JPS63123426A - 触媒サンプリング装置 - Google Patents

触媒サンプリング装置

Info

Publication number
JPS63123426A
JPS63123426A JP61268573A JP26857386A JPS63123426A JP S63123426 A JPS63123426 A JP S63123426A JP 61268573 A JP61268573 A JP 61268573A JP 26857386 A JP26857386 A JP 26857386A JP S63123426 A JPS63123426 A JP S63123426A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
sampler
cover
stopper
sampling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61268573A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukio Nishi
行夫 西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP61268573A priority Critical patent/JPS63123426A/ja
Publication of JPS63123426A publication Critical patent/JPS63123426A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/0015Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
    • B01J8/0035Periodical feeding or evacuation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り産業上の利用分野〕 本発明は触媒サンプリング装置に関し、例えば艙イラー
等の排ガスに含まれる窒素酸化物を除去する反応器等で
排ガスの流れが水平流となっているものに適用し得る触
媒サンプリング装置に関する。
〔従来の技術〕
従来はボイラー等の煙源を停止し、装置内を冷却した後
作業員が反応器内部に入って触媒のサンプリングをして
いた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記サンプリング法によれば、ボイラー等の煙源を停止
し、更に冷却を要する為、装置の発・停によシ生ずるサ
ーマルストレスにより装置の短命化及び可動率の低下を
招く。また、任意の時に、任意の位置でサンプリングを
することはできず、触媒の劣化状況の定量的把握や、き
め細かな触媒劣化のフォロー等は一切不可能であった。
本発明は、このような問題を解消し、装置の運転に影響
を与えず、従来のサンプリングに比し大巾なコスト低減
の下で、いつでも、かつ任意位置でスムーズに触媒のサ
ンプリングができ、触媒の劣化状況を定量的に、しかも
短時間で把握でき、きめ細かな触媒劣化のフォローがで
きるにか9でなく、サンプリング中、サンプリング後に
おける反応器自体の性能(例えば、窒素陵化物除去性能
)に影響を与えないサンプリング装置を提案するもので
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、上記問題点を、反応器内の排ガスの有無や冷
却の有無に関係なく触媒サンブリ7グできるような構造
、具体的には触媒サンプリング装置の引き抜き用型を保
温内蔵式として局部的な熱の放散を防ぐと共に、開蓋の
取外しをワ7タッチで行なえるようにし、また触媒サン
プリング装置を棚式にして任意の位置のサンプリングが
できるようにし、しかもサンプリングの際のサンプリン
グ装置の固定及びガスシールを兼ねたストッパーと、サ
ンプリング装置が反応器外へ抜き出してしまうことがな
いようにエンドストッパーとを設け、更に反応器内にサ
ンプリング装置を再収納する際のガスシールがスムーズ
に行なえるようにすることによって解決するものである
すなわち本発明は、反応器内の一角に配置され吊下げ金
物が取付けられた蓋、開蓋の下方に設けられた保温材、
同保温材の下方に取付けられたフレーム、同フレームの
下端部に設けられたストッパ、前記フレーム内に取付け
られて上下に触媒室を形成する棚、前記フレームの同棚
が取付けられた位置に形成されてストッパが取付けられ
る切り久き、内部に触媒が挿入され両端部に把手をもち
前記触媒室内に挿入さnるボックスからなることを特徴
とする触媒サンプリング装置に関する。
〔実施例コ 第1図〜第6図は本発明装置の一実施例を示す図であり
、第1図〜第3図は本発明装置の反応器への設置状況を
示す図、第4図〜第5図は反応器からの抜き出し状況を
示す図である。
第1図は本発明装置(すなわち触媒サンプリング装置4
)をガスRれ上流側から見た正面図、第2図は第1図の
a部の詳細図、第3図(AJは第1図のムーム矢視断面
図、第3図(I9は第3因(AJのB−B矢視断面図で
ある。
第4図は本発明装置(すなわち触媒サンプリング装置4
〕をガス流れ上流側から見た正面図、第5図は第4図の
b部の詳細図で、第5図(AJが正面図、第5図(司が
平面図し第5図<Hoa−a矢視断面図〕、第5図(0
7が側面図である。
図において、触媒サンプリング装置4の上部に、反応器
内部47の熱(300〜400℃程度)の放散を防ぐた
めに、保温材1を内蔵した蓋9を設け、該触媒サンプリ
ング装置4と結合させである。第2図に示すように、蓋
9と外部とのガスシールは、憲9と蓋取付は用フレーム
15との間にガスシール用パツキン29を取り付け、押
えつけ金物2.14t−利用して蓋9を押えることによ
シ行われる。蓋9を敗り外すときは、金物2を矢印17
の方向に片手ハンマー等で押出し簡単に外すことができ
る。なお、金物2にはストッパー46があシ金物14に
かかつて止まるようになっている。押えつけ金物2を外
した後は、吊り上げ金物15、吊シ上げ治具18を使っ
