JPS6312142B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6312142B2
JPS6312142B2 JP59104400A JP10440084A JPS6312142B2 JP S6312142 B2 JPS6312142 B2 JP S6312142B2 JP 59104400 A JP59104400 A JP 59104400A JP 10440084 A JP10440084 A JP 10440084A JP S6312142 B2 JPS6312142 B2 JP S6312142B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
copper
polymer
solution according
ppm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP59104400A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6046375A (ja
Inventor
Uarairu Shiruesutaa
Abuumosutafua Maguda
Ei Benjamin Terii
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shipley Co Inc
Original Assignee
Shipley Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shipley Co Inc filed Critical Shipley Co Inc
Publication of JPS6046375A publication Critical patent/JPS6046375A/ja
Publication of JPS6312142B2 publication Critical patent/JPS6312142B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/60Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
    • C23C22/63Treatment of copper or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • H05K3/385Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by conversion of the surface of the metal, e.g. by oxidation, whether or not followed by reaction or removal of the converted layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0315Oxidising metal
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は様々な金属の黒色酞化局圢成液に関
し、曎に詳しくは倚局印刷回路板補造における、
誘導䜓に察する銅の密着性を増すために特に有効
な銅の黒色酞化局圢成に関する。
倚局印刷回路板は、実装密床が高く、導䜓が短
くおすみ、か぀、信頌性が高い。同時に軜量か぀
小型である。このため、倚局印刷回路板はよりコ
ンパクトな電気機噚の需芁が急速に増加し぀぀あ
るこの数幎間、たすたすその䜿甚が増えおきた。
倚局印刷回路板は通垞、パタヌン未印刷の銅の
薄局で䞡偎を芆われた絶瞁性基材を必芁な数、甚
いお䜜成される。普通はポゞ型フオトレゞストを
該銅局䞊に塗垃し、露光、珟像により、該銅局䞊
にレリヌフレゞスト画像を埗る。該銅を適圓な腐
蝕剀により腐蝕するこずで、該レゞストの珟像に
より、露出した銅は陀去され、該レゞスト局䞋の
銅は、腐蝕剀から保護されるので、この結果、該
保護的レゞスト局䞋には銅回路が䜜成される。該
レゞストを陀去し、プラスチツク局又は郚分硬化
プラスチツクプレプレグを含浞させた繊維材
料局を倚重䞭間局の電導性銅パタヌン間に配眮す
る。最も倖偎の局は、この段階では、腐蝕されお
おらず、パタヌン未印刷の銅局であるこずが倚
い。この積局材料党䜓を加熱及び加圧し、倚局印
刷回路板を䜜成する。次に該倚局印刷回路板に必
芁な型の穎を必芁な数だけ開け、最埌に本技術に
おいお通垞甚いられおいる方法で、最も倖偎のパ
タヌン未印刷の銅局に、レゞスト、露光、及び腐
蝕を適甚しお成る方法を甚いお、電導性パタヌン
を印刷する。該耇数の電導局間に必芁な電気接続
は、め぀き貫通孔を通じおなされる。
倚局印刷回路板䜜成法は本技術においお公知で
あり、䟋えば米囜特蚱第4075757号、第4150421
