JP2024042336A - 加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】円板ワークのセンタリングを簡素な機構で迅速に行うことができる加工装置を提供すること。【解決手段】加工装置1の制御部100は、ロボットハンド51によってカセット41から搬出してロータリーテーブル30の吸引面30aにウェーハ(円板ワーク)Wを搬送することと、ウェーハWが吸引面30a上をスライド可能に該ウェーハWを吸引保持させることと、ロータリーテーブル30と共に回転するウェーハWの外周縁を偏心検知センサ31で検知しながら、ロボットハンド51をロータリーテーブル30に接近させていき、ピン(押し部)55をウェーハWの外周縁に当てて、吸引面30a上でウェーハWをスライド移動させることと、偏心検知センサ31の値が変化しなくなるとロータリーテーブル30の中心O2とウェーハWの中心O1とが一致したと判断して、ウェーハWの外周縁からピン55を離間させることと、を制御する。【選択図】図3

Description

本発明は、チャックテーブルに保持された円板ワークを加工する加工装置に関する。
例えば、薄い円板状のウェーハを加工する加工装置においては、カセット内に収容されている加工前のウェーハをロボットハンドによって吸引保持して取り出し、取り出したウェーハをロータリーテーブル上に載置し、ロータリーテーブルをウェーハと共に回転させながらウェーハの外周に形成されたノッチをノッチセンサによって検出している。そして、検出されたノッチを所定の方向に位置づけた状態でウェーハをチャックテーブルへと搬送している。
ところで、ウェーハをチャックテーブルに搬送する前に、該ウェーハの中心とロータリーテーブルの中心を一致させるセンタリング(芯出し)が行われるが、このウェーハのセンタリングに関して、特許文献1には、ウェーハの外周を検知するセンサでウェーハの中心ズレを検知し、その中心ズレを検知したときのロータリーテーブルの回転角度を利用してウェーハの中心とロータリーテーブルの中心とを一致させるセンタリング方法が開示されている。
また、特許文献2には、中央に円形のテーブルを配置し、該テーブルの外側に円周状に配置された複数のピンをテーブルの径方向に移動させて該ピンをウェーハの外周縁に接触させることによって、テーブルの中心とウェーハの中心とを合わせるセンタリング機構が開示されている。
さらに、特許文献3,4には、ウェーハの外周縁に対応した中凹円弧状のセンタリングプレートを配置し、このセンタリングプレートの中凹円弧面にウェーハの外周縁を押し当てることによって、テーブルに対するウェーハのセンタリングを行う方法が開示されている。
特開2021-132181号公報 特開平07-211766号公報 特開2006-032661号公報 特開2013-094913号公報
しかしながら、特許文献1に開示されたウェーハのセンタリング方法によれば、センタリングに時間が掛かるという問題があり、特許文献2において提案されたセンタリング機構は、部品点数が多くて組み立てに時間が掛かるという問題がある。また、特許文献3,4において開示されたセンタリング方法によれば、ウェーハに僅かな外径の違いがあると、正確なセンタリングを行うことができないという問題がある。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、円板ワークのセンタリングを簡素な機構で迅速に行うことができる加工装置を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明は、円板ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された円板ワークを加工する加工手段と、円板ワークより小さい面積の円形の吸引面で円板ワークを吸引保持するロータリーテーブルと、該ロータリーテーブルを回転させるモータと、円板ワークを収容したカセットを載置するカセットテーブルと、該カセットから該ロータリーテーブルに円板ワークをロボットハンドで保持して搬送するロボットと、制御部と、を備える加工装置であって、該ロボットハンドは、板状で一方の面側に、円板ワークを吸引保持する保持面と、該ロボットに装着する部分となる装着部と、該保持面と該装着部との間に配置された押し部と、を備え、該ロータリーテーブルの吸引面の中心と円板ワークの中心とを一致させ該吸引面で吸引保持した円板ワークの外周縁を検知する偏心検知センサを備え、該制御部は、該ロボットハンドによって該カセットから搬出して該ロータリーテーブルの該吸引面に円板ワークを搬送することと、円板ワークが該吸引面上をスライド可能に該吸引面に円板ワークを吸引保持させることと、該ロータリーテーブルの回転に伴って回転する円板ワークの外周縁を該偏心検知センサで検知しながら、該ロボットハンドを該吸引面に平行な方向で該ロータリーテーブルに接近させていき、該押し部を円板ワークの外周縁に当てて、該吸引面上で該円板ワークをスライド移動させることと、該偏心検知センサの値が変化しなくなると該ロータリーテーブルの中心と該吸引面に吸引保持されている円板ワークの中心とが一致したと判断して、該円板ワークの外周縁から該押し部を離間させることと、を制御することを特徴とする。
本発明によれば、ロボットハンドに押し部を設け、ロータリーテーブルの吸引面にスライド可能に吸引保持された円板ワークを回転させながら、該円板ワークの振れを偏心検知センサによって検知し、この偏心検知センサによって検知される値に変化かある場合(振れが0でない場合)には、ロボットハンドとこれに設けられた押し部を水平方向にロータリーテーブル向かって移動させ、押し部がウェーハの外周縁に当接することによる自動調心作用によって円板ワークのセンタリングを行うようにしたため、特別な装置を用いることなく、簡素な機構で円板ワークのセンタリングを迅速に行うことができるという効果が得られる。
本発明に係る加工装置の一形態である切削装置の一部を破断して示す斜視図である。 ウェーハの斜視図である。 (a)~(c)は本発明に係る切削装置におけるウェーハのセンタリング方法をその工程順に示す平面図である。 (a)~(c)は本発明に係る切削装置におけるウェーハのセンタリング方法をその工程順に示す側面図である。 (a)~(c)はウェーハのセンタリング時における回転角度と振れとの関係を示す図である。 本発明に係る切削装置におけるウェーハのカセットからの引き出しからロータリーテーブルへの吸引保持を経てセンタリングまでの流れを示すフローチャートである。 ウェーハのセンタリング方法の別形態を示す部分平面図である。
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
[加工装置の構成]
まず、本発明に係る加工装置の一形態としての切削装置の全体構成を図1に基づいて以下に説明する。なお、以下の説明では、図1における左右方向を「X軸方向」、前後方向を「Y軸方向」、上下方向を「Z軸方向」とする。
図1に示す切削装置1は、所謂デュアルダイサーと称されるものであって、被加工物(円板ワーク)であるウェーハWを保持するチャックテーブル10と、該チャックテーブル10に保持されたウェーハWを切削加工する加工手段20と、ウェーハWを吸引保持するロータリーテーブル30と、複数のウェーハWを収容したカセット41を載置するカセットテーブル40と、ウェーハWをロボットハンド51で保持してこれをカセット41からロータリーテーブル30へと搬送するロボット50と、ロボットハンド51から受け渡されるウェーハVを吸引保持してチャックテーブル10へと搬送する第1搬送機構70と、切削加工が終了したウェーハWを洗浄するスピンナ洗手段80と、切削加工が終了したウェーハWをチャックテーブル10からスピンナ洗浄手段80へと搬送する第2搬送機構90と、制御部100を主要な構成要素として備えている。
次に、本実施形態に係る切削装置1の主要な構成要素であるチャックテーブル10、加工手段20、ロータリーテーブル30、カセットテーブル40、ロボット50、第1搬送機構70、スピンナ洗浄手段80、第2搬送機構90及び制御部100の構成についてそれぞれ説明する。
(チャックテーブル)
チャックテーブル10は、ウェーハWを吸引保持する円板状の部材であって、基台2の上面中央部に開口する開口部3に保持面(上面)が露出するように配置されている。このチャックテーブル10の周囲は、矩形プレート状のカバー4によって覆われており、開口部3のカバー4の左右(-X軸方向と+X軸方向)は、伸縮可能な蛇腹状の伸縮カバー5,6によってそれぞれ覆われている。
また、チャックテーブル10は、その下方に配された不図示の回転機構によって垂直な軸中心回りに回転可能であるとともに、不図示のX軸方向移動機構によってX軸方向(左右方向)に沿って往復移動することができる。なお、チャックテーブル10の保持面は、多孔質のポーラス部材によって構成されており、この保持面は、真空ポンプなどの不図示の吸引源に選択的に接続される。
