JPS63124535A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS63124535A
JPS63124535A JP27214286A JP27214286A JPS63124535A JP S63124535 A JPS63124535 A JP S63124535A JP 27214286 A JP27214286 A JP 27214286A JP 27214286 A JP27214286 A JP 27214286A JP S63124535 A JPS63124535 A JP S63124535A
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JP
Japan
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control electrode
electrode
control
electrode lead
main
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JP27214286A
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Takeshi Ito
武志 伊藤
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、圧接形半導体装置の制御電極圧接機構に関す
るものである。
〔従来の技術〕
第9図および第12図は半導体装置の第1の従来例を示
す断面図、第4図、第10図、第11図、第13〜第1
5図は第9図および第12図の装置の主要構成部品を示
す拡大平面図、拡大縦断面図である。なお、ここでは半
導体装置としてサイリスタについて説明する。
第9図において、1はサイリスク装置のサイリスク素子
構成体である。サイリスタ素子構成体1において、2は
サイリスタ素子のシリコン基板、3はシリコン基板の中
央に通常アルミニウム等の真空蒸着により形成された制
御電極、4は制御電極3の周囲に制御電極3と同じ方法
にて形成された第1の主電極としての環状陰極、5は例
えばタングステン板又はモリブデン板から成りシリコン
基板を外部衝撃から補強するための第2の主電極として
の陽極支持板であり、通常は、シリコン基板2と陽極支
持板5は例えば真空合金等による合金により抵抗接着さ
れる。
また、6はサイリスタ素子構成体1の性能が外部雰囲気
により劣化するのを防止するために、サイリスク素子構
成体lを収容するパッケージである。パフケージ6にお
いて、7は例えば酸化アルミニウム磁器などから成りサ
イリスク素子構成体1の陽極支持板5の位置決めをなし
得る内径を持つセラミック筒体、8は例えばコバール又
は鉄・ニッケル合金部材から成りセラミック筒体7の第
1の端面(上側端面)に接着された鍔状平板、9は鍔状
平板8と同一部材から成りセラミック筒体7の第2の端
面(下側端面)に接着された環状平板、10は例えば銅
の金属部材から成り環状平板9の内側面に接着された第
1の主電極端子としての円柱状の陰極端子、11は陰極
端子10の端面に形成されセラミック筒体7の内側に開
口し環状陰極4の内径とほぼ同一直径の円形凹部、12
は円柱形の陰極端子10の半径方向に設けられ円形凹部
11に連なる凹状の横溝、13は例えばコバール部材な
どの金属管から成りセラミック筒体7の側壁から突出し
この側壁に接着して設けられた制御電極端子である。
さらに第9図で、14は例えば銅や銀などの細線から成
り、サイリスク素子構成体1の制御電極3に圧接され、
制御電極3とパッケージ6の制御電極端子13とを電気
的に接続する制御電極リード線である。この制御電極リ
ード線14を第4図の拡大平面図で示す。
第4図において、15は例えば銅や銀などの金属部材か
ら成り制御電極リード線14の一端に設けられ制御電極
3にて圧接触される制御リード圧接部で、制御リード圧
接部15は制御電極3の接触可能面積よりも大きくない
接触面積と0.2mm〜0.3mm程度の高さを有する
。16は制御電極端子13内に挿入される制御電極リー
ド線14の挿入部である。
さらに第9図において、17は陰極端子10の円形凹部
11内に挿入され、制御電極リード圧接部15を制御電
極3に押圧するためのコイル状ばねである。18はセラ
ミック等の絶縁部材から成り、陰極端子10の円形凹部
11の内側面に滑合し、制御電極リード線14と陰極端
子10とを電気的にvA縁し、且つコイル状ばね17の