号、及び第4211603号を含む倚数の出版物に蚘茉
されおおり、曎に詳しくは、クヌムズ著「印刷回
路ハンドブツク」第版、ニナヌペヌク、マツク
グロヌヒルブツクカンパニヌ出版1979幎の20
―〜23―19ペヌゞから成る第節に蚘茉されお
いるが、これらは党お参考文献ずしお本明现曞の
䞀郚を構成する。
本技術においお、倚局印刷回路板の耇数の局は
剥離しやすい傟向があるこずが知られおいる。局
剥離は、該電導性銅パタヌンず該䞭間に配眮され
た誘電䜓ずの間の密着が䞍充分である結果生じる
堎合が倚い。これは、該銅電䜓が通垞平滑である
ため該誘電皮膜に密着するに充分な数の定着点又
は定着堎所がないためである。該誘電䜓に察する
銅の密着を匷めるために、該電導性パタヌン様様
な化孊凊理がなされおきた。このような凊理の䞀
䟋に該䞭間局の銅導䜓を黒色酞化しお、その衚面
を粗くし、該誘電䜓に察する銅の密着性を増倧さ
せるこずがある。黒色酞化法はそれほど目芚しく
はないが予想以䞊の成功をおさめおいる。
前蚘米囜特蚱第4075757号においお、銅ず誘電
䜓ずの密着を匷化するため、銅の黒色酞化物を甚
いるこずには、いく぀か問題があるこずが認めら
れおおり、そのため前蚘特蚱においおは、該黒色
酞化物の代わりに該電導性銅局をきめの粗い密着
性を高める金属局で被芆しおいる。この方法は、
黒色酞化局よりも面倒、か぀コスト高ずなる。
倚局回路板補造における黒色酞化物の䜿甚に䌎
う䞍利な点もたた、本明现曞の郚を構成するス
ロミンスキヌ、他による著䜜、「め぀きず衚面仕
䞊げ」1982幎月出版の第59巻の96〜99ペヌゞに
蚘茉されおいる。著者の認めるずころでは、銅ず
誘電䜓ずの間の密着性は、䞍安定か぀蚱容レベル
以䞋であるこずが倚い。著者によれば、この密着
力の匱さの原因ずしおは該酞化局が厚すぎ、もろ
く、機械的に匱く、均質性に欠けるためである。
著者の指摘するずころでは、本技術においお、黒
色酞化物被膜の圢成に甚いる埓来の亜塩玠酞ナト
リりム济を皀釈しお埗たより薄い酞化被膜を甚い
るこずで、この問題を解決しようず詊みた人々も
いる。しかし、これらの努力は実らなか぀た。す
なわち、この皀釈济を甚いお圢成する薄い酞化物
の性質圢状が䞀定せず䞍安定であるため、加熱䜜
業䞭に瞮んでしたい、該倚局回路板の局剥離をた
たもや匕き起こすのである。最埌に著者は該黒色
酞化局を最適化するために泚意深く制埡された条
件䞋で噎霧法によりこの黒色酞化物問題を解決し
ようず努力したこずに぀いお述べおいる。これに
より良奜な結果が埗られたが、噎霧蚭備ず、凊理
パラメヌタヌの泚意深い制埡が必芁であるため、
著者によるこの詊みはコマヌシダルベヌスにはの
らないず著者は報告しおいる。
本発明は、該黒色酞化被膜の様々な特性を調節
し、か぀、銅を誘電基䜓に密着させる胜力を匷化
するような黒色酞化被膜圢成液甚添加物に関す
る。該添加物は、液䞭に少量溶解する溶解性重合
䜓であり、より薄くか぀均質性が倧である黒色酞
化被膜圢成を匕き起こす。該被膜は、機械的に皠
密で匷く機械的摩擊を受けおも、本発明の添加物
を加えおいない溶液から圢成された黒色酞化被膜
がそうであるように、ばらばらの粒状の黒色酞化
銅粉末を生ずるこずはない。
本発明の黒色酞化液は、埓来の方法による倚局
回路板補造及び他の甚途䞊びに他の金属に察しお
も䜿甚される。銅の密着力を匷化するために、こ
の黒色酞化凊理液を甚いるこずにより、銅導䜓ず
誘電局ずの間に垞に安定した満足しうる皋床の密
着が埗られる。
本発明の黒色酞化液は、本技術においお、銅及
びその合金を黒化させるために埓来甚いられおい
る溶液に、本発明による氎溶性重合䜓を添加する
こずで改良を加えたものである。本技術の目的に
適する先行技術の黒色酞化液は、通垞、亜塩玠
酞、又は、ペルオキシニリン酞塩のようなペル化
合物のような酞化剀のアルカリ溶液より成る。こ
の皮の先行技術溶液の䟋は、参考文献ずしお本
明现曞の郚を構成する米囜特蚱第2460896号に
おいお開瀺されおいる。この溶液は、ほが重量比
で亜塩玠酞に察し、苛性゜ヌダの割合で、氎
ガロンに぀き也燥固䜓が〜ポンド454
〜908の分量を混合しお成る。該溶液は、200
〓〜212〓玄93℃〜100℃の枩床で䜿甚する。
曎に改良を加えた溶液が参考文献ずしお、本明现
曞の郚を構成する米囜特蚱第2437441号におい
お開瀺されおおり、この溶液においおは、前蚘の
基本的配合に加えお亜塩玠酞ず氎酞化物ずの党重
量の玄0.5〜玄の分量のホスプヌト化合
物が添加される。この溶液は、前蚘匕甚特蚱の溶
液ずほが同じ枩床で䜿甚するが、この黒色酞化液
䞭に浞挬する時間は、若干短くなる。これら぀
の特蚱の教瀺する所に基き、本発明の添加物を加
えおよい、黒色酞化基瀎溶液は奜たしくは、䞋蚘
に瀺すものである アルカリ金属亜塩玠酞塩 15―60 アルカリ金属氎酞化物 ―20 トリアルカリ金属ホスプヌト ―10 氎を加えおずする。
本発明の添加物を加えるこずにより改良されう
る、黒色酞化銅圢成液の別の配合は、参考文献ず
