JPS63117013A - 新規高分子物質 - Google Patents

新規高分子物質

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JPS63117013A
JPS63117013A JP61261696A JP26169686A JPS63117013A JP S63117013 A JPS63117013 A JP S63117013A JP 61261696 A JP61261696 A JP 61261696A JP 26169686 A JP26169686 A JP 26169686A JP S63117013 A JPS63117013 A JP S63117013A
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polymeric substance
solvent
butyllithium
methacrylate
polymerization
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Minoru Matsuda
実 松田
Yasufumi Tamai
康文 玉井
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は新規高分子物質に関し、さらに詳しく言うと
、トリブチセン骨格を側鎖に導入してなり、光学活性を
備えた新規な高分子物質に関する。
[従来の技術およびその問題点] トリブチセンはバートレット [P、 D、 Bart
−Iettlらにより合成された化合物であり、トリブ
チセン骨格は剛直で嵩高く、化学的に極めて安定で、ま
た高い対称性を備えている。
ホー、7マイスター[E、 HoH*eigter] 
らは、次式 に示す繰返し単位を備えた高分子物質を提案し[J 、
 Po1ys+、 Sci、、Part A−1,Z、
55 (11369)]プリ77:I [V、 N、 
Pryadko]らは次式に示す繰返し単位を備えた高
分子物質を提案している[Vygakomol、 5o
edin、、 Ser、 B、25,845(1983
) ] 。
一方、トリブチセン骨格に類似する骨格としてトリチル
基を側鎖に備えたポリトリチルメタクリレートが提案さ
れている(特開昭56−108907号公報参照)、こ
のポリトリチルメタクリレートは、はぼ完全なアイソタ
クチック構造を備えると共に溶液中では安定な螺旋構造
を備えた光学活性な高分子である。
[従来技術の問題点] 前記ポリトリチルメタクリレートは、加溶媒分解される
。すなわち、ポリトリチルメタクリレートは、メタノー
ルの存在下にエステル交換が起き、トリチル基がメチル
基に変換されることにより、螺旋構造がほどけて光学活
性が消失してしまう。
[発明の目的] この発明は、前記問題点を解決し、溶媒に対して安定で
、しかもトリブチセン骨格を主鎖中に取り込んだ新規高
分子物質を提供することである。
この発明の他の目的は、溶剤に対して安定で、主鎖中に
トリブチセン骨格を取り込んでなると共に光学活性を備
えることにより、たとえば光学分割剤として有用な新規
高分子物質を提供することである。
(以下、余白) [前記目的を達成するための手段] 前記目的を達成するためのこの発明の構成は、一般式[
1] で示される七ツマー単位を有する新規高分子物質である
この新規高分子物質は、次のようにして製造することが
できる。
すなわち、アニオン重合法によりメタクリル酸9−トリ
ブチセニルを重合することにより、前記一般式[11で
示される新規高分子物質を得ることができる。
前記メタクリル酸9−トリブチセニルは、たとえば次の
ようにすると、高い収率で製造することができる。
すなわち、アントロンをたとえばピリジンなどの溶媒中
で無水酢酸で9−アセトキシアントラセンとし1次いで
この9−アセトキシアントラセンにベンザインを付加し
てトリブチセン骨格を形成する0次いで、還元剤たとえ
ばリチウムアルミニウムへイドライドでアセテート基を
還元し、生成する水酸基をメタクリロイル化することに
より。
メタクリル酸9−トリブチセニルを、無色結晶として収
率良く製造することができる。
重合触媒としては、光学活性なアニオン触媒が有効であ
る。ここで、光学活性な7ニオン触媒とは、不斉炭素を
有する有機アルカリ全屈化合物および有機アルカリ金属
化合物とこれに配位し得る不斉構造を有する有機化合物
とからなる錯体などが挙げられる。
好適な重合触媒としては、(+)−2,3−ジメトキシ
−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+) −I)
DBと略することがある。]−]n−ブチルリチウおよ
び(+)−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブ
チルリチウムなどが挙げられる。
光学活性なアニオン触媒を使用して製造すると、この発
明に係る新規高分子物質は、旋光性を示す、これは、得
られる新規高分子物質が、その螺旋構造の巻き方向が左
右のいずれか一方に偏っているからと考えられる。
その旋光度は、テトラヒドロフラン中で測定した[α]
Dとしての絶対値が3°以上である。
アニオン重合は、通常、溶媒中で行なわれる。
溶媒は、ff1合触媒、モノマーおよびポリマーを溶解
するものが好ましい、たとえば、重合触媒として(+)
−DDB−N−n−プロピルアニリン−n−ブチルリチ
ウムを使用する場合、溶媒としてテトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジエチルエーテルなどが好ましい、また、
重合触媒として(+)−DDE−n−ブチルリチウムを
使用する場合、溶媒として、トルエン、キシレン、ヘキ
サン−トルエン混合物なくか好ましい。
重合温度は、通常、−78〜O℃、好ましくは−50〜
−30℃である。
このアニオン1合は、リビング重合であるので、新規高
分子物質の分子量を所望の程度にまで自由に2gltM
することができるが、その分子量が高くなるとテトラヒ
ドロフランなどの汎用の重合溶媒に溶解しなくなるので
、新規高分子物質の分子量(GPC法による。)を1.
000〜50,000、好ましくは2,000〜30,
