である。
液晶を充填する場合、この間隙を制御するスペーサが考
えだされた。即ちスペーサは一般に有機樹脂の球形を有
する粒子であって、例えばミクロパール５Ｐ−２１０（
平均粒１０．０±０．５μ）を用いている。このミクロ
パールはジビニルベンゼン系架橋重合体であり、透明な
真球微粒子である。
即ち、第１図に従来の液晶表示装置の縦断面図を示して
いる。図面において、液晶表示用の２つの透明基板（１
） 、 （１・）の周辺部には、液晶が外部にもれない
よう樹脂とスペーサ（７）とを混合したシール材（６）
が溜めてあり、２つの基板間の距離を周辺部において一
定に保っている。、しかし液晶（５）が充填された領域
において外部より透明基板の機械的なストレスが加わっ
た場合、または基板の平坦性のなさにより２つの透明電
極が互いにショートまたは近接しやすい。その結果、液
晶が透光性でなくなったり、一部が黒化して不良が発生
しやすかった。このため、液晶部に対しても他のミクロ
バールスペーサ（４）を散在させてそれぞれの電極がシ
ョートしないように一定の距離に保たせていた。
いる。図面において、液晶表示用の２つの透明基板（１
） 、 （１・）の周辺部には、液晶が外部にもれない
よう樹脂とスペーサ（７）とを混合したシール材（６）
が溜めてあり、２つの基板間の距離を周辺部において一
定に保っている。、しかし液晶（５）が充填された領域
において外部より透明基板の機械的なストレスが加わっ
た場合、または基板の平坦性のなさにより２つの透明電
極が互いにショートまたは近接しやすい。その結果、液
晶が透光性でなくなったり、一部が黒化して不良が発生
しやすかった。このため、液晶部に対しても他のミクロ
バールスペーサ（４）を散在させてそれぞれの電極がシ
ョートしないように一定の距離に保たせていた。
しかし、このスペーサは単に配向膜間に散在させたのみ
であり、それぞれと点接触となり、この接触部は局部荷
重が大きく加わってしまった。そしてこの接触部にもし
アクティブ素子があると、こ−の素子を破壊してしまう
こともあり得る。
であり、それぞれと点接触となり、この接触部は局部荷
重が大きく加わってしまった。そしてこの接触部にもし
アクティブ素子があると、こ−の素子を破壊してしまう
こともあり得る。
また従来のスペーサは散布の際に凝集し、基板上に均等
に分散させるのが非常に困難であった。
に分散させるのが非常に困難であった。
また、スペーサ自身の粒径にもばらつきが見られ均等な
基板間隔を得ることが困難であった。
基板間隔を得ることが困難であった。
さらにこのＴＮ液晶を用いて実際に液晶表示装置を作ら
んとすると、２つの基板をシール材で周辺の一部を除き
シールしてしまった後、この中を真空に保ち、毛細管現
象を利用して液晶を充填している。しかしその間隔が３
μまたはそれ以下を必要とするＦＬＣの如き液晶では、
毛細管現象を利用して充填する場合スペーサが動いてし
まったり、またスペーサそれ自体が小さいため、ますま
す互いに凝集しやすくなり、均一に散在させることが不
可能であった。
んとすると、２つの基板をシール材で周辺の一部を除き
シールしてしまった後、この中を真空に保ち、毛細管現
象を利用して液晶を充填している。しかしその間隔が３
μまたはそれ以下を必要とするＦＬＣの如き液晶では、
毛細管現象を利用して充填する場合スペーサが動いてし
まったり、またスペーサそれ自体が小さいため、ますま
す互いに凝集しやすくなり、均一に散在させることが不
可能であった。
このため表示のコントラストは中央部と周辺部で異なっ
てしまう現象が見られてしまった。特に表示装置が２０
ａＩ Ｘ ３Ｑｃｍと大きなパネル状になった時に不良
が発生しやすかった。さらにスペーサが散在する位置が
ばらばらであるため、アクティブ素子が連結したディス
プレイにおいて、この素子に局部的に応力を加えてしま
うことも起き、素子の不良を誘発しやすい。
てしまう現象が見られてしまった。特に表示装置が２０
ａＩ Ｘ ３Ｑｃｍと大きなパネル状になった時に不良
が発生しやすかった。さらにスペーサが散在する位置が
ばらばらであるため、アクティブ素子が連結したディス
プレイにおいて、この素子に局部的に応力を加えてしま
うことも起き、素子の不良を誘発しやすい。
ｒ問題を解決するための手段」
このため本発明は、従来の公知の単体でできている有機
樹脂または無機組成物のスペーサを用いるのではなく、
一方の基板上側に電極またはこの電極と配向処理または
配向膜が形成された表面上に所定の高さに塗布法等によ
り感光性有機樹脂例えばポリイミド系前駆体で覆い、こ
れにマスクを用いて選択的露光を施し感光性樹脂を感光