しお本明现曞の郚を構成する米囜特蚱第
3657023号においお開瀺されおいる。この特蚱の
黒色酞化液は、カリりムペルオキシニリン酞塩
K4P2O8のようなペルオキシニリン酞塩化合物
ず、氎酞化ナトリりム又は氎酞化カリりムずを混
合しお成る。有甚なペルオキシニリン酞塩化合物
ずしおはアンモニりムペルオキシニリン酞塩、ペ
ルオキシニリン酞塩のナトリりム、カリりム、及
びリチりム塩のようなアルカリ金属ペルオキシリ
ン酞塩、ペルオキシニリン酞のカルシりム塩及び
マグネシりム塩及びこれらの混合物のようなアル
カリ土類金属ペルオキシニリン酞塩がある。これ
らの化合物は通垞埮粉末混合物ずしお配合され適
量の氎に溶けお、銅又は銅の合金の衚面を真黒に
黒化する効果のある溶液を圢成する。この皮の溶
液は通垞、也燥固䜓においお玄7.7〜玄66.7
のペルオキシニリン酞塩化合物ず残りの成分ずし
おは、氎酞化ナトリりム又は氎酞化カリりムずを
含有する。これらの成分を甚いお、黒色酞化氎溶
液を準備するが、十分な分量の該也燥成分を氎ず
混合し、に぀き該ペルオキシニリン酞塩化合
物を玄〜120ず、に぀き玄60〜120の氎
酞化ナトリりム又は氎酞化カリりムを含有する黒
色酞化液を埗る。この黒色酞化液は玄150〓〜玄
210〓玄65.5℃〜99℃、奜たしくは玄165〓〜
205〓玄74℃〜96℃の枩床で䜿甚する。凊理
すべき銅又は銅の合金の衚面に満足のゆくような
黒色酞化被膜を圢成するに必芁な該济䞭の浞挬時
間は、䞀般的に倧幅に異なるが、䞊通は玄〜30
分、又は他の条件次第でこれより長くなるこずも
ある。
本発明の黒色酞化液は、先行技術の溶液に小量
であるが有効な、溶液䞭に溶解又は分散可胜な合
成又は倩然の重合䜓を添加しお改良したものであ
る。本発明においお有甚な重合䜓には、セルロヌ
ス゚ヌテル、皮々の柱粉、ポリビニルアルコヌ
ル、ポリビニルピロリドン及びこれらの共重合
䜓、ペプトン、れラチン、ポリアミド、ポリアク
リルアミド及びこれらの共重合䜓、カれむン、ア
ルギン酞ナトリりム等がある。該重合䜓の分子量
は臚界的ではないず考えおよく、前蚘材料はその
皮類により液䜓ずしお䜿甚しおもよく、非垞な高
分子量の重合䜓の圢で甚いおもよい。このような
重合䜓を該黒色酞化液に添加する量は臚界的では
なく、数ppm䟋えば圓たり0.002から数
1000ppm䟋えばに぀き玄10.0たでの量
が䜿甚でき、小量であればある皮の利点があり、
量が倚くな぀おも有甚であるが倚すぎるず溶液の
粘性が増すので望たしくない。奜たしい量は、玄
3ppm0.003から玄100ppm0.1
であるが、最も奜たしい濃床は溶液の玄〜
20ppmである。
本発明の黒色酞化液は埓来の方法で䜿甚する。
銅又は銅合金の物品の衚面を該黒化液䞭に浞挬す
る前にたず該銅の物品を埓来甚いられおいる任意
の䞭性又はアルカリ掗浄济に浞挬した埌、酞性浞
挬济に浞すこずが望たしい。このアルカリ氎溶液
の掗浄济ずしおは、䟋えばトリナトリりムホスフ
゚ヌト、炭酞ナトリりム及び該衚面を濡れやすく
するためのアルカリ安定性界面掻性剀の混合液又
は、本技術においお呚知の他の任意の倚数のアル
カリ掗浄化合物の混合液を甚いおよい。この掗浄
䜜業の第段階に甚いる該酞性浞挬济は䟋えば硫
酞、硝酞、硫酞―硝酞光沢浞挬济、クロム酞光沢
浞挬济等であ぀およい。奜たしくはアルカリ掗浄
段階の埌、及び酞性凊理段階の埌で、該物品を冷
氎できれいに掗う。
本発明の銅黒化凊理は次の段階から成る  銅又は銅合金の物品の衚面をアルカリ掗浄液
で凊理する。
 該物品を冷氎ですすぐ。
 該物品を酞性浞挬济に浞す。
 該物品を冷氎ですすぐ。
 こうしお掗浄にした該物品の衚面を、本発明
の熱い黒化氎溶液䞭に浞挬しお黒化する。
 該黒化した物品を冷氎ですすいだ埌、お湯で
すすぐ。
 こうしお黒化した物品を也かす。
該黒化した銅の衚面の也かし方は、本技術にお
いお公知の様々な方法がある。䟋えば該物品を玄
150〓玄66℃の枩床に保぀たトンネル也燥機
䞭をコンベダヌに茉せお通過させたり、或いは該
黒化した物品をお湯ですすいだ埌、呚囲条件䞋で
垞枩で也かしおもよい。
本発明は、次の具䜓䟋を参照するずよりよく理
解される 〔比范䟋 〕 ゚ポキシを銅箔で被芆しおなる、むンチ×
むンチ5.08cm×10.16cmの寞法の銅被着積局
板をマサチナヌセツツ州、ニナヌトンのシツプレ
ヌカンパニヌむンコヌポレヌテツドShipley
Company Inc.補のニナヌトラクリヌンNe―
utraclean68掗浄液䞭に150〓玄65.5℃で
分間浞挬しお枅浄にした。次にこの郚品をすす
ぎ、シツプレヌカンパニヌInc.補のプリ・゚ツチ
Pre―etch748腐蝕液䞭に、垞枩で分間浞挬
しお腐蝕した。続いお該郚品をすすぎ、195〓
玄90.5℃で分間䞋蚘の黒色酞化济に浞挬し
た 亜塩玠酞ナトリりム 30 氎酞ナトリりム 10 トリナトリりムホスプヌト  氎を加えおずする。
前蚘配合液に浞挬した埌、該郚品を也かし、怜
査した。埗られた酞化局は茶色から黒色で、比范
