JPS63130624A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

Info

Publication number
JPS63130624A
JPS63130624A JP27831386A JP27831386A JPS63130624A JP S63130624 A JPS63130624 A JP S63130624A JP 27831386 A JP27831386 A JP 27831386A JP 27831386 A JP27831386 A JP 27831386A JP S63130624 A JPS63130624 A JP S63130624A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filler
resin composition
particle diameter
semiconductor encapsulation
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27831386A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Ichimura
茂樹 市村
Keiichi Kinashi
木梨 恵市
Seiichi Akagi
清一 赤城
Michihito Igarashi
五十嵐 未知人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP27831386A priority Critical patent/JPS63130624A/ja
Publication of JPS63130624A publication Critical patent/JPS63130624A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体封止用樹脂組成物に関し、さらに詳しく
はポットに直結したキャビティ部を用いて半導体装置を
封止する金型に通用するに好適な半導体封止用樹脂組成
物に関する。
〔従来の技術〕
半導体封止用樹脂組成物(封止材)を用いた低圧トラン
スフプ成形法によるTR3S IC,LSI等半導体の
樹脂封止は、その生産性の良さから封止法の主流となっ
ている。従来この成形に用いられている金型においては
、1個のポットと、ここから延びた流路(ランナー)を
用い、このランナーの両側に流入口(ゲート)を介して
多数のキャビティが配列されている。成形は、各キャビ
ティに封止対象であるIC等の半導体装置を並べ、ポッ
ト部に封止材タブレットを投入し、プランジャーで圧入
することにより封止材をランナー、ゲートを介して各キ
ャビティに充填材させることにより行われていた。この
方法は従来から実績のある方法ではあるが、ランナ一部
の材料が無駄になることが大きな欠点であった。
これに対し、ポットに直結したキャビティ部を用いて半
導体装置を封止する方法は、多数のポットとこれに対応
したプランジャーを存することから、マルチプランジャ
一方式と一般に称されている。この方式ではポットとキ
ャビティ間に極めて短い流路があるだけであり、材料の
無駄が無いことが大きな特長である。しかし、マルチプ
ランジャ一方式では、流路が短く、かつ余熱しないタブ
レットを用いて圧入することから、ゲートを通過する時
の封止材粘度が高く、そのためにゲート摩耗の激しいこ
とが大きな欠点となっている。
この問題を解決するために、封止材の流動性を大きくす
る方法があるが、この場合、硬化性が遅くなる、また金
型の隙から樹脂が流出する等の欠点があり、成形性の点
で問題があった。この他、充填材量を減らす方法もある
が、この方法は封止材の線膨張率を大きくするため、信
頼性の点から採用できない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、これらの問題点を解消するためになされたも
のであり、ゲート摩耗の少ないマルチプランジャ一方式
に好適な半導体封止用樹脂組成物を提供せんとするもの
である。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、上記問題点を解消すべく鋭意検討を重ね
た結果、半導体封止用樹脂組成物中に配合する充填材の
形状がゲート摩耗に影響をおよぼすことを見い出し、こ
の知見に基づいて本発明を完成するに至りだ。
すなわち、本発明の半導体封止用樹脂組成物は、ポット
に直結したキャビティ部を用いて半導体装置を封止する
金型に通用される半導体封止用樹脂組成物において、球
形充填材を含む充填材を配合したことを特徴とする。
本発明に用いられる充填材の材質としては、熔融シリカ
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
球形充填材以外の充填材の粒度、粒径等は、通常封止材
に用いられる充填材の範囲であれば特に限定はされない
が、一般に最大粒径149μm、平均粒径5〜30μm
のものが用いられる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物中の充填材の配合量は
、特に限定はされないが、50〜75容量%とすること
が好ましい。充填材の配合量が50容量%未満では組成
物の膨張率が大きくなり、信頼性が低下する。一方、7
5容量%を超えると、半導体封止用樹脂組成物の流動性
を維持することが難しく、成形困難となる。
本発明に用いられる球形充填材の形状は、完全な球であ
る必要はなく、角状のコーナ一部を持たないものであれ
ば良い。また、球形充填材の材質としては、溶融シリカ
、アルミナ、ガラス等、封止材に通常用いられるもので
あれば特に限定はされないが、信頼性の点で、溶融シリ
カを用いることが好ましい。
球形充填材の粒度は、特に限定はされないが、一般に最
大粒径149μm、平均粒径10〜40μmであること
が好ましい。
また、本発明の半導体封止用樹脂組成物における充填材
中の球形充填材の占める割合は、特に限定はされないが
、50〜100重量%とすることが好ましい。充填材中
の球形充填材の量が50重量%未満では、ゲート摩耗低
下の効果は小さくなる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いることができる
