JPS63114512A

JPS63114512A - 制御盤

Info

Publication number: JPS63114512A
Application number: JP61256826A
Authority: JP
Inventors: 大助小林; 勝己松本; 栗原　敏夫; 実小倉
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1986-10-30
Filing date: 1986-10-30
Publication date: 1988-05-19
Also published as: JPH0556088B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の目的〕（産業上の利用分野）この発明は、例えば原子力発電所内の中央制御２ＩＪ至
に設置される制御盤の改良に関する。

（従来の技術）原子力発電プラントの中央制御室には、多数の制ｔ２１
Ｉ５１３が設置される。各制御盤は金属製キャビネット
に複数の開口を形成し、この開口にデジタル計器やアナ
ログ甜器、グラフィックパネルおよび操作スイッチ等が
取り付けられ、さらにキャビネット内部に制御機器が格
納されて構成される。

制御機器は、各種計器やグラフィックパネルに表示信号
を出力し、操作スイッチからの制御信号を入力するもの
であり、各種リレー、アンプおよび電源回路等から構成
される装このように、制御盤には各種計器等が配設されるので、
これらの計器の寸法や数、グラフィックパネルの表示面
積および制ｔ２Ｉ１機器の設置スペース等によって制御
盤が大型化してしまう。そのため、製造コストが上昇し
、また中央制御室にお（）る制御盤の設置スペースも大
きなものとなる。

さらに、制御盤は複数台が１つのユニットとなって、プ
ラントの一システム（例えば非常用炉心冷却系、原子炉
再循環系等のうちの一系統）を制御し、そのプラント状
態を表示するよう構成される。１つのユニットを構成す
る各制御盤は、そのユニットの制御・表示対象となるー
システムの各構成要素や各構成システム等のプラント状
態をそれぞれ表示し、その構成要素等を制御するよう設
けられる。例えば、原子炉再循環系等の場合、各制御盤
は再循環ポンプ、可変周波数電源装置等を個別に制御し
、その状態を個別に表示するよう設けられる。したがっ
て、中央ｔｉｌｌ　ｍ室には制御盤が多数設置されるこ
とになる。このことからもコストの上昇および制御盤の
設置スペースの増大がもたらされる。

また、制ｉ盤の製造過程において、キャビネットへの別
器等の配設位置を設計変更する場合には、キャビネット
の開口位置および開口寸法等に多大な変更をしなければ
ならない。このような段別変更をＣＡ　Ｄ／ＣＡＭ　（
Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ａｉｄｅ＋ｊ　［１ｅｓｉａｎ　／
Ｃｏ１ｐｕｔｅｒ　Ａｉｄｅｄ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒ
ｉｎｇ）およびＦＡ（Ｆａｃｔｏｒｙ　Ａｕｔｏｎ＋ａ
ｔｉｏｎ）によって行なうとしても、その設計変更に多
大な労力が必要となる。

さらに、制御盤に格納された制御機器には、トランスや
増幅器等のように運転中発熱するものがあり、これらを
冷却する必要がある。ところが、制御盤が多数設置され
て、中央制御室の設置スペースが広くなっているので、
広いスペースを冷却しなければならない。そのため、空
気調和装置の冷却言回を大きくしなければならない。

（発明が解決しようとする問題点）上述のように、従来の制御盤は大型でかつ製造コストが
高く、広い設置スペースが必要となるという問題点があ
る。

この発明は、上記事情を考慮してなされたものであり、
コンパクトで製造コストが低く、制御室での設置スペー
スの小さな制御ｌ盤を提供することを目的とする。

（発明の構成）（問題点を解決するための手段）この発明は、プラント状態を表示し、運転員がプラント
を操作する表示・操作専用盤と、この表示・操作専用盤
へ表示信号を出力し、この表示・操作専用盤から操作信
号を入力する制御機器が格納された制御機器専用盤とを
有して構成され、上記表示・操作専用盤にはそのキャビ
ネットに液晶表示部が設けられ、この液晶表示部にて多
種類のプラント状態が表示され得るよう構成されたもの
である。

（作用）したがって、この発明に係る制御盤は、プラント状態を
液晶表示部にて表示するためアンプ等の制御機器を小型
化することができるとともに、１つの液晶表示部に多種
類のプラント状態を表示できることから表示操作盤の数
を減少することができる。それ故、制御盤のコンパクト
化および製造コストの低減並びに制御盤設置スペースの
低減を図ることができる。

