JPS63122546A - インクジエツト記録装置の記録部洗浄装置 - Google Patents
インクジエツト記録装置の記録部洗浄装置Info
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- JPS63122546A JPS63122546A JP26763386A JP26763386A JPS63122546A JP S63122546 A JPS63122546 A JP S63122546A JP 26763386 A JP26763386 A JP 26763386A JP 26763386 A JP26763386 A JP 26763386A JP S63122546 A JPS63122546 A JP S63122546A
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 38
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- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 16
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J29/17—Cleaning arrangements
-
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/17—Ink jet characterised by ink handling
- B41J2/20—Ink jet characterised by ink handling for preventing or detecting contamination of compounds
Landscapes
- Ink Jet (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本案はインクジェット記録装置の構成部分の内でノズル
、荷電、偏向電極等より構成される記録部分に付着した
インクミスト、埃等を除去する洗浄装置に関する。
、荷電、偏向電極等より構成される記録部分に付着した
インクミスト、埃等を除去する洗浄装置に関する。
従来、インクジェット記録装置において、記録部におけ
るインク粒子発生状態を正常に維持するために、記録部
分であるインクノズルや荷電偏向電極等を洗浄する場合
は、洗浄液として通常インクの溶媒が使用されていた。
るインク粒子発生状態を正常に維持するために、記録部
分であるインクノズルや荷電偏向電極等を洗浄する場合
は、洗浄液として通常インクの溶媒が使用されていた。
すなわち水溶性インクでは主に水が使用されていた。
上記従来技術は次の様な問題点があった。水溶性インク
は水に溶は易いが表面張力が高いために細部への侵透力
が弱く微細形状や多孔質の部品の洗浄が難しく、この問
題点のために洗浄液交換を繰り返すために多量の洗浄液
を要していた。そしてこのように洗浄した記録部を乾燥
させるのに長時間を要していたにれはインクジェット記
録装置を設置した顧客先で洗浄作業を行う場合に洗浄液
を大量に持参しなければならず、また洗浄に長時間を要
するために作業能率が悪かった。
は水に溶は易いが表面張力が高いために細部への侵透力
が弱く微細形状や多孔質の部品の洗浄が難しく、この問
題点のために洗浄液交換を繰り返すために多量の洗浄液
を要していた。そしてこのように洗浄した記録部を乾燥
させるのに長時間を要していたにれはインクジェット記
録装置を設置した顧客先で洗浄作業を行う場合に洗浄液
を大量に持参しなければならず、また洗浄に長時間を要
するために作業能率が悪かった。
本案の目的は少量の洗浄液で洗浄能力を向上し。
短時間で乾燥可能な洗浄装置を得ることにある。
ｃ問題点を解決するための手段〕
上記［１的のうち洗浄能力の向上は洗浄液として水の他
のフロン系溶剤を併用すること及び超音波洗浄を導入す
ることで達成される。さらに洗浄液の消費を少なくし、
短時間に乾燥させる目的に対しては、洗浄液をフロン系
溶剤、水、フロン系溶剤の順で切替えることにより達成
される。
のフロン系溶剤を併用すること及び超音波洗浄を導入す
ることで達成される。さらに洗浄液の消費を少なくし、
短時間に乾燥させる目的に対しては、洗浄液をフロン系
溶剤、水、フロン系溶剤の順で切替えることにより達成
される。
フロン系溶剤は超音波洗浄によって被洗浄部品の細部に
浸透してインク・水分を部品表面に析出させる。しかし
