JPS63130624A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用樹脂組成物Info
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- JPS63130624A JPS63130624A JP27831386A JP27831386A JPS63130624A JP S63130624 A JPS63130624 A JP S63130624A JP 27831386 A JP27831386 A JP 27831386A JP 27831386 A JP27831386 A JP 27831386A JP S63130624 A JPS63130624 A JP S63130624A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 36
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 30
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 15
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 6
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 abstract description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 5
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 abstract description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 abstract description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- -1 lusorcinol Chemical class 0.000 description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QEZIKGQWAWNWIR-UHFFFAOYSA-N antimony(3+) antimony(5+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Sb+3].[Sb+5] QEZIKGQWAWNWIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTTHLMXOSUFZCQ-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC(C(=O)NN)=C1 UTTHLMXOSUFZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体封止用樹脂組成物に関し、さらに詳しく
はポットに直結したキャビティ部を用いて半導体装置を
封止する金型に通用するに好適な半導体封止用樹脂組成
物に関する。
はポットに直結したキャビティ部を用いて半導体装置を
封止する金型に通用するに好適な半導体封止用樹脂組成
物に関する。
半導体封止用樹脂組成物(封止材)を用いた低圧トラン
スフプ成形法によるTR3S IC,LSI等半導体の
樹脂封止は、その生産性の良さから封止法の主流となっ
ている。従来この成形に用いられている金型においては
、1個のポットと、ここから延びた流路(ランナー)を
用い、このランナーの両側に流入口(ゲート)を介して
多数のキャビティが配列されている。成形は、各キャビ
ティに封止対象であるIC等の半導体装置を並べ、ポッ
ト部に封止材タブレットを投入し、プランジャーで圧入
することにより封止材をランナー、ゲートを介して各キ
ャビティに充填材させることにより行われていた。この
方法は従来から実績のある方法ではあるが、ランナ一部
の材料が無駄になることが大きな欠点であった。
スフプ成形法によるTR3S IC,LSI等半導体の
樹脂封止は、その生産性の良さから封止法の主流となっ
ている。従来この成形に用いられている金型においては
、1個のポットと、ここから延びた流路(ランナー)を
用い、このランナーの両側に流入口(ゲート)を介して
多数のキャビティが配列されている。成形は、各キャビ
ティに封止対象であるIC等の半導体装置を並べ、ポッ
ト部に封止材タブレットを投入し、プランジャーで圧入
することにより封止材をランナー、ゲートを介して各キ
ャビティに充填材させることにより行われていた。この
方法は従来から実績のある方法ではあるが、ランナ一部
の材料が無駄になることが大きな欠点であった。
これに対し、ポットに直結したキャビティ部を用いて半
導体装置を封止する方法は、多数のポットとこれに対応
したプランジャーを存することから、マルチプランジャ
一方式と一般に称されている。この方式ではポットとキ
ャビティ間に極めて短い流路があるだけであり、材料の
無駄が無いことが大きな特長である。しかし、マルチプ
ランジャ一方式では、流路が短く、かつ余熱しないタブ
レットを用いて圧入することから、ゲートを通過する時
の封止材粘度が高く、そのためにゲート摩耗の激しいこ
とが大きな欠点となっている。
導体装置を封止する方法は、多数のポットとこれに対応
したプランジャーを存することから、マルチプランジャ
一方式と一般に称されている。この方式ではポットとキ
ャビティ間に極めて短い流路があるだけであり、材料の
無駄が無いことが大きな特長である。しかし、マルチプ
ランジャ一方式では、流路が短く、かつ余熱しないタブ
レットを用いて圧入することから、ゲートを通過する時
の封止材粘度が高く、そのためにゲート摩耗の激しいこ
とが大きな欠点となっている。
この問題を解決するために、封止材の流動性を大きくす
る方法があるが、この場合、硬化性が遅くなる、また金