させることができる。このようにしてマスクのない領域
のみを選択的に感光せしめた後エツチング工程にて選択
的に線状、またはブロック状、または任意形状の“貝柱
”のスペーサを形成したものである。
樹脂または無機組成物のスペーサを用いるのではなく、
一方の基板上側に電極またはこの電極と配向処理または
配向膜が形成された表面上に所定の高さに塗布法等によ
り感光性有機樹脂例えばポリイミド系前駆体で覆い、こ
れにマスクを用いて選択的露光を施し感光性樹脂を感光
させることができる。このようにしてマスクのない領域
のみを選択的に感光せしめた後エツチング工程にて選択
的に線状、またはブロック状、または任意形状の“貝柱
”のスペーサを形成したものである。
このため、特にこの塗布される有機樹脂として感光性ポ
リイミド樹脂を用い、基板上に均一な高さを有する“貝
柱”スペーサを形成することが可能である。
リイミド樹脂を用い、基板上に均一な高さを有する“貝
柱”スペーサを形成することが可能である。
「作用ｊ
かくすることにより、スペーサとして作用する樹脂はそ
の高さのばらつきも同じ塗布膜を選択的に残存せしめた
もののため、所定の厚さ±０．５μ以下を基板上にて得
ることができる。さらにこの材料により、対抗する他の
透光性基板の内側面と互いに密着させている。このため
、２つの基板は初期において、基板自体のうねり的な凸
凹による多少の非平坦性を有しても、その少なくとも一
方の基板をセミハードの加圧により変形し得る固さを有
する基板を用いることにより、シール材とスペーサの厚
さく高さ）により一定にすることができる。このポリイ
ミド樹脂のストライプ状、またはブロック状、または任
意形状の“貝柱”によりスペーサ部を構成させた後、セ
ミハードの透光性を有する他の基板をその上側に真空中
でその電極またはそれと配向膜が形成されている面側を
向合わせて配設する。その後、外側を加圧（大気圧）と
して内部を真空（減圧）として外側より均圧を加え、同
時に加熱し、プレス・キュア方式によりそれぞれのスペ
ーサ、シール材を他の面と密着させる。すると互いに密
着したシール部とスペーサ部により、この後真空をとい
てもそれぞれの基板が実質的に互いに密着しているため
、もとの非平坦の状態に戻らず、電極間の間隙が一定に
なって最終状態において、パネルの一部が広すぎる等の
支障が発生しない。またスペーサにより互いの基板を密
着させたため、表示パネルそれ自体の機械的強度も１枚
のみの強度ではなく、合わせガラスに近い実質的に２枚
の強度に等しい強固さを有せしめることが可能となった
。
の高さのばらつきも同じ塗布膜を選択的に残存せしめた
もののため、所定の厚さ±０．５μ以下を基板上にて得
ることができる。さらにこの材料により、対抗する他の
透光性基板の内側面と互いに密着させている。このため
、２つの基板は初期において、基板自体のうねり的な凸
凹による多少の非平坦性を有しても、その少なくとも一
方の基板をセミハードの加圧により変形し得る固さを有
する基板を用いることにより、シール材とスペーサの厚
さく高さ）により一定にすることができる。このポリイ
ミド樹脂のストライプ状、またはブロック状、または任
意形状の“貝柱”によりスペーサ部を構成させた後、セ
ミハードの透光性を有する他の基板をその上側に真空中
でその電極またはそれと配向膜が形成されている面側を
向合わせて配設する。その後、外側を加圧（大気圧）と
して内部を真空（減圧）として外側より均圧を加え、同
時に加熱し、プレス・キュア方式によりそれぞれのスペ
ーサ、シール材を他の面と密着させる。すると互いに密
着したシール部とスペーサ部により、この後真空をとい
てもそれぞれの基板が実質的に互いに密着しているため
、もとの非平坦の状態に戻らず、電極間の間隙が一定に
なって最終状態において、パネルの一部が広すぎる等の
支障が発生しない。またスペーサにより互いの基板を密
着させたため、表示パネルそれ自体の機械的強度も１枚
のみの強度ではなく、合わせガラスに近い実質的に２枚
の強度に等しい強固さを有せしめることが可能となった
。
以下に実施例に従って本発明を記す。
実施例１
第２図に本発明の液晶表示装置の製造工程を示す縦断面
図を示す。
図を示す。
第２図（Ａ）において、２つの透光性基板、例えばガラ
ス基板（１） 、 （１・ ）を用いた。
ス基板（１） 、 （１・ ）を用いた。
この基板（１）の一方の面に液晶用電極を透光性導電膜
（２）、例えばＩＴＯまたはＳｎＱ、により形成した。
（２）、例えばＩＴＯまたはＳｎＱ、により形成した。
この際本実施例では、マトリクス状の液晶装置となるよ
うに電極（２）をパターニングしである。