ここで、ウェーハWは、図2に示すように、その表面(図2においては、上面)が格子状に配列された互いに直交するストリート(分割予定ライン)L1,L2によって多数の矩形領域に区画されており、各矩形領域にはICやLSIなどのデバイスDがそれぞれ形成されている。そして、このように多数のデバイスDが形成されたウェーハWをストリートL1,L2に沿って切削することによって、複数の半導体チップが形成される。
(加工手段)
デュアルダイサーである本実施形態に係る切削装置1は、加工手段20として、基台2上の左側(-X軸側)においてにY軸方向に沿って並設された第1切削ユニット21と第2切削ユニット22を備えている。これらの第1切削ユニット21と第2切削ユニット22は、基台2の上面に開口する開口部3を挟んでこれの前後両側(-Y軸側及び+Y軸側)に相対向するようにそれぞれ配設されており、これらの第1切削ユニット21と第2切削ユニット22には、撮像ユニット23がそれぞれ取り付けられている。ここで、各撮像ユニット23は、チャックテーブル10の保持面上に保持されたウェーハWを撮像してストリートL1,L2(図2参照)の位置を検出するものである。
また、第1切削ユニット21と第2切削ユニット22は、前後一対のZ軸方向移動機構24によってZ軸方向(切り出し送り方向)に上下移動がそれぞれ可能であるとともに、前後一対の不図示のY軸方向移動機構によってY軸方向(割り出し送り方向)の前後移動がそれぞれ可能である。
ここで、各Z軸方向移動機構24は、基台2上の-X軸方向端部に垂直に立設された第1門型コラム25に配置された公知のボールネジ機構によって構成されており、各ボールネジ機構は、駆動源であるZ軸パルスモータ26と、該Z軸パルスモータ26によって回転駆動される不図示のZ軸ボールネジなどを備えている。したがって、各Z軸方向移動機構24のZ軸パルスモータ26が駆動されて不図示のZ軸ボールネジが正逆転すると、第1切削ユニット21及び撮像ユニット23と第2切削ユニット22及び撮像ユニット23もZ軸方向(切り出し送り方向)に沿ってそれぞれ上下移動する。
以上のように、図1に示す切削装置1においては、チャックテーブル10とこれに保持されたウェーハWがX軸方向(左右方向)に沿って移動可能であり、第1切削ユニット21及び撮像ユニット23と第2切削ユニット22及び撮像ユニット23がY軸方向(前後方向)とZ軸方向(上下方向)に沿ってそれぞれ移動可能である。
(ロータリーテーブル)
ロータリーテーブル30は、後述のロボット50のロボットハンド51によってカセット41から取り出されたウェーハWを吸引保持する円盤状部材であって、基台2上のカセット41の近傍に配置されている。そして、このロータリーテーブル30の近傍には、該ロータリーテーブル30上に吸引保持されて回転するウェーハWの外周縁(ウェーハWの振れ)を検知する偏心検知センサ31が配置されている。なお、偏心検知センサ31は、制御部100に電気的に接続されている。偏心検知センサ31は、ウェーハWの外周縁の上方に配置し下方向に光を投光する投光部と、ウェーハWの外周縁の下方に配置し光を受光する受光器とを備えた透過方センサである。また、ウェーハWの外周縁の上方に配置し下方に光を投光する投光部と、ウェーハWの上面で反射した反射光を受光する受光部とを隣接して配置した反射型センサでもよい。また、反射型センサは、超音波振動を用いてもよい。そして、反射型センサは、ウェーハWの下方に配置されていてもよい。
ここで、ロータリーテーブル30は、その上面にウェーハWよりも小さい面積(ウェーハWの外径よりも小さな外径)の吸引面30a(図4参照)を備えており、この吸引面30aは、図4に示すように、中心に吸引口を形成し、吸引口が真空ポンプなどの吸引源32に接続されている。また、吸引面は、吸引口を囲むように環状溝を形成し、その環状溝と吸引口とを連通する連通溝を形成している。このように吸引口の口径、環状溝および連通溝の幅と深さを調整することで吸引面がウェーハWを吸引保持する吸引力を調整して、吸引面上でウェーハWを移動可能に吸引保持させている。なお、吸引口と吸引源とを連通する吸引路に吸引路内の負圧を調整する圧力調整弁(レギュレータ)を配置し、吸引面の吸引力を圧力調整弁で調整してもよい。また、このロータリーテーブル30は、その下方に配置されたモータ33によって垂直な軸心回りに所定の速度で回転駆動される。なお、電動モータ33は、制御部100に電気的に接続されており、その駆動が制御部100によって制御される。
(カセットテーブル)
