JPS63117013A - 新規高分子物質 - Google Patents
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- JPS63117013A JPS63117013A JP61261696A JP26169686A JPS63117013A JP S63117013 A JPS63117013 A JP S63117013A JP 61261696 A JP61261696 A JP 61261696A JP 26169686 A JP26169686 A JP 26169686A JP S63117013 A JPS63117013 A JP S63117013A
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Landscapes
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は新規高分子物質に関し、さらに詳しく言うと
、トリブチセン骨格を側鎖に導入してなり、光学活性を
備えた新規な高分子物質に関する。
、トリブチセン骨格を側鎖に導入してなり、光学活性を
備えた新規な高分子物質に関する。
[従来の技術およびその問題点]
トリブチセンはバートレット [P、 D、 Bart
−Iettlらにより合成された化合物であり、トリブ
チセン骨格は剛直で嵩高く、化学的に極めて安定で、ま
た高い対称性を備えている。
−Iettlらにより合成された化合物であり、トリブ
チセン骨格は剛直で嵩高く、化学的に極めて安定で、ま
た高い対称性を備えている。
ホー、7マイスター[E、 HoH*eigter]
らは、次式 に示す繰返し単位を備えた高分子物質を提案し[J 、
Po1ys+、 Sci、、Part A−1,Z、
55 (11369)]プリ77:I [V、 N、
Pryadko]らは次式に示す繰返し単位を備えた高
分子物質を提案している[Vygakomol、 5o
edin、、 Ser、 B、25,845(1983
) ] 。
らは、次式 に示す繰返し単位を備えた高分子物質を提案し[J 、
Po1ys+、 Sci、、Part A−1,Z、
55 (11369)]プリ77:I [V、 N、
Pryadko]らは次式に示す繰返し単位を備えた高
分子物質を提案している[Vygakomol、 5o
edin、、 Ser、 B、25,845(1983
) ] 。
一方、トリブチセン骨格に類似する骨格としてトリチル
基を側鎖に備えたポリトリチルメタクリレートが提案さ
れている(特開昭56−108907号公報参照)、こ
のポリトリチルメタクリレートは、はぼ完全なアイソタ
クチック構造を備えると共に溶液中では安定な螺旋構造
を備えた光学活性な高分子である。
基を側鎖に備えたポリトリチルメタクリレートが提案さ
れている(特開昭56−108907号公報参照)、こ
のポリトリチルメタクリレートは、はぼ完全なアイソタ
クチック構造を備えると共に溶液中では安定な螺旋構造
を備えた光学活性な高分子である。
[従来技術の問題点]
前記ポリトリチルメタクリレートは、加溶媒分解される
。すなわち、ポリトリチルメタクリレートは、メタノー
ルの存在下にエステル交換が起き、トリチル基がメチル
基に変換されることにより、螺旋構造がほどけて光学活
性が消失してしまう。
。すなわち、ポリトリチルメタクリレートは、メタノー
ルの存在下にエステル交換が起き、トリチル基がメチル
基に変換されることにより、螺旋構造がほどけて光学活
性が消失してしまう。
[発明の目的]
この発明は、前記問題点を解決し、溶媒に対して安定で
、しかもトリブチセン骨格を主鎖中に取り込んだ新規高
分子物質を提供することである。
、しかもトリブチセン骨格を主鎖中に取り込んだ新規高
分子物質を提供することである。
この発明の他の目的は、溶剤に対して安定で、主鎖中に
トリブチセン骨格を取り込んでなると共に光学活性を備
えることにより、たとえば光学分割剤として有用な新規
高分子物質を提供することである。
トリブチセン骨格を取り込んでなると共に光学活性を備
えることにより、たとえば光学分割剤として有用な新規
高分子物質を提供することである。
(以下、余白)
[前記目的を達成するための手段]
前記目的を達成するためのこの発明の構成は、一般式[
1] で示される七ツマー単位を有する新規高分子物質である
。
1] で示される七ツマー単位を有する新規高分子物質である
。
この新規高分子物質は、次のようにして製造することが
できる。
できる。
すなわち、アニオン重合法によりメタクリル酸9−トリ
ブチセニルを重合することにより、前記一般式[11で
示される新規高分子物質を得ることができる。
ブチセニルを重合することにより、前記一般式[11で
示される新規高分子物質を得ることができる。