インク・水分はフロン系溶剤に不溶のため表面に析出し
ても部品から完全に分離しにくい。ここで洗浄液を水に
替えて再び超音波洗浄を行えば残留していたインクを水
に溶解させて除去する事ができる。この状態で洗浄を完
了した場合、部品の水分を蒸発させるのに長時間を要す
るが、部品をフロン系溶剤で再洗浄して水をフロン系溶
剤に置換すれば短時間での乾燥が可能である。
浸透してインク・水分を部品表面に析出させる。しかし
インク・水分はフロン系溶剤に不溶のため表面に析出し
ても部品から完全に分離しにくい。ここで洗浄液を水に
替えて再び超音波洗浄を行えば残留していたインクを水
に溶解させて除去する事ができる。この状態で洗浄を完
了した場合、部品の水分を蒸発させるのに長時間を要す
るが、部品をフロン系溶剤で再洗浄して水をフロン系溶
剤に置換すれば短時間での乾燥が可能である。
またフロン系溶剤による洗浄の時１部品から除去された
インク、水分、埃等が液面に浮遊して、洗浄を完了して
部品を引き上げる時にそれらが部品に再付着する事があ
るが、洗浄液が洗浄槽からあふれ出す様に洗浄液を循環
させれば浮遊物が洗浄槽から除去されるので再付着を防
げる。
インク、水分、埃等が液面に浮遊して、洗浄を完了して
部品を引き上げる時にそれらが部品に再付着する事があ
るが、洗浄液が洗浄槽からあふれ出す様に洗浄液を循環
させれば浮遊物が洗浄槽から除去されるので再付着を防
げる。
以下、本案の一実施例を第１図により説明する。
インクジェット記録装置の記録部取付部近傍に設置した
超音波洗浄機１にはノズル８、粒子荷電偏向電極９等よ
りなる記録部分３を収めた洗浄容器２がａｍされている
。洗浄容器循環装置４はポンプ、バルブ、フィルタ等で
構成されていて、フロン系洗浄液容器（初期洗浄用）５
、水洗浄液容器６、フロン系洗浄液容器（最終洗浄用）
６の洗浄液を順に洗浄容器内へ供給、循環濾過、液切性
えを行う。なおフロン系洗浄液としてはトリクロロトリ
フルオロエタン（ＣＣ（ｔ ｚＦ −ＣＣ（ｌ Ｆｚ）
を水としては蒸留水、脱イオン水など使用する。
超音波洗浄機１にはノズル８、粒子荷電偏向電極９等よ
りなる記録部分３を収めた洗浄容器２がａｍされている
。洗浄容器循環装置４はポンプ、バルブ、フィルタ等で
構成されていて、フロン系洗浄液容器（初期洗浄用）５
、水洗浄液容器６、フロン系洗浄液容器（最終洗浄用）
６の洗浄液を順に洗浄容器内へ供給、循環濾過、液切性
えを行う。なおフロン系洗浄液としてはトリクロロトリ
フルオロエタン（ＣＣ（ｔ ｚＦ −ＣＣ（ｌ Ｆｚ）
を水としては蒸留水、脱イオン水など使用する。
各洗浄液は洗浄液循環装置４によって洗浄容器２からあ
ふれ出て超音波洗浄機１の洗浄槽に流れ落ちる様に循環
される６本実施例では超音波洗浄機の洗浄端内に洗浄容
器を設置しているのが洗浄槽から洗浄液をあふれさせて
それを洗浄槽の外側の受皿で回収する様にする事も可能
である。
ふれ出て超音波洗浄機１の洗浄槽に流れ落ちる様に循環
される６本実施例では超音波洗浄機の洗浄端内に洗浄容
器を設置しているのが洗浄槽から洗浄液をあふれさせて
それを洗浄槽の外側の受皿で回収する様にする事も可能
である。
次に洗浄の過程を順を追って説明する。最初に洗浄液容
器５内のフロン系溶剤が循環装置４により洗浄容器２内
に導かれる。フロン系溶剤は洗浄容器２からあふれ出て
超音波洗浄機１内の洗浄槽にたまる様になるまで導かれ
てから、［！Ａ装置４により超音波洗浄機１の洗浄槽か
ら洗浄容器２へ導かれる循環に切替えられる。この状態
で超音波洗浄機１で洗浄槽に超音波洗浄を与えて記録部
３の超音波洗浄を行う、この洗浄により記録部３の細部
にある埃やインクが超音波振動で侵透したフロン系溶剤
により記録部３の表面部にしみ出て、その大部分が記録
部から分離して液面に浮上する。
器５内のフロン系溶剤が循環装置４により洗浄容器２内
に導かれる。フロン系溶剤は洗浄容器２からあふれ出て
超音波洗浄機１内の洗浄槽にたまる様になるまで導かれ
てから、［！Ａ装置４により超音波洗浄機１の洗浄槽か
ら洗浄容器２へ導かれる循環に切替えられる。この状態
で超音波洗浄機１で洗浄槽に超音波洗浄を与えて記録部
３の超音波洗浄を行う、この洗浄により記録部３の細部
にある埃やインクが超音波振動で侵透したフロン系溶剤
により記録部３の表面部にしみ出て、その大部分が記録
部から分離して液面に浮上する。
浮上したインクは循環装置４によって循環しているフロ
ン系溶剤とともに超音波洗浄機１の洗浄槽にあふれ出る
。超音波洗浄を一定時間１行った後循環装置４によって
超音波洗浄機］及び洗浄容器２の内部のフロン系溶剤は
