JPS63119294A - Manufacture of multilayer board and metal through-hole board by panel plating anchoring method - Google Patents

Manufacture of multilayer board and metal through-hole board by panel plating anchoring method

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JPS63119294A
JPS63119294A JP26366886A JP26366886A JPS63119294A JP S63119294 A JPS63119294 A JP S63119294A JP 26366886 A JP26366886 A JP 26366886A JP 26366886 A JP26366886 A JP 26366886A JP S63119294 A JPS63119294 A JP S63119294A
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hole
metal
layer
board
stage
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小竹 理之
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は従来の方法で得た一層目パターンに樹脂系レ
ジストインクまたは、接着剤によって形成された絶縁層
上に金属微粒子を圧着させ、これに無電解メッキを経た
後、電解メッキをほどこし二層目パターンを作製するこ
とを特徴とする多層基板と、金属スルホール基板の製造
方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention involves pressing metal fine particles onto an insulating layer formed using a resin resist ink or adhesive on a first layer pattern obtained by a conventional method, and then electroless plating the metal particles. The present invention relates to a multilayer substrate characterized in that a second layer pattern is produced by electrolytic plating, and a method for manufacturing a metal through-hole substrate.

(イ)従来の技術 従来の多層基板は、数枚のプリプレグを重ね圧着して作
られている。これによる四層基板の製法を図によって簡
単に説明すると、第2図は各工程の断面図で、太線は銅
箔層である。第2図(イ)は絶縁材1に銅箔2を有する
0、5%のプリプレグである。
(A) Prior Art A conventional multilayer board is made by stacking and pressing several sheets of prepreg. To briefly explain the manufacturing method of a four-layer board using the drawings, FIG. 2 is a cross-sectional view of each step, and the thick lines indicate the copper foil layer. FIG. 2(a) shows a 0.5% prepreg having a copper foil 2 as an insulating material 1.

先ず(ロ)に示すように写真法、印刷法によってく (イ)Aの両面銅箔を有するプリプレグに一層目パター
ン(通常アースパターン)4・5を形成した後、薬品に
よる表面荒らしをして片面に銅箔す を有するプリプレグ(イ)妹を表裏に圧着して(ハ)と
なる。(ハ)4・5の中心に貫通孔を穿設しくニ)の4
′・5′となり4′はアースを有さないホールとなる。
First, as shown in (B), the first layer patterns (usually earth patterns) 4 and 5 are formed on the prepreg with double-sided copper foil (A) using the photographic method and printing method, and then the surface is roughened with chemicals. A prepreg with copper foil on one side (A) is pressed onto the front and back sides to form (C). (c) Drill a through hole in the center of 4 and 5. D)-4
'.5', and 4' becomes a hole with no ground.

貫通孔5′はアースを有するホールとなる。これに無電
解メッキを経て電解メッキを行々い(ホ)の4′・5”
のスルホールとなり、各層の導電接続が完了され二層目
パターンを作製することができる。エツチング除去後(
へ)となり完成する。
The through hole 5' becomes a hole having ground. This is then electrolytically plated through electroless plating (E) 4'/5''
The conductive connection between each layer is completed, and the second layer pattern can be fabricated. After removing etching (
) and is completed.

金属スルホール基板では、金属板に実寸径より大きめの
貫通孔を穿設して片面銅張プリプレグを張合せるか、銅
箔を両面に張って実寸径の貫通孔を穿設した後パネルメ
ッキをしてパターンを作製している。
For metal through-hole boards, either a through-hole larger than the actual size is punched in the metal plate and copper-clad prepreg is pasted on one side, or copper foil is pasted on both sides and a through-hole of the actual size is punched, followed by panel plating. The pattern is created using

(ロ)発明が解決しようとする問題点 この従来の四層基板及び金属スルホール基板製法では三
枚の板が必要である。高価なプレス設備が必要である。
(b) Problems to be Solved by the Invention This conventional four-layer substrate and metal through-hole substrate manufacturing method requires three plates. Expensive press equipment is required.