前記メタクリル酸9−トリブチセニルは、たとえば次の
ようにすると、高い収率で製造することができる。
ようにすると、高い収率で製造することができる。
すなわち、アントロンをたとえばピリジンなどの溶媒中
で無水酢酸で9−アセトキシアントラセンとし1次いで
この9−アセトキシアントラセンにベンザインを付加し
てトリブチセン骨格を形成する0次いで、還元剤たとえ
ばリチウムアルミニウムへイドライドでアセテート基を
還元し、生成する水酸基をメタクリロイル化することに
より。
で無水酢酸で9−アセトキシアントラセンとし1次いで
この9−アセトキシアントラセンにベンザインを付加し
てトリブチセン骨格を形成する0次いで、還元剤たとえ
ばリチウムアルミニウムへイドライドでアセテート基を
還元し、生成する水酸基をメタクリロイル化することに
より。
メタクリル酸9−トリブチセニルを、無色結晶として収
率良く製造することができる。
率良く製造することができる。
重合触媒としては、光学活性なアニオン触媒が有効であ
る。ここで、光学活性な7ニオン触媒とは、不斉炭素を
有する有機アルカリ全屈化合物および有機アルカリ金属
化合物とこれに配位し得る不斉構造を有する有機化合物
とからなる錯体などが挙げられる。
る。ここで、光学活性な7ニオン触媒とは、不斉炭素を
有する有機アルカリ全屈化合物および有機アルカリ金属
化合物とこれに配位し得る不斉構造を有する有機化合物
とからなる錯体などが挙げられる。
好適な重合触媒としては、(+)−2,3−ジメトキシ
−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+) −I)
DBと略することがある。]−]n−ブチルリチウおよ
び(+)−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブ
チルリチウムなどが挙げられる。
−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+) −I)
DBと略することがある。]−]n−ブチルリチウおよ
び(+)−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブ
チルリチウムなどが挙げられる。
光学活性なアニオン触媒を使用して製造すると、この発
明に係る新規高分子物質は、旋光性を示す、これは、得
られる新規高分子物質が、その螺旋構造の巻き方向が左
右のいずれか一方に偏っているからと考えられる。
明に係る新規高分子物質は、旋光性を示す、これは、得
られる新規高分子物質が、その螺旋構造の巻き方向が左
右のいずれか一方に偏っているからと考えられる。
その旋光度は、テトラヒドロフラン中で測定した[α]
Dとしての絶対値が3°以上である。
Dとしての絶対値が3°以上である。
アニオン重合は、通常、溶媒中で行なわれる。
溶媒は、ff1合触媒、モノマーおよびポリマーを溶解
するものが好ましい、たとえば、重合触媒として(+)
−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブチルリチ
ウムを使用する場合、溶媒としてテトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジエチルエーテルなどが好ましい、また、
重合触媒として(+)−DDE−n−ブチルリチウムを
使用する場合、溶媒として、トルエン、キシレン、ヘキ
サン−トルエン混合物なくか好ましい。
するものが好ましい、たとえば、重合触媒として(+)
−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブチルリチ
ウムを使用する場合、溶媒としてテトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジエチルエーテルなどが好ましい、また、
重合触媒として(+)−DDE−n−ブチルリチウムを
使用する場合、溶媒として、トルエン、キシレン、ヘキ
サン−トルエン混合物なくか好ましい。
重合温度は、通常、−78〜O℃、好ましくは−50〜
−30℃である。
−30℃である。
このアニオン1合は、リビング重合であるので、新規高
分子物質の分子量を所望の程度にまで自由に2gltM
することができるが、その分子量が高くなるとテトラヒ
ドロフランなどの汎用の重合溶媒に溶解しなくなるので
、新規高分子物質の分子量(GPC法による。)を1.
000〜50,000、好ましくは2,000〜30,
000に調節しておくのが望ましい。
分子物質の分子量を所望の程度にまで自由に2gltM
することができるが、その分子量が高くなるとテトラヒ
ドロフランなどの汎用の重合溶媒に溶解しなくなるので
、新規高分子物質の分子量(GPC法による。)を1.
