JPH02268879A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JPH02268879A JPH02268879A JP8812389A JP8812389A JPH02268879A JP H02268879 A JPH02268879 A JP H02268879A JP 8812389 A JP8812389 A JP 8812389A JP 8812389 A JP8812389 A JP 8812389A JP H02268879 A JPH02268879 A JP H02268879A
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- Japan
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- cleaning
- tank
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- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は機器構成部品特に高圧電子銃部品等に適用され
る洗浄方法に関する。
る洗浄方法に関する。
〔従来の技術]
一般のケミカルクリーニングには有機溶剤、酸及びアル
カリなどの薬液を第4図に示すように洗浄槽1に満し、
その内に部品を浸漬して洗浄していた。図中6はオーバ
ーフロー槽、7は洗浄液補給槽、10は循環ポンプを示
す。
カリなどの薬液を第4図に示すように洗浄槽1に満し、
その内に部品を浸漬して洗浄していた。図中6はオーバ
ーフロー槽、7は洗浄液補給槽、10は循環ポンプを示
す。
短時間で高真空度を得る高真空、高電圧の機器において
は2次電子の増加及び放電などの障害防止が重要である
。そのためには非常に高い表面清浄度が要求され、ケミ
カルクリーニング工程での処理が性能を左右することに
なる。したがって、脱脂、水洗、酸洗、水洗および溶剤
洗浄の各工程ともに洗浄ムラ、ぬれ性の低下をさける必
要があった。又、洗浄終了時に液から引き上げる際、液
表面に浮遊する洗浄槽表面浮遊物が部品に付着し表面汚
染をおこさない処置が必要である。
は2次電子の増加及び放電などの障害防止が重要である
。そのためには非常に高い表面清浄度が要求され、ケミ
カルクリーニング工程での処理が性能を左右することに
なる。したがって、脱脂、水洗、酸洗、水洗および溶剤
洗浄の各工程ともに洗浄ムラ、ぬれ性の低下をさける必
要があった。又、洗浄終了時に液から引き上げる際、液
表面に浮遊する洗浄槽表面浮遊物が部品に付着し表面汚
染をおこさない処置が必要である。
(課題を解決するための手段〕
本発明は上記課題を解決するため次の手段を講する。
すなわち、電子機器部品の洗浄方法として、洗浄液を満
たした液槽の底部中央部より、所定量の空気を吹込みつ
つ洗浄するようにした。
たした液槽の底部中央部より、所定量の空気を吹込みつ
つ洗浄するようにした。
上記手段により、空気が液槽底部中央部より所定の流量
で噴出する。したがって、液槽表面に放射方向の液流れ
が形成され、中央部には浮遊する不純物がなくなる。こ
の中央部に電子機器を浸漬したのち引き上げると、洗浄
され、かつ引き上げ時に不純物が付着することなく均一
な清浄表面苓持つようになる。
で噴出する。したがって、液槽表面に放射方向の液流れ
が形成され、中央部には浮遊する不純物がなくなる。こ
の中央部に電子機器を浸漬したのち引き上げると、洗浄
され、かつ引き上げ時に不純物が付着することなく均一
な清浄表面苓持つようになる。
本発明の方法を適用した一実施例を第1図なしし第3図
により説明する。第1図(a)は種部の平面図、同図(
b)は全体構成図、第2図は洗浄槽底部の平面図、第3
図は作用説明図である。
により説明する。第1図(a)は種部の平面図、同図(
b)は全体構成図、第2図は洗浄槽底部の平面図、第3
図は作用説明図である。
なお、従来例で説明した部分は、冗長さをさけるため説
明を省略し、この発明に関する部分を生体に説明する。
明を省略し、この発明に関する部分を生体に説明する。
第1図にて、洗浄槽lの底部中央部に第2図に示すよう
な孔径4φのノズル5が設けられる。また洗浄槽(30
0φX5001() 1をかこみエアー供給槽4が設け
られる。エアー供給槽4は空気IJI2から流量計3を
経てエアーが供給される。
な孔径4φのノズル5が設けられる。また洗浄槽(30
0φX5001() 1をかこみエアー供給槽4が設け
られる。エアー供給槽4は空気IJI2から流量計3を
経てエアーが供給される。
以上の構成において、洗浄槽(1)の底部中央部に空気
源(2)より流量計(3)及びエアー供給槽(4)を介
して圧縮空気を入れ、空気吹込ノズル(5)より流量5
〜7 loginで噴出させて、空気泡を発生させる。
源(2)より流量計(3)及びエアー供給槽(4)を介
して圧縮空気を入れ、空気吹込ノズル(5)より流量5
〜7 loginで噴出させて、空気泡を発生させる。
空気泡により発生した放射状の水流により表面の不純物
を含む洗浄液はオーバフロー槽(6)にはいり、洗浄液
補給槽(7)に入る。洗浄液とともに排出された不純物
は不純物分離装置(9)で除去され、清浄な洗浄液のみ
が循環ポンプ(10)により洗浄槽(1)に入る。この
洗浄槽■の中央部に電子機器部品をe?tJしたのち引
き上げると、電子機器部品は洗浄され、かつ不純物の付
着もなく、均一な清浄表面を持つようになる。
を含む洗浄液はオーバフロー槽(6)にはいり、洗浄液
補給槽(7)に入る。洗浄液とともに排出された不純物
は不純物分離装置(9)で除去され、清浄な洗浄液のみ
が循環ポンプ(10)により洗浄槽(1)に入る。この
洗浄槽■の中央部に電子機器部品をe?tJしたのち引
き上げると、電子機器部品は洗浄され、かつ不純物の付
着もなく、均一な清浄表面を持つようになる。
従来方法と本実施例による方法で仕上げ洗浄後の部品の
洗浄効果について、水ぬれ性による評価テストを実施し
た結果を表1に示す。
洗浄効果について、水ぬれ性による評価テストを実施し
た結果を表1に示す。
以下余白
表1゜
洗浄効果の評価(流量6 j! /l1n)空気の流量
と清浄度との関係を第3図に示す。
と清浄度との関係を第3図に示す。
流量51 /sin以下では気泡の発生が悪く液流れが
スムースに行かない、又、7 j! /sin以上では