図1に示す切削装置1の基台2の開口部3の前方(-Y軸方向)の右側(+X軸方向)角部には、上下方向(Z軸方向)に沿って昇降する矩形プレート状のカセットテーブル40が設けられている。そして、このカセットテーブル40の上面には、被加工物である複数のウェーハWを収容する矩形ボックス状のカセット41が配置されている。
そして、カセットテーブル40は、その下方に配置された昇降機構42によってカセット41と共にZ軸方向に沿って昇降することができる。ここで、昇降機構42は、垂直に配された回転可能なボールネジ43と、該ボールネジ43を回転駆動する電動モータ44を含んで構成されており、カセットテーブル40の下面に取り付けられた不図示のナット部材にボールネジ43の上端部が螺合している。
したがって、電動モータ44を起動してボールネジ43を正逆転させれば、該ボールネジ43が螺合する不図示のナット部材が取り付けられたカセットテーブル40がこれに載置されたカセット41と共にZ軸方向に沿って昇降する。なお、電動モータ44は、制御部100に電気的に接続されており、その駆動が制御部100によって制御される。
(ロボット)
ロボット50は、その上面の保持面51a(図4参照)にウェーハWを吸引保持するロボットハンド51と、該ロボットハンド51をY軸方向(前後方向)に沿って移動させる水平移動機構60を備えており、カセット41からロータリーテーブル30にウェーハWをロボットハンド51で保持して搬送する機能を果たすものである。
上記ロボットハンド51は、図3に示すように、平面視Y字状の板状部材であって、その先端部の上面は、ウェーハWを吸引保持する保持面51a(図4参照)を構成している。そして、このロボットハンド51は、その基端部が装着部52によって水平移動機構60の後述の支持部材61の上端に装着されている。このロボットハンド51の先端には、ロータリーテーブル30との干渉を避けるための半円状の凹部51bが形成されており、保持面51aの凹部51bの両側の二股状の各先端部と凹部51bの周囲の1箇所の計3箇所には、円孔状の吸引口53がそれぞれ開口している。そして、これらの吸引口53は、図4に示す真空ポンプなどの吸引源54に接続されている。
また、図3及び図4に示すように、ロボットハンド51の上面の保持面51aと装着部52との間には、押し部を構成する円柱状のピン55が垂直に立設されている。なお、ピン55は、後述のようにロボットハンド51によってカセット41から引き出されてロータリーテーブル30の吸引面30aに吸引保持されて回転するウェーハWの外周縁に当接して該ウェーハWをセンタリングするためのものである。
ロボット50に設けられた前記水平移動機構60は、基台2の+X軸方向端面(右端面)にY軸方向(前後方向)に沿って上下に平行に配置されたボールネジ62及びガイドレール63と、ボールネジ62に螺合するブロック状のスライダ64を備えており、スライダ64からは前記支持部材61が垂直に延びている。そして、この支持部材61の上端にロボットハンド51の基端部が装着部52によって装着されている。また、ボールネジ62の長手方向一端(図1の右端)は、回転駆動源であるサーボモータ65に連結されており、同ボールネジ62の長手方向他端(図1の左端)は、ガイドレール63によって回転可能に支持されている。なお、サーボモータ65は、制御部100に電気的に接続されており、その駆動が制御部100によって制御される。また、サーボモータ65は、エンコーダーを備えており、ロータリーテーブル30の吸引面30aに吸引保持されたウェーハWがセンタリングされた際に、ロボットハンド51の位置を認識し、センタリングされたウェーハWの直径を認識することができる。
したがって、サーボモータ65を起動してボールネジ62を正逆転させれば、該ボールネジ62に螺合するスライダ64がガイドレール63に沿ってY軸方向に往復動するため、このスライダ63に支持部材61を介して取り付けられたロボットハンド51がスライダ63と共にY軸方向に往復動する。
(第1搬送機構)
第1搬送機構70は、後述のようにロータリーテーブル30上でセンタリングされたウェーハWをロボットハンド51から受け取ってこれをチャックテーブル10へと搬送する機構であって、基台2上の第1門型コラム25と平行に且つ垂直に立設された第2門型コラム71にY軸方向に水平に設けられたガイドレール72に沿ってY軸方向に移動することができる。この第1搬送機構70は、ガイドレール72に沿ってY軸方向に移動可能な水平なアーム73を備えており、このアーム73の先端には、エアシリンダなどのアクチュエータ74が垂直に取り付けられている。そして、アクチュエータ74によってZ軸方向(上下方向)に昇降可能なロッド75の下端には、円板状の搬送パッド76が水平に取り付けられている。なお、搬送パッド76の下面は、ウェーハWを吸引保持する保持面を構成しており、この保持面には、不図示の円孔状の複数の吸引口が開口している。そして、各吸引口は、真空ポンプなどの不図示の吸引源に接続されている。