うに電極（２）をパターニングしである。
この上面に、ポリイミド樹脂（３）を薄く約５００人程
度形成し、公知のラビング処理により配向処理を行った
。他方基板（１・）に対しても第２図（Ｃ）にしか図示
されていないが、同様の透光性導電膜（２・）と配向処
理（３′）を行った。
度形成し、公知のラビング処理により配向処理を行った
。他方基板（１・）に対しても第２図（Ｃ）にしか図示
されていないが、同様の透光性導電膜（２・）と配向処
理（３′）を行った。
次に第２図（Ａ）に示す如く、一方の側の上面にスピナ
ー、ロールコータ、スプレー法またはスクリーン印刷法
により、紫外線硬化型ポリイミド前駆体溶液（８）を塗
布する。本実施例においては、スピナーにより４００Ｑ
Ｏｒｐｍ ３０秒の条件で塗布した。
ー、ロールコータ、スプレー法またはスクリーン印刷法
により、紫外線硬化型ポリイミド前駆体溶液（８）を塗
布する。本実施例においては、スピナーにより４００Ｑ
Ｏｒｐｍ ３０秒の条件で塗布した。
このポリイミド溶液は全芳香族ポリイミド全駆体溶液で
（８）であり、その−例として東し株式会社より販売さ
れているフォトニースを用いた。
（８）であり、その−例として東し株式会社より販売さ
れているフォトニースを用いた。
この塗布の厚さはポストベークによす４０％〜５０％の
体積減少があるため、このことを考慮し例えば４．０
μとした。
体積減少があるため、このことを考慮し例えば４．０
μとした。
次にこのポリイミド前駆体溶液（８）を第２図（Ａ）に
示す如く、塗布の後、ブリベータを８０℃、６０分間行
った。
示す如く、塗布の後、ブリベータを８０℃、６０分間行
った。
その後、紫外光をマスクを通して露光（１０ｍＷ／ｃ４
の強さの光を約３０秒）した。この際に使用するマスク
パターンは任意の形状寸法でよく、本実施例では４００
μｍ各に２０μｍ×２０μｍの“貝柱”（９）を形成す
るパターンにした。即ち、スペーサ間を所定の間隔とし
て散在させて配設することが可能となる。さらにマスク
パターンを変更すれば、アクティブ方式の液晶パネルで
あった場合、配線、非線型素子またスイッチング素子の
存在する領域にスペーサを形成させることを意図的に避
けることができる。即ちスペーサによりその後の使用に
際し、機械応力等によりリードが断線したり、また素子
が不動作になる可能性を避けることができる。
の強さの光を約３０秒）した。この際に使用するマスク
パターンは任意の形状寸法でよく、本実施例では４００
μｍ各に２０μｍ×２０μｍの“貝柱”（９）を形成す
るパターンにした。即ち、スペーサ間を所定の間隔とし
て散在させて配設することが可能となる。さらにマスク
パターンを変更すれば、アクティブ方式の液晶パネルで
あった場合、配線、非線型素子またスイッチング素子の
存在する領域にスペーサを形成させることを意図的に避
けることができる。即ちスペーサによりその後の使用に
際し、機械応力等によりリードが断線したり、また素子
が不動作になる可能性を避けることができる。
かかる後、現像を超音波現像法で２５℃、２５分、所定
のＤＶ−１４０を用いて行った。さらにイソプロパツー
ルにて超音波リンスを２５℃、１５秒間行った。
のＤＶ−１４０を用いて行った。さらにイソプロパツー
ルにて超音波リンスを２５℃、１５秒間行った。
この後、キュア工程として１８０℃３０分、３００ ”
Ｃ３０分、４００℃３０分の各工程を行った。
Ｃ３０分、４００℃３０分の各工程を行った。
次に第２［ｍ（Ｃ）に示す如く、第２図（Ｂ）の上側を
さかさに配設しく下側面とし）、他の予めアクティブ素
子が作られた基板（１゛）とその上に透光性電極（２・
）、配向膜（３°）が上側面に設けられた透光性基板（
ｌ゛）を互いに対抗させて合わせ、周辺部を封止した。
さかさに配設しく下側面とし）、他の予めアクティブ素
子が作られた基板（１゛）とその上に透光性電極（２・
）、配向膜（３°）が上側面に設けられた透光性基板（
ｌ゛）を互いに対抗させて合わせ、周辺部を封止した。
また、先のキュア工程と、この合わせ工程と同時に行う
ことも可能である。この場合、これら基板を真空状態に
保持した後、大気圧または減圧（１００〜４００ｔｏｒ
ｒ）として基板を互いに外側より加圧し、加えてポスト
ベークを２００〜４００℃即ち例えば１８０°Ｃ３０分
＋３００℃３０分にて行った。いわゆる「プレス・キュ
ア方式」を採用した。すると貝柱（９）が対向する基板
またはこの上（内側表面）のポリミサイドの貝柱、又は
配向膜に密着し２枚のガラスを互いにはりあわせること
ができる。
ことも可能である。この場合、これら基板を真空状態に