−層目との穴位置あわせに高度な技術が必要である。ス
テ穴が必要なので外形実寸よりも充分な材料が必要とな
る。したがって材料取りが非常に悪い。第2図(ホ)の
スルホール5′は一層目アースパターンの導電接点が1
8ミクロンと非常に少ない。よって大開時の埃、パリに
注意しなくてはならないので穴開加工費が高い。スミャ
の問題で特殊な無電解メッキの前処理工程が必要となる
- Advanced technology is required to align the holes with the layers. Since a stem hole is required, more material than the actual external size is required. Therefore, material collection is very poor. The through hole 5' in Figure 2 (E) has one conductive contact point on the first layer ground pattern.
It is very small at 8 microns. Therefore, you have to be careful about dust and dirt when wide opening, so the drilling cost is high. Due to the smear problem, a special electroless plating pretreatment process is required.

これらの事から今だに一部大手基板工場に頼っているの
が現状である。これらの欠点を補う必要から一枚の材料
で一層目パターン上に絶縁層を作り、銀ペースト、銅ペ
ースト、アディティープ法等によシバターン形成を巧ま
れている。
Due to these factors, the current situation is that we still rely on some major circuit board factories. In order to compensate for these drawbacks, an insulating layer is formed on the first layer pattern using a single sheet of material, and a pattern is formed using silver paste, copper paste, the Aditeep method, etc.

しかしコスト的、密着強度、パターン密度性の問題から
今だに一般化されていkいのが現状である。
However, it is still not widely used due to cost, adhesion strength, and pattern density problems.

発明の目的 この発明は、このような問題点を解決するためになされ
たもので、その目的とするところはコストの半減、納期
の短縮、プレス設備を必要としないため小規模製造工場
でも充分できる。
Purpose of the Invention This invention was made to solve these problems, and its objectives are to reduce costs by half, shorten delivery time, and make it possible to operate the product in small-scale manufacturing plants as it does not require press equipment. .

将来部品のチップ化によって部品穴のないスルホール基
板と四層基板が可能である。また金属板を完全に樹脂に
よってコーチングをすると、金属スルホール基板、金属
の四層基板も可能となる等々の利点を有する四層基板の
製造方法に関するものである。以上この発明を実施例に
もとづいて詳細に説明する。
In the future, by converting components into chips, through-hole boards and four-layer boards without component holes will become possible. The present invention also relates to a method for manufacturing a four-layer board, which has the advantage that if a metal plate is completely coated with resin, a metal through-hole board or a four-layer metal board can be produced. The present invention will now be described in detail based on examples.

発明の構成 第1図は各工程の断面図を示し太線は銅箔を示す。第1
図(イ)で示すように1の絶縁材に2で示す両面銅張積
層材を使用する。第1図(ロ)で示すように必要場所に
貫通孔A−Bを穿設し、この孔にあわせて写真法または
印刷法によりてパターンを作り、第1図(ハ)に示した
ように一層目パターンA′・Boを作製する。に)に示
すようにA′・Boのラ 、ンド部を残して一回目ソル
ダレジストインクによって全面塗布を行ない160度3
0分で乾燥後−液性、二液性ソルダレジストインクまた
は−・二液性樹脂接着剤をA′・Boのランド部を残し
て二回目の全面塗布を行々い(ホ)3・4で示すように
二層目絶縁層ができる。これをBステージまで焼付ける
Structure of the Invention FIG. 1 shows cross-sectional views of each process, and thick lines indicate copper foil. 1st
As shown in Figure (A), double-sided copper-clad laminate material shown as 2 is used as the insulating material 1. As shown in Figure 1 (B), through-holes A-B are drilled at the required locations, and a pattern is created using photography or printing to match the holes, and as shown in Figure 1 (C). First layer patterns A' and Bo are produced. As shown in ), the entire surface is coated with solder resist ink for the first time, leaving only the la and bond areas of A' and Bo, and the solder resist ink is applied to the entire surface at 160 degrees.
After drying for 0 minutes, apply a second coat of liquid, two-component solder resist ink or two-component resin adhesive to the entire surface, leaving the land areas of A' and Bo (e) 3 and 4. A second insulating layer is formed as shown in . Burn this to B stage.