弾性力により制御リード圧接部15を制御電極3に押圧
することができるように制御電極リード線14を支持す
る制御電極リード絶縁支持体である。
第10図は制御電極リード絶縁支持体18を拡大して示
す拡大平面図であり、第11図は第10図のXI−XI
線断面図である。第10図および第11図において、1
9は制御電極リード線14の挿入部16を挿入し支持す
る制御電極リード線挿入孔、20は制御電極リード絶縁
支持体18の側面から直径方向に制御電極リード挿入孔
19を越えて伸びる横溝である。
第9図に示すように、陰極端子10の円形凹部11内に
コイル状ばね17を挿入し、このコイル状ばね17の上
に制御電極リード絶縁支持体18を上積みしたとき、制
御電極リード絶縁支持体18が陰極端子10の端面から
2〜3mm程度出るように制御電極リード絶縁支持体1
8の高さH(第11図参照)が設定されている。21は
制御電極リード線14が挿入される絶縁管である。絶縁
管21を使用する理由は、第9図に示すように、制御電
極リード線14が陰極端子10と接触するのを防止し、
電気的絶縁を図るためである。22はシリコン基板2と
ほぼ等しい熱膨張係数をもつ厚さ0.1〜1mm程度の
モリブデン板から成り、環状陰極4と陰極端子10との
間に介在して圧接される環状陰極圧接板で、第9の従来
例では、サイリスタ素子構成体1の環状陰極4の上面に
接するようにシリコンゴム等の接着材23でその側面を
接着し固定される。
さらに第9図において、24は陽極支持板5に接して押
圧される第2の主電極端子としての陽極端子であり、陽
極端子24の周囲側面には鍔状平板8と同一部材から成
る環状の平板25が接着され一体をなしている。26は
鍔状平板8と環状の平板25を溶着またはろう接し、パ
ッケージ6内を外気の雰囲気からしゃ断し、サイリスク
素子構成体1を保護するための溶接部である。27は制
御電極端子13と制御電極リード線14の挿入部16と
を圧接着した後に溶着またはろう接された封止溶接部で
ある。
次に、第9図のサイリスタ装置の組立て作業について述
べる。まず、パッケージ6の陰極端子10の円形凹部1
1内にコイル状ばね17を挿入する。次に、制御電極リ
ード線14を第9図に示すように、制御電極リード絶縁
支持体18の制御電極リード挿入孔19に挿入し、この
制御電極リード線14を制御電極リード絶縁支持体18
の横溝20に沿って折り曲げる0次に、この折り曲げら
れた制御電極リード線14が絶縁管21に挿入され、次
いで、この絶縁管21が挿入された制御電極リード線1
4を陰極端子10の凹状の横溝12内に挿入し、その挿
入部16を制御電極端子13内に挿入すると同時に、制
御電極リード線14が挿入された制御電極リード絶縁支
持体18を、すでに陰極端子10の円形凹部11内に挿
入されているコイル状ばね17の上に積み重ねる。この
とき、制御電極リード絶縁支持体18の先端部が陰極端
子10の端面から2〜3mm突出するように設定されて
いる。これは陽極端子24と陰極端子10を両側から圧
接したときに、制御電極リード′a14の制御リード圧
接部15と制御電極3の間に適切な圧接荷重がかかるよ
うにするためである。
通常この圧接荷重は900〜1000gの荷重に設定さ
れる。
続いて、予めサイリスタ素子構成体1の環状陰極4の上
にシリコンゴム等の接着材23で環状陰極圧接板22を
接着したサイリスタ素子構成体1をセラミック筒体7の
内面に沿って挿入する。次に、一体をなす陽極端子24
と環状の平板25を陽極支持板5に当接するように積み
重ねる。ここまでの工程を仮組立て工程と呼ぶ。
さらに、上記工程の後、加圧治具を用いて陰極端子10
と陽極端子24の両側から押圧し、溶接部26を形成し
、次いで制御電極端子13の先端部と制御電極リード線
14の挿入部16とを圧接着し、封止溶接部27を形成
する。以上で組立て作業は完了する。
第9図に示す第1の従来例では、制御電極圧接機構が複
雑なため、この制御電極圧接機構の組立て段階における
手順数が多(、作業性が悪いという欠点があった。また
更に、制御リード圧接部15を制御電極3に圧接するた
めにコイル状ばね17による加圧手段を必要とするため
、パフケージ6の陰極端子10の軸方向高さMが高(な
り、このためサイリスタ装置の小形化を図ることが困難
であるという欠点もあった。
第12図に示す第2の従来例としての半導体装置の構造
は上記の欠点に鑑みてなされたもので、導電性の弾性部
材から成る制御電極スプリングリード14aを用いて制
御電極圧接機構を簡素化したものである。また、この制
御電極スプリングリード14aをパフケージ6の陰極端
