JPS63113B2 - - Google Patents

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JPS63113B2
JPS63113B2 JP21437084A JP21437084A JPS63113B2 JP S63113 B2 JPS63113 B2 JP S63113B2 JP 21437084 A JP21437084 A JP 21437084A JP 21437084 A JP21437084 A JP 21437084A JP S63113 B2 JPS63113 B2 JP S63113B2
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JP
Japan
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solution
liquid
coating
fine particles
container
Prior art date
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Expired
Application number
JP21437084A
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English (en)
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JPS6193855A (ja
Inventor
Hisao Nishizawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP21437084A priority Critical patent/JPS6193855A/ja
Publication of JPS6193855A publication Critical patent/JPS6193855A/ja
Publication of JPS63113B2 publication Critical patent/JPS63113B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ロールによるフオトレジスタ液等の
液を、基板上に塗布するために使用されるロール
コータ等の塗布装置に関し、特に、均一な塗布を
行うための装置に関する。
(従来技術) 半導体やその他の基板、例えば、サーマルヘツ
ドの製造等に用いられるガラス基板上の金属膜等
の表面に、所望のパターンを作成するために必要
なフオトレジスト液等の液を塗布するためのロー
ルコータは、公知である。
このロールコータAは、第4図の断面図にその
概略を示すように、フオトレジスト液30を、コ
ーテイングロール31とメータリングロール又は
ドクターロール32との接合部上部に供給し、ド
クターロール32の、コーテイングロール31に
対する当接圧によつて、コーテイングロール31
上に塗布される液量を調整し、コーテイングロー
ル31とバツクアツプロール33との間に挿入さ
れる基板34の表面に、所定の膜厚のフオトレジ
スト液30を塗布するような構造になつている。
なお、同図では、基板34は、搬送ロール35
に載置されて搬送され、かつコーテイングロール
31とバツクアツプロール33との間に挿入され
て、搬送される如く、図示されているが、基板3
4を、例えば図示しない基板載置台に載置し、ロ
ールコータAおよび載置台そのものを、相対移動
させてもよい。この場合、バツクアツプロール3
3は不用となる。同図中、36は液供給装置を示
す。
かかるロールコータAによつて、例えば、ほぼ
1μmの厚みのアルミニウム等の金属薄膜を蒸着し
た基板34の金属薄膜表面に、数μmのフオトレ
ジスト液を塗布すると、基板34の塗布面に、ピ
ンホールや線状のムラやシワが、波状に発生する
ことがある。
この原因の1つは、コーテイングロール31の
表面に刻設した溝の形状に応じて、フオトレジス
ト液30が、コーテイングロール31から基板3
4の表面に転写されるため、特に粘度の高い塗布
液の場合、基板34の表面で、塗布液が即時に均
一な膜厚にならないことによると考えられる。
また、コーテイングロール31の周囲の温度や
湿度等の雰囲気条件により、基板表面に塗布され
た液が局所的に乾燥するため、基板表面に、該基
板表面の塗布液膜が均一化された部分と、ロール
の溝形状がそのまま残存した部分とが生じること
も、原因の1つと考えられる。
さらに、基板表面の清浄度によつても影響を受
け、また、基板表面の金属薄膜と、塗布液との関
係、例えば表面張力等によつても影響を受ける。
そこで本出願人が出願した特願昭58−75626号
(特開昭59−203665)に記載されているように、
ロールコータを複数段連設し、予め粘度の低い塗
布液を塗布した後、粘度の高い塗布液を塗布する
ことにより、均一な塗布を行う方法が提案されて
いる。
(本発明が解決しようとする問題点) 基板表面に、ロールコータ等の塗布装置にて、
フオトレジスト液等の塗布液を塗布する際、基板
表面の液膜に発生するピンホールや線状のムラ
や、波状のシワを防ぐために、ロールコータを複
数段、連設することは、装置的に大規模となる問
題がある。
本発明は、従来以上に簡易な装置とし、かつ、
シワ、ムラ、又はピンホール等の発生を確実に防
ぐようにすることが目的である。
(問題点を解決するための手段) 本発明では、上つて目的を達成するため、基板
表面に塗布するべきフオトレジスト液等の塗布液
を溶解するような液(以下、溶解液と称する。)
を、加熱、バブリング、又はスプレー等の手段に
て、微粒子もしくは蒸気、あるいはそれらを混合
して、微細粒子化し、その微細粒子を、ロールコ
ータの直前もしくは直後において、例えば加圧気
体によつて圧送する手段等により、基板表面に供
給するようにした塗布装置が提供される。
(作 用) ロールコータAのコーテイングロールの表面に
切設した溝内の塗布液を、基板の表面に転写させ
て、基板の表面に塗布液を塗布する際、予め基板
の表面に塗布液に対する溶解液の微細粒子を吹き
付けているため、コーテイングロール表面の溝形
状に応じて、基板表面に転写された塗布液は、基
板表面上で溶解して、レベリング作用を生じ、ほ
ぼ均一な塗布面を形成することができる。
なお、ロールコータAの直後に、塗布液に対す
る溶解液の微細粒子を吹きつけると、ノコギリ歯
状に塗布された塗布液の表面が乾燥する前に、微
細粒子により、同様のレベリング作用を受け、そ
