JPS63123825A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS63123825A JPS63123825A JP26816586A JP26816586A JPS63123825A JP S63123825 A JPS63123825 A JP S63123825A JP 26816586 A JP26816586 A JP 26816586A JP 26816586 A JP26816586 A JP 26816586A JP S63123825 A JPS63123825 A JP S63123825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- gel
- sol
- glass
- hydrolyzing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000012445 acidic reagent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 abstract description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 5
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 abstract description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005262 decarbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/32—Doped silica-based glasses containing metals containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/30—Additives
- C03C2203/32—Catalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/34—Wet processes, e.g. sol-gel process adding silica powder
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ゾル−ゲル法によるガラスの製造方法に関す
る。
る。
従来のゾル−ゲル法によるガラスの製造方法は、特願昭
60−026001の後に、アルキルシリケートを、塩
基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を溶液中
に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを酸性試薬で
加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の割合で混
合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェットゲルを
作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲルとした後
、焼結して透明ガラス体を得るというものであつたO (発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述の従来技術では、ドライゲルを焼結して、
透明ガラス体を得るに際して、前記ドライゲル中に多量
に含まれている塩化アンモニウムが原因で、透明ガラス
体が気泡を含みやすいという問題点を存する。これは、
発泡を抑制するため、多孔質体である前記ドライゲルの
閉孔化をガラス中での拡散速度の大きいHeガス雰囲気
もしくは、減圧下で行うのだが、前記ドライゲル中に含
まれる塩化アンモニウムが分解することによって生じる
ガスが、閉孔化時の雰囲気に彩りを与えるためと考えら
れる。
60−026001の後に、アルキルシリケートを、塩
基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を溶液中
に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを酸性試薬で
加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の割合で混
合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェットゲルを
作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲルとした後
、焼結して透明ガラス体を得るというものであつたO (発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述の従来技術では、ドライゲルを焼結して、
透明ガラス体を得るに際して、前記ドライゲル中に多量
に含まれている塩化アンモニウムが原因で、透明ガラス
体が気泡を含みやすいという問題点を存する。これは、
発泡を抑制するため、多孔質体である前記ドライゲルの
閉孔化をガラス中での拡散速度の大きいHeガス雰囲気
もしくは、減圧下で行うのだが、前記ドライゲル中に含
まれる塩化アンモニウムが分解することによって生じる
ガスが、閉孔化時の雰囲気に彩りを与えるためと考えら
れる。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、結晶、気泡等のない均質で高品
質な石英ガラスを製造する方法を提供するところにある
。
の目的とするところは、結晶、気泡等のない均質で高品
質な石英ガラスを製造する方法を提供するところにある
。
(11本発明のガラスの製造方法は、アルキルシリケー
トを塩基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を
溶液中に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを、酸
性試薬で加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の
割合で混合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェッ
トゲルを作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲル
とした後、前記ドライゲルを焼結して透明ガラス体を得
るというガラス合成において、前記ゾル溶液にアルミニ
ウム化合物を添加することを特徴とする。
トを塩基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を
溶液中に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを、酸
性試薬で加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の
