JPS63128640A - ウエハの自動調心装置 - Google Patents

ウエハの自動調心装置

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JPS63128640A
JPS63128640A JP61275937A JP27593786A JPS63128640A JP S63128640 A JPS63128640 A JP S63128640A JP 61275937 A JP61275937 A JP 61275937A JP 27593786 A JP27593786 A JP 27593786A JP S63128640 A JPS63128640 A JP S63128640A
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JP
Japan
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wafer
centrifugal force
chuck
aligning device
self
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Itaru Matsumoto
松本 至
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NEC Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は9工への自動位置決め、特に自動調心装置に関
する。 〔技術環境〕 近年のウェハの自動調心装置はウェハのパターンの微細
化忙伴い高清浄化及び調心の高精度化が要求されている
。もともとウェハの自動調心装置は、集積回路の製造の
ための基本工程であるスピンコード等のウェハを回転さ
せる工程の中核をなす装置であるが、クエへのパターン
の微細化ニ伴いその清浄化は集積回路の生産の歩留まり
に重大な影響を与えている。又スピンコードではコート
するレジストを9工への上面に出来るだけ一様な厚さ・
に塗布する事が集積回路の生産の歩留まりの向上につな
がるが、調心が完全で無ければウニI・を回転させた際
に偏心によって振動が発生しやすくウェハの上面に塗布
するレジストの厚さKむらが出来やすい。また振動によ
ってチリも発生しやすいので調心の高精度化も集積回路
の生産の歩留まりに重大な影響を与える。この様に近年
のウェハの自動調心装置は高清浄化及び調心の高精度化
が必要課題となっている。 〔従来の技術〕 従来の技術としては、例えばテフロン板等の治具で円形
にウェハの側面を押してウェハの中心位置を所定の位置
に合せる方法がある。 次に従来の技術の実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。 第5図は従来の技術Q実施例を示すウェハのスピナクス
テムの構成図である。第5図に示すクステムはウェハの
スピンコート工程の際にウェハを高速回転させるための
7ステムで、この/ステムは複数枚のウェハ30を格納
しているローダ機構10と、自動調心装置400と、ス
ピナ機構70と、ウェハ30をローダ機構10から自動
調心装置400まで運ぶ搬送機構20とを含んで構成さ
れる。カバー60は/ステムを覆う覆いである。 第4図はローダ機構10の詳細を示したものである。ロ
ーダ機構10は複数枚の9エバ30を格納する箱11と
エレベータ機構12とを含んで構成され、箱IIは台1
3の所定の場所に固定されている。台13はエレベータ
機構12に直結していてエレベータ機構12が上下する
と台13と箱11も一緒に上下する。 搬送機構20は箱11に格納されている一番下のウェハ
30と台13の間から自動調心装置400までを結ぶ2
本の搬送ベルト21と搬送ベルト21を動かす搬送モー
タを含んで構成される。 第6図はスピナ機構70と自動調心装置400の詳細を
示したものである。スピナ機構70は回転台71と、回
転台71の回転軸上で回転台71に取り付けられている
上下運動をするアーム72と、アーム72の先端部に堆
り付けであるセンタリングテーブル73とを含んで構成
される。アーム72の内部は真空吸着用のパイプが通っ
【おり真空ボンダでパイプ内を減圧することでセンタリ
ングテーブル73を介してウェハ3oの裏面を真空吸着
しウェハ30をスピナ機構70に保持する。 センタリング機構420は、対向する2枚のテフロン板
421と、テフロン板421を対向する水平方向に動か
す駆動7リンダ423と、テフロン板421と駆動シリ
