JPS63113454A - カラ−拡散転写写真感光要素 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はカラー拡散転写写真感光要素に関するものであ
シ、特に新規な現像抑制剤放出化合物を含有するカラー
拡散転写写真感光要素に関する。

（従来の技術） 力２−拡散転写写真感光要素には、カブリ（最低濃度＝
Ｄｍｉｎｉ以下Ｄｍｉｎと称す）が低くて画面内白地の
きれいな画像を得るために、種々のカブリ防止技術を用
いることが知られておシ、中でも現ｒ象抑制剤またはそ
のプレカーサー（前駆体）を用いることが代表的である
。

現像抑制剤（プレカーサーを含む）の例としては、特開
昭ｊｏ−ｒり０３４ｃ、同ｊ＄−／！！１３７、同６０
−タｊ！ＪＰ、同６０−ハ１７３７等に記載されている
。

（発明が解決しようとする問題点） 前記の如き現像抑制剤またはそのプレカーサーを用いる
方法では、充分なカブリ抑制効果を得ようとすると、必
要な現像をも抑制してしまう弊害があった。即ち、強い
現像抑制剤を用いたシ、多量の現像抑制剤を用いると、
現像銀量が大巾に低下したシ、現像速度が大巾に遅れる
のが通例であった。直接反転乳剤と銀現像によって色素
を放出する色素放出レドックス化合物を用いるカラー拡
散転写法においては、Ｄｍａｘ低下および、画像完成速
度の遅れとして表われる。画像完成速度の遅れは、すぐ
に絵ができる即時性が重要なインスタント写真では主命
的な欠陥となる。

このような弊害のない有効な現像抑制剤の開発が従来か
ら強く望まれていた。

（発明の目的） 本発明の目的は、第１に画像完成速度を遅らさずに、Ｄ
ｍｉｎを下げる新規な現像抑制剤を開発することであシ
、第一に上記現像抑制剤を含有するＤｍｉｎの低いカラ
ー拡散転写法用写真感光要素を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明者らは鋭意検討した結果、本発明の上記目的が以
下の感光要素で効果的に達成されること□を見出した。

即ち支持体上にハロゲン化銀乳剤、色素放出レドックス
化合物、色素受像層を有するカラー拡散転写写真感光要
素において、下記一般式（１）で示される化合物を含有
することを特徴とするカラー拡散転写写真感光要素。

（Ｉ） 式中、ＥＡＧは還元性物質から電子を受は取る基を表わ
す。ＮおよびＯはそれぞれ窒素原子、酸素原子を表わす
。Ｒ１、Ｒ２は水素原子以外の置換基を表わす。Ｒ１も
しくはＲ２が＋Ｔｉｍｅ＋ｒＤＩＧと結合している場合
には単なる結合手または水素原子以外の置換基を表わす
。Ｒ１とＲ２は互いに結合して環を形成してもよい。

Ｔｉｍｅは式中の窒素−酸累一重結合の開裂をひきかね
として後続する反応を介してＤＩＧを放出する基。

ＤＩＧは、放出の結実現像抑制剤となる部分を表わす。

ｔはＯまたはｌの整数を表わす。

また式中実線は結合を、破線は少なくとも一つが結合し
ていることを表わす。

一般式（１）で示される化合物は現像抑制剤放出化合物
であり、その特性を高め、また合成上の自由度を上げる
ためには、さらに式（ｎ）で表わされる化合物であるこ
とが好ましい。

（Ｉｆ）　　　Ｒ３− ０、）”　”　”、（Ｔ　ｉｍｅ＋１−ＤＩＧゝ、 式中Ｒ３は窒素原子、酸素原子と結合し、３ないしｔ員
の単環あるいは縮合した複素環を形成するのに必要な原
子群を表わす。他の式の意味は一般式（Ｉ）と同じであ
る。

本発明の化合物は、処理中に共存する還元性物質によっ
て還元されることで窒素−酸素原子結合が開裂し、引続
いて起る電子移動を介して現像抑制剤を放出するもので
あシ、一方の銀現像が充分に起る部分では、共存する還
元性物質が少なくなるために還元されず現像抑制剤は放
出しないものである。