型の隙から樹脂が流出する等の欠点があり、成形性の点
で問題があった。この他、充填材量を減らす方法もある
が、この方法は封止材の線膨張率を大きくするため、信
頼性の点から採用できない。
る方法があるが、この場合、硬化性が遅くなる、また金
型の隙から樹脂が流出する等の欠点があり、成形性の点
で問題があった。この他、充填材量を減らす方法もある
が、この方法は封止材の線膨張率を大きくするため、信
頼性の点から採用できない。
本発明は、これらの問題点を解消するためになされたも
のであり、ゲート摩耗の少ないマルチプランジャ一方式
に好適な半導体封止用樹脂組成物を提供せんとするもの
である。
のであり、ゲート摩耗の少ないマルチプランジャ一方式
に好適な半導体封止用樹脂組成物を提供せんとするもの
である。
本発明者らは、上記問題点を解消すべく鋭意検討を重ね
た結果、半導体封止用樹脂組成物中に配合する充填材の
形状がゲート摩耗に影響をおよぼすことを見い出し、こ
の知見に基づいて本発明を完成するに至りだ。
た結果、半導体封止用樹脂組成物中に配合する充填材の
形状がゲート摩耗に影響をおよぼすことを見い出し、こ
の知見に基づいて本発明を完成するに至りだ。
すなわち、本発明の半導体封止用樹脂組成物は、ポット
に直結したキャビティ部を用いて半導体装置を封止する
金型に通用される半導体封止用樹脂組成物において、球
形充填材を含む充填材を配合したことを特徴とする。
に直結したキャビティ部を用いて半導体装置を封止する
金型に通用される半導体封止用樹脂組成物において、球
形充填材を含む充填材を配合したことを特徴とする。
本発明に用いられる充填材の材質としては、熔融シリカ
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
球形充填材以外の充填材の粒度、粒径等は、通常封止材
に用いられる充填材の範囲であれば特に限定はされない
が、一般に最大粒径149μm、平均粒径5〜30μm
のものが用いられる。
に用いられる充填材の範囲であれば特に限定はされない
が、一般に最大粒径149μm、平均粒径5〜30μm
のものが用いられる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物中の充填材の配合量は
、特に限定はされないが、50〜75容量%とすること
が好ましい。充填材の配合量が50容量%未満では組成
物の膨張率が大きくなり、信頼性が低下する。一方、7
5容量%を超えると、半導体封止用樹脂組成物の流動性
を維持することが難しく、成形困難となる。
、特に限定はされないが、50〜75容量%とすること
が好ましい。充填材の配合量が50容量%未満では組成
物の膨張率が大きくなり、信頼性が低下する。一方、7
5容量%を超えると、半導体封止用樹脂組成物の流動性
を維持することが難しく、成形困難となる。
本発明に用いられる球形充填材の形状は、完全な球であ
る必要はなく、角状のコーナ一部を持たないものであれ
ば良い。また、球形充填材の材質としては、溶融シリカ
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
る必要はなく、角状のコーナ一部を持たないものであれ
ば良い。また、球形充填材の材質としては、溶融シリカ
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
球形充填材の粒度は、特に限定はされないが、一般に最
大粒径149μm、平均粒径10〜40μmであること
が好ましい。
大粒径149μm、平均粒径10〜40μmであること
が好ましい。
また、本発明の半導体封止用樹脂組成物における充填材
中の球形充填材の占める割合は、特に限定はされないが
、50〜100重量%とすることが好ましい。充填材中
の球形充填材の量が50重量%未満では、ゲート摩耗低
下の効果は小さくなる。
中の球形充填材の占める割合は、特に限定はされないが
、50〜100重量%とすることが好ましい。充填材中
の球形充填材の量が50重量%未満では、ゲート摩耗低
下の効果は小さくなる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いることができる
樹脂としては、通常、半導体封止材に用いられる樹脂で
あれば特に限定はされず、具体例として、エポキシ樹脂
としては、例えばビスブエノールA1ビスフェノールF
ルゾルシノール、フェノールノボラック、クレゾールノ
ボラックなどのフェノール類のグリシジルエーテル、ブ
タンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのアルコール類のグリシジルエーテル
、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒド
ロフクル酸などのカルボン酸類のグリシジルエステル、
アニリン、イソシアヌール酸などの窒素原子に結合した
活性水素をグリシジル基で置換したものなどのグリシジ
ル型エポキシ樹脂、分子内のオレフィン結合を過酸等で
エポキシ化して得られるいわゆる脂環型エポキシドなど
が挙げられる。中でもエポキシ当量180〜205の0
−タレゾールノボラック型エポキシ樹脂が耐湿性および
ガラス転移温度など耐熱性に優れており、最も好適であ
る。
樹脂としては、通常、半導体封止材に用いられる樹脂で
あれば特に限定はされず、具体例として、エポキシ樹脂
としては、例えばビスブエノールA1ビスフェノールF
ルゾルシノール、フェノールノボラック、クレゾールノ
ボラックなどのフェノール類のグリシジルエーテル、ブ
タンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのアルコール類のグリシジルエーテル
、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒド
ロフクル酸などのカルボン酸類のグリシジルエステル、
アニリン、イソシアヌール酸などの窒素原子に結合した