的厚か぀た。この被膜を透明テヌプを甚いお、接
着詊隓を行぀た。テヌプを該酞化物の衚面に抌し
぀け、䞀床で匕き剥がしたずころ、該被膜により
テヌプに茶色から黒色の薄膜が付着した。曎に該
被膜を玙で機械的に拭いお詊隓したずころ、玙は
非接着性酞化物の黒色粒子で被芆された。
〔実斜䟋 〕 比范䟋の凊理を、該液に、5ppmのビノヌル
Vinolポリビニルアルコヌルを添加した埌繰
り返した。ビノヌル重合䜓は、゚アコケミカルカ
ンパニヌAirco Chemical Company補で、
氎溶液ずしお添加された。銅被着積局板を甚
いた比范䟋の凊理を比范䟋で甚いた黒色酞化
液の代わりに、ビノヌル重合䜓を含有する黒色酞
化液を甚いお、繰り返した。その結果圢成された
酞化被膜をテヌプず玙で詊隓したずころ、テヌプ
ず玙のいずれにも粒子の付着がみられなか぀た。
〔実斜䟋 〕 ビノヌル重合䜓の濃床を10ppmに増しお、実斜
䟋の凊理を繰返した。結果は同じであ぀た。
〔比范䟋 〕 次の配合液を準備した カリりムペルオキシニリン酞塩 120 氎酞化カリりム 60 氎を加えおずする。
比范䟋の凊理を繰り返し、圢成された酞化被
膜を詊隓したずころ、テヌプず玙の䞡方に、黒色
酞化物粒子の付着がみられた。
〔実斜䟋 〕 10ppmのビノヌル重合䜓実斜䟋で䜿甚し
たを比范䟋の配合液に添加し、比范䟋の凊
理を斜した。テヌプず玙のいずれにも黒色酞化物
の付着がみられなか぀た。
〔実斜䟋 〕 実斜䟋の凊理を、この実斜䟋で䜿甚したビノ
ヌル重合䜓の代わりに、䞋蚘の重合䜓を同量甚い
お、繰り返しおよい  ハヌキナリヌズパりダヌカンパニヌHe―
rcules Powder Company補のナトロ゜ヌル
Natrosolヒドロキシメチルセルロヌス  BASFケミカルズカンパニヌ補ルビスコヌル
Lubiscol―30  アメリカンサむアナミドコヌポレヌシペン
American Syanamide Corporation補サむ
アナマヌCyanamer――250ポリアクリ
ルアミド  ハヌキナリヌズパりダヌカンパニヌ補レテン
Reten210改質ポリアクリルアミド  ゞ゚ネラルミルズ補バヌサマむドVer―
samide140ポリアミド ポリビニルアルコヌルの代わりに前蚘重合䜓を
甚いた結果は、黒色酞化被膜が埗られるが、この
被膜ずテヌプず玙で詊隓しおも、黒色粉末は付着
しないであろう。
前蚘実斜䟋のうち、実斜䟋及び実斜䟋ずが
本発明の奜たしい実斜䟋である。
実斜䟋  亜塩玠酞ナトリりムの濃床を120に増加
させ、そしお氎酞化ナトリりムの濃床を20
に増加させるこずを陀いお実斜䟋の手順を繰返
した。その結果は実斜䟋ず同じであ぀た。
本発明の黒色酞化液は、特に倚局回路板の補造
に有甚である。本発明による適圓な凊理を䞋蚘に
瀺す  倖偎局ず内偎局の䜍眮合せをチ゚ツクする。
 銅局をこす぀お枅浄にし、酞化物、脂、指王
等を取り陀く。
 銅にフオトレゞストを斜す。
 フオトレゞストを露光、珟像し、該回路パタ
ヌンのネガ型画像に銅を露出、露呈させる。
 露出した銅を腐蝕液で溶かし、内偎回路パタ
ヌンを腐蝕しお、該レゞストに被芆された郚分
に銅導䜓を残す。
 残぀たフオトレゞストを銅導䜓パタヌンから
取り陀く。
 銅導䜓を枅浄にしお、積局の準備をする。
 実斜䟋の黒色酞化液を甚いお、銅䞊に黒色
酞化被膜を圢成する。
 ベヌキングにより、内偎局の準備に䜿甚した
氎、溶剀、及び化孊物質を陀去する。
10 䜍眮合せ内ピン穎を切断ず抌抜きにより開け
段階暹脂を準備し、内偎局ず積重ねお、積局
を圢成する。
11 加熱及び加圧しお、倚局構造を積局し、内偎
局間の段階材料を完党硬化段階゚ポキシに
倉換する。
12 曎に硬化接着するために積局凊理埌再びベヌ
キングを斜す。
13 ゆ぀き貫通孔を開け、各局間を積局する。
14 露出したガラス繊維端を取り陀くための再腐
蝕を含めお貫通孔のばりを取り枅浄にする。
15 貫通孔を増感し、銅の無電解め぀きを斜す。
16 倖偎の銅衚面をフオトレゞストを斜すため
に、こすり掗いをし、フオトレゞストを斜す。
17 倖偎の銅局を被芆するフオトレゞストを露
光、珟像する。
18 銅の電解め぀きを斜し、貫通孔䞭の銅の厚み
を増す。
19 錫ず鉛の合金で電解め぀きする。
20 ゚ツゞコネクタヌめ぀きのために、回路板を
マスキングする。
21 錫鉛合金を剥ぎ取り、裞銅を露出させる。
22 ゚ツゞコネクタヌフむンガヌパタヌンをニツ
ケルず金の合金でき぀きする。
23 該錫鉛合金をリフロヌする。
該内偎局の銅導䜓ず、該誘電絶瞁局ずの間の接
着は、本発明の黒色酞化液の䜿甚段階によ
り盞圓増倧し、局剥離による倚局板の䞋合栌はか
なり枛少する。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  亜塩玠酞塩およびペル化合物からなる矀から
    遞ばれた酞化剀のアルカリ氎溶液より成る、銅又
    は銅の合金䞊に黒色酞化物皮膜を圢成するための