溶器５に戻される。あふれ出た液は汚れがひどいので図
中に記していない別の容器に回収してもよい、これによ
り、容器５の液の汚れを少なくできる。
ン系溶剤とともに超音波洗浄機１の洗浄槽にあふれ出る
。超音波洗浄を一定時間１行った後循環装置４によって
超音波洗浄機］及び洗浄容器２の内部のフロン系溶剤は
溶器５に戻される。あふれ出た液は汚れがひどいので図
中に記していない別の容器に回収してもよい、これによ
り、容器５の液の汚れを少なくできる。
次に洗浄液容器６内の水が上記フロン系溶剤の場合と同
様な過程で、循環装置４によって超音波洗浄機１の洗浄
槽及び洗浄容器２へ導かれてから循環状態で超音波洗浄
を行う。この洗浄が記録部３の表面に残っていたインク
が水に溶は出す、そして上記フロン系溶剤の場合と同様
に容器６に水が戻される。
様な過程で、循環装置４によって超音波洗浄機１の洗浄
槽及び洗浄容器２へ導かれてから循環状態で超音波洗浄
を行う。この洗浄が記録部３の表面に残っていたインク
が水に溶は出す、そして上記フロン系溶剤の場合と同様
に容器６に水が戻される。
最後に洗浄液容器７のフロン系溶剤が上記フロン系溶剤
、水の場合と同様の過程で超音波洗浄機１の洗浄槽及び
洗浄容器２へ導かれてから、循環状態で超音波洗浄を行
う、この過程で記録部３に残っている水分が超音波振動
を受けたフロン系溶剤によって除去される。除去された
水分は洗浄容器２の液面に浮上してから、循環装置４の
洗浄液循環により超音波洗浄機１の洗浄槽にあふれ出る
。
、水の場合と同様の過程で超音波洗浄機１の洗浄槽及び
洗浄容器２へ導かれてから、循環状態で超音波洗浄を行
う、この過程で記録部３に残っている水分が超音波振動
を受けたフロン系溶剤によって除去される。除去された
水分は洗浄容器２の液面に浮上してから、循環装置４の
洗浄液循環により超音波洗浄機１の洗浄槽にあふれ出る
。
そして上記フロン系溶剤水の場合と同様に容器７にフロ
ン系溶剤が戻される。記録部３に残ったフロン系溶剤は
空気中で自然蒸発する。また洗浄装置に送風装置を設置
することにより強制乾燥も可能である。
ン系溶剤が戻される。記録部３に残ったフロン系溶剤は
空気中で自然蒸発する。また洗浄装置に送風装置を設置
することにより強制乾燥も可能である。
本実施例によれば使用する洗浄液を減らし短時間で洗浄
、乾燥させる効果がある０例えば焼結金属製の粒子荷電
偏向な極９を含んだ記録部分３を洗浄する際、水のみを
洗浄液として超音洗浄を行った従来の場合、洗浄に約１
時間要していたが。
、乾燥させる効果がある０例えば焼結金属製の粒子荷電
偏向な極９を含んだ記録部分３を洗浄する際、水のみを
洗浄液として超音洗浄を行った従来の場合、洗浄に約１
時間要していたが。
本実施例では各洗浄液で５分間、合計１５分で洗浄が完
了した。
了した。
乾燥時間については上記した焼結金属製の電極に水、及
びフロン系溶剤（トリクロロトリフルオロエタン）を浸
透させて、気温２５℃、１！度７０％のＱ境条件のもと
て大気中に放置して重量の計時変化を調べた。その結果
、侵透した液の大部分が蒸発するのに要する時間が、水
の場合８０〜９０分だったのに対して、本実施例での洗
浄終了時と同じフロン系溶剤の場合は１３〜６分で、乾
燥時間が短時間で済む事を確認した。
びフロン系溶剤（トリクロロトリフルオロエタン）を浸
透させて、気温２５℃、１！度７０％のＱ境条件のもと
て大気中に放置して重量の計時変化を調べた。その結果
、侵透した液の大部分が蒸発するのに要する時間が、水
の場合８０〜９０分だったのに対して、本実施例での洗
浄終了時と同じフロン系溶剤の場合は１３〜６分で、乾
燥時間が短時間で済む事を確認した。
なお記録部３の汚れの程度が低い時は上記したフロン系
溶剤、水、フロン系溶剤の３洗浄行程のうち、１行程ま
たは２行程（フロン系溶剤と水）を省略することができ
る。また記録部；３の形状が複雑でなく汚れの除去が容
易な場合、超音波洗浄を行わず液中浸漬のみでの洗浄や
気中で洗浄液を記録部にかける等の洗浄も可能である。
溶剤、水、フロン系溶剤の３洗浄行程のうち、１行程ま
たは２行程（フロン系溶剤と水）を省略することができ
る。また記録部；３の形状が複雑でなく汚れの除去が容
易な場合、超音波洗浄を行わず液中浸漬のみでの洗浄や
気中で洗浄液を記録部にかける等の洗浄も可能である。
本案によれば、洗浄時間を短縮し、使用する洗浄液を少
量にできるのでインクジェット記録装置が設置されてい
る顧客先などでの保守作業の効率を高める効果がある。
量にできるのでインクジェット記録装置が設置されてい
る顧客先などでの保守作業の効率を高める効果がある。