子10に組み込んだ後にサイリスタ素子構成体1をパッ
ケージ6内に挿入することによって組立て作業の能率化
を図ろうとするものである。さらに、第9図に示す第1
の従来例で用いたコイル状ばね17は、弾性部材から成
る制御電極スプリングリード14aを用いることによっ
て不用となり、このためパッケージ6内の陰極端子10
の軸方向高さMを低くでき、よってサイリスク装置の小
形化を図ることができることを特徴としている。
次に、第12図に示す従来例の構造および組立て方法に
関し、第9図に示した従来例と比較し、特筆すべき相違
点について説明する。ただし、第12図に示すサイリス
ク装置の構成部品の中で、サイリスク素子構成体1.パ
ッケージ6、一体をなしている陽極端子24と環状の平
板25は第9図に示すものと同様であるので、その説明
は省略する。
第13図は制御電極スプリングリード14aの正面図で
ある。制御電極スプリングリード14aは導電性の弾性
部材から成り、第4図に示す制御電極リード線14に対
応するものである。第13図において、15aは制御電
極リード線14の制御リード圧接部15に対応する制御
電極スプリングリード14aの圧接部、16aは制御電
極リード線14の挿入部16に対応する制御電極スプリ
ングリード14aの挿入部である。
第13図に示す長さLlは、制御電極スプリングリード
14aの挿入部16aをパフケージ6の制御電極端子1
3内に挿入したときに、圧接部15aの先端がパフケー
ジ6の陰極端子10の端面から2〜3mm程度突出する
ように設定される。
また、制御電極ス、プリングリード14aの挿入部16
aの所要長さをパフケージ6の制御電極端子13内に挿
入するときの位置決め用として役立つように制御電極ス
プリングリード14aに屈曲個所を設け、この屈曲個所
から圧接部15aの中心までの長さL2をパッケージ6
のセラミック筒体7の内側の半径にほぼ等しくなるよう
に設定すれば、容易に圧接部15aを陰極端子10の円
形凹部11のほぼ中心に位置させることができる。しか
しながら、厳密に言えば、長さL2は第12図に示した
サイリスタ装置の構成の元で、陽極端子24の端面と陰
極端子10の端面との両側から圧接したときに、制御電
極スプリングリード圧接部15aがパッケージ6の陰極
端子10に設けられた円形凹部11の中心に位置し、な
おかつサイリスク素子構成体lの制御電極3からはみ出
さないことを考慮して設定する必要があるので、サイリ
スタ素子構成体1の陽極支持板5の側面とそれに滑合す
るパッケージ6のセラミック筒体7の内側面との間に極
めて高い寸法精度が要求される。
第14図は、第12図に示す装置の構成部品である絶縁
支持体嵌合環状陰極圧接板22aの拡大平面図であり、
また第15図は第14図のXV−XV線線断断面図ある
。絶縁支持体嵌合環状陰極圧接板22aは、第13図に
示す制御電極スプリングリード14aを支持する制御電
極リード絶縁支持体18(第10図、第11図参照)を
、第9図に示す環状陰極圧接板22の挿入孔28に嵌合
させたものである。第14図、第15図において、制御
電極り−ド絶縁支持体18は、環状陰極圧接板22の内
側面に嵌合し固定するために、第9図に示す制御電極リ
ード絶縁支持体18の部材とは異なる弾力性のある絶縁
部材を用いる。
以上が第12図に示す第2の従来例の構造と主要構成部
品についての説明である。
第12図に示す従来例によれば、第9図に示す従来例で
用いたコイル状ばね17が不要であり、また第14図、
第15図に示す絶縁支持体嵌合環状陰極圧接板22aを
用いることによって、第9図に示す従来例で述べたサイ
リスタ素子構成体1の環状陰極4と環状陰極圧接板22
との接着工程が不要となる。このように、第12図に示
す従来例では、第9図に示す従来例に比べ、制御電極圧
接機構が簡略化され、また作業性も向上されている。た
だ、特筆すべき欠点は、すでに述べたように、第13図
における制御電極スプリングリード14aの長さLlと
L2を設定する上で極めて高い寸法精度が要求されるこ
と、およびそれに付随して生じるサイリスク素子構成体
1の陽極支持板5の側面とそれに滑合するパッケージ6
のセラミック筒体7の内側面とのクリアランスの問題で
ある。
以上が、第9図に示す従来例と第12図に示す従来例の
構造から派生する相違点である。
以下に、第12図に示す従来の半導体装置の組立て方法
について述べる。まず、第13図に示す制御電極スプリ
ングリード14aに所定の長さに切断された絶縁管を挿
入する。次に、制御電極スプリングリード14aの挿入