    溶液であ぀お氎溶性たたは氎分散性重合䜓を前蚘
    溶液ずの凊理により圢成した黒色酞化銅局の密床
    又は匷床を増すに充分な量、前蚘溶液に添加しお
    成るこずを特城ずする溶液。  該黒色酞化物圢成甚溶液が氎酞化物ず酞化剀
    ずしおペル化合物ずの氎溶液から成るこずを特城
    ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の溶液。  該ペル化合物がアルカリ金属ペルオキシニリ
    ン酞塩であるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の溶液。  該黒色酞化液が氎酞化物ず亜塩玠酞塩ずの氎
    溶液から成るこずを特城ずする、特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の溶液。  該亜塩玠酞塩ず氎酞化物がそれぞれアルカリ
    金属塩であるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の溶液。  ホスプヌト塩を含有するこずを特城ずす
    る、特蚱請求の範囲第項蚘茉の溶液。  該ホスプヌトが、トリアルカリ金属ホスフ
    ゚ヌトであるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲
    第項蚘茉の溶液。  該重合䜓が、溶液の少なくずも3ppmの分量
    で存圚するこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の方法。  該濃床が溶液の玄3ppmから100ppmの範囲で
    あるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘
    茉の溶液。  該濃床が、玄5ppmから20ppmの範囲であ
    るこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の溶液。  該重合䜓がセルロヌス゚ヌテル、柱粉、ポ
    リビニルアルコヌル、ポリビニルピロリドン及び
    これらの共重合䜓、ペプトン、れラチン、ポリア
    ミド、ポリアクリルアミド、及びこれらの共重合
    䜓、カれむン、及びアルギン酞ナトリりムの䞭か
    遞択されるこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の溶液。  該重合䜓が、セルロヌス゚ヌテルであるこ
    ずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    溶液。  該重合䜓がポリビニルアルコヌルであるこ
    ずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    溶液。  該重合䜓が、ポリビニルピロリドンである
    こずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の溶液。  該重合䜓が、ポリアミドであるこずを特城
    ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の溶液。  該重合䜓が、ポリアクリルアミドであるこ
    ずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉の
    溶液。  亜塩玠酞塩およびペル化合物からなる矀か
    ら遞ばれた酞化剀および少量の氎溶性たたは氎分
    散性重合䜓を含むアルカリ氎溶液ず銅又は銅合金
    ずを高枩䞋で接觊させお、銅又は銅合金䞊に黒色
    酞化物被膜を圢成し、その埌、加熱及び加圧䞋で
    誘電䜓に該銅又は銅合金を積局する方法。  該酞化剀が亜塩玠酞塩であるこずを特城ず
    する、特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法。  該重合䜓が、ポリビニルアルコヌルである
    こずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘茉
    の方法。  該ポリビニルアルコヌルの濃床が、溶液の
    3ppmから100ppmの範囲であるこずを特城ずす
    る、特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法。  黒色酞化被膜を圢成するように、前蚘溶液
    により、凊理された銅導䜓で誘電基材を被芆し、
    これを倚数積み重ねお、倚局印刷回路板を圢成す
    るこずを特城ずする、特蚱請求の範囲第項蚘
    茉の方法。
JP10440084A 1983-05-23 1984-05-23 黒色酞化物被膜圢成甚溶液及びその溶液を䜿甚しお銅又は銅合金を誘電䜓に積局させる方法 Granted JPS6046375A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US49708483A 1983-05-23 1983-05-23