ンダ423とを結合する台422と、ガイドレール42
4とを含んで構成される。駆動シリンダ423は一般に
空圧シリンダが良く用いられる。2枚のテフロン板42
1は搬送ベルト21の上の同一水平面に位置しており、
向い合う面がウェハ30と同じ径で半円形に削られたテ
フロン板である。又テフロン板421は、駆動シリンダ
423で対向する方向に動かされて2枚のテフロン板4
21が合わさった際に、半円形に削られた部分で、中心
の位置が回転台71の回転軸上に位置しウェハ30と同
じ径の円形の穴を形成する。 次にクエへの位置を合せる方法について述べる。 初に箱11に格納されている最下段のウェハ30が搬送
ベル)21こ乗るまでエレベータ機構12を下げ、ウェ
ハ30が搬送ベル)21に乗った時点で搬送モータを動
かしてウェハ30をセンタリングテーブル73の上まで
運ぶ。センタリングテーブル73を上に上げ9エバ30
を搬送ベルト21の上からテフロン板421の高さまで
持ち上げる。 テフロン板421を駆動シリンダ423で対向する方向
に動かして9エバ30をテフロン板421の半円形に削
られた部分に挾み、合さったテフロン板421で形成さ
れる円形の穴にウェハ30をはめ込む。この様にしてウ
ェハの中心位置を回転台71の回転軸上に位置決めでき
る。 次にセンタリングテーブル73を介してウェハ30の裏
面を真空吸着して9エバ30をスピナ機構70に保持し
た後忙回転台71を回転させてウェハ30の中心を回転
中心としてウェハ30を高速回転させる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 上述した従来のウェハの自動調心装置はウェハの側面を
押す機構となっているのでチリが発生しやすく、また9
工バ上面の近くに治具を押しつけるのでチリがウェハの
上面に付着しやすいために集積回路の生産の歩留まりが
悪くなるという欠点があった。 またウェハは完全な円ではないってウェハの中心と重心
の位置は異なっているが、従来のウェハの自動調心装置
はウェハの中心を回転中心としている結果、偏心のため
に振動しやすいのでレジストを一様にコーティングしK
<<集積回路の生産の歩留まりが悪くなるという欠点が
あった。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明のウェハの自動調心装置は、鉛直方向の回転軸回
りに回転する回転台と%  ==−−一−=ウェハの裏
面を吸着して前記クエへを水平に保持するチャック部材
を有し前記チャック部材の位置を検出して位置信号を出
力する位置検出器と前記チャック部材を水平面内で移動
させる駆動手段とを持つた前記回転台に取り付けられた
移動機構と、前記チャック部材に加わる水平面内の力を
測定し力信号を出力する2次元カセンナと、□前記チャ
ック部材で9エバを保持して前記回転台を回転させた際
に、前記力信号と前記位置信号とで前記ウェハに加わる
水平面内の遠心力を算出し、前記遠心力とは逆方向に前
記チャック部材を駆動させる信号を前記駆動手段に送る
制御回路とXを含んで構成される。 〔実施例〕 次に1本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。 第1図は本発明の一実施例を示すタエへのスピナ/ステ
ムの構成図である。第1図に示すシステムはウェハのス
ピンコート工程の際にウニハラ高速回転させるためのシ
ステムで、このシステムは複数枚のウェハ3oを格納し
ているローダ機構10と、自動調心装置4oと、スピナ
機構8oと、ウェハ30をローダ機構1oから自動調心
装置4゜まで運ぶ搬送機構20とを含んで構成される。 カバー60はシステムを覆う徨いである。ローダ機構1
0と搬送機構2oは従来の技術と同じ機構である。 第4図はローダ機@10の詳細を示したものである0ロ
一ダ機構1oは複数枚のウェハ3oを格納する箱11と
エレベータ機構12とを含んで構成され、箱11は台1
3の所定の場所忙固定されている0台13はエレベータ
機構12に直結していてエレベータ機構12が上下する
と台13と箱11も一緒に上下する。 搬送機構20は箱11に格納されている一番下の9エバ
30と台13の間から自動調心装置4゜までを結ぶ2本
の搬送ベルト21と搬送ベルト21を動かす搬送モータ
を含んで構成される。 第3図は自動調心装置40とスピナ機構8oの詳細を示
したものである。自動調心装置4oは予め定められた鉛
直方向の回転軸45を回転軸とする回転台44と、回転
台44に取り付けられたスカラ型マニピュレータ43と
、2次元力七ンf42と、制御装置47、と真空ポンプ