本発明の化合物について、さらに詳しく述べる。

ＤＩＧで表わされる現像抑制剤は、従来から公知のもの
はいずれも用いることが出来る。

現像抑制剤の例として、ヘテロ環に結合するメルカプト
基を有する化合物例えば、置換あるいは無置換のメルカ
プトアゾール類（具体的にはｌ−フェニル−よ−メルカ
プトテトラゾール、／−（≠−カルボキシフェニル）−
よ−メルカプトテトラソール、／−（Ｊ−ヒドロキシフ
ェニル）−！−メルカフトテトラゾール、７−（ｐ−ス
ルホフェニル）−ｊ−メルカプトテトラゾール、／　−
（３−スルホフェニル）−！−メルカゾトテトラゾール
、／−（≠−スルファモイルフェニル）−！−メルカプ
トテトラゾール、／−（ｊ−ヘキサノイルアミノフェニ
ル）−よ−メルカプトテトラゾール、ｌ−エチル−よ−
メルカプトテトラゾール、ｔ−（，２−カルボキシエチ
ル）−ｊ−メルカプトテトラゾール、コーメチルチオー
！−メルカプト−７，３，≠−チアジアゾール、λ−（
λ−カルボキシエチルチオ）−！−メルカプト−７゜３
、弘−チアジアゾール、３−メチル−弘−フェニル−よ
一メルカプトー／、２．≠−トリアゾール、Ｊ−（，２
−ジメチルアミンエチルチオ）−よ−メルカプト−／、
３，４Ａ−チアジアゾール、／−（弘−ｎ−ヘキシカル
ボパモイルフェニル）−コーメルカブトイミダゾール、
３−アセチルアミノ−弘−メチル−！−メルカプトー／
、λ、≠−トリアゾール、コーメルカプトベンツオキサ
ゾール、コーメルカプトベンツイミダゾール、コーメル
カブトベンゾチアゾール、λ−メルカプトーを一二トロ
ー／、３−ベンツオキサゾール、１−（ｌ−す７チル）
−！−メルカプトテトラゾール、コーフェニルー！−メ
ルカプト−７，３，≠−オキサジアゾール、／−（Ｊ−
（ｊ−メチルウレイド）フェニル）−よ−メルカプトテ
トラゾール、／−（４ｔ−二トロフェニル）−よ−メル
カプトテトラゾール、！−（２−エチルヘキサノイルア
ミン）−２−メルカプトベンツイミダゾールなど）、置
換あるいは無置換のメルカプトアザインデン類（具体的
には、６−メチル−≠−メルカプト−７゜！、３ａ、７
−チトラザインデン、乙−メチルーコーベンジルー≠−
メルカプト−／＋Ｊ＋ｊａ＋７−チトラザインデン、６
−フェニル、−弘一メルカプトテトラザインデン、≠、
６−シメチルーλ−メルカプト−／、！、３ａ、７−チ
トラザインデンなど）、置換あるいは無置換のメルカプ
トピリミジン類（具体的にはコーメルカプトビリミジン
、コーメルカプトー≠−メチル−ぶ−ヒドロキシピリミ
ジン、コーメル力プトー≠−プロピルピリミジンなど）
などがある。イミノ銀生成可能なヘテロ環化合物、例え
ば置換あるいは無置換のベンゾ）　ＩＪアゾール類（具
体的には、ベンゾトリアゾール、！−二トロベンゾトリ
アゾール、！−メチルベンゾトリアゾール、！、Ａ−ジ
クロルベンゾトリアゾール、ｊ−ブロモベンゾトリアゾ
ール、ターメトキシベンゾトリアゾール、！−アセチル
アミノベンゾトリアゾール、ｊ−ｎ−ブチルベンゾトリ
アゾール、！−ユニトロ−６−クロルベンゾトリアゾー
ルｊ、ｔ−ジメチルベンゾトリアゾール、≠、ｊｔ、ｌ
、、７−チトラクロルベンゾトリアゾールなど）置換あ
るいは無置換のインダゾール類（具体的にはインダゾー
ル、！−二トロインダゾール、３−ニトロインダゾール
、３−クロル−！−二トロインタソール、３−シアノイ
ンダゾール、Ｊ−ｎ−ブチルカルバモイルインダゾール
、！−二トロー３−メタンスルホニルインダゾールなど
）、置換あるいは無置換のベンツイミダゾール類（具体
的には、！−二トロベンツィミダゾール、≠−ニトロベ
ンツイミダゾール、ｊ。