割合で混合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェッ
トゲルを作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲル
とした後、前記ドライゲルを焼結して透明ガラス体を得
るというガラス合成において、前記ゾル溶液にアルミニ
ウム化合物を添加することを特徴とする。
本発明の上記の構成によれば、アルミニウム化合物の添
加することにより、焼結は遅くなり、その結手、ドライ
ゲル中の塩化アンモニウムが分解した後、閉孔化が終了
する二ととなり、ガラス体の発泡が抑制される。アルミ
ニウム化合物の添加により、焼結が遅くなるのは、この
添加物が、5iO7の焼結相と全く相互作用を持たず物
質輸送を阻害するためと考えられる。
加することにより、焼結は遅くなり、その結手、ドライ
ゲル中の塩化アンモニウムが分解した後、閉孔化が終了
する二ととなり、ガラス体の発泡が抑制される。アルミ
ニウム化合物の添加により、焼結が遅くなるのは、この
添加物が、5iO7の焼結相と全く相互作用を持たず物
質輸送を阻害するためと考えられる。
実施例1
精製した市販のエチルシリケー)、470m1、無、水
エタノール2.240m l、アンモニア水(29%)
50ml、水510m1を混合し、2時間激しく撹拌し
た後、冷暗所にて一晩静置し、シリカ微粒子を成長させ
た。この溶液に、水720m1を添加した後、減圧濃縮
して700m1とした後、2規定の塩酸を用いてp H
値を4゜2に調整して第一の溶液を作製した。この溶液
には、0.40μmの平均粒径をもつシリカ微粒子が3
84g含まれている。(シリカ微粒子濃度0、 55g
/ml) 別に、精製した市販のエチルシリケート630m】に0
.02規定の塩酸205gを加え、激しく撹拌して加水
分解し、第二の溶液を作製した。
エタノール2.240m l、アンモニア水(29%)
50ml、水510m1を混合し、2時間激しく撹拌し
た後、冷暗所にて一晩静置し、シリカ微粒子を成長させ
た。この溶液に、水720m1を添加した後、減圧濃縮
して700m1とした後、2規定の塩酸を用いてp H
値を4゜2に調整して第一の溶液を作製した。この溶液
には、0.40μmの平均粒径をもつシリカ微粒子が3
84g含まれている。(シリカ微粒子濃度0、 55g
/ml) 別に、精製した市販のエチルシリケート630m】に0
.02規定の塩酸205gを加え、激しく撹拌して加水
分解し、第二の溶液を作製した。
第一の溶液と第二の溶液を混合しゾル溶液を作製した。
(有効シリカ濃度0.33g/ml)前記ゾル溶液に微
粒末アルミナを0.02g添加した後、pHを4.2に
調整し、ポリプロビレ/製容器(幅300mmX300
mmX高さ100mm)2個に750m1ずつ移し入れ
、フタをして密閉した。混合後2ff77間後にゲル化
が起こり、ウェットゲルが得られた。
粒末アルミナを0.02g添加した後、pHを4.2に
調整し、ポリプロビレ/製容器(幅300mmX300
mmX高さ100mm)2個に750m1ずつ移し入れ
、フタをして密閉した。混合後2ff77間後にゲル化
が起こり、ウェットゲルが得られた。
前記ウェットゲルを密閉状態のままで3日間熟成し、そ
の後0.4%の開口率をもったフタにとりかえ60°C
で乾燥させたところ、14日間で、室温に放置しても割
れない安定なドライゲル(210mmX210mmX8
mm)が得られた。
の後0.4%の開口率をもったフタにとりかえ60°C
で乾燥させたところ、14日間で、室温に放置しても割
れない安定なドライゲル(210mmX210mmX8
mm)が得られた。
次に前記ドライゲルを石英ガラスを炉芯否とするガス置
換炉に入れ、乾燥空気を50/m i nの流量で炉芯
管内に流入した伏皿で、昇温速度60°C/hrで30
@Cから200°Cまで加熱し、この温度で3時間保持
し、続いて200°Cから300°Cまで昇温速度60
°C/hrで加熱し、この温度で3時間保持して脱吸着
水を行った。
換炉に入れ、乾燥空気を50/m i nの流量で炉芯
管内に流入した伏皿で、昇温速度60°C/hrで30
@Cから200°Cまで加熱し、この温度で3時間保持
し、続いて200°Cから300°Cまで昇温速度60
°C/hrで加熱し、この温度で3時間保持して脱吸着
水を行った。
続いて昇温速度GO@C/hrで300°Cから500
°Cまで加熱し、この温度で5時間保持し、脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行った。
°Cまで加熱し、この温度で5時間保持し、脱炭素、脱
塩化アンモニウム処理を行った。
続いて、乾燥空気に代えて、純ヘリウムガスを3.51
/mjnの流量で炉芯管内に流入した状態テ、昇温速度
30@C/hrで500’ Cから、200°Cまで加
熱し、この温度で5時間保持して、閉孔化処理を行った
。
/mjnの流量で炉芯管内に流入した状態テ、昇温速度
30@C/hrで500’ Cから、200°Cまで加
熱し、この温度で5時間保持して、閉孔化処理を行った
。
続いて、前記閉孔化処理を行った試料を黒鉛発熱炉に入
れ、窒素雰囲気で、、780°Cまで2時間で昇温し、
この温度で20分間保持し、透明な石英ガラス(150
mmX150mmX4mm)を得た。
れ、窒素雰囲気で、、780°Cまで2時間で昇温し、
この温度で20分間保持し、透明な石英ガラス(150
mmX150mmX4mm)を得た。
前記石英ガラスを厚さ2mmに鏡面研磨し、暗室内で5
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたが、1点
は、全く検出されず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また紫外域での透過率を測定したところ、200n
mまでの90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたが、1点
は、全く検出されず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また紫外域での透過率を測定したところ、200n
mまでの90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
また、前記石英ガラス中のAI濃度をICP(Indu
ctively’Coupled PIasma)発
光分光分析で測定したところ、10ppmであった。
ctively’Coupled PIasma)発
光分光分析で測定したところ、10ppmであった。
比較例1
実施例1と同様な方法で得た第一の溶液と第二の溶液を
混合し、PH4,2のゾル溶液を作成した。(+!T効
シリカa度0.33g/ml)前記ゾル溶液をポリプロ
ピレン製容器(幅3゜0mmX300mmX高さ100
mm)2個に757m1ずつ移し入れ、フタをして密閉
した。混合後2 +1!7間後にゲル化が起こり、ウェ
ットゲルが得られた。
混合し、PH4,2のゾル溶液を作成した。(+!T効
シリカa度0.33g/ml)前記ゾル溶液をポリプロ
ピレン製容器(幅3゜0mmX300mmX高さ100
mm)2個に757m1ずつ移し入れ、フタをして密閉