樹脂としては、通常、半導体封止材に用いられる樹脂で
あれば特に限定はされず、具体例として、エポキシ樹脂
としては、例えばビスブエノールA1ビスフェノールF
ルゾルシノール、フェノールノボラック、クレゾールノ
ボラックなどのフェノール類のグリシジルエーテル、ブ
タンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのアルコール類のグリシジルエーテル
、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒド
ロフクル酸などのカルボン酸類のグリシジルエステル、
アニリン、イソシアヌール酸などの窒素原子に結合した
活性水素をグリシジル基で置換したものなどのグリシジ
ル型エポキシ樹脂、分子内のオレフィン結合を過酸等で
エポキシ化して得られるいわゆる脂環型エポキシドなど
が挙げられる。中でもエポキシ当量180〜205の0
−タレゾールノボラック型エポキシ樹脂が耐湿性および
ガラス転移温度など耐熱性に優れており、最も好適であ
る。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いられる硬化剤と
しては特に制約はないが、ノボラック型フェノール樹脂
、ノボラック型クレゾール樹脂などのフェノール樹脂、
テトラヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの
酸無水物、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェ
ニルスルフォンなどのアミン類、アジピン酸ジヒドラジ
ド、イソフタル酸ジヒドラジドなどの2塩基酸ジヒドラ
ジド類などを用いることができ、エポキシ基に対する当
量比0.5〜1.5の範囲で、単独もしくは2種以上併
用してもかまわない。
本発明の半導体封止用樹脂組成物に用いられる硬化促進
剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾールなどのイミダゾール類、ベンジルジメ
チルアミン、また1゜8−ジアザビシクロ(5,4,0
)ウンデセン−7(DBUと略す)、DBUのフェノー
ル塩、ノボラック樹脂塩、カリボール塩などの誘導体類
、トリブチルアミンなどのアミン類、トリブチルホスフ
ィンやトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホ
ニウム・テトラフェニルボレートな−どの有機リン化合
物などを用いることができる。
さらに本発明の半導体封止用樹脂組成物は、可撓剤とし
てポリブタジェン、アクリロニトリル−ブタジェン共重
合体などのゴム類およびこれらの末端カルボキシ、ヒド
ロキシ、内部エポキシなどを有する変性ゴム類、シリコ
ーンオイル、シリコーンゴム、シリコーンゲル、各種官
能基、有機基°を有するシリコーン化合物などのオルガ
ノポリシロキサン類、テフロン、フッソゴムなどのフッ
ソ化合物などを用いることができる。
また、本発明の半導体封止用樹脂組成物には、公知の可
塑剤としてフタル酸ジエステル、脂肪族二塩基酸エステ
ル、リン酸トリエステル、グリコールエステルなどを用
いることができる。
その他、着色剤、離型剤、難燃剤、カップリング剤など
、通常半導体封止材に用いられる添加剤を必要に応じて
用いることができる。
本発明の半導体封止用樹脂組成物の製造方法としては、
ミキシングロールや押出機を用いた溶融混合法が好適で
あり、これら方法により所望の流動性の組成物を製造す
ることができる。
〔実施例〕
以下本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明の
範囲はこれら例によりなんら限定されるものではない。
実施例1 軟化点82℃、エポキシ当量198の0−クレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂80重量部、軟化点65℃、エ
ポキシ当量400SBr化率48%のBr化エポキシ樹
脂20重量部、軟化点80℃、水酸基当量105のフェ
ノールノボラック樹脂50重量部、二酸化アンチモン1
0重量部、2−フェニル−4−メチルイミダゾール1重
量部、カルナバワックス2重量部、カーボンブラック2
重量部、カップリング剤KBM−403(信越化学型)
3重量部、および球形シリカ(最大粒径105μm、平
均粒径25μm)400重量部からなる配合物を80℃
のミキシングロールで5分間溶融混合してからシート状
でとり出し、冷却後、粉砕して半導体封止用樹脂組成物
を作製した。
実施例2 充填材として実施例1で用いた球形シリカ300重量部
、角形シリカ(最大粒径105μm、平均粒径12μm
)100重量部を用いる以外は、実施例1と同じ方法で
半導体封止用樹脂組成物を作製した。
実施例3 充填材として実施例1で用いた球形シリカ200重量部
、実施例2で用いた角形シリカ200重量部を用いる他
は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂組成物を作
製した。
比較例1 充填材として実施例2で用いた角形シリカ400重量部
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
比較例2 充填材として実施例2で用いた角形シリカ320重量部
を用いる他は、実施例1と同じ方法で半導体封止用樹脂
組成物を作製した。
実施例および比較例で作製した半導体封止用樹脂組成物
を用いて、摩耗性の評価を行った。摩耗性の評価は、促
進評価法として、1鶴Φ−1mmLのアルミノズルを用
い、180℃、70瞳/−の条件で半導体封止用樹脂組
成物を通過させ、アルミノズルの摩耗量を測定すること
により、行った。
すなわち、アルミノズルの摩耗量が少ないほど、半導体
封止用樹脂組成物によるゲート摩耗も少な(、良好な素
材であることを示している。結果を表1に示す。
以下余白 表1 mt量       (mg) 〔発明の効果〕 本発明による半導体封止用樹脂組成物をマルチプランジ
ャ一方式のトランスファ成形に用いることにより、ゲー
ト摩耗を低減化することができ、その工業的価値は大で