もうける。これを圧着して金属粒子の密着度を助けた後
、高温150度40分の急激な焼付乾燥を行ない酸洗い
の後クルス研磨をして表面を荒らし従来のパネルメッキ
をする。
Make money. After this is crimped to help the adhesion of the metal particles, it is rapidly baked and dried at a high temperature of 150 degrees for 40 minutes, pickled, and then subjected to crucible polishing to roughen the surface and then plated in a conventional manner.

第1図(ト)6で示すように銅メッキによって孔内はス
ルホールとなる。この後写真法または印刷法、ハンダメ
ッキ法によって二次パターン作製後エツl− チングによシ第1図(例に示すように、所定以外の銅箔
と金属粉を取除くとA′はアースのないスルホールパタ
ーンとなシB“はアースを有するパターンができる。第
1図(力で示すように一層目パターン2を表裏対称にす
れば、全てのパターンが、アース接続することができ第
1図(ヌ)となって完成する。
As shown in FIG. 1 (g) 6, the inside of the hole becomes a through hole due to copper plating. After that, a secondary pattern is created using a photographic method, a printing method, or a solder plating method, followed by etching. A through-hole pattern without a ``B'' can be a pattern with a ground.If the first layer pattern 2 is made symmetrical on the front and back as shown in Figure 1 (force), all patterns can be grounded. It will be completed as a figure (nu).

問題点を解決するための手段 (1)エタノール洗浄、(2)金属粉選別法、(6)吹
付は時期。この発明を特徴づける工程は第1図の(へ)
5で示す金属微粒子層を作り、無電解メッキの密着度を
高め次に電解メッキを行女うことである。
Measures to solve the problem: (1) Ethanol cleaning, (2) Metal powder sorting method, (6) Timing of spraying. The process characterizing this invention is shown in (to) in Figure 1.
A metal fine particle layer shown in 5 is created to increase the adhesion of electroless plating, and then electrolytic plating is performed.

第3図はこの発明に係る多層基板の製造方法の一実施例
に使用した金属微粒子の選別法と吹付けの時期を示すも
のである。
FIG. 3 shows the method of selecting fine metal particles and the timing of spraying used in an embodiment of the method for manufacturing a multilayer board according to the present invention.

金属粉のJ・■・S規格はアルミ粉(J・■・5K−5
906)のみ存在するが、真鍮粉、銅粉には存在しない
ため(株)中高金属箔粉工業の規格である銅粉(427
4−44ミクロン325メソシユ残分3%)を使用した
。銅粉中・にも銅の地金、鉄粉、ステアリン酸粉が不純
物として混入しているのでこれら不純物が断線、ショー
ト及び密着不良の原因と々る。これら不純物を除去し均
−釣線銅粉が必要である。
J/■/S standards for metal powder are aluminum powder (J/■/5K-5
906), but since it does not exist in brass powder or copper powder, copper powder (427
4-44 micron 325 methane (3% residue) was used. Copper powder also contains copper metal, iron powder, and stearic acid powder as impurities, and these impurities are the cause of disconnections, short circuits, and poor adhesion. It is necessary to remove these impurities to obtain a uniform wire copper powder.

同社では均−釣線銅粉を作ることはコスト的、技術的に
不可能とのことなので、先ず銅粉をエタノール洗浄をす
る。
The company says that it is not possible due to cost and technical considerations to produce balanced fishing wire copper powder, so first the copper powder is washed with ethanol.