000に調節しておくのが望ましい。
このアニオン重合は、tJ述のようにリビング重合であ
るから、新規高分子物質を得るときには。
アルコール等でポリマーの末端をM釦しておくのが望ま
しい。
この発明に係る新規高分子物質は、溶媒で容易に分解さ
れずに安定である。しかも、光学活性な重合触媒を使用
したアニオン重合により製造されたこの発明に係る訴規
高分子uj賀は、たとえば光学分割剤として有用である
。たとえば、α−置換ベンジルアルコール、α−フェニ
ルエチルアミン、トレガー塩基などのラセミ体をこの発
明に係る新規高分子物質を用いたクロマト法などにより
光学分割することができる。
また、この新規高分子物質は、合成反応中に存在させる
ことにより、不斉合成の場として利用することもできる
なお、この発明に係る新規高分子物質は、共重合可能な
他の七ツマ−を含有していても良い、共重合可能な七ツ
マー含有量は、七ツマ−の種類にもよるが、通常、20
モル%以下である。この場合、共重合可能なモノマーと
しては、スチレンおよびその銹導体、ブタジェンなどの
共役ジエン類、メタクリル酸エステルなどが挙げられる
。もちろん、共重合体としては、ブロック共重合体、グ
ラフト共重合体であっても良い。
[発明の効果〕 この発明によると、光学分割剤として、あるいは不斉合
成の場として有用な、光学活性の新規高分子物質を提供
することができる。
[実施例] (参考例) メタクリル酸8−トリブチセニルの合成第1図に示すよ
うに、アントロン[gl  1.0gと無水酢酸3.5
当量とを、ピリジン中で、100℃に加熱しながら16
時間反応させて、81%の収率でアントラセンアセテー
トリ]を得た。このアントラセンアセテートU】 と3
.0当Qノn −C4H9ONOとを、1.2−ジクロ
ルエタン中で、加熱還流し、その中へアントラセンアセ
テート[3] に対して2.54当量の0−7ミノ安息
香酸のTHF溶液を4時間かけて加え、40%の収率で
化合物【±1を得た。この化合物[41の前記混合溶媒
溶液に次に、リチウムアルミニウムハイドライドを無水
THF溶液中に分散攪拌し、その中に前記化合物口1の
無水THF溶液を滴下し、1時間室温で反応させて、化
合物[51を収率98%で得た。
この化合物[51にブチルリチウムを反応させてリチウ
ム化してからメタクリル酸クロリドを反応させて、標記
のモノマーを収率88%で得た。
メタクリル酸9−トリブチセニルの構造と物性IH−N
MRスペクトル(CDC交3.9P■);CHs;2.
28(3H,s)、Ha;5.37(lH9s)。
)1b ;5.83(IH,br、り、He;8.81
(1M、br、s)。
芳香族水素; 8.87〜7.63(12H,層)I 
R(KBr、cm−1); 173B、lB53 UV(シクロヘキサン); 入wax  = 2H,5+m(ε−2400)、入、
□X  = 278.5n■(@−2900)融点:2
18〜219℃  無色結晶 (実施例1) 内部を高減圧にした反応容器に、十分に精製したメタク
リル酸8−トリブチセニルlOQmgおよび十分に精製
したT HF 2 m lを仕込み、次いでN−n−プ
ロピルアニリンのTHF溶液にn−ブチルリチウムを加
えて調製した触媒溶液(ブチルリチウム:N−n−プロ
ピルアニリン= 1 : 1.2)(0,5m文、0−
03mm0交)を仕込み、−40℃で重合反応を開始し
た。同温度で38時間かけて攪拌下にt合を行なった。
その後、反応容器の内容物に少量のメタノールを添加し
て、成長末端を失活させ1反応容器の内容物をメタノー
ル中に投じて生成ポリマーを沈澱させた。
生成ポリマーを濾取した後、メタノールで十分に洗浄し
、50℃に加熱しながら減圧乾燥した。
このポリマーは、その収量が90mg(収*90%)で
あり、THFに可溶であった。
このポリマーは、以下の諸データから、以下の構造式 を有する、この発明に係る新規高分子物質であることが
明らかである。
Mn(GPC法)  :2,400 Mw/Mu  (//)   : 1.14I R(K
Br、cm−’)  : 1,747.1458UV 
(THF)   ; 入5all= 269.0Hm(
ε−2880)入@JX  = 277.0Hm(G 
=3220)TG (5°に7分):370℃(10%
重量減)(実施例2) n−ブチルリチウムのトルエン溶液に(+〕−2,3−
ジメトキシ−1,4−ビスジメチルアミノブタン[(+
)−DDBと略]を加えて調製した触媒溶液(n−ブチ
ルリチウム/ (+)−DDB= l :1.2 ) 
 (0,5ml、0.03m m o n )を使用し
た他は前記実施例1と同様の重合操作を行なって、ポリ
マー70mgを11)た、このポリ了−のTHF可溶性
部のデータを以下に示す。
このTHF可溶のポリマーは、以下の諸データから、こ
の発明に係る新規高分子物質であることが、明らかであ
る。
Mn(GPC法):4,800 M1l/M!l  (/’)   : 1.3G[α]
、 o      : −5° (τ)IF、C=(1
,2)I R(KBr、c[1)  + 1,747,
1458U v (THF)    ;  入saw 
 = 269.Onm(ε =2880)入lax  
= 277、On層(ε=3220)TG (5°に7
分):370℃(10%重量減)
【図面の簡単な説明】
第1図はこのirJ]の新規高分子物質を製造するため
の七ツマ−の製造工程を示す説明図である。 ・11 1−r 1 I/

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるモノマー単位を有することを特徴とする新規
    高分子物質。
  2. (2)数平均分子量が1,000〜50,000であり
    、分散度(Mw/Mn)が1.5以下であり、テトラヒ
    ドロフラン中で測定した比旋光度[α]^2^0_Dが
    絶対値として3°以上であるる前記特許請求の範囲第1
    項に記載の新規高分子物質。
JP61261696A 1986-11-01 1986-11-01 新規高分子物質 Granted JPS63117013A (ja)

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