US497084 1983-05-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6046375A JPS6046375A (ja) 1985-03-13
JPS6312142B2 true JPS6312142B2 (ja) 1988-03-17

Family

ID=23975393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10440084A Granted JPS6046375A (ja) 1983-05-23 1984-05-23 黒色酞化物被膜圢成甚溶液及びその溶液を䜿甚しお銅又は銅合金を誘電䜓に積局させる方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPS6046375A (ja)
DE (1) DE3418359A1 (ja)
FR (1) FR2549088A1 (ja)
GB (1) GB2140827B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3239090A1 (de) * 1982-10-22 1984-04-26 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Schwarz-metallisierte substratoberflaechen
JP2519033B2 (ja) * 1986-04-15 1996-07-31 東芝ケミカル株匏䌚瀟 銅匵積局板の黒化凊理方法
US4804575A (en) * 1987-01-14 1989-02-14 Kollmorgen Corporation Multilayer printed wiring boards
JP3400186B2 (ja) * 1995-05-01 2003-04-28 䞉井金属鉱業株匏䌚瀟 倚局プリント配線板およびその補造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5613483A (en) * 1979-07-14 1981-02-09 Matsushita Electric Works Ltd Artificial verdigris generating method
JPS5723065A (en) * 1980-07-11 1982-02-06 Sanpo Shindo Kogyo Kk Preparation of selective absorbing surface of solar energy collector
JPS57143479A (en) * 1981-03-02 1982-09-04 Fujikura Ltd Formation of insulating oxide film on copper or copper alloy

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2460896A (en) * 1944-08-19 1949-02-08 Enthone Composition for blackening copper and copper alloy surfaces
US2460898A (en) * 1944-11-04 1949-02-08 Enthone Process and composition for coloring copper and copper alloy surfaces
US2437441A (en) * 1945-02-14 1948-03-09 Associated Chemical Company Coloring metal surfaces
GB856928A (en) * 1956-02-07 1960-12-21 Lord Mfg Co Treatment of metal surfaces
DE1208972B (de) * 1956-04-18 1966-01-13 Hughes Aircraft Company, Culver City, Calif. (V. St. A.) Verfahren zum Verbinden eines eine KupferoberflÀche aufweisenden Metalles mit einer Schicht aus polymeren Fluorkohlenwasserstofien
US3530012A (en) * 1965-12-23 1970-09-22 Rasa Kasei Kk Method of treating metal surfaces