の塗布面は均一となる。
(実施例) 第1図は、本発明に係る塗布装置の一実施例を
示すもので、ロールコータAと、微細粒子噴出手
段1、及び該微細粒子噴出手段1へ溶解液の微細
粒子を供給するための手段2とが図示されてい
る。
なお、第1図の実施例におけるロールコータA
の部分には、前述の従来例を示す第4図と同一の
符号を付してある。また、図面における搬送用ロ
ール35は、無端ベルトに代えることもできる。
第1図の実施例においては、まず基板34がロ
ールコータAに挿入される直前に、微細粒子噴出
手段1のスリツト3を付設し、基板35の表面に
予め塗布液30に対する溶解液の微粒子または蒸
気、あるいはこれらが混合した微細粒子を供給
し、次に、ロールコータAで所要の塗布液30を
塗布する。
微細粒子噴出手段1のスリツト3は、これに限
定されるものではなく、ノズルであつてもよく、
また、第2図に示すようなトンネル型(箱型)の
チヤンバーでもよい。要するに、基板表面全体に
溶解液の微細粒子が供給されるような形状であれ
ばよい。
なお、第1図において、仮想線図示の如く、微
細粒子排気口13を、ロール35の下側適所に付
設しておくと、基板34がないときに、微細粒子
を回収することができる。
また、第1図に仮想線で示す如く、微細粒子噴
出手段1は、ロールコータAの直後に付設しても
直前に付設したとほぼ同等の効果を得ることがで
きる。
次に、第1図に示す微細粒子供給手段2は、ほ
ぼ密閉され、溶解液6が所定量収納された容器4
と、その溶解液6を循環圧送するポンプ7等の圧
送手段と、ポンプ7により、溶解液6を容器4内
の空間5にスプレーするノブル8と、容器4に空
気又は不活性な加圧気体を導入する管9と、容器
4より前記微細粒子噴出手段1に連通した配管1
0とからなる。
容器4内の空間5に、スプレー又はバブリング
によつて発生した微細粒子は、管9に導入された
加圧気体の圧力により、微細粒子噴出手段1のス
リツト3に送られ、基板35の表面に供給され
る。
管9の下端は、溶解液6の液中に設けられ、そ
の管9の端部に多孔性の気泡発生器11が設けら
れて、容器4内の加圧と液のバブリングとが行な
われる。
第3図は、本発明に係る塗布装置に使用される
微細粒子供給手段2′の他の実施例を示すもので、
容器4′内に蓄えられた溶解液6′を加熱するため
のヒータ12を、容器4′内に付設し、それによ
り、溶媒を適当温度に加熱しながら、加圧気体導
入配管9′により、容器4′内の溶解液6′をバブ
リングする。
適度に加熱された溶解液6′は、気泡発生器1
1′のバブリングにより、容易に蒸気等に微細粒
子化して、空間5′を満たし、その蒸気等の微細
粒子は、微細粒子供給配管10′により、第1図
の微細粒子噴出手段1のスリツト3に供給され
る。
なお、上記した実施例において、微細粒子供給
手段2及び2′の供給配管10及び10′からスリ
ツト3に至る配管途中に、配管中液化した微細粒
子を除去するトラツプ14を設ける方が好まし
い。
(効 果) (1) 従来、ロールコータによる液塗布時に発生し
た基板表面の塗布液膜の波状シワ、線状ムラ、
又はピンホール等の発生を防ぐことができ、塗
布基板の品質が向上し、最終製品の歩留りが、
大幅に向上する。
(2) 簡単な装置で、ロールコータによる液塗布時
に発生する不都合を解消することができる。
(3) 特別の処理液等を必要としない。
(4) ロールコータの前又は後のいずれにおいて
も、容易に実施可能であり、既設装置への適用
性が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の1実施例を示す縦断面図、
第2図は、第1図における微細粒子噴出手段の具
体的実施例を示す斜視図、第3図は、微細粒子供
給手段の他の実施例を示す縦断面図、第4図は、
従来のロールコータの縦断面図である。 1……微細粒子噴出手段、2……微細粒子供給
手段、3……スリツト、4……容器、5……空
間、6……溶解液、7……ポンプ、8……ノズ
ル、9……管、10……配管、11……気泡発生
器、12……ヒータ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基板表面に所要の塗布液を塗布するロールコ
    ータと、該ロールコータの前後いずれかに設けら
    れ、当該ロールコータに搬入または搬出される前
    記基板の表面に、微粒子化もしくは蒸気化され
    た、塗布液に対する容解液を噴出する微細粒子噴
    出手段と、塗布液に対する容解液から、それの微
    細粒子を発生させ、かつ、前記微細粒子噴出手段
    へ溶解液の微細粒子を送出する微細粒子の供給手
    段とからなる塗布装置。 2 微細粒子供給手段を、ほぼ密閉され、塗布液
    に対する溶解液が所定量収納された容器と、その
    溶解液を微細粒子化する手段と、容器に空気又は
    不活性な加圧気体を導入する管と、容器より微細
    粒子噴出手段に連通した配管とで構成した、特許
    請求の範囲第1項に記載の塗布装置。 3 溶解液を微細粒子化する手段を、容器内の液
    中と空間とに溶解液を循環圧送するポンプと、該
    空間に溶解液をスプレーするためのノズルとで構
    成した、特許請求の範囲第2項に記載の塗布装
    置。 4 溶解液を微細粒子化する手段を、気泡発生器
    とした、特許請求の範囲第2項記載の塗布装置。 5 溶解液を、適当温度に加熱するための加熱ヒ
    ータを、容器所要部に付設した特許請求の範囲第
    2項乃至第4項のいずれかに記載の塗布装置。
JP21437084A 1984-10-15 1984-10-15 塗布装置 Granted JPS6193855A (ja)

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JP21437084A JPS6193855A (ja) 1984-10-15 1984-10-15 塗布装置

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JP21437084A JPS6193855A (ja) 1984-10-15 1984-10-15 塗布装置

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JPS6193855A JPS6193855A (ja) 1986-05-12
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