(スピンナ洗浄手段)
スピンナ洗浄手段80は、切削加工が終了したウェーハWを洗浄するためのものであって、図1に示すように、基台2上の開口部3よりも後方且つ右寄り部分に配設されている。このスピンナ洗浄機構80は、ウェーハWを吸引保持しながら回転するスピンナテーブル81と、該スピンナテーブル81上に吸引保持されたウェーハWに上方から洗浄液を噴射する不図示の噴射ノズルを備えている。
(第2搬送機構)
第2搬送機構90は、切削加工が終了したウェーハWをチャックテーブル10から受け取ってこれをスピンナ洗浄手段80へと搬送する機構であって、基台2上の第2門型コラム71にガイドレール72と平行にY軸方向に水平に設けられたガイドレール91に沿ってY軸方向に移動することができる。この第2搬送機構90は、ガイドレール91に沿ってY軸方向に移動可能な水平なアーム92を備えており、このアーム92の先端には、エアシリンダなどのアクチュエータ93が垂直に取り付けられている。そして、アクチュエータ93によってZ軸方向(上下方向)に昇降可能なロッド94の下端には、円板状の搬送パッド95が水平に取り付けられている。なお、搬送パッド95の下面は、ウェーハWを吸引保持する保持面を構成しており、この保持面には、不図示の円孔状の複数の吸引口が開口している。そして、各吸引口は、真空ポンプなどの不図示の吸引源に接続されている。
(制御部)
制御部100は、制御プログラムにしたがって演算処理を行うCPU(Central Processing Unit)と、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などの記憶部などを備えている。特に、本実施形態においては、制御部100は、ウェーハWのロータリーテーブル30上でのセンタリングにおいて、水平移動機構60(サーボモータ65)の駆動を制御してロボットハンド51をロータリーテーブル30に向かって接近させてピン55を回転するウェーハWの外周縁に当てながら、該ウェーハWの外周縁を偏心検知センサ31で検知し、該偏心検知センサ31の値が変化しなくなるとウェーハWのセンタリングが終了したものと判断するが、これについての詳細は後述する。
[切削装置の作用]
次に、以上のように構成された切削装置1の作用について説明する。
まず、ウェーハWのカセット41からの取り出しからロータリーテーブル30上でのセンタリングまでの工程を図3~図6に基づいて以下に説明する。
ウェーハWに対する切削加工に際しては、昇降機構42によってカセットテーブル40とこれに載置されたカセット41が昇降する(図6のステップS1)。そして、カセット41からウェーハWがロボット50のロボットハンド51によって取り出され(図6のステップS2)、この取り出されたウェーハWがロボットハンド51によってロータリーテーブル30へと搬送され(図6のステップS3)、該ウェーハWがロータリーテーブル30上に載置される(図6のステップS4)。すなわち、ロボット50において、図1に示す水平移動機構60によってスライダ64とこれに支持部材61を介して取り付けられたロボットハンド51がカセット41に向かって-Y軸方向に移動し、該ロボットハンド51が1枚のウェーハWの下面を保持すると、図4に示す吸引源32によってロボットハンド51の保持面51aに負圧が発生するため、この負圧に引かれてウェーハWがロボットハンド51の保持面51aに吸引保持される。そして、この状態から水平移動機構60のスライダ64がロボットハンド51と共に+Y軸方向に移動し、ロボットハンド51に吸引保持されたウェーハWがロータリーテーブル30の吸引面30a上に受け渡されて該吸引面30a上に載置される。