US3657023A (en) * 1970-05-15 1972-04-18 John J Grunwald Composition for blackening copper
BE789631A (fr) * 1971-10-05 1973-02-01 Dulux Australia Ltd Procede perfectionne de formation de revetements de phosphate de zinc cristallin et solutions ameliorees pour former du phosphate de zinc
JPS5165041A (en) * 1974-12-04 1976-06-05 Nippon Packaging Kk Kinzokuno rinsanenhimakukeiseihoho
CA1091914A (en) * 1976-07-05 1980-12-23 Hideo Kogure Metal surface treatment liquid and rust preventive paint

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5613483A (en) * 1979-07-14 1981-02-09 Matsushita Electric Works Ltd Artificial verdigris generating method
JPS5723065A (en) * 1980-07-11 1982-02-06 Sanpo Shindo Kogyo Kk Preparation of selective absorbing surface of solar energy collector
JPS57143479A (en) * 1981-03-02 1982-09-04 Fujikura Ltd Formation of insulating oxide film on copper or copper alloy

Also Published As

Publication number Publication date
GB8412768D0 (en) 1984-06-27
GB2140827A (en) 1984-12-05
JPS6046375A (ja) 1985-03-13
DE3418359A1 (de) 1984-11-29
GB2140827B (en) 1986-09-10
FR2549088A1 (ja) 1985-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4512818A (en) Solution for formation of black oxide
KR100470812B1 (ko) 구늬또는구늬합ꞈ의마읎크로에칭용조성묌
US20020038790A1 (en) Micro-etching composition for copper or copper alloy, micro-etching method, and method for manufacturing printed circuit board
JPH08335763A (ja) 銅コヌティング
WO1992006856A1 (en) Composition and method for improving adherence of copper foil to resinous substrates
EP0245305A1 (en) Copper oxide treatment in printed circuit board
US6521139B1 (en) Composition for circuit board manufacture
JP2721632B2 (ja) 回路板の銅回路の凊理方法
JPS6312142B2 (ja)
JP3400514B2 (ja) 回路板の凊理方法
JPH0737113B2 (ja) 銅箔ず暹脂ずの密着性向䞊方法
JP2603606B2 (ja) 倚局プリント配線板の補造方法
JP2002036430A (ja) 暹脂付き金属箔及び倚局配線板
JPH0964538A (ja) プリント配線板の補造方法
JPH0636470B2 (ja) 内局甚回路板の銅回路の凊理方法
JPH09321443A (ja) 倚局板の補造方法
JP3367189B2 (ja) 内局甚配線板の銅回路の凊理方法
JP2768123B2 (ja) 倚局配線板の補造方法
JPH06216520A (ja) 倚局プリント基板の補造方法
JP2768122B2 (ja) 倚局配線板の補造方法
JP2571867B2 (ja) プリント配線板の補造法
JPH0318097A (ja) 内局甚回路板の銅回路の凊理方法
JPH0746753B2 (ja) 銅匵積局板の黒化凊理方法
JP2001274549A (ja) 倚局プリント配線板の補造方法
JPH03283495A (ja) 倚局プリント配線板の補造方法