活性水素をグリシジル基で置換したものなどのグリシジ
ル型エポキシ樹脂、分子内のオレフィン結合を過酸等で
エポキシ化して得られるいわゆる脂環型エポキシドなど
が挙げられる。中でもエポキシ当量180〜205の0
−タレゾールノボラック型エポキシ樹脂が耐湿性および
ガラス転移温度など耐熱性に優れており、最も好適であ
る。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いられる硬化剤と
しては特に制約はないが、ノボラック型フェノール樹脂
、ノボラック型クレゾール樹脂などのフェノール樹脂、
テトラヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの
酸無水物、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェ
ニルスルフォンなどのアミン類、アジピン酸ジヒドラジ
ド、イソフタル酸ジヒドラジドなどの2塩基酸ジヒドラ
ジド類などを用いることができ、エポキシ基に対する当
量比0.5〜1.5の範囲で、単独もしくは2種以上併
用してもかまわない。
しては特に制約はないが、ノボラック型フェノール樹脂
、ノボラック型クレゾール樹脂などのフェノール樹脂、
テトラヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの
酸無水物、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェ
ニルスルフォンなどのアミン類、アジピン酸ジヒドラジ
ド、イソフタル酸ジヒドラジドなどの2塩基酸ジヒドラ
ジド類などを用いることができ、エポキシ基に対する当
量比0.5〜1.5の範囲で、単独もしくは2種以上併
用してもかまわない。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いられる硬化促進
剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾールなどのイミダゾール類、ベンジルジメ
チルアミン、また1゜8−ジアザビシクロ(5,4,0
)ウンデセン−7(DBUと略す)、DBUのフェノー
ル塩、ノボラック樹脂塩、カリボール塩などの誘導体類
、トリブチルアミンなどのアミン類、トリブチルホスフ
ィンやトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホ
ニウム・テトラフェニルボレートな−どの有機リン化合
物などを用いることができる。
剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾールなどのイミダゾール類、ベンジルジメ
チルアミン、また1゜8−ジアザビシクロ(5,4,0
)ウンデセン−7(DBUと略す)、DBUのフェノー
ル塩、ノボラック樹脂塩、カリボール塩などの誘導体類
、トリブチルアミンなどのアミン類、トリブチルホスフ
ィンやトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホ
ニウム・テトラフェニルボレートな−どの有機リン化合
物などを用いることができる。
さらに本発明の半導体封止用樹脂組成物は、可撓剤とし
てポリブタジェン、アクリロニトリル−ブタジェン共重
合体などのゴム類およびこれらの末端カルボキシ、ヒド
ロキシ、内部エポキシなどを有する変性ゴム類、シリコ
ーンオイル、シリコーンゴム、シリコーンゲル、各種官
能基、有機基°を有するシリコーン化合物などのオルガ
ノポリシロキサン類、テフロン、フッソゴムなどのフッ
ソ化合物などを用いることができる。
てポリブタジェン、アクリロニトリル−ブタジェン共重
合体などのゴム類およびこれらの末端カルボキシ、ヒド
ロキシ、内部エポキシなどを有する変性ゴム類、シリコ
ーンオイル、シリコーンゴム、シリコーンゲル、各種官
能基、有機基°を有するシリコーン化合物などのオルガ
ノポリシロキサン類、テフロン、フッソゴムなどのフッ
ソ化合物などを用いることができる。
また、本発明の半導体封止用樹脂組成物には、公知の可
塑剤としてフタル酸ジエステル、脂肪族二塩基酸エステ
ル、リン酸トリエステル、グリコールエステルなどを用
いることができる。
塑剤としてフタル酸ジエステル、脂肪族二塩基酸エステ
ル、リン酸トリエステル、グリコールエステルなどを用
いることができる。
その他、着色剤、離型剤、難燃剤、カップリング剤など
、通常半導体封止材に用いられる添加剤を必要に応じて
用いることができる。
、通常半導体封止材に用いられる添加剤を必要に応じて
用いることができる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物の製造方法としては、
ミキシングロールや押出機を用いた溶融混合法が好適で
あり、これら方法により所望の流動性の組成物を製造す
ることができる。
ミキシングロールや押出機を用いた溶融混合法が好適で
あり、これら方法により所望の流動性の組成物を製造す
ることができる。
以下本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明の
範囲はこれら例によりなんら限定されるものではない。
範囲はこれら例によりなんら限定されるものではない。
実施例1
軟化点82℃、エポキシ当量198の0−クレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂80重量部、軟化点65℃、エ
ポキシ当量400SBr化率48%のBr化エポキシ樹
脂20重量部、軟化点80℃、水酸基当量105のフェ
ノールノボラック樹脂50重量部、二酸化アンチモン1
0重量部、2−フェニル−4−メチルイミダゾール1重
量部、カルナバワックス2重量部、カーボンブラック2
重量部、カップリング剤KBM−403(信越化学型)
3重量部、および球形シリカ(最大粒径105μm、平
均粒径25μm)400重量部からなる配合物を80℃