上述のように、ウェーハWがロータリーテーブル30の吸引面30a上に載置されると(ステップS4)、図4に示す吸引源32によってロータリーテーブル30の吸引面30aが真空引きされる。すると、ロータリーテーブル30の吸引面30aに負圧が発生し、この負圧に引かれてウェーハWがロータリーテーブル30の吸引面30a上にスライド可能に吸引保持される(図6のステップS5)。そして、このようにウェーハWがロータリーテーブル30の吸引面30aに吸引保持されると、図4に示すモータ33が起動されてロータリーテーブル30とこれに保持されたウェーハWが垂直な軸心を中心として図3の矢印方向(反時計方向)に所定の速度で回転する(図6のステップS6)。これと同時に、回転するウェーハWの外周縁が偏心検知センサ31によって検知され(図6のステップS7)、その検知結果(検知信号)が制御部100へと送信される。
上記偏心検知センサ31は、回転中のウェーハWの振れを検知するものであって、図3(a)及び図4(a)に示すように、ウェーハWの中心O1がロータリーテーブル30の中心O2に対して図示のε1だけ偏心している場合には、ウェーハWの振れaは、図3(a)に示すように比較的大きな値a1を示す。このときのウェーハWの回転角θに対する振れaの変化を図5(a)に示すが、ウェーハWの振れaは、回転角θに対してサインカーブを描いて変化する。図3(a)及び図4(a)に示すように、ウェーハWの中心O1がロータリーテーブル30の中心O2に対して図示のε1だけ偏心している場合には、図5(a)に示すように、ウェーハWが1回転(360°回転)するたびにウェーハWが図示の振れ(振幅)a1だけ振れる。このとき、ウェーハWは、その外周縁がロボットハンド51に立設されたピン55に間欠的に接触しながら回転することによって自動調心される。
すると、制御部100は、ロボット50の水平移動機構60のサーボモータ65を起動してロボットハンド51をロータリーテーブル30に向かって-Y軸方向に水平移動させる(図6のステップS8)。すると、ロボットハンド51に立設されたピン55がウェーハWの外周縁に当接して該ウェーハWをロータリーテーブル30上で-Y軸方向にスライドさせる。この結果、ウェーハWの中心O1がロータリーテーブル30の中心O2に近づき、該ウェーハWのロータリーテーブル30に対する偏心量が次第に小さくなる。
例えば、図3(b)にロボットハンド51を図3(a)に示す状態から図示のΔy1だけロータリーテーブル30に向かって移動させたときの状態を示すが、このとき、回転するウェーハWは、その外周縁がピン55に間欠的に接触することによる自動調心作用によって、その中心O1のロータリーテーブル30の中心O2に対する偏心量が図示のε2となって、図3(a)に示す状態の偏心量ε1よりも小さくなる(ε2<ε1)。この結果、ウェーハWの振れaは、図3(b)及び図4(b)に示すように、図3(a)及び図4(a)に示す場合の振れa1よりも小さな値a2を示す(a2<a1)。このときのウェーハWの回転角θに対する振れaの変化を図5(b)に示すが、ウェーハWの振れaは、回転角θに対してサインカーブを描いて変化する。図3(b)及び図4(b)に示すように、ウェーハWの中心O1がロータリーテーブル30の中心O2に対して図示のε2だけ偏心している場合には、図5(b)に示すように、ウェーハWが1回転(360°回転)するたびにウェーハWが図示の振れ(振幅)a2だけ振れる。
上述のように、ロボットハンド51をロータリーテーブル30に向かって移動させている間、制御部100は、偏心検知センサ31によって検知される値(ウェーハWの振れa)に変化があるか否か(振れaが0であるか否か)を判定し(図6のステップS9)、偏心検知センサ31によって検知される値に変化がない場合(ステップS9:Yes)には、ウェーハWのセンタリングが完了したものと判断し、ロボット50の水平移動機構60のサーボモータ65を逆転させてロボットハンド51をロータリーテーブル30から離れる方向(+Y軸方向)に移動させることによって、ピン55をウェーハWの外周縁から離間させ(ステップS10)、一連の処理を終了する(ステップS11)。これに対して、偏心検知センサ31によって検知される値(ウェーハWの振れa)に変化がある場合(つまり、ウェーハWの振れaが0でない場合)(ステップS9:No)には、ステップS7~S9の処理を偏心検知センサ31によって検知される値(ウェーハWの振れa)に変化がなくなるまで(つまり、ウェーハWの振れaが0になるまで)繰り返す。
ここで、図3(c)及び図4(c)に示すように、ロボットハンド51をロータリーテーブル30に向かって図示のΔy2だけ移動させた結果、ウェーハWのセンタリングがなされて該ウェーハWの中心O1とロータリーテーブル30の中心O2とが一致した場合には、ウェーハWの振れaは、0(a=0)となる。このとき、図5(c)に示すように、ウェーハWの回転角θに対する振れaは0を示す(a=0)。