エタノール洗浄 目的は銅粉製造工程中、スタンプミル内でステアリン酸
を使用する。このため銅粒子にステアリン酸被膜があ)
無電解銅の密着の妨げとなる。また、銅メツキ層上に形
成されたパターン以外の銅及び銅メツキ層下にある銅粒
子をエツチング除去する際、エツチング液によく反応さ
せることが必要である。またステアリン酸粉が混入して
いるのでこれらを除去する必要から銅粉のエタノール洗
浄工程は重要である。
For the purpose of ethanol cleaning, stearic acid is used in the stamp mill during the copper powder manufacturing process. Therefore, there is a stearic acid coating on the copper particles)
It interferes with the adhesion of electroless copper. Further, when removing copper other than the pattern formed on the copper plating layer and copper particles under the copper plating layer by etching, it is necessary to react well with the etching solution. Furthermore, since stearic acid powder is mixed in, it is necessary to remove this, so the step of washing the copper powder with ethanol is important.

選別法 次に銅地金、鉄粉及び比較的大きい銅粉を選の空気圧を
調節しなから1の一次銅粉槽に吹付ける。舞上った粉は
2の二次槽に送られる。二次槽は一次槽より大きく作ら
れているので空気の流れはゆるやかとなり軽い粒子、微
粒子だけが外に吹きだされる。
Sorting method: Next, the copper ingot, iron powder and relatively large copper powder are sprayed into the primary copper powder tank (1) without adjusting the air pressure. The powder that flies up is sent to secondary tank 2. Since the secondary tank is larger than the primary tank, the air flow is gentle and only light particles and fine particles are blown out.

吹付けの時期 ノsl( 次に簿寺巷(ロ)で示すように樹脂系ソルダーレジスト
インクまたは、接着剤はAステージ・Bステージ・Cス
テージの順で硬化していく。硬化時間は各社各製品によ
って一様でない。実験成功例では(株)太陽インクS−
40−液性、S−222二液性、(株)アサヒ科学CR
−20G二液性、(株)コニシボンドE−36、E−4
0−液性である。
Spraying timing (SL) (Next, as shown in Book Temple Street (B), the resin solder resist ink or adhesive hardens in the order of A stage, B stage, and C stage.The curing time is determined by each company. It varies depending on the product.In a successful experiment, Taiyo Ink Co., Ltd. S-
40-liquid, S-222 two-liquid, Asahi Scientific CR
-20G two-component, Konishi Bond Co., Ltd. E-36, E-4
0-Liquid.

Aステージ時では溶剤が充分含まれており加熱すること
によって溶材が溶けだし蒸発している状態である。二次
絶縁層表面が銅粉で被れていると蒸発しようとする溶剤
が銅粉層を破って蒸発する。この時銅粉が樹脂内にもぐ
りこみ硬化されてしまうのでエツチング除去ができず残
銅となる。高温でのBステージは溶剤が内部にこもった
まま硬化するので充分な硬度が得られず銅粉の密着度が
わるい。このため銅メッキの密着度は非常に悪い。
At the A stage, a sufficient amount of solvent is contained, and when heated, the solvent begins to melt and evaporate. If the surface of the secondary insulating layer is covered with copper powder, the solvent attempting to evaporate will break through the copper powder layer and evaporate. At this time, the copper powder penetrates into the resin and is hardened, so it cannot be removed by etching and remains copper. In the B stage at high temperatures, the material hardens while the solvent is trapped inside, so sufficient hardness cannot be obtained and the adhesion of the copper powder is poor. For this reason, the adhesion of copper plating is very poor.