気泡の発生が激しく、不純物を攪拌するという不具合が
生じ洗浄物の清浄度は低下する。洗浄に最も適した流量
としては本実施例の場合、5〜71 /winであり、
清浄度も良好であることが分る。
スムースに行かない、又、7 j! /sin以上では
気泡の発生が激しく、不純物を攪拌するという不具合が
生じ洗浄物の清浄度は低下する。洗浄に最も適した流量
としては本実施例の場合、5〜71 /winであり、
清浄度も良好であることが分る。
以上に説明したように、本発明の方法によれば、空気を
吹き込むことによって洗浄液表面に放射方向の流れが形
成され、洗浄液表面の中央部は清浄な液面となる。した
がって、電子機器部品を浸漬洗浄後、引き上げるとき均
一な清浄面を持った部品かえられるようになる。
吹き込むことによって洗浄液表面に放射方向の流れが形
成され、洗浄液表面の中央部は清浄な液面となる。した
がって、電子機器部品を浸漬洗浄後、引き上げるとき均
一な清浄面を持った部品かえられるようになる。
第1図は本発明の一実施例の構成図、第2図は同実施例
の洗浄槽底部の平面図、第3図は同実施例の作用説明図
、第4図は従来の方法の構成図である。 1、洗浄槽。 2、空気源。 3、流量計。 4、エアー供給槽。 5、空気吹込ノズル。 6、オーバーフロー槽 7、洗浄液補給槽。 9、不純物分離装置。 10、循環ポンプ。 第1図 第2図 第4図
の洗浄槽底部の平面図、第3図は同実施例の作用説明図
、第4図は従来の方法の構成図である。 1、洗浄槽。 2、空気源。 3、流量計。 4、エアー供給槽。 5、空気吹込ノズル。 6、オーバーフロー槽 7、洗浄液補給槽。 9、不純物分離装置。 10、循環ポンプ。 第1図 第2図 第4図
Claims (1)
- 洗浄液を満たした液槽の底部中央部より、所定量の空気
を吹込みつつ洗浄することを特徴とする電子機器部品の
洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8812389A JPH02268879A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8812389A JPH02268879A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 洗浄方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02268879A true JPH02268879A (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=13934131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8812389A Pending JPH02268879A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02268879A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06220671A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-08-09 | Mitsubishi Kasei Corp | 油付着物の洗浄装置 |
JPH06256983A (ja) * | 1993-12-16 | 1994-09-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 油付着物の洗浄装置 |
JPH073481A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-01-06 | Mitsubishi Chem Corp | 油付着物の洗浄装置 |
US7981286B2 (en) | 2004-09-15 | 2011-07-19 | Dainippon Screen Mfg Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and method of removing particles |
JP2013251383A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ洗浄装置及び洗浄槽の洗浄方法 |
CN104152931A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-11-19 | 浙江大学 | 一种旋流式不锈钢酸洗系统及其方法 |
-
1989
- 1989-04-10 JP JP8812389A patent/JPH02268879A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06220671A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-08-09 | Mitsubishi Kasei Corp | 油付着物の洗浄装置 |
JPH06256983A (ja) * | 1993-12-16 | 1994-09-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 油付着物の洗浄装置 |
JPH073481A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-01-06 | Mitsubishi Chem Corp | 油付着物の洗浄装置 |
US7981286B2 (en) | 2004-09-15 | 2011-07-19 | Dainippon Screen Mfg Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and method of removing particles |
JP2013251383A (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ洗浄装置及び洗浄槽の洗浄方法 |
CN104152931A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-11-19 | 浙江大学 | 一种旋流式不锈钢酸洗系统及其方法 |
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