000〜50,000、好ましくは2,000〜30,
000に調節しておくのが望ましい。
このアニオン重合は、tJ述のようにリビング重合であ
るから、新規高分子物質を得るときには。
るから、新規高分子物質を得るときには。
アルコール等でポリマーの末端をM釦しておくのが望ま
しい。
しい。
この発明に係る新規高分子物質は、溶媒で容易に分解さ
れずに安定である。しかも、光学活性な重合触媒を使用
したアニオン重合により製造されたこの発明に係る訴規
高分子uj賀は、たとえば光学分割剤として有用である
。たとえば、α−置換ベンジルアルコール、α−フェニ
ルエチルアミン、トレガー塩基などのラセミ体をこの発
明に係る新規高分子物質を用いたクロマト法などにより
光学分割することができる。
れずに安定である。しかも、光学活性な重合触媒を使用
したアニオン重合により製造されたこの発明に係る訴規
高分子uj賀は、たとえば光学分割剤として有用である
。たとえば、α−置換ベンジルアルコール、α−フェニ
ルエチルアミン、トレガー塩基などのラセミ体をこの発
明に係る新規高分子物質を用いたクロマト法などにより
光学分割することができる。
また、この新規高分子物質は、合成反応中に存在させる
ことにより、不斉合成の場として利用することもできる
。
ことにより、不斉合成の場として利用することもできる
。
なお、この発明に係る新規高分子物質は、共重合可能な
他の七ツマ−を含有していても良い、共重合可能な七ツ
マー含有量は、七ツマ−の種類にもよるが、通常、20
モル%以下である。この場合、共重合可能なモノマーと
しては、スチレンおよびその銹導体、ブタジェンなどの
共役ジエン類、メタクリル酸エステルなどが挙げられる
。もちろん、共重合体としては、ブロック共重合体、グ
ラフト共重合体であっても良い。
他の七ツマ−を含有していても良い、共重合可能な七ツ
マー含有量は、七ツマ−の種類にもよるが、通常、20
モル%以下である。この場合、共重合可能なモノマーと
しては、スチレンおよびその銹導体、ブタジェンなどの
共役ジエン類、メタクリル酸エステルなどが挙げられる
。もちろん、共重合体としては、ブロック共重合体、グ
ラフト共重合体であっても良い。
[発明の効果〕
この発明によると、光学分割剤として、あるいは不斉合
成の場として有用な、光学活性の新規高分子物質を提供
することができる。
成の場として有用な、光学活性の新規高分子物質を提供
することができる。
[実施例]
(参考例)
メタクリル酸8−トリブチセニルの合成第1図に示すよ
うに、アントロン[gl 1.0gと無水酢酸3.5
当量とを、ピリジン中で、100℃に加熱しながら16
時間反応させて、81%の収率でアントラセンアセテー
トリ]を得た。このアントラセンアセテートU】 と3
.0当Qノn −C4H9ONOとを、1.2−ジクロ
ルエタン中で、加熱還流し、その中へアントラセンアセ
テート[3] に対して2.54当量の0−7ミノ安息
香酸のTHF溶液を4時間かけて加え、40%の収率で
化合物【±1を得た。この化合物[41の前記混合溶媒
溶液に次に、リチウムアルミニウムハイドライドを無水
THF溶液中に分散攪拌し、その中に前記化合物口1の
無水THF溶液を滴下し、1時間室温で反応させて、化
合物[51を収率98%で得た。
うに、アントロン[gl 1.0gと無水酢酸3.5
当量とを、ピリジン中で、100℃に加熱しながら16
時間反応させて、81%の収率でアントラセンアセテー
トリ]を得た。このアントラセンアセテートU】 と3
.0当Qノn −C4H9ONOとを、1.2−ジクロ
ルエタン中で、加熱還流し、その中へアントラセンアセ
テート[3] に対して2.54当量の0−7ミノ安息
香酸のTHF溶液を4時間かけて加え、40%の収率で
化合物【±1を得た。この化合物[41の前記混合溶媒
溶液に次に、リチウムアルミニウムハイドライドを無水
THF溶液中に分散攪拌し、その中に前記化合物口1の
無水THF溶液を滴下し、1時間室温で反応させて、化
合物[51を収率98%で得た。
この化合物[51にブチルリチウムを反応させてリチウ
ム化してからメタクリル酸クロリドを反応させて、標記
のモノマーを収率88%で得た。
ム化してからメタクリル酸クロリドを反応させて、標記
のモノマーを収率88%で得た。
メタクリル酸9−トリブチセニルの構造と物性IH−N
MRスペクトル(CDC交3.9P■);CHs;2.