以上のように、本実施形態においては、ロボットハンド51にピン55を立設し、ロータリーテーブル30の吸引面30aにスライド可能に吸引保持されたウェーハWを回転させながら、該ウェーハWの振れaを偏心検知センサ31によって検知し、この偏心検知センサ31によって検知される値に変化かある場合(振れaが0でない場合)には、ロボットハンド51とこれに立設されたピン55をロータリーテーブル30に向かって移動させ、ピン55がウェーハWの外周縁に当接することによる自動調心作用によってウェーハWのセンタリングを行うようにしたため、特別な装置を用いることなく、簡素な機構でウェーハWのセンタリングを迅速に行うことができるという効果が得られる。
また、偏心検知センサ31を用いてウェーハWのセンタリングを高精度に行うことができる結果、該ウェーハWの外周縁に形成されたノッチの検知を偏心検知センサ31によって迅速且つ高精度に行うことができるという効果も得られる。
以上の過程を経てロータリーテーブル30上でウェーハWのセンタリングが行われると、ウェーハWがロータリーテーブル30からロボットハンド51へと受け渡され、ウェーハWは、ロボットハンド51から第1搬送機構70の搬送パッド76へと受け渡される。すると、搬送パッド76は、その下面にウェーハWを吸引保持してこれをチャックテーブル10へと搬送し、該チャックテーブル10の保持面上にウェーハWを載置する。
その後、チャックテーブル10の保持面上に載置されたウェーハWは、チャックテーブル10の保持面が不図示の吸引源によって真空引きされることによって該保持面上に吸引保持される。そして、ウェーハWを保持したチャックテーブル10は、不図示のX軸方向移動機構によって-X軸方向に向かって移動する。
他方、図1に示す第1切削ユニット21と第2切削ユニット22においては、各撮像ユニット83によるウェーハWの表面の撮像によって画像が得られると、その画像に基づくパターンマッチング処理によって切削すべきストリートL1(図2参照)が検出される。このようにウェーハWのストリートL1が検出されると、第1切削ユニット21と第2切削ユニット22の各切削ブレード21a(図1には、一方のみ図示)のY軸方向の位置が前後一対の不図示の各Y軸方向移動機構によってそれぞれ割り出され、これらの切削ブレード21aのY軸方向の位置が切削すべきストリートL1の位置に合わせられる。
そして、上記状態から第1切削ユニット21と第2切削ユニット22の各切削ブレード21aがそれぞれ高速で回転駆動されながら、前後一対の各Z軸方向移動機構24によって所定の切込量分だけそれぞれ下降するとともに、不図示のX軸方向移動機構によってチャックテーブル10とこれに保持されたウェーハWがX軸方向に移動する。すると、ウェーハWは、第1切削ユニット21と第2切削ユニット22の各切削ブレード21aによってストリートL1に沿って切削され、このような作業が一方向の全てのストリートL1に対して行われると、不図示の回転機構によってチャックテーブル10とこれに保持されたウェーハWが90°だけ回転され、ウェーハWに対して、切断が終了したストリートL1と直交する他方向のストリートL2に沿う切断が同様になされる。そして、ウェーハWの全てのストリートL1,L2に沿う切断が終了すると、個々のデバイスD(図2参照)が搭載された複数の半導体チップが得られる。
以上のようにしてウェーハWに対する切削加工が終了すると、チャックテーブル10に保持されたウェーハWが第2搬送機構90へと受け渡される。すなわち、第1搬送機構70と同様に、第2搬送機構90の搬送パッド95によってウェーハWが吸引保持された状態で、ウェーハWがスピンナ洗浄手段80へと搬送され、該スピンナ洗浄手段80のスピンナテーブル81へと受け渡される。
スピンナテーブル81へと受け渡されたウェーハWは、スピンナテーブル81の保持面に吸引保持された状態で該スピンナテーブル81と共に所定の速度で回転しながら、不図示の噴射ノズルから噴射される洗浄液によって洗浄され、切削加工によってウェーハWに付着した切削屑が除去され、ウェーハWに対する一連の切削加工が終了する。
なお、以上の実施形態では、ロボットハンド51に1つのピン55を立設したが、図7に示すように、ロボットハンド51に2つのピン55を立設してもよい。このような2つのピン55は、その2つのピン55とロータリーテーブル30の中心とを結ぶ直線で二等辺三角形を形成するように配置され、2つのピン55を結ぶ直線を二等辺三角形の底辺とし、その垂線は、ロボットハンド51の移動方向のY軸方向に平行になるよう構成されているとよい。また、3つ以上の複数ピン55をロボットハンド51に立設してもよく、その数は任意である。