部16aを制御電極端子13内に挿入する。その後、制
御電極スプリングリード14aの圧接部15aが所定の
位置で陰極端子10の圧接面に対し垂直になるように位
置決め用治具(図示せず)を用いて位置決めした後、制
御電極端子13を圧着する。
続いて、予め嵌合された絶縁支持体嵌合環状陰極圧接板
22aの制御電極スプリングリード絶縁支持体18の挿
入孔19内へ制御電極スプリングリード圧接部16aを
挿入すると共に、制御電極スプリングリード14aを横
溝20内に挟み込みながら制御電極スプリングリード絶
縁支持体18を陰極端子10の円形凹部11内に挿入し
て、環状陰極圧接板22を陰極端子10の上に載せる。
続いてサイリスタ素子構成体1をセラミック筒体7内に
挿入する。しかる後、一体化した陽極端子24と環状の
平板25をサイリスタ素子構成体1の陽極支持板5に当
接するように積み重ねる。
ここまでの工程を上記ですでに述べたように仮組立工程
と呼ぶ、その後の工程はすでに第9図における従来例で
述べた工程と同じなので省略する。
以上で組立て作業が完了する。
このように第12図に示す従来例によれば、組立工程の
作業手順数は第1の従来例に比べ少なくなっている。し
かし、ある面では、制御電極スプリングリード14aの
位置決めのための治具が必要なこと、また位置決め作業
をする上で熟練を要することなどを欠点として上げるこ
とができる。
以上が、第9図に示す従来例と第12図に示す従来例の
組立て方法についての相違点である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述したように、従来の半導体装置としてのサイリスク
装置の第1例によれば、制御電極圧接機構が複雑なため
、制御電極圧接機構を組み立てる段階における所要部品
点数が多く、このため作業手順数も多くなり、したがっ
て作業性が悪いという欠点があった。さらに、第9図で
示すコイル状ばね17による加圧手段を必要とするため
、陰極端子10に設けられた円形凹部11の穴の深さを
十分に深くする必要があり、よって陰極端子10の軸方
向高さMを高くする必要があり、サイリスク装置の小形
化を図ることが困難であった。
第12図の第2の従来例では、第9図で示すコイル状ば
ね17は不要であり、このため部品点数が減り作業が簡
略化されているが、第12図で示す制御電極スプリング
リード14aの長さLlとL2の設定をする上で、サイ
リスタ素子構成体1の陽極支持板5の側面とそれに滑合
するパッケージ6のセラミック筒体7の内側面とのクリ
アランスを考慮した掻めて高い寸法精度が要求されると
いう欠点があった。
また、第1の従来例で述べた第9図に示す制御電極リー
ド絶縁支持体18を用いるため、第2の従来例では第1
の従来例に比ベコイル状ばね17の軸方向高さの分だけ
陰極端子10の軸方向高さMを低くできるので小形化が
図られているが、この高さMも第12図で示す制御電極
リード絶縁支持体18の高さHによって規定され、小形
化を図る上での障害となっていた。
さらに、仮組立工程においては、制御電極スプリングリ
ード圧接部15aが所定の位置で陰極端子10の圧接面
に対し垂直になるようにするための位置決め用治具を用
いて位置決めする必要があり、煩雑性とそれに伴う作業
の熟練を要求されるなどの欠点があった。
本発明はこのような点に漏みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、第1に制御電極圧接機構の簡略
化を図るために主要構成部品点数を少なくすること、第
2にサイリスタ装置の小形化を図ること、第3に作業性
の向上を図ることおよびこれに関連して位置合わせの精
度を向上させることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
このような目的を達成するために本発明は、第1の主面
に制御電極とこの制御電極を取り囲むように形成された
環状の第1の主電極とが設けられ第2の主面に第2の主
電極が設けられた半導体素子構成体を圧接し電気的に接
続するために第1の主電極と当接される第1の主電極端
子と第2の主電極と当接される第2の主電極端子と、制
御電極を外部に接続するための制御電極リード線とを有
し、第1の主電極端子は制御電極を取り出すだめの円形
凹部と凹上の横溝を有する半導体装置において、円形の
凹部に挿入することによって制御電極リード線を所定の
位置に位置決めする機能と、制御電極リード線と半導体
素子構成体の制御電極とを適切な荷重で圧接し電気的に
接続するための機能とを有する皿状の制御電極リード支