とを含んで構成される。 スカラ型マニピュレータ43は回転台44に水平方向に
旋回するジ、インド441で一端を連結している水平方
向移動用アーム433と、水平方向移動用アーム433
の他端に水平方向く旋回すルシ、インド442で一端を
連結している水平方向移動用アーム432と、水平方向
移動用アーム432の他端忙鉛直方向に上下するジ、イ
ンドで連結しその先端にチャック41を取り付けている
上下移動用アーム431とを含んで構成される。 スカラ型マニピュレータ43の内部には真空吸着用のパ
イプが通っており、真空ボンダでバイブ内を減圧するこ
とでウェハ30の裏面を真空吸着し、チャック41を介
してウェハ30をスカラ型マニピュレータ43に保持す
る。ジ、インド441・442にはエンコーダが取り付
けてありジ、インド441・442の回転角を測定し角
度信号a・bを制御装置47に送る。 2次元カセンt42はスカラ型マニピュレータ43のチ
ャック41のすぐ下に取り付けられており、チャック4
1に加わる水平方向のカを検出して、検出した力の力信
号Cを制御装置47に送る。 スピナ機構80は回転台44の内側に位置しておシ、回
転台44の回転軸45と同一の回転軸を持つ回転台81
ζ、回転台81の回転軸上で回転台81に取り付けられ
ている上下運動をするアーム82と、アーム82の先端
部に堆り付けであるセンタリングテーブル83とを含ん
で構成される0アーム82の内部は真空吸着用のパイプ
が通っており真空ポンプでバイブ内を減圧することでセ
ンタリングテーブル83を介してウエノ130の裏面を
真空吸着し9エノS30をスピナ機構80&C保持する
。 次に9エバの位置を合せる方法について述べる。 初に箱11に格納されている最下段の9エノ・30が搬
送ベルト21に乗るまでエレベータ機構12を下げ、9
エバ30が搬送ベル)21に乗った時点で搬送モータを
動かして9エノ130を自動調心装置40のチャック4
1の上に来るまで運ぶ。上下移動用アーム431を上に
上げフェノ−30の裏面の中心からはずれた場所にチャ
ック41を吸着させてウェハ30を搬送ベルト21の上
から持上げる。次に回転台44を所定の角速度で回転さ
せる。ウェハ30はチャック41を介してスカラ型マニ
ピュレータ43に固定されているので、チャック41に
はチャック4】自身に加わる遠心力eとウェハ30に加
わる遠心力dの合力を受けるO遠心力eと遠心力dの合
力を2次元力センサ42で測定し力信号Cを制御装置4
7に送る。 第2図は自動調心装置40の信号の流れを示すプロ、り
図である。第2図に示す制御装置47はチャック位置演
算部4フ1と、チャック遠心力演算部472と、ウエノ
1遠心力演算部473と、指令出力部474とを含んで
構成される。まず、チャック位置演算部471で角度信
号a−bからチャック41の水平面内の位置を算出して
位置信号fをチャック遠心力演算部472に送る。チャ
。 り遠心力演算部472では位置信号fと回転台44の回
転速度からチャック41に加わる遠心力eを算出して力
信号gを9工/S遠心力演算部473に送る。ワエへ遠
心力演算部473では力信号gと力信号Cからウェハ3
0に加わる遠心力dを算出し力信号りを指令出力部47
4に送る。指令出力部474ではスカラ型マニピュレー
タ43に指令信号iを送って遠心力dとは逆の方向に遠
心力dが0になるまでスカラ型マニピュレータ43を駆
動させる。一般にある回転軸回りに回転している剛体の
重心が受ける遠心力の方向と、回転面と回転軸の交点か
ら重心への偏心力向は等しいので、上記の方法で9エバ
30を動かすことで9エノ−30の重心31を所定の回
転軸45に合せることができる。 この様にしてウェハ30の重心31を回転軸45に合せ
た後、スピナ機構80の回転台81を回転台44と同じ
角速度で回し、センタリングテーブル83を9エバ30
の高さまで上げて、センタリングテーブル83を介して
ウェハ30の裏面を吸着して、ウェハ30をスピナ機構
80に保持する。 その後上下移動用アーム431を下げながらチャック4
1の吸着を止めて、自動調心装置40からウェハ30を
放し回転台440回転を止める。次にスピナ機#I80
の回転台81を高速回転させて9エバ30を重心31回
りに高速回転させる。 本発明のり二ノ・の自動調心装置は、所定の回転軸の回
りにウェハを回転させた時に9二ノ1の裏面を吸着して
−る移動機構でフェノ・に加わる遠心力とは逆向きにウ
ェハを動かすことで調心するため、ウェハの側面に治具
等を接触させる操作が無くなるのでチリが発生しにくく
なり、またウエノ鴬の上面の近くに治具等を近づけなく
なるために9エノ・の上面にチリが付着しにくくなるの