Cステージ時では絶縁層表面の硬化がはじまっているの
で銅粉の密着にばらつきが出たシ全く密着しないかであ
る。したがって銅粉の打込時はBステージに入った時で
なければならない。4表1は、作業性の一番よい安定し
たBステージ時間である。実験ではBステージに持込む
ための焼付窯は熱風加熱式焼付窯を使用した。市販され
ているこの式の窯は、焼付室内の左右の壁下段から上段
まで一様に熱風が送シこまれる。ラックに立てて焼付ら
れる基板は左右両端と上部の端から硬化がはじまり、基
板中央がBステージに入ったとき端はCステージに入っ
ている。このような硬化のばらつきは面積の大きい基板
はど著しい徴候がある。一定したBステージ硬化を得る
ためには、焼付窯の改良が必要である。このため焼付室
内の左右最下段の熱風孔のみを残して全てつぶしてしま
う。下段からの熱風は蒸発する溶剤を室外に運び出す役
目なので強い熱風は必要としない。
At the C stage, the surface of the insulating layer has begun to harden, so the adhesion of the copper powder may vary or may not adhere at all. Therefore, the time of implanting copper powder must be when the B stage has been entered. 4 Table 1 shows the stable B stage time with the best workability. In the experiment, a hot air heating type baking kiln was used as the baking kiln for bringing the material to the B stage. In this type of kiln, which is commercially available, hot air is uniformly blown from the bottom to the top of the left and right walls of the firing chamber. A board that is baked while standing on a rack begins to harden from both left and right ends and the top end, and when the center of the board is in the B stage, the end is in the C stage. Such curing variations are most noticeable on large-area substrates. Improvements in baking ovens are required to obtain consistent B-stage hardening. For this reason, all but the hot air holes at the bottom left and right in the baking chamber are crushed. The hot air from the lower tier serves to carry the evaporating solvent outside, so strong hot air is not necessary.

このように改良した窯の条件の基に得たBステージ時間
であるが窯の容積によって多少の差が出る。均一に得た
Bステージの二層目絶縁層上に分離されだ純銅微粒子を
平均に吹付けた後軽くロール圧をかけて平面化をはかる
とともに、絶縁層上になじませることによって密着度を
高める。
The B stage time obtained based on the improved kiln conditions as described above varies somewhat depending on the kiln capacity. After spraying separated pure copper fine particles evenly onto the second insulating layer of the B stage obtained uniformly, apply slight roll pressure to planarize the particles, and increase adhesion by blending them onto the insulating layer. .

次に150度40分の高温で一気に焼付けることが必要
である。低温の焼付けは残銅となる率が高い。次に酸洗
いの後両面をクルスに研磨をする。
Next, it is necessary to bake at a high temperature of 150 degrees for 40 minutes. Low-temperature baking has a high rate of residual copper. Next, after pickling, both sides are thoroughly polished.

これは銅粉をエタノール洗浄しても銅粒子のステアリン
酸被膜は完全に取れないだめ、研磨することによって残
った被膜をはがすと共に、絶縁層面上を凸凹面に荒らし
て無電解メッキの耐着を助ける。次に電解メッキを施し
パターン作製を行ない、エツチング除去を経て、第1図
(イ)となシ多層基板製造の工程が終了する。
This is because even if the copper powder is washed with ethanol, the stearic acid coating on the copper particles cannot be completely removed, so the remaining coating is removed by polishing, and the surface of the insulating layer is roughened to make it more resistant to electroless plating. help. Next, electrolytic plating is applied to form a pattern, and after removal by etching, the process of manufacturing a multilayer board as shown in FIG. 1(a) is completed.

発明の効果 この工程に従って製造された四層基板−枚と両面銅箔を
除去した絶縁層板(ガラスエポキシ布人材)にレジスト
インクによって絶縁層を作り、この製法によって金属粒
子層を作り、パネルメッキをして通常のスルホール基板
を製造した。これをハダカ基板のままハンダレベラを1
分間行ないメッキの密着度をみる。膨れ、断線がなかっ
たのでこれを都立工業技術センターで15久 電気特性試験を行った結果、降呑看表2の通シである。
Effects of the invention An insulating layer is created using resist ink on the four-layer board manufactured according to this process and the insulating layer board (glass epoxy cloth material) from which copper foil has been removed on both sides, and a metal particle layer is created using this manufacturing method, and panel plating is performed. A normal through-hole substrate was manufactured using the following steps. Leave this as a bare board with a solder leveler.
Wait for a minute and check the adhesion of the plating. Since there was no swelling or disconnection, the electrical characteristics were tested at the Tokyo Metropolitan Industrial Technology Center for 15 years, and the results were as shown in Table 2.