ｔ−ジクロルベンツイミダゾール、！−シアノーＡ−ク
ロルペンツイミダゾール、ｔ−ＭＪフルオルメチル−６
−クロルベンツイミダゾールなど）などがあげられる。

また現像抑制剤は現像処理工程において酸化還元反応に
続く反応によシ、一般式（Ｉ）の酸化還元母核から放出
された後、現像抑制性を有する化合物とな如、更にそれ
が、実質的に現像抑制性を有しないか、あるいは著しく
減少した化合物に変化するものであっても良い。

具体的には／−（ｊ−フェノキシカルボニルフェニル）
−！−メルカプトテトラゾール、／−（４ｔ−フェノキ
シカルボニルフェニル）　−ｔ−メルカプトテトラゾー
ル、１−（３−マレインイミドフェニル）よ−メルカプ
トテトラゾール、ｊ−（フェノキシカルボニル）ベンゾ
トリアゾール、ｊ−（ｐ−シアノフェノキシカルボニル
）ベンゾトリアゾール、２−フ二ノΦシカルボ゛ニルメ
チルチオ−よ−メルカプｌ’　　ｔｅ３．≠−チアジア
ゾール、ｊ−二トロー３−フェノキシカルボニルインダ
ゾール、ｊ−フェノキシカルボニルーコーメルカブトベ
ンツイミダゾール、ｔ−（２，３−ジクロルプロピルオ
キシカルボニル）ベンゾトリアゾール、！−ヘンシルオ
キシカルボニルベンゾトリアゾール、ｚ−＜ブチルカル
バモイルメトキシカルボニル）ベンゾトリアゾール、１
−（ブトキシカルボニルメトキシカルボニル）ベンゾト
リアゾール、／−（≠−ベンゾイルオキシフェニル）−
よ−メルカプトテトラゾール、！−（２−メタンスルホ
ニルエトキシカルボニル）−λ−メルカブトヘンゾテア
ゾール、／−（４！　−（２−／ロルエトキシカルボニ
ル）フェニル）−２−メルカプトイミダゾール、λ−Ｃ
３−＜チオフェン−２−イルカルボニル）プロピル〕チ
オー！−メルカプ）−／、ｊ、４Ｌ−チアジアゾール、
！−シンナモイルアミノベンゾトリアゾール、１−（３
−ビニルカルボニルフェニル）−よ−メルカプトテトラ
ゾール、！−スクシンイミドメチルベンゾトリアゾール
、λ−（≠−スクシンイミドフェニル）−ｊ−メルカプ
ト−１，３，≠−オキサンアゾール、３−（≠−（ベン
ゾ−／、２−インチアゾール−３−オキソ−１，／−ジ
オキシーコーイル）フェニル）−！−メルカプトーぴ一
メチルー／１−２１≠−トリアゾール、ｔ−フェノキシ
カルボニルーコーメルカブトベンツオキサゾールなどが
あげられる。

ＥＡＧは、還元性物質から電子を受は取る基を表わし、
窒素原子に結合する。ＥＡＧとしては次の一般式〔Ａ）
又は〔Ｂ〕で表わされる基が好ましい。

一般式（Ａ）　　　　　　　一般式〔Ｂ〕一般式（Ａ）
において、 Ｖｎ’はＺ　１　＋　Ｚ　２とともに３〜ｌ員の環を形
成する原子団を表わしｎ′は３〜ｒの整数を表わすが Ｖ３　；　　Ｚ３−ｒＶ４　；　　ｚａ−ｚ４−ｔｖ５
；−Ｚ３　　Ｚ４　　Ｚ５−ｐＶ６；　　ｚａ　　ｚ４
−ｚ５　ｚ、　　ＩＶ７；　　Ｚ３　　Ｚ４　　Ｚ５−
Ｚ６　　Ｚ７　　＊Ｖ８．−Ｚ３−Ｚ４−Ｚ５−Ｚ、−
Ｚ７−Ｚ８−　　”ｔ’６る。

−８−９あるいは一８Ｏ２−を表わし、Ｓｕｂは単なる
結合（π結合）、水素原子あるいは以下に記した置換基
を表わす。Ｓｕｂはそれぞれが同じであっても、またそ
れぞれが異っていても良く、またそれぞれ互いに結合し
て３〜♂員の飽和あるいは不飽和の炭素環あるいは複素
環を形成しても良い。