した。混合後2 +1!7間後にゲル化が起こり、ウェ
ットゲルが得られた。
前記ウェットゲルを、実施例1と同様な方法で熟成、乾
燥させたところ、室温に放uしても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX8mm)が得られた
。
燥させたところ、室温に放uしても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX8mm)が得られた
。
次に、前記ドライゲルを、実施例1と同様な方法で焼結
したところ、透明な石英ガラス(150mmX150m
mX4mm)が得られた。
したところ、透明な石英ガラス(150mmX150m
mX4mm)が得られた。
前記石英ガラスを厚さ2mmに鏡面研出し、暗室内で5
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたところ、
20個前後のσ点が観察され、その大きさは、3〜5μ
mであった。
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたところ、
20個前後のσ点が観察され、その大きさは、3〜5μ
mであった。
実施例2
実施例1と同様な方法で得た第一の溶液と第二の溶液を
混合して、PH4,2のゾル溶液を作成した。(有効シ
リカ濃度0.33g/ml)前記ゾル溶液に塩化アルミ
ニウムを0.o3rr添加した後、ポリプロビレ/製容
器(幅300mmX300mmX高さ100mm)2個
に750m1ずつ移し入れ、フタをして密閉した。混合
後2時間後にゲル化が起こり、ウェットゲルが得られた
。
混合して、PH4,2のゾル溶液を作成した。(有効シ
リカ濃度0.33g/ml)前記ゾル溶液に塩化アルミ
ニウムを0.o3rr添加した後、ポリプロビレ/製容
器(幅300mmX300mmX高さ100mm)2個
に750m1ずつ移し入れ、フタをして密閉した。混合
後2時間後にゲル化が起こり、ウェットゲルが得られた
。
前記ウェットゲルを、実施例1と同様な方法で熟成、乾
燥させたところ、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX 8 mm)が得ら
れた。
燥させたところ、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX 8 mm)が得ら
れた。
次に前記ドライゲルを、実施例1と同様な方法で焼結し
たところ、透明な石英ガラス(150mmX150mm
X4mm)が得られた。
たところ、透明な石英ガラス(150mmX150mm
X4mm)が得られた。
前記石英ガラスを厚さ2mmに鏡面研出し、暗室内で5
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたが、輝点
は、全く検出されず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また、紫外域での透過率を測定したところ、200
mmまで90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
0,0001uxの照度の集光ランプを当てたが、輝点
は、全く検出されず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また、紫外域での透過率を測定したところ、200
mmまで90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
また、前記石英ガラス中のAIC度を102発光分光分
析で測定したところ、8ppmであった。
析で測定したところ、8ppmであった。
実施例3
実施例1と同様な方法で得た第一の溶液と第二の溶液を
混合して、pH4,2のゾル溶液を作成した。
混合して、pH4,2のゾル溶液を作成した。
(有効シリカ濃度0.33g/ml)
前記ゾル?F[にアルミニウムエトキシドを0゜03g
添加した後、ポリプロビレ/製容器(幅300mmX3
00mmX高さ100mm)2個に750m1ずつ移し
入れ、フタをして密閉した。
添加した後、ポリプロビレ/製容器(幅300mmX3
00mmX高さ100mm)2個に750m1ずつ移し
入れ、フタをして密閉した。
混合後2時間後にゲル化が起こり、ウェットゲルが得ら
れた。
れた。
前記ウェットゲルを、実施例1と同様な方法で熟成、乾
燥させたところ、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX8mm)が得られた
。
燥させたところ、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(210mmX210mmX8mm)が得られた
。
次に、前記ドライゲルを、実施例1と同様な方法で焼結
したところ、透明な石英ガラス(150mmX150m
mX4mm)が得られた。
したところ、透明な石英ガラス(150mmX150m
mX4mm)が得られた。
前記石英ガラスを厚さ2mmに鏡面研出し、暗室内で5
0.OOO]uxの照度の集光ランプを尚てたが、輝点
は、全(検出させず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また、紫外域での透過率を測定したところ、200
nmまで90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
0.OOO]uxの照度の集光ランプを尚てたが、輝点
は、全(検出させず、気泡等が存在しないことがわかっ
た。また、紫外域での透過率を測定したところ、200
nmまで90%以上を保持しており、光学的に極めて高
品質だった。
また、前記石英ガラス中のAI濃度をICP発光分光分
析で測定したところ、10ppmであった。
析で測定したところ、10ppmであった。
(発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、アルキルシリケート
を、塩基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を
溶液中に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを、酸
性試薬で加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の
割合で混合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェッ
トゲルを作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲル
とした後、前記ドライゲルを焼結して透明ガラス体を得
るというガラス合成において、前記ゾル溶液にアルミニ
ウム化合物を添加することにより、試料の焼結は遅くな
り、試料中の塩化アンモニウムが分解、除去された後、
閉孔化が終了することにより、塩化アンモニウムが原因
となっていた発泡を発生しにくくするという効果を育す
る。
を、塩基性試薬で加水分解して得られるシリカ微粒子を
溶液中に含む第一の溶液と、アルキルシリケートを、酸