て、常設されている触媒パック8搬出入用の吊シ上げ装
置19を利用して矢印20の方向に吊シ上げれば、第4
図に示すように蓋9と共に触媒サンプリング装置4も同
時に吊り上げられる。
触媒サンプリング装置4の触媒7の充填方法は、第6図
に示すように触媒7を把手5のついたボックス6に充填
し、第5図に示すような上流側フレーム21、後流側フ
レーム3と一体となるように取付けられた棚30を、第
1図、第3図μ)のように各段に設けて、触媒7を充填
したボックス6を第1図に示す触媒室10,11゜12
のように配置する。また、触媒サンプリング装flaが
反応器内部47から外部へ完全に抜き出てしまうミスを
防止する為、エンドストッパー39を設けている。
次に、反応器内部47に触媒サンプリング装置4が収ま
った時の未反応ガス27の触媒層43からのリークを防
ぐためのガスシールは、第5図(AJに示すように、反
応器内部47の後流側ガイドレール28に勾配31を設
け、更に触媒サンプリング装置4の後流側フレーム3に
も同様の勾配32を設けることによシ、触媒サンプリン
グ装置4が吊シ上げ状態から矢印23の方向に下げると
必然的に触媒サンプリング装置4の上流側フレーム21
が上流側ガイドレール26に密着し、更に触媒サンプリ
ング5Ice4の上。
下には各々塞き板44.45を設けて、塞ぎ板44が触
媒パック搬出入蓋用フレーム16と密着し、塞ぎ板45
が上流側ガイド7レーム26内に設けた塞ぎ板49と密
着するようにして、メタルタッチによりガスシールを行
なうようにしている。
また、触媒サンプリング装置4と触媒バック8間は、第
3図(Nに示すように、触媒サンプリング装置4のガイ
ドフレーム26.581’lJ3に取付ffたフレーム
35と触媒バック8のフレーム34を利用して、従来の
一般的な技術であるシール金物35、締付ボルト36、
シールパツキン37を使ってガスシールを行なう。触媒
バック8間においては、第5図(切に示すように、上流
側カイトレール26、取付はボルト50、シール金物4
0、シールパツキン41を使って、禾反応ガス27の触
媒層からのリークを防止する。
第7図は、サンプリング装置4が反応器内部47にセッ
トされた状況の一例を示す図で、第7図(烏は第7図(
AJのD−D矢視断面図である。
第7図(Nに示すように、サンプリング装置4は触媒層
43内に設置することができるので、禾反応ガス27の
ガス流nに対して、触媒層45と同一条件下にあること
、更に第7図(I!9に示すように任意の箇所にサンプ
リング装置4を必要数(本図の場合は1箇所〕設けられ
るため、キメ細かな触[7の性能が把握できる。
本発明は触媒サンプリング装置4を引き抜き、触媒7を
サンプリングしたい場合は、第4図に示すように、蓋9
に設けた吊シ上げ金物13、吊り治具18及び触媒バッ
ク8の搬出入用として常設されて込る吊シ上げ装置19
を利用して矢印20の方向に吊シ上げて任意の点で停止
し、第5図に示すように触媒サンプリング装置4の自重
を利用したガスシール兼把手25付きのストッパー24
を矢印28方向に移動させて触媒サンプリング装置4に
設けた切り欠き部22に装着して蓋取付は用フレーム1
5との間でガスシールできるようにし、しかる後サンプ
リングボックス6を矢印48の方向に抜出すことによシ
安全に容易に触媒サンプリングを行うことができる。
〔発明の効果〕
本発明装置によnば次゛のような効果を得ることができ
る。
(1)  触媒サンプリング装置の引き抜き用型を保温
材内蔵式とし、更に蓋の取外しをワンタッチにしたこと
、及びサンプリング時にガスシールを兼ねたストッパー
を設は九ことによシ、装置が運転中であっても容易にサ
ンプリングできる。
(2)  触媒サンプリング装置を棚式にしたため、任
意の位置の触媒サングリ7グが可能である。
(3)  触媒サンプリング終了後、吊シ上げ装置を利
用して触媒サンプリング装置を下げるだけで、自動的に
触媒層のガスシールができる為、セットがスムーズであ
る。
(4)以上のことよシ、触媒サンプリング毎に煙源を持
つ装置を停止させることがない為、装置の短命化防止及
び装置の可動率が上シ、また大巾なコスト低減ができる
【図面の簡単な説明】
第1図〜第6図は本発明装置の一実施例を示す図であシ
、第1図〜第3図は本発明装置の反応器への設置状況を
示す図、第4図〜第5図は反応器からの抜き出し状況を
示す図である。 第6図は本発明装置の触媒充填状況の一例を示す図、第
7図は本発明装置の反応器へのセット状況の一例を示す
図である。 復代理人  内 1)  明 復代理人  萩 原 亮 − 復代理人  安 西 篤 夫 第3図 (A) 第3図 (8,) 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 反応器内の一角に配置され吊下げ金物が取付けられた蓋
    、同蓋の下方に設けられた保温材、同保温材の下方に取
    付けられたフレーム、同フレームの下端部に設けられた
    ストッパ、前記フレーム内に取付けられて上下に触媒室
    を形成する棚、前記フレームの同棚が取付けられた位置
    に形成されてストッパが取付けられる切り欠き、内部に
    触媒が挿入され両端部に把手をもち前記触媒室内に挿入
    されるボックスからなることを特徴とする触媒サンプリ
    ング装置。
JP61268573A 1986-11-13 1986-11-13 触媒サンプリング装置 Pending JPS63123426A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61268573A JPS63123426A (ja) 1986-11-13 1986-11-13 触媒サンプリング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61268573A JPS63123426A (ja) 1986-11-13 1986-11-13 触媒サンプリング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63123426A true JPS63123426A (ja) 1988-05-27