保持した後、大気圧または減圧（１００〜４００ｔｏｒ
ｒ）として基板を互いに外側より加圧し、加えてポスト
ベークを２００〜４００℃即ち例えば１８０°Ｃ３０分
＋３００℃３０分にて行った。いわゆる「プレス・キュ
ア方式」を採用した。すると貝柱（９）が対向する基板
またはこの上（内側表面）のポリミサイドの貝柱、又は
配向膜に密着し２枚のガラスを互いにはりあわせること
ができる。
このボストベーク後でその高さを３μ、またはそれ以下
この場合には２．２μ±０．５μにするようにＦＬＣに
とって好ましい間隔とした。
この場合には２．２μ±０．５μにするようにＦＬＣに
とって好ましい間隔とした。
この場合、対抗するガラスの少なくとも一方をセミハー
ドな固さにすると、ガラス自体が持っている歪みにそっ
て他方のガラスを合わせ、かつそのスペーサでお互いを
固着してしまうため、ガラス基板自体が歪み（滑らかな
凸凹のうねり）を有していても、それと無関係に電極間
隙を一定としてその対向する基板同志を実質的に互いに
張り合わせる。
ドな固さにすると、ガラス自体が持っている歪みにそっ
て他方のガラスを合わせ、かつそのスペーサでお互いを
固着してしまうため、ガラス基板自体が歪み（滑らかな
凸凹のうねり）を有していても、それと無関係に電極間
隙を一定としてその対向する基板同志を実質的に互いに
張り合わせる。
本発明の実施例においては、この後このスペーサで保持
された間隙内に強誘電性液晶（５）を公知の方法で充填
した。
された間隙内に強誘電性液晶（５）を公知の方法で充填
した。
本実施例により作製された２００ ｗｍＸ３００ ｍの
大きさの液晶電気光学装置の基板間隔を測定した結果を
第３図（１０）に示す。測定点は２００ ｍＸ３００
ｍｍ基板の対角線上を４９ｍｍ間隔で約９点の測定を行
った。
大きさの液晶電気光学装置の基板間隔を測定した結果を
第３図（１０）に示す。測定点は２００ ｍＸ３００
ｍｍ基板の対角線上を４９ｍｍ間隔で約９点の測定を行
った。
比較例として、従来法による作製を行った結果を第３′
図（１１）に示す。この場合用いる基板は本発明と同じ
であるが、スペーサとしては直径２．０μｍ±０．３の
アルミナを用い、メチルアルコールを分散液として基板
上に散布した。この結果より明らかなように、本発明の
場合は間隔のばらつきが少ないが、従来例の方はばらつ
きが激しく特に中央部が広くなった。
図（１１）に示す。この場合用いる基板は本発明と同じ
であるが、スペーサとしては直径２．０μｍ±０．３の
アルミナを用い、メチルアルコールを分散液として基板
上に散布した。この結果より明らかなように、本発明の
場合は間隔のばらつきが少ないが、従来例の方はばらつ
きが激しく特に中央部が広くなった。
この際、基板の中央部分を手で押してやると従来例は大
きく間隔が変化したのに比べ、本発明の場合はほとんど
変化しなかった。
きく間隔が変化したのに比べ、本発明の場合はほとんど
変化しなかった。
ｒ効果ｊ
本発明は以上に示す如く、２つの相対向する電極の間隙
を一定にするため、ポリイミド樹脂膜を選択的に残存さ
せて高さを一定とした。さらにスペーサ及びシール材と
同じ材料のポリイミド系の配向膜とを互いにプレス・キ
ュア方式により密着させることも可能である。その結果
、２つの配向膜間の間隔は所定の厚さ±０．５μの範囲
で一定にできた。特にアクティブマトリックス構造を有
しそのドツト数を４００ ｘ１９２０も有する２０ｃｌ
Ｉ×３０ｃｍもの大面積の液晶パネルにおいて、中央部
が必要以上に膨れたり、また互いに２つの電極間が近接
したりすることを防ぐことができた。
を一定にするため、ポリイミド樹脂膜を選択的に残存さ
せて高さを一定とした。さらにスペーサ及びシール材と
同じ材料のポリイミド系の配向膜とを互いにプレス・キ
ュア方式により密着させることも可能である。その結果
、２つの配向膜間の間隔は所定の厚さ±０．５μの範囲
で一定にできた。特にアクティブマトリックス構造を有
しそのドツト数を４００ ｘ１９２０も有する２０ｃｌ
Ｉ×３０ｃｍもの大面積の液晶パネルにおいて、中央部
が必要以上に膨れたり、また互いに２つの電極間が近接
したりすることを防ぐことができた。
このため、従来では大面積の基板を用いて液晶を作らん
とすると、それぞれの基板の内側表面をきわめて精密に
研磨しなければならず、またシール材とスペーサとは全
く異なった材料、異なった工程により作られていた。加
えてスペーサは上下の基板内面とは密着していなかった
。またスペーサの位置の推定ができなかった。しかし本
発明においては、かかるガラス基板の価格の２〜５倍も
の高価な研摩処理工程がない、シール材によりシールす