持ばねを装置に設けるようにしたものである。
〔作用〕
本発明においては、主要構成部品点数が従来より少なく
なり、第1の主電極端子の高さを低くでき、装置を小形
化でき、装置の熱抵抗を小さくでき、作業性の向上を図
ることができる。
〔実施例〕
第1図は、本発明に係わる半導体装置の一実施例を示す
縦断面図である。また、第2図〜第4図は、第1図の装
置の主要構成部品を示す拡大平面図又は拡大縦断面図で
あり、第5図〜第8図は第1図の装置の主要部位の構造
を示す拡大平面図又は拡大縦断面図である。
第1図において、29は制御電極リード支持ばねであり
、この制御電極リード支持ばね29は、第4図で示す制
御電極リード圧接部15を支持しサイリスタ素子構成体
1の環状陰極4と当接させるための圧着機能と、第4図
で示す制御電極リード圧接部15をパッケージ6の陰極
端子1oの所定の位置に位置決めするための位置決め機
能とを兼ね備えている。また、制御電極リード支持ばね
29は弾力性を有し、極めて薄(自由高さの低い絶縁部
材から成る。30は制御電極リード圧接部15を支持す
るための制御電極リード支持ばね29の支持部である。
第2図は上記制御電極リード支持ばね29の拡大平面図
、第3図は第2図のm−m線断面図である。第4図の制
御電極リード線14については従来の技術で説明したの
でその説明を省略する。第5図は第1図に示す陰極端子
10のパッケージ6の内側に面する上方から見たサイリ
スタ素子構成体1の環状陰極4の側に接する端面の拡大
平面図であり、第6図は第5図のVI−Vl線断面の一
部を示す拡大縦断面図である。また、第7図は第1図で
示す制御電極圧接機構部位の拡大平面図であり、第8図
は第7図の■−■線断面図の一部を示す拡大縦断面図で
ある。
次に、本装置の組立て作業について説明する。
まず、制御電極リード線14の挿入部16を制御電極リ
ード支持ばね17の挿入孔19に挿入し、続いて絶縁管
21に挿入する。その後の工程つまり仮組立工程以降に
ついてすでに第9図の従来例で述べたので省略する。こ
のように、本装置においては、制御電極圧接機構に係る
主要構成部品の部品点数を少なくすることができ組立て
作業が筒略化されるため、熟練を要することがなく、従
って作業性が向上する。
このように構成された半導体装置において、第2図、第
3図に示す制御電極リード支持ばね29は極めて厚さが
薄く、またその自由高さtを低く設定することにより、
陰極端子10の設けられた円形凹部11の穴の深さを浅
くすることができ、これにより陰極端子10の軸方向高
さMを低くすることができる。従って、これにより、サ
イリスク装置の小形化を図ることができると共に、サイ
リスク素子構成体1の電気的特性である熱抵抗を従来の
ものに比べ極端に小さくすることができ、特性の向上を
図ることができる。なお、第2図。
第3図に示す制御電極リード支持ばね29の支持部30
の面積は制御電極リード圧接部15の当たり面の面積よ
りも大きく設定することが望ましい。
これは、より安定した支持を提供するためである。
また、制御電極リード支持ばね29に設けられる挿入孔
19の内径は制御電極リード!14を適度に滑合せしめ
、なおかつ支持部30と当接する制御電極リード圧接部
15の端面との接触が十分になされる程度の寸法に設定
することが望ましい。
なお、本装置の制御電極リード支持ばね29の部材は、
900〜1000gの圧力荷重に耐えられる程度の極め
て薄い絶縁性弾性材であるエポキシ系樹脂材、酸化アル
ミニウム又はセラミックから成る。第1図における凹状
の横溝12の深さの寸法は、絶縁管21の直径よりやや
大きい程度でよい。
なお、この実施例ではサイリスク装置について述べたが
、本発明はこれに限らず、トライチック、逆導通サイリ
スタ、トライアックあるいはこれらを集積化した半導体
装置の一例であるパワーブリック(Power−Bri
k)と称されるモジュラ形半導体装置にも適用すること
ができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、制御電極リード線を円形
の凹部に挿入することによって所定の位置に位置決めす
る機能と、制御電極リード線と半導体素子構成体の制御
電極とを適切な荷重で圧接し電気的に接続するための機
能とを有する皿状の制御電極リード支持ばねを設けたこ
とにより、制御電極圧接機構を簡略化して組立部品の点
数を少なくすることができ、従って作業性を向上させる
ことができると共に、上記位置決め機能により位置合わ
せの精度を上げることができる効果がある。
また、陰極端子の軸方向高さが低くなるため半導体装置