また、以上はウェーハWを切削加工する切削装置1に対して本発明を適用した形態について説明したが、本発明は、ウェーハW以外の任意の円板ワークを切削加工する切削装置の他、切削装置以外のレーザー加工装置、研削装置または研磨装置などの任意の加工装置に対しても同様に適用可能である。また、本発明は、薄化される前のウェーハ、または、貼り合わせウェーハなどに対しても有効である。
その他、本発明は、以上説明した実施の形態に適用が限定されるものではなく、特許請求の範囲及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内で種々の変形が可能であることは勿論である。
1:切削装置(加工装置)、2:基台、3:基台の開口部、4:カバー、
5,6:伸縮カバー、10:チャックテーブル、20:加工手段、
21:第1切削ユニット、21a:切削ブレード、22:第2切削ユニット、
23:撮像ユニット、24:Z軸方向移動機構、25:第1門型コラム、
26:Z軸パルスモータ、30:ロータリーテーブル、30a:吸引面、
31:偏心検知センサ、32:吸引源、33:モータ、40:カセットテーブル、
41:カセット、42:昇降機構、43:ボールネジ、44:電動モータ、
50:ロボット、51:ロボットハンド、51a:保持面、51b:凹部、
52:装着部、53:吸引口、54:吸引源、55:ピン(押し部)、
60:水平移動機構、61:支持部材、62:ボールネジ、63:ガイドレール、
64:スライダ、65:サーボモータ、70:第1搬送機構、71:第2門型コラム、
72:ガイドレール、73:アーム、74:アクチュエータ、75:ロッド、
76:搬送パッド、80:スピンナ洗浄手段、81:スピンナテーブル、
90:第2搬送機構、91:ガイドレール、92:アーム、93:アクチュエータ、
94:ロッド、95:搬送パッド、100:制御部、
a,a1,a2:ウェーハの振れ、D:デバイス、L1,L2:ストリート、
O1:ウェーハの中心、O2:ロータリーテーブルの中心、
W:ウェーハ(円板ワーク)、
Δy1,Δy2:ロボットハンド(ピン)の移動量、ε1,ε2:ウェーハの偏心量、
θ:ウェーハの回転角

Claims (3)

  1. 円板ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された円板ワークを加工する加工手段と、円板ワークより小さい面積の円形の吸引面で円板ワークを吸引保持するロータリーテーブルと、該ロータリーテーブルを回転させるモータと、円板ワークを収容したカセットを載置するカセットテーブルと、該カセットから該ロータリーテーブルに円板ワークをロボットハンドで保持して搬送するロボットと、制御部と、を備える加工装置であって、
    該ロボットハンドは、板状で一方の面側に、円板ワークを吸引保持する保持面と、該ロボットに装着する部分となる装着部と、該保持面と該装着部との間に配置された押し部と、を備え、
    該ロータリーテーブルの吸引面の中心と円板ワークの中心とを一致させ該吸引面で吸引保持した円板ワークの外周縁を検知する偏心検知センサを備え、
    該制御部は、
    該ロボットハンドによって該カセットから搬出して該ロータリーテーブルの該吸引面に円板ワークを搬送することと、
    円板ワークが該吸引面上をスライド可能に該吸引面に円板ワークを吸引保持させることと、
    該ロータリーテーブルの回転に伴って回転する円板ワークの外周縁を該偏心検知センサで検知しながら、該ロボットハンドを該吸引面に平行な方向で該ロータリーテーブルに接近させていき、該押し部を円板ワークの外周縁に当てて、該吸引面上で該円板ワークをスライド移動させることと、
    該偏心検知センサの値が変化しなくなると該ロータリーテーブルの中心と該吸引面に吸引保持されている円板ワークの中心とが一致したと判断して、該円板ワークの外周縁から該押し部を離間させることと、
    を制御する加工装置。
  2. 該ロボットハンドは、該押し部を2つ以上配置している請求項1記載の加工装置。
  3. 該押し部は、垂直に立設された円柱状のピンである請求項1または2記載の加工装置。
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