で集積回路の生産の歩留まりが向上出来る。またウェハ
の重心を正確に回転中心と出来るために偏心による振動
がないので、スピンコードする際に塗布するレジストの
厚さKむらが生じにくく集積回路の生産の歩留まりが向
上出来る。 〔発明の効果〕 本発明のウェハの自動調心装置は、所定の回転軸の回り
にウェハを回転させた時にウェハの裏面を吸着している
移動機構でウェハく加わる遠心力とは逆向きに9エバを
動かすことで調心するため、ウェハの側面に治具等を接
触させる操作が無くなるのでチリが発生しK<<なり、
また9エバの上面の近くに治具等を近づけなくなるため
にタエへの上面にチリが付着しにくくなるので集積回路
の生産歩留まりが向上出来るという効果がある。 また9エバの重心を正確に回転中心として求めることか
出来るために偏心による振動がないのでレジストを一様
にコーティングすることが可能になシ集積回路の生産の
歩留まシが向上出来るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すウエノ〜のスピナシス
テムの構成図、嬉2図は第1図に示すウェハの自動調心
装置の信号の流れを示すプロ、り図、第3図は第1図に
示すスピナ機構とウエノ1の自動調心装置の詳細図、第
4図は第1図に示すローダ機構の詳細図、第5図は従来
の技術の実施例を示すウェハのスピナシステムの構成図
、第6図は第5図に示すスピナ機構と9工への自動調心
装置の詳細図である。 10・・・・・・ローダ機構、20・・・・・・搬送機
構、30・・・・・・ウェハ、40・・・・・・自動調
心装置、41・・・・・・チャック、42・・・・・・
2次元力センサ、43・・・・・・スカラ型マニピュレ
ータ、44・・・・・・回転台、45・・・・・・44
0・・・・・・自動調心装置、80・・・・・・スピナ
機構、81・・・・・・回転台、82・・・・・・アー
ム、83・・・・・・センタリングテーブル。 気3図 荀5図 箔乙図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 鉛直方向の回転軸回りに回転する回転台と、ウェハの裏
    面を吸着して前記ウェハを水平に保持するチャック部材
    を有し前記チャック部材の位置を検出して位置信号を出
    力する位置検出器と前記チャック部材を水平面内で移動
    させる駆動手段とを持った前記回転台に取り付けられた
    移動機構と、前記チャック部材に加わる水平面内の力を
    測定し力信号を出力する2次元力センサと、 前記チャック部材でウェハを保持して前記回転台を回転
    させた際に前記力信号と前記位置信号とで前記ウェハに
    加わる水平面内の遠心力を算出し、前記遠心力とは逆方
    向に前記チャック部材を駆動させる信号を前記駆動手段
    に送る制御回路とを含んで構成される事を特徴とするウ
    ェハの自動調心装置。
JP61275937A 1986-11-18 1986-11-18 ウエハの自動調心装置 Granted JPS63128640A (ja)

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JPS63128640A true JPS63128640A (ja) 1988-06-01
JPH0577289B2 JPH0577289B2 (ja) 1993-10-26

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008109027A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板受け渡し位置の調整方法及び記憶媒体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008109027A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板受け渡し位置の調整方法及び記憶媒体
JP4607848B2 (ja) * 2006-10-27 2011-01-05 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板受け渡し位置の調整方法及び記憶媒体

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JPH0577289B2 (ja) 1993-10-26

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