を小形にすることができ、熱抵抗が小さくなるため半導
体装置の電流を増大することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わる半導体装置の一実施例を示す縦
断面図、第2図、第4図は第1図の装置の主要構成部品
を示す拡大平面図、第3図は第2図のm−m線断面図、
第5図〜第8図は第1図の装置の主要部位の構造図、第
9図は従来の半導体装置の第1例を示す縦断面図、第1
0図は第9図の装置の主要構成部品を示す拡大平面図、
第11図は第10図のXI−XI線断面図、第12図は
従来の半導体装置の第2例を示す縦断面図、第13図と
第14図は第12図の装置の主要構成部品を示す拡大平
面図、第15図は第14図のX■−XV線断面図である
。 1・・・サイリスタ素子構成体、2・・・シリコン基板
、3・・・制御電極、4・・・環状陰極、5・・・陽極
支持板、6・・・パッケージ、7・・・セラミック筒体
、8・・・鍔状平板、9.25・・・環状平板、10・
・・陰極端子、11・・・円形凹部、12・・・横溝、
13・・・制御電極端子、14・・・制御電極リード線
、15・・・制御リード圧接部、16・・・挿入部、1
9・・・制御電極リード挿入孔、21・・・絶縁管、2
2・・・環状陰極圧接板、23・・・接着材、24・・
・陽極端子、26・・・溶接部、27・・・封止溶接部
、29・・・制御電極リード支持ばね、30・・・支持
部。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)制御電極と環状の第1の主電極と第2の主電極と
    を有し前記制御電極が第1の主面に設けられ前記第1の
    主電極が前記制御電極を取り囲むように形成され前記第
    2の主電極が第2の主面に設けられた半導体素子構成体
    を圧接し電気的に接続するために第1の主電極と当接さ
    れる第1の主電極端子と第2の主電極と当接される第2
    の主電極端子とを有し、前記制御電極を外部に接続する
    ための制御電極リード線を有し、前記第1の主電極端子
    は前記制御電極を取り出すための円形凹部と凹上の横溝
    を有する半導体装置において、前記円形の凹部に挿入す
    ることによって前記制御電極リード線を所定の位置に位
    置決めする機能と、前記制御電極リード線と前記半導体
    素子構成体の制御電極とを適切な荷重で圧接し電気的に
    接続するための機能とを有する皿状の制御電極リード支
    持ばねを備えたことを特徴とする半導体装置。
  2. (2)皿状の制御電極リード支持ばねは、第1の主電極
    端子と制御電極リード線とを電気的に絶縁する弾力性あ
    る支持部を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の半導体装置。
  3. (3)支持部は、弾力性あるエポキシ樹脂系絶縁材又は
    酸化アルミニウムから成ることを特徴とする特許請求の
    範囲第2項記載の半導体装置。
  4. (4)皿状の制御電極リード支持ばねは、制御電極リー
    ド線と当接する面の面積が制御電極リード線の圧接面の
    面積より大きいことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    又は第2項記載の半導体装置。
  5. (5)皿状の制御電極リード支持ばねは、制御電極リー
    ド線と当接する面が平坦になっていることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項、第2項又は第4項記載の半導体
    装置。
  6. (6)第1の主電極端子および第2の主電極端子は、銅
    を主成分とする電気的良導体を用いて形成されたことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP27214286A 1986-11-14 1986-11-14 半導体装置 Pending JPS63124535A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9698067B2 (en) 2013-05-13 2017-07-04 Abb Schweiz Ag Spacer system for a semiconductor switching device

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