28(3H,s)、Ha;5.37(lH9s)。
MRスペクトル(CDC交3.9P■);CHs;2.
28(3H,s)、Ha;5.37(lH9s)。
)1b ;5.83(IH,br、り、He;8.81
(1M、br、s)。
(1M、br、s)。
芳香族水素; 8.87〜7.63(12H,層)I
R(KBr、cm−1); 173B、lB53 UV(シクロヘキサン); 入wax = 2H,5+m(ε−2400)、入、
□X = 278.5n■(@−2900)融点:2
18〜219℃ 無色結晶 (実施例1) 内部を高減圧にした反応容器に、十分に精製したメタク
リル酸8−トリブチセニルlOQmgおよび十分に精製
したT HF 2 m lを仕込み、次いでN−n−プ
ロピルアニリンのTHF溶液にn−ブチルリチウムを加
えて調製した触媒溶液(ブチルリチウム:N−n−プロ
ピルアニリン= 1 : 1.2)(0,5m文、0−
03mm0交)を仕込み、−40℃で重合反応を開始し
た。同温度で38時間かけて攪拌下にt合を行なった。
R(KBr、cm−1); 173B、lB53 UV(シクロヘキサン); 入wax = 2H,5+m(ε−2400)、入、
□X = 278.5n■(@−2900)融点:2
18〜219℃ 無色結晶 (実施例1) 内部を高減圧にした反応容器に、十分に精製したメタク
リル酸8−トリブチセニルlOQmgおよび十分に精製
したT HF 2 m lを仕込み、次いでN−n−プ
ロピルアニリンのTHF溶液にn−ブチルリチウムを加
えて調製した触媒溶液(ブチルリチウム:N−n−プロ
ピルアニリン= 1 : 1.2)(0,5m文、0−
03mm0交)を仕込み、−40℃で重合反応を開始し
た。同温度で38時間かけて攪拌下にt合を行なった。
その後、反応容器の内容物に少量のメタノールを添加し
て、成長末端を失活させ1反応容器の内容物をメタノー
ル中に投じて生成ポリマーを沈澱させた。
て、成長末端を失活させ1反応容器の内容物をメタノー
ル中に投じて生成ポリマーを沈澱させた。
生成ポリマーを濾取した後、メタノールで十分に洗浄し
、50℃に加熱しながら減圧乾燥した。
、50℃に加熱しながら減圧乾燥した。
このポリマーは、その収量が90mg(収*90%)で
あり、THFに可溶であった。
あり、THFに可溶であった。
このポリマーは、以下の諸データから、以下の構造式
を有する、この発明に係る新規高分子物質であることが
明らかである。
明らかである。
Mn(GPC法) :2,400
Mw/Mu (//) : 1.14I R(K
Br、cm−’) : 1,747.1458UV
(THF) ; 入5all= 269.0Hm(
ε−2880)入@JX = 277.0Hm(G
=3220)TG (5°に7分):370℃(10%
重量減)(実施例2) n−ブチルリチウムのトルエン溶液に(+〕−2,3−
ジメトキシ−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+
)−DDBと略]を加えて調製した触媒溶液(n−ブチ
ルリチウム/ (+)−DDB= l :1.2 )
(0,5ml、0.03m m o n )を使用し
た他は前記実施例1と同様の重合操作を行なって、ポリ
マー70mgを11)た、このポリ了−のTHF可溶性
部のデータを以下に示す。
Br、cm−’) : 1,747.1458UV
(THF) ; 入5all= 269.0Hm(
ε−2880)入@JX = 277.0Hm(G
=3220)TG (5°に7分):370℃(10%
重量減)(実施例2) n−ブチルリチウムのトルエン溶液に(+〕−2,3−
ジメトキシ−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+
)−DDBと略]を加えて調製した触媒溶液(n−ブチ
ルリチウム/ (+)−DDB= l :1.2 )
(0,5ml、0.03m m o n )を使用し
た他は前記実施例1と同様の重合操作を行なって、ポリ
マー70mgを11)た、このポリ了−のTHF可溶性
部のデータを以下に示す。
このTHF可溶のポリマーは、以下の諸データから、こ
の発明に係る新規高分子物質であることが、明らかであ
る。
の発明に係る新規高分子物質であることが、明らかであ
る。
Mn(GPC法):4,800
M1l/M!l (/’) : 1.3G[α]
、 o : −5° (τ)IF、C=(1
,2)I R(KBr、c[1) + 1,747,
1458U v (THF) ; 入saw
= 269.Onm(ε =2880)入lax
= 277、On層(ε=3220)TG (5°に7
分):370℃(10%重量減)
、 o : −5° (τ)IF、C=(1
,2)I R(KBr、c[1) + 1,747,
1458U v (THF) ; 入saw
= 269.Onm(ε =2880)入lax
= 277、On層(ε=3220)TG (5°に7
分):370℃(10%重量減)
第1図はこのirJ]の新規高分子物質を製造するため
の七ツマ−の製造工程を示す説明図である。 ・11 1−r 1 I/
の七ツマ−の製造工程を示す説明図である。 ・11 1−r 1 I/
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるモノマー単位を有することを特徴とする新規
高分子物質。 - (2)数平均分子量が1,000〜50,000であり
、分散度(Mw/Mn)が1.5以下であり、テトラヒ
ドロフラン中で測定した比旋光度[α]^2^0_Dが
絶対値として3°以上であるる前記特許請求の範囲第1
項に記載の新規高分子物質。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61261696A JPS63117013A (ja) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 新規高分子物質 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61261696A JPS63117013A (ja) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 新規高分子物質 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63117013A true JPS63117013A (ja) | 1988-05-21 |