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ポットに直結したキャビティ部を用いて半導体装置
    を封止する金型に通用される半導体封止用樹脂組成物に
    おいて、球形充填材を含む充填材を配合したことを特徴
    とする半導体封止用樹脂組成物。
JP27831386A 1986-11-21 1986-11-21 半導体封止用樹脂組成物 Pending JPS63130624A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27831386A JPS63130624A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 半導体封止用樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27831386A JPS63130624A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 半導体封止用樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63130624A true JPS63130624A (ja) 1988-06-02

Family

ID=17595597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27831386A Pending JPS63130624A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 半導体封止用樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63130624A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01294765A (ja) * 1988-05-20 1989-11-28 Nippon Retsuku Kk エポキシ樹脂組成物
KR100440599B1 (ko) * 1995-12-30 2004-10-28 고려화학 주식회사 반도체소자밀봉용수지조성물 및 이의 제조방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01294765A (ja) * 1988-05-20 1989-11-28 Nippon Retsuku Kk エポキシ樹脂組成物
KR100440599B1 (ko) * 1995-12-30 2004-10-28 고려화학 주식회사 반도체소자밀봉용수지조성물 및 이의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106479128A (zh) 一种光半导体器件封装用环氧树脂组合物及其制备方法
KR970004948B1 (ko) 수지 봉지형 반도체 장치
US6713571B2 (en) Process for producing epoxy resin composition for photosemiconductor element encapsulation
JPS63130624A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPS6210159A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JP2004203911A (ja) 封止用樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置
JPS6210132A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JP2001226455A (ja) 液状封止用樹脂組成物
JP2000007900A (ja) 封止用のエポキシ樹脂組成物および半導体装置
JPS63178121A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPS6185432A (ja) 半導体装置封止用エポキシ樹脂成形材料
JP2005120230A (ja) 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた光半導体装置
JPH0521651A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
JP2001081156A (ja) エポキシ樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置
JP3262120B2 (ja) 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料及びicパッケージ
JPS62209125A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH03197529A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
JP2004155841A (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JPH02235918A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JPH05218240A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPH10158474A (ja) 光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物、及び該エポキシ樹脂組成物を用いて封止された光半導体装置
JPH11209571A (ja) 封止用のエポキシ樹脂組成物および半導体装置封止方法
JP3408744B2 (ja) 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置
JP2000143774A (ja) 液状封止用樹脂組成物
JP2002145985A (ja) 液状封止用樹脂組成物