後にハイパターン0.15%のピン間2本の基板を製作
し同様にハダヵのままハンダレベラを行なう。この結果
パターンには全く異常はなかった。
Later, a board with a high pattern of 0.15% between two pins was fabricated, and solder leveling was performed in the same manner with the solder remaining bare. There was no abnormality in this result pattern.

このパネルメッキアンカー法を用いた金属基板の製法は
、金属板に施行する穴開手順と樹脂によるコーチングの
違、いだけで、金属粒子層をもうけ、後パネルメッキを
してパターンを作成することは同じ工程である。
The manufacturing method of metal substrates using this panel plating anchor method is the difference between the hole-drilling procedure performed on the metal plate and the coating with resin, in which a layer of metal particles is created by simply drilling, and then the panel is plated to create a pattern. is the same process.

実施例に基いて説明する 実験ではアルミ板1,5%厚を使用した。先ずスタック
ピンと同径の内寸をもつワッシャー状の銅管または真鍮
管厚1.5%を3個用意する。
In the experiments described based on the examples, an aluminum plate with a thickness of 1.5% was used. First, prepare three washer-shaped copper tubes or brass tubes with a thickness of 1.5% that have the same inner diameter as the stack pin.

第4図(イ)1(点部分は金属材料)で示すように銅管
の外径寸にあわせてスタックピン穴2個と目卵入1個の
貫通孔を開ける。第4図(ロ)Aの2で示すように、こ
の貫通孔6個に用意された銅管をうめこみ、スタックピ
ン孔とする。これを基準として実寸径の倍寸で一次貫通
孔を穿設すると第2図(ハ)のBとなる。
As shown in Fig. 4(a) 1 (the dotted part is a metal material), two stack pin holes and one eyelet hole are drilled in accordance with the outer diameter of the copper tube. As shown by 2 in FIG. 4(b) A, the prepared copper tubes are inserted into the six through holes to form stack pin holes. If a primary through hole is drilled with a size twice the actual diameter based on this, it will become B in FIG. 2 (C).

次に第ヰ図に)のA3で示すようにスタックピン穴と目
印穴の銅管外径よシ出ないように両面にテープを張り、
接着剤が孔内に入らないようにする。
Next, as shown by A3 in Fig. 3), put tape on both sides of the stack pin hole and mark hole so that the outside diameter of the copper tube does not protrude.
Make sure that the adhesive does not get into the hole.

第2図(ホー1)4で示すようにアルミ板よシ大きく全
面に樹脂コーチングする。実験では、フィルム上に1.
6%厚のワクを作り、アルミ板全面に二液性接着剤を塗
布してワク内に納め、上にフィルムをかぶせた後、スク
リーン印刷法(鉄板をスキージとして使用)で圧着する
と同時に、残りの接着剤を除去して平面化をはか990
度40分低温で一次乾燥後、フィルムをとって高温16
0度60分の二次乾燥をした。第2図(ホー2)は平面
図である。
As shown in Figure 2 (Ho 1) 4, the entire surface of the aluminum plate is coated with resin. In the experiment, 1.
A workpiece with a thickness of 6% is made, a two-component adhesive is applied to the entire surface of the aluminum plate, it is placed inside the workpiece, and a film is placed on top. Remove the adhesive and make it flat 990
After primary drying at low temperature for 40 minutes, remove the film and dry at high temperature for 40 minutes.
Secondary drying was performed at 0 degrees Celsius for 60 minutes. FIG. 2 (Ho 2) is a plan view.