のミキシングロールで5分間溶融混合してからシート状
でとり出し、冷却後、粉砕して半導体封止用樹脂組成物
を作製した。
ボラック型エポキシ樹脂80重量部、軟化点65℃、エ
ポキシ当量400SBr化率48%のBr化エポキシ樹
脂20重量部、軟化点80℃、水酸基当量105のフェ
ノールノボラック樹脂50重量部、二酸化アンチモン1
0重量部、2−フェニル−4−メチルイミダゾール1重
量部、カルナバワックス2重量部、カーボンブラック2
重量部、カップリング剤KBM−403(信越化学型)
3重量部、および球形シリカ(最大粒径105μm、平
均粒径25μm)400重量部からなる配合物を80℃
のミキシングロールで5分間溶融混合してからシート状
でとり出し、冷却後、粉砕して半導体封止用樹脂組成物
を作製した。
実施例2
充填材として実施例1で用いた球形シリカ300重量部
、角形シリカ(最大粒径105μm、平均粒径12μm
)100重量部を用いる以外は、実施例1と同じ方法で
半導体封止用樹脂組成物を作製した。
、角形シリカ(最大粒径105μm、平均粒径12μm
)100重量部を用いる以外は、実施例1と同じ方法で
半導体封止用樹脂組成物を作製した。
実施例3
充填材として実施例1で用いた球形シリカ200重量部
、実施例2で用いた角形シリカ200重量部を用いる他
は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂組成物を作
製した。
、実施例2で用いた角形シリカ200重量部を用いる他
は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂組成物を作
製した。
比較例1
充填材として実施例2で用いた角形シリカ400重量部
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
比較例2
充填材として実施例2で用いた角形シリカ320重量部
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
実施例および比較例で作製した半導体封止用樹脂組成物
を用いて、摩耗性の評価を行った。摩耗性の評価は、促
進評価法として、1鶴Φ−1mmLのアルミノズルを用
い、180℃、70瞳/−の条件で半導体封止用樹脂組
成物を通過させ、アルミノズルの摩耗量を測定すること
により、行った。
を用いて、摩耗性の評価を行った。摩耗性の評価は、促
進評価法として、1鶴Φ−1mmLのアルミノズルを用
い、180℃、70瞳/−の条件で半導体封止用樹脂組
成物を通過させ、アルミノズルの摩耗量を測定すること
により、行った。
すなわち、アルミノズルの摩耗量が少ないほど、半導体
封止用樹脂組成物によるゲート摩耗も少な(、良好な素
材であることを示している。結果を表1に示す。
封止用樹脂組成物によるゲート摩耗も少な(、良好な素
材であることを示している。結果を表1に示す。
以下余白
表1 mt量 (mg)
〔発明の効果〕
本発明による半導体封止用樹脂組成物をマルチプランジ
ャ一方式のトランスファ成形に用いることにより、ゲー
ト摩耗を低減化することができ、その工業的価値は大で
ある。
ャ一方式のトランスファ成形に用いることにより、ゲー
ト摩耗を低減化することができ、その工業的価値は大で
ある。
Claims (1)
- 1、ポットに直結したキャビティ部を用いて半導体装置
を封止する金型に通用される半導体封止用樹脂組成物に
おいて、球形充填材を含む充填材を配合したことを特徴
とする半導体封止用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27831386A JPS63130624A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27831386A JPS63130624A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63130624A true JPS63130624A (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=17595597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27831386A Pending JPS63130624A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 半導体封止用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63130624A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01294765A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Nippon Retsuku Kk | エポキシ樹脂組成物 |
KR100440599B1 (ko) * | 1995-12-30 | 2004-10-28 | 고려화학 주식회사 | 반도체소자밀봉용수지조성물 및 이의 제조방법 |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP27831386A patent/JPS63130624A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01294765A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Nippon Retsuku Kk | エポキシ樹脂組成物 |
KR100440599B1 (ko) * | 1995-12-30 | 2004-10-28 | 고려화학 주식회사 | 반도체소자밀봉용수지조성물 및 이의 제조방법 |
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