JPH0447683B2 JPH0447683B2 (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=17365440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61261696A Granted JPS63117013A (ja) | 1986-11-01 | 1986-11-01 | 新規高分子物質 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63117013A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103373990A (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-30 | 中国科学院理化技术研究所 | 含有三蝶烯刚性立体结构的发色团分子及其合成方法和应用 |
CN109573977A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-04-05 | 中南大学 | 一种基于有机多孔聚合物的多孔碳材料制备方法与应用 |
WO2019151462A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
WO2019151463A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物及びその化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
JP2020188047A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | コニカミノルタ株式会社 | バリアー膜、バリアー膜の作製方法、バリアー膜積層体及び電子デバイス |
-
1986
- 1986-11-01 JP JP61261696A patent/JPS63117013A/ja active Granted
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103373990A (zh) * | 2012-04-19 | 2013-10-30 | 中国科学院理化技术研究所 | 含有三蝶烯刚性立体结构的发色团分子及其合成方法和应用 |
CN103373990B (zh) * | 2012-04-19 | 2016-03-09 | 中国科学院理化技术研究所 | 含有三蝶烯刚性立体结构的发色团分子及其合成方法和应用 |
JPWO2019151462A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2021-01-14 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
WO2019151462A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
WO2019151463A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物及びその化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
JPWO2019151463A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2021-01-28 | 株式会社シード | 重合性トリプチセン誘導体化合物及びその化合物を構成成分として含む高分子化合物 |
EP3747918A4 (en) * | 2018-02-02 | 2021-11-10 | Seed Co., Ltd. | POLYMERIC COMPOUND CONTAINING A COMPOUND DERIVED FROM POLYMERISABLE TRIPTYCENE AS A STRUCTURAL COMPONENT |
EP3747861A4 (en) * | 2018-02-02 | 2021-11-10 | Seed Co., Ltd. | COMPOUND DERIVED FROM POLYMERISABLE TRIPTYCENE, AND POLYMERIC COMPOUND CONTAINING THIS COMPONENT AS A STRUCTURAL COMPONENT |
US11203567B2 (en) | 2018-02-02 | 2021-12-21 | Seed Co., Ltd. | Polymerizable triptycene derivative compound, and polymer compound including same as constituent component |
US11292762B2 (en) | 2018-02-02 | 2022-04-05 | Seed Co., Ltd. | Polymer including polymerizable triptycene derivative compound as component |
CN109573977A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-04-05 | 中南大学 | 一种基于有机多孔聚合物的多孔碳材料制备方法与应用 |
CN109573977B (zh) * | 2019-01-07 | 2022-06-10 | 长沙瑞庭科技有限公司 | 一种基于有机多孔聚合物的多孔碳材料制备方法与应用 |
JP2020188047A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | コニカミノルタ株式会社 | バリアー膜、バリアー膜の作製方法、バリアー膜積層体及び電子デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0447683B2 (ja) | 1992-08-04 |
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