第2図(へ)5で示すように・−チングされた樹脂表面
にソルダレジストインクまたは接着剤を全面塗布してB
ステージに焼付ける。
As shown in Figure 2 (see 5), apply solder resist ink or adhesive to the entire surface of the chipped resin.B
Burn it onto the stage.

第蜂図(ト)6で示すように、分離された金属粒子をB
=テージに入・た表面に吹付け、乾燥後第4図(ト)B
oに示すようにスタックピン孔Aに張ったテープをはず
し、これを基準にして一次孔と同じNCテープで実寸径
の穴開を行なう。金属板ホールの絶縁層厚は実寸穴径の
半径の厚みがある。この後酸洗いを行った時絶縁層の異
常が発見できる。
As shown in Figure 6, the separated metal particles are
= Spray on the staged surface and after drying Figure 4 (G) B
As shown in o, remove the tape applied to the stack pin hole A, and using this as a reference, drill a hole of the actual size using the same NC tape as the primary hole. The thickness of the insulation layer of the metal plate hole is equal to the radius of the actual hole diameter. After this, when pickling is performed, abnormalities in the insulating layer can be found.

第4図(男7で示すようにクルス研磨後、パネルメッキ
を行ないスルホールとして従来通シのパタ−ン作成を行
ないエツチング除去で第4図(ヌ)となシ完成する。こ
の実施例はNC穴開によるものであるが量産化の場合は
パンチングにょシ穴開けを行なう。
After crucible polishing as shown in Fig. 4 (7), panel plating is performed, a conventional pattern is created as a through hole, and etching is removed to complete the process as shown in Fig. 4 (N). This is done by drilling, but in the case of mass production, punching is used.

〜’+A− (イ)                  (ロ)(
表1)
~'+A- (a) (b)(
Table 1)

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図イ〜ヌはパネルメッキアンカー法による四層基板
の各製造工程の断面図である。 1・・・・・・斜線は絶縁材料 2・・・・・・太い実線は銅箔部分 6・・・4・・・絶縁層 5・・・・・・金属粒子層 6・・・・・・交差斜線は電解メッキ層(パネルメッキ
)A・・・B・・・基板上に施設されたホールA゛・・
・B′・・・作成されたパターンのランド部分第2図は
従来の張合せ法による四層基板の各工程の断面図である
。 a・・・b・・・プリプレグ材 1・・・・・・絶縁材 2・・・・・・銅箔 3・・・・・・交差斜線は電解メッキ層(パネルメッキ
)4・・・5・・・−層目パターンのランド部分4′・
・・5′・・・スルホール 第2図 この発明を応用した金属ス・・ホー・・基板製
造の各工程を平面図と断面図で表している。 1・・・・・・点部分、金属材料の平面図2・・・・・
・ワッシャー状の銅管又は真鍮管3・・・・・・孔内に
樹脂の侵入を防ぐためのテープ4・・・・・・樹脂によ
るコーチング層ホー2・・・コーチングされた金属材の
平面図5・・・・・・樹脂系接着剤層 6・・・・・・金属粒子層 7・・・・・・交差斜線、電解メッキ層A・・・・・・
管をうめこまれたスタックピン孔B・・・・・・実寸径
の倍寸で開けた一次孔B゛・・・・・・実寸径で開けた
二次孔とスルホールランド部
FIGS. 1A to 1C are cross-sectional views of each manufacturing process of a four-layer board by the panel plating anchor method. 1... Diagonal lines indicate insulating material 2... Thick solid lines indicate copper foil portion 6... 4... Insulating layer 5... Metal particle layer 6...・The intersecting diagonal lines indicate the electrolytic plating layer (panel plating) A...B...Hole A...
・B'...Land portion of created pattern FIG. 2 is a cross-sectional view of each process of a four-layer board made by a conventional bonding method. a...b...Prepreg material 1...Insulating material 2...Copper foil 3...Cross diagonal lines indicate electrolytic plating layer (panel plating) 4...5 ...-Land part 4' of layer pattern
...5'...Through hole Figure 2 Each process of manufacturing a metal substrate to which this invention is applied is shown in a plan view and a sectional view. 1... Point part, plan view of metal material 2...
・Washer-shaped copper tube or brass tube 3... Tape to prevent resin from entering the hole 4... Resin coating layer Ho 2... Flat surface of coated metal material Figure 5...Resin adhesive layer 6...Metal particle layer 7...Cross diagonal lines, electrolytic plating layer A...
Stack pin hole B in which the pipe is embedded...Primary hole B, which is twice the actual size diameter...Secondary hole and through hole land area, which are drilled to the actual size diameter