また乾燥が早いので洗浄後。
記録装置を作動するまでの時間が短くて済む効果がある
。
。
第１図は本案の一実施例を示した構成図である。
１・・・超音波洗浄機、２・・・洗浄容器、３・・・イ
ンクジェット記録部、４・・・洗浄液循環装置、５・・
・洗浄液容器（初期洗浄用フロン系溶剤）、６・・・洗
浄液容器（中間洗浄用、水）、７・・・洗浄液容器（最
終洗浄用フロン系溶剤）、８・・・インク噴出ノズル、
９陪１ 区
ンクジェット記録部、４・・・洗浄液循環装置、５・・
・洗浄液容器（初期洗浄用フロン系溶剤）、６・・・洗
浄液容器（中間洗浄用、水）、７・・・洗浄液容器（最
終洗浄用フロン系溶剤）、８・・・インク噴出ノズル、
９陪１ 区
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、水溶性インクを粒子化・荷電・偏向させて記録を行
なうインクジエツト記録装置用の記録部洗浄装置におい
て、洗浄液として水とフロン系溶剤を洗浄液として併用
して洗浄を行うことを特徴とするインクジエツト記録装
置の記録部洗浄装置。 ２、洗浄対象物であるインクジエツト記録装置の記録部
をフロン系溶剤、水、フロン系溶剤の順で洗浄液を切替
えて超音波洗浄を行うことを特徴とする請求の範囲第１
項記載のインクジエツト記録装置の記録部洗浄装置。 ３、内部の液体に超音波振動を与える洗浄容器を有し、
洗浄容器から洗浄液をあふれ出る様に供給しながら、洗
浄液中に記録部分を浸漬させて超音波洗浄を行うことを
特徴とする請求の範囲第１項記載のインクジエツト記録
装置の記録部洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26763386A JPS63122546A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | インクジエツト記録装置の記録部洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26763386A JPS63122546A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | インクジエツト記録装置の記録部洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63122546A true JPS63122546A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=17447389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26763386A Pending JPS63122546A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | インクジエツト記録装置の記録部洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63122546A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021005890A1 (ja) * | 2019-07-10 | 2021-01-14 | 株式会社日立産機システム | インクジェット記録装置およびインクジェット記録装置の制御方法 |
| JPWO2021111669A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP26763386A patent/JPS63122546A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021005890A1 (ja) * | 2019-07-10 | 2021-01-14 | 株式会社日立産機システム | インクジェット記録装置およびインクジェット記録装置の制御方法 |
| JPWO2021111669A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | ||
| WO2021111669A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 株式会社日立産機システム | インクジェット記録装置、インクジェット記録装置の洗浄ユニットおよび液位検出装置 |
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