る工程と、スペーサを散在させる工程とを１工程として
簡略化できるという他の特長を有する。
とすると、それぞれの基板の内側表面をきわめて精密に
研磨しなければならず、またシール材とスペーサとは全
く異なった材料、異なった工程により作られていた。加
えてスペーサは上下の基板内面とは密着していなかった
。またスペーサの位置の推定ができなかった。しかし本
発明においては、かかるガラス基板の価格の２〜５倍も
の高価な研摩処理工程がない、シール材によりシールす
る工程と、スペーサを散在させる工程とを１工程として
簡略化できるという他の特長を有する。
加えてスペーサが電極間隔即ち約４００μ間に１個設け
られている為、いわゆる合わせガラスと同様にきわめて
強固な基板として液晶パネルを取り扱うことができるよ
うになった。
られている為、いわゆる合わせガラスと同様にきわめて
強固な基板として液晶パネルを取り扱うことができるよ
うになった。
スペーサの形状を基板表面と点接触ではなく面接触また
は線接触とし得、下地材へのダメージを防止することが
可能となった。
は線接触とし得、下地材へのダメージを防止することが
可能となった。
また本発明により、スペーサを任意の場所に固定でき、
−加えて均等間隔とすることができたので液晶注入後基
板中央部を指で押さえても間隔が変化せず、視界の妨げ
とならず、また液晶分子の配向をみださないという特徴
を有する。
−加えて均等間隔とすることができたので液晶注入後基
板中央部を指で押さえても間隔が変化せず、視界の妨げ
とならず、また液晶分子の配向をみださないという特徴
を有する。
本発明において、“貝柱”とその上下の配向膜２°；！
ｌ４−ａｒｆｃ″ＨＦＨｊｆＢ゛？：・１．＆；！ｔ−
：ｒｔ［。
ｌ４−ａｒｆｃ″ＨＦＨｊｆＢ゛？：・１．＆；！ｔ−
：ｒｔ［。
リイミド系とすることにより、密着性を向上させ
：るためのものである。しかしこの密着性が保証
さ ；れるなら他の材料を用いてもよい。
：るためのものである。しかしこの密着性が保証
さ ；れるなら他の材料を用いてもよい。
また、配向処理を行った後にスペーサを形成したが、逆
にスペーサを形成した後に配向処理を行っ
連でもよい。
にスペーサを形成した後に配向処理を行っ
連でもよい。
進
第１図は従来より公知の液晶表示装置の縦断面
）図を示す。
ｉ第２図は本発明の液晶電気光学装置の
作製工程 トの縦断面図を示す。 第３図は本発明と従来法により作製された液晶電気光学
装置の基板間隔の分布を示す。 １．１°・・・・・・基板 ２．２°・・・・・・電極 ３．３゛・・・・・・配向処理層 ５・・・・・・液晶
）図を示す。
ｉ第２図は本発明の液晶電気光学装置の
作製工程 トの縦断面図を示す。 第３図は本発明と従来法により作製された液晶電気光学
装置の基板間隔の分布を示す。 １．１°・・・・・・基板 ２．２°・・・・・・電極 ３．３゛・・・・・・配向処理層 ５・・・・・・液晶
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、第１の基板上の第１の電極上、または該電極上に設
けられた配向処理層上にスペーサーを構成する感光性有
機樹脂被膜を形成する工程と、該被膜に対しマスクを用
いて選択的露光を施す工程と、エッチング工程を経て前
記有機樹脂を選択的に除去し、残存した前記有機樹脂を
スペーサーとして作用せしめる工程と第２の電極または
第２の電極上の配向処理層を有する第２の基板と前記第
１の基板とを用いて、前記有機樹脂をスペーサーとして
液晶電気光学装置用容器を構成する工程とを有すること
を特徴とする液晶電気光学装置作製方法。 ２、特許請求の範囲第２項において、スペーサを構成す
る有機樹脂は感光性ポリイミド樹脂が用いられたことを
特徴とする液晶電気光学装置作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11584486A JPS6224229A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | 液晶電気光学装置作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11584486A JPS6224229A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | 液晶電気光学装置作製方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2503685A Division JPS61184518A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 液晶表示装置作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6224229A true JPS6224229A (ja) | 1987-02-02 |
Family
ID=14672527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11584486A Pending JPS6224229A (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | 液晶電気光学装置作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6224229A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009230152A (ja) * | 2009-06-04 | 2009-10-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置の作製方法 |
| JP2010072663A (ja) * | 2009-12-28 | 2010-04-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2011103001A (ja) * | 2011-01-05 | 2011-05-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
| US8045125B2 (en) | 1997-05-22 | 2011-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device having a gap retaining member made of resin formed directly over the driver circuit |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59201021A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Canon Inc | 光学変調素子の製造法 |
| JPS59228228A (ja) * | 1983-06-09 | 1984-12-21 | Canon Inc | 表示パネル |
-
1986
- 1986-05-19 JP JP11584486A patent/JPS6224229A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS59201021A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Canon Inc | 光学変調素子の製造法 |
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| US8045125B2 (en) | 1997-05-22 | 2011-10-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device having a gap retaining member made of resin formed directly over the driver circuit |
| US8854593B2 (en) | 1997-05-22 | 2014-10-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electro-optical device |
| JP2009230152A (ja) * | 2009-06-04 | 2009-10-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置の作製方法 |
| JP2010072663A (ja) * | 2009-12-28 | 2010-04-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2011103001A (ja) * | 2011-01-05 | 2011-05-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
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