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  両面に銅箔を有する絶縁基板に貫通孔を穿設し、この
孔にあわせて作製された一次パターンのランド部を残し
て、全面に樹脂系レジストインクまたは接着剤によって
二層以上の絶縁層を作り、この絶縁層をBステージ(半
乾燥状態、以下Bステージ)まで焼付ける工程と、金属
粉をエタノール洗浄する工程と、エタノール洗浄ずみの
金属粉を不純物と金属微粒子に分離する工程と、分離さ
れた金属微粒子をBステージにはいった絶縁層全面に吹
付けて、金属微粒子層を作る工程と、これをロール圧を
かけて密着度を高める工程と、充分焼付けた後、クルス
に研磨をして表面を荒らす工程とを経た後に従来のパネ
ルメッキをしてスルホールを有する四層基板の製造方法
と、この発明の特徴を応用して金属基板を製造するとき
、銅管または真鍮管をスタックピン孔に埋めこむ工程と
、このスタックピン孔を基準としてNc穴開機または、
パンチングによって実寸径の倍寸で一次貫通孔を穿設す
る工程と、金属板の全面(孔内表裏端)に樹脂接着剤を
塗布する工程と、乾燥後表裏に一次絶縁層を作成してB
ステージに焼付け、金属粒子層を作った後、一次貫通孔
と同じ中心軸で、実寸径の二次貫通孔を穿設する工程と
を経た後に、従来のパネルメッキをして金属を芯にした
スルホールを有するプリント基板の製造方法である。
A through hole is drilled in an insulating substrate that has copper foil on both sides, and two or more insulating layers are applied over the entire surface using resin resist ink or adhesive, leaving the land part of the primary pattern created to fit the hole. A process of baking this insulating layer to the B stage (semi-dry state, hereinafter referred to as B stage), a process of washing the metal powder with ethanol, a process of separating the metal powder washed with ethanol into impurities and fine metal particles, and a process of separation. There is a process of spraying the metal fine particles that have been prepared over the entire surface of the insulating layer that has entered the B stage to form a metal fine particle layer, a process of applying roll pressure to increase the degree of adhesion, and a process of thoroughly baking and polishing it. When manufacturing a metal board by applying the conventional method of manufacturing a four-layer board with through-holes by plating the surface after roughening the surface by applying the conventional panel plating process, and applying the features of this invention, copper or brass pipes are stacked with stack pins. The step of embedding the stack pin in the hole, and using the stack pin hole as a reference, using an Nc hole drilling machine or
A process of punching a primary through hole twice the actual diameter, a process of applying resin adhesive to the entire surface of the metal plate (front and back ends of the hole), and a process of creating a primary insulating layer on the front and back after drying.
After baking on the stage and creating a metal particle layer, a secondary through hole with the same center axis as the primary through hole is drilled with the actual size, and then conventional panel plating is applied to create a metal core. This is a method for manufacturing a printed circuit board having through holes.
JP26366886A 1986-11-07 1986-11-07 Manufacture of multilayer board and metal through-hole board by panel plating anchoring method Pending JPS63119294A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03283493A (en) * 1990-03-30 1991-12-13 Masafumi Miyazaki Manufacture of multilayer wiring board

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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