一般式［Ａ）では、置換基のハメット置換基定数σ　の
総和が十〇、０り以上、さらに好ましくは＋０．３以上
、最も好ましくは十〇、＋！以上になるようにＳｕｂを
選択する。

Ｓｕｂが置換基の時の例を列挙する。（炭素数はそれぞ
れθ〜≠θ個が好ましい） 置換あるいは無置換のアルキル基（例えばメチル基、エ
チル基、５ｅＣ−ブチル基、ｔ−オクチル基、ベンジル
基、シクロヘキシル基、クロルメチル基、ジメチルアミ
ンメチル基、ｎ−ヘキサデシル基、トリフルオロメチル
基、３＊　３ｔ　ｊ　−ト）クロロプロピル基、メトキ
シカルボニルメチル基など）、置換あるいは無置換のア
ルケニル基（例エハヒニル基、２−クロロビニル基、ｌ
−メチルビニル基など）、置換あるいは無置換のアルキ
ニル基（例えばエチニル基、ｌ−プロピニル基など）、
シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素）、置換あるいは無置換のへテロ環残基（２
−ピリジル基、／−イミダゾリル基、ベンゾチアゾール
−λ−イル基、モルホリノ基、ペンゾオキサゾールーー
ーイル基など）、スルホ基、カルボキシル基、置換ある
いは無置換の７リールオキシカルボニルまたはアルコキ
シカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルメニル基、テトラデシルオキシカルボニル基、
コーメトキシエチルカルボニル基、フェノキシカルボニ
ル基、≠−シアノフェニルカルボニル基、コークロロフ
ェノキシカルボニル基など）、置換あるいは無置換のカ
ルバモイル基（例えばカルバモイル基、メチルカルバモ
イル基、ジエチルカルバモイル基、メチルヘキサデシル
カルバモイル基、メチルオクタデシルカルバモイル基、
フェニルカルバモイル基、ｘｓ４ｃ＊６−トリクロロフ
エニルカルノぞモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカ
ルバモイル基、３−ヘキサデシルスルファモイルフェニ
ルカルバモイル基なト）、ヒドロキシル基、置換あるい
は無置換のアゾ基（例えばフェニルアゾ基、ｐ−メトキ
シフェニルアゾ基、コーシアノー≠−メタンスルホニル
フェニルア／、Ｍす、！ｌ”　）、置換あるいは無置換
のアリールオキシまたはアルコキシ基（例えばメトキシ
基、エトキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基
、フェノキシ基、≠−メトキシフェノキシ基、３−７セ
テルアミノフエノキシ基、３−メトキシカルボニルプロ
ピルオキシ基、コートリメチルアンモニオエトキシ基な
ど）、スルフィノ基、スルフェノ基、メルカプト基、置
換あるいは無置換のアシル基（例えばアセチル基、トリ
フルオロアセチル基、Ｈ−−７チロイル基、ｔ−ブチロ
イル基、ベンゾイル基、２−カルボキシベンゾイル基、
３−二トロベンゾイル基、ホルミル基など）、置換ある
いは無置換のアリールまたはアルキルチオ基（例えばメ
チルチオ基、エテルチオ基、ｔ−オクチルチオ基、ヘキ
サデシルチオ基、フェニルチオ基、２．４ｇ、ｊ−）リ
クロロチオ基、２−メトキシ−ｒ−ｔ−オクチルフェニ
ルチオ基、コーアセテルアミノフェニルチオ基など）、
置換あるいは無置換の７リール基（例えばフェニル基、
ナフチル基、３−スルホフェニル基、仏−メトキシフェ
ニル基、３−ラウロイルアミノフェニル基など）、置換
あるいは無置換のスルホニル基（例えばメチルスルホニ
ル基、クロルメチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホ
ニル基、ｎ−ヘキサテシルスルホニル基、５ｅｃ−オク
チルスルホニルＬ　　ｐ−）ルエンスルホニル基、＋−
クロロフェニルスルホニル基、≠−ドテシルフェールス
ルホニル基、≠−ドデシルオキシフェニルスルホニル基
、≠−ニトロフェニルスルホニル基など）、置換あるい
は無置換のスルフィニル基（例えばメチルスルフィニル
基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
、弘−ニトロフェニルスルフィニル基ナト）　、　ｆｔ
換ｈ；Ｅ。

いは無置換のアミノ基（例えば、メチルアミノ基、ジエ
チルアミン基