（実施例）以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第４図に示す原子力発電プラント等のプラントの中央制
御室３には、多数の制御ｌ盤５が設置される。これらの
制御盤５は、第１図および第２図に示す表示・操作専用
盤５Ａと第４図に示す制ｔｏ１機器専用１５Ｂとからも
１成される。表示・操作専用盤５Ａはプラント状態を表
示し、運転員がプラントを操作する専用盤である。また
、制御機器専用盤５Ｂは、表示・操作専用盤５Ａへプラ
ント状態態等の表示信号を出力し、かつ表示・操作専用
盤５Ａからの操作信号を各ブラント礪器へ出力するもの
である。　表示・操作専用ｆｆ１５Ａは、第１図および
第２図に示すように、キャビネット７に液晶表示部９お
よび電子式タッヂスイッヂ１１が取り付けられ、キャビ
ネット７内にＬ　Ｓ　Ｉ　（Ｌａｒｇｅ　５ｃａｒｅ　
ｒｎｔｅ−Ｂａｔｅｄ　Ｃ１ｒｃｕｉｔ）回路基盤１３
および表示パターン記憶素子１５が収容されて構成され
る。キャビネット７は、プラスチック等の合成樹脂にて
形成される。また、液晶表示部９、ＬＳＩ回路基盤１３
および表示パターン記憶素子１５は接続ケーブル１６に
よって接続される。

表示パターン記憶素子１５には、プラントシステムの構
成要素あるいは構成システムに関する計器およびグラフ
ィックパネル等のパターンが各構成要素等毎に記憶され
ている。例えば、原子炉再循環系のポンプや可変周波数
電源装置あるいは非常用炉心冷却系の低圧炉心スプレィ
系や高圧炉心スプレィ系等の各パターンがパターン毎に
記憶される。　ＬＳＩ回路基！１１１３は電子式タッチ
スイッチ１１からの選択信号によって、表示内容記憶素
子１５に記憶されたパターンのうち選択されたパターン
を液晶表示部９に表示させる機能を有する。さらに、Ｌ
ＳＩ回路基盤１３は、制御機器専用盤５Ｂの後述のｔｉ
ｌｌ　ｔｉｌ１機器２３から出力されるブランド状態信
号を液晶表示部９へ表示させるとともに、電子式タッチ
スイッチ１１からの操作信号を上記υＩｔｌｌｌ！３２
３へ出力させる機能を有する。

したがって、液晶表示部９には多種類のプラント状態が
表示される。

ＬＳＩ回路基５１１！１３は支持金具１７によって支持
される。また、支持金具１９によってバックランプ２１
が支持される。このバックランプ２１は、液晶表示部９
の表示をより一層明瞭にさせるものである。

一方、第４図に示す制御機器専用盤５Ｂは、１組または
複数組の制御機器２３が格納されて構成される。１組の
制ｗＪ機器２３は各種リレー、アンプ、ｌ・ランスおよ
びその他の電気回路等から成る。

この１組の制御機器２３は、表示パターン記憶素子１５
に記憶された１つのパターンに対応する。

したがって、例えば、表示パターン記憶素子１５から原
子炉再循環系の再循環ポンプが選択されて液晶表示部９
にそのパターンが表示されたときには、制ｔ１１１！！
３２３はプラントの原子炉再循環ポンプからプラント状
態を入力し、表示信号としてＬＳＩ回路基盤１３へ出力
し、液晶表示部９に表示させる。さらに、１ｌｉｌ＋御
機器２３は電子式タッチスイッチ１１からの操作信号を
ＬＳＩ回路基盤１３を介して入力し、プラントの再循環
ポンプへ出力する。また、−組の制ｔｌｌｌＩ！！ｌ器
２３のうちトランスや増幅器等の発熱体は、別個の制御
機器専用盤５Ｂ内にまとめて格納される。

さて、制御機器専用盤５Ｂは第４図に示すように、直方
体の各辺に沿って組み立てられた主枠２５と、この主枠
２５の長手方向に取り付けられた取付枠２７と、主枠２
５の長手方向に対し直角方向に取り付けられた支持枠２
９とからフレームが構成され、このフレームに金属板３
１が貼着されて外壁が形成される。制御Ｉ１機器専用盤
５Ｂは、この外壁の内部に１組または複数組の制御機器
２３が格納されたものである。

制御機器２３は基板３３に固定され、この基板３３が取
付枠２７を介して主枠２５に支持される。

制御機器２３の構成機器（アンプや各種リレー等）は、
接続ケーブル３５によって互いに接続される。

この接続ケーブル３５は、中央制御室３（第１図参照）
の床下を通って表示・操作専用盤５ＡのＬＳＩ回路基盤
１３に接続される。接続ケーブル３５は、制御機器専用
盤５Ｂ内では、盤内配線ケーブルトレイ３７に覆われる
。盤内配線ケーブル１〜レイ３７は支持枠２９に支持さ
れる。

また、制ｔａ＋＋機器２３のうち主要な構成機器は、信
号ケーブル３９によっても互いに接続される。

この信号ケーブル３９も盤内配線ケーブルトレイ３７に
覆われ、中央制御室３の床下を通って表示・操作の用盤
５ＡのＬＳＩ回路基盤１３に接続される。この信号ケー
ブル３９は、接続ケーブル３５に対しフェールセーフの
機能を果す。