性試薬で加水分解して得られる第二の溶液とを、所定の
割合で混合して得られるゾル溶液をゲル化させてウェッ
トゲルを作り、前記ウェットゲルを乾燥してドライゲル
とした後、前記ドライゲルを焼結して透明ガラス体を得
るというガラス合成において、前記ゾル溶液にアルミニ
ウム化合物を添加することにより、試料の焼結は遅くな
り、試料中の塩化アンモニウムが分解、除去された後、
閉孔化が終了することにより、塩化アンモニウムが原因
となっていた発泡を発生しにくくするという効果を育す
る。
また、本発明の石英ガラスは、極めて高品質であり、I
C用フォトマスク基板等への応用が可能である。
C用フォトマスク基板等への応用が可能である。
Claims (1)
- (1)アルキルシリケートを、塩基性試薬で加水分解し
て得られるシリカ微粒子を溶液中に含む第一の溶液と、
アルキルシリケートを、酸性試薬で加水分解して得られ
る第二の溶液とを、所定の割合で混合して得られるゾル
溶液をゲル化させてウェットゲルを作り、前記ウェット
ゲルを乾燥してドライゲルとした後、前記ドライゲルを
焼結して透明ガラス体を得るというガラス合成において
、前記ゾル溶液にアルミニウム化合物を添加することを
特徴とするガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26816586A JPS63123825A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26816586A JPS63123825A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | ガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63123825A true JPS63123825A (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=17454808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26816586A Pending JPS63123825A (ja) | 1986-11-11 | 1986-11-11 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63123825A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1188722A1 (en) * | 2000-08-23 | 2002-03-20 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Article comprising a body made of quartz glass having improved resistance against plasma corrosion, and method for production thereof |
-
1986
- 1986-11-11 JP JP26816586A patent/JPS63123825A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1188722A1 (en) * | 2000-08-23 | 2002-03-20 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Article comprising a body made of quartz glass having improved resistance against plasma corrosion, and method for production thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07206451A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
JPS63123825A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS63195133A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS63190729A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS62113737A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
US2768063A (en) | Method of preparing silica | |
JPS63117918A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS61294752A (ja) | 紫外光源用放電管 | |
JPS63297226A (ja) | 短波長レ−ザ−光透過石英ガラスの製造方法 | |
JPS63151623A (ja) | 有機物含有シリカ系塊状体の製造方法 | |
JPH02145442A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPH04175291A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPH02149431A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
JPH0822749B2 (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS6126525A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6330335A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS638228A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JP3582093B2 (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
JPH05270842A (ja) | 金微粒子含有ガラス及びその製造方法 | |
JPH02141433A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPH02296736A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS62252330A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS62119132A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JPS63236719A (ja) | セリウム含有石英系レ−ザ−ガラスの製造方法 | |
JPS63291824A (ja) | 短波長レ−ザ−光透過石英ガラスの製造方法 |