Family

ID=17460396

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61268573A Pending JPS63123426A (ja) 1986-11-13 1986-11-13 触媒サンプリング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63123426A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021215372A1 (ja) * 2020-04-20 2021-10-28 三菱パワー株式会社 検査用触媒と実反応器における着脱構造

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021215372A1 (ja) * 2020-04-20 2021-10-28 三菱パワー株式会社 検査用触媒と実反応器における着脱構造

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4009552A (en) Device for packaging of goods
KR940006209A (ko) 표면 처리방법 및 장치
JPH03216259A (ja) 重力に逆らった金属鋳造方法および鋳造装置
US20050029152A1 (en) Clamps, systems, and methods for evacuating and hermetically sealing bags
JPS63123426A (ja) 触媒サンプリング装置
JP2003504884A (ja) 溶着反応装置におけるシール手段およびその適用
JPS60227639A (ja) 食品工業製品を冷却,加熱乾燥するためのトンネル
US4392919A (en) Charging apparatus for coke cooling chambers
JPS6067616A (ja) 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置
JPH06260437A (ja) 非反応性ガスを満たしておくことができる包囲体を用いたシリコン堆積チャンバーに供する方法及び装置
JPS59219408A (ja) 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置
JP2006055689A (ja) 集塵機および濾材ユニットの集塵機への取付方法
CN219008508U (zh) 一种密闭运输包装箱
JPH03249541A (ja) 熱衝撃試験装置
CN219955997U (zh) 物料脱水及操作系统
CN210122582U (zh) 一种输送流体用钢管的无氧退火装置
CN212809059U (zh) 一种计算机机箱
JPH06168999A (ja) 縦型半導体製造装置の窒素ガスロードロック室におけるドア開閉装置
JPH0143860Y2 (ja)
JP3176104B2 (ja) 半導体製造装置
JPH0538036Y2 (ja)
JPS58157890A (ja) コ−クスを乾式冷却する方法および装置
JPS63197877A (ja) 熱間等方圧プレス設備における被処理物搬送装置
CN117961979A (zh) 单晶炉磁场冷头的更换装置及更换方法
JPS607589B2 (ja) 真空拡散接合装置