第１図に示すように、中央制御室３内は隔離板４１によ
って２またはそれ以上の部屋（第一図では部屋４４．４
５）に区分される。制御様器専用１５Ｂのうちトランス
や増幅器等の発熱体が格納されたものは、１つの部屋４
５にまとめて設置される。制御機器２３のうち発熱体以
外の構成機器が格納された制御様器専用盤５Ｂおよび表
示・操作専用盤５Ａは、他の部屋４４に設置される。な
お、符号４３は従来の制御盤であり、制ｔｉｌｌ盤内に
発熱する機器が格納されている。そのため、従来の制御
盤４３は、部屋４５内に設置される。トランス等の発熱
体が格納された制ｔ１１機器専用盤５Ｂの部屋４５は、
空気調和装置によって集中的に冷却され得るよう設けら
れる。

上記実施例によれば、液晶表示部９によってプラント状
態を表示することから、ＣＲＴ　（Ｃａｔｈ−ｏｄｅ　
Ｒａｙ　Ｔｕｂｅ）表示装置等による表示の場合に比べ
、表示・操作専用盤５Ａを小型化できる。また、制御機
器２３（アンプ等）もＣＲＴ表示装置の場合に比し小型
化できることから、制御機器専用盤５Ｂもコンパクト化
できる。このように制御ａｌ１５をコンパクト化できる
ので、制御　ａ　５の製造コストを低減できるとともに
、中央制御室３における制御ＩＩ盤５の設置スペースを
減少することができる。

また、液晶表示部９に多種類のプラント情報を表示でき
ることから、表示・操作専用１５Ａの個数を低減できる
。そのため、制御Ｉ盤５の製造コストを低減できるとと
もに、中央設置室３における制御盤５の設置スペースを
減少することができる。

また、表示・操作専用盤５Ａのキャビネット７がプラス
チック等の合成樹脂で形′成されることから、金Ｒ製キ
ャビネットに比ベコストをより一層低減できる。

さらに、表示パターン記憶索子１５に記憶されたパター
ンの表示内容の変更、例えば表示される計器位置の変更
はＬＳＩ回路基盤１３のロジックを変えるだけでよい。

また、設計変更によっても、液晶表示部９のキャビネッ
トへの配設位置は変らず、リード線の穴位置を変更する
程度で足りる。

その結果、設計変更に対しても容易に対処することがで
きる。

また、制御機器専用！１Ｉ５Ｂのうち発熱体が格納され
た専用盤を隔離板４１で隔てた部屋４５にまとめて１４
ｆｆｆしたことから、この部屋４５を集中的に冷却すれ
ばよい。そのため、空気調和装置の冷却容量を低減する
ことができる。

また、表示・操作専用盤５Ａの操作スイッチが電子式タ
ッチスイッチ１１により構成されたことから、従来の機
械式操作スイッチの場合に比べ接点の摩耗等の故障がな
く、品質の向上を図ることができる。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明に係る制御盤によれば、表示・
操作専用盤と制御機器専用盤とを有して構成され、表示
・操作専用盤にはそのキャビネットに液晶表示部が設け
られ、この液晶表示部にて多種類のプラント状態が表示
され１９るよう設けられたことから、表示・操作専用盤
および制御機器専用盤を小型化できるとともに、表示・
操作専用盤の数を減少することができる。その結果、制
ａｌｌ盤のコンパクト化および製造コストの低減を図る
ことができ、制御室における制ｔｌＩＩａの設置スペー
スを減少できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る制御盤の表示・操作専用盤の一
実施例を一部を切欠いて示す斜視図、第２図は第１図の
表示・操作専用盤の断側面図、第３図はこの発明に係る
制御盤の制御機器専用盤の一実施例を示す斜視図、第４
図は中央制御室を示す斜視図である。３・・・中央制御室、５・・・制御盤、５Ａ・・・表示
・操作専用盤、５Ｂ・・・制御機器専用盤、７・・・キ
ャビネット、９・・・液晶表示部、１３・・・ＬＳＩ回
路基盤、１５・・・表示パターン記憶素子、２３・・・
制御機器、４１・・・隔離板。代理人弁理士　　則　近　恵　佑同　　　　　　　　三　　俣　　弘　　文第　１　目　
　　　　　　　塾２図第３　図

Claims

【特許請求の範囲】１、プラント状態を表示し、運転員がプラントを操作す
る表示・操作専用盤と、この表示・操作専用盤へ表示信
号を出力し、この表示・操作専用盤から操作信号を入力
する制御機器が格納された制御機器専用盤とを有して構
成され、上記表示・操作専用盤にはそのキャビネットに
液晶表示部が設けられ、この液晶表示部にて多種類のプ
ラント状態が表示され得るよう構成されたことを特徴と
する制御盤。２、表示・操作専用盤のキャビネットは合成樹脂から構
成された特許請求の範囲第１項記載の制御盤。３、制御機器専用盤のうち発熱する制御機器を格納した
専用盤が、他の制御機器専用盤および表示・操作専用盤
と隔離して制御室に設置され、集中的に冷却可能に設け
られた特許請求の範囲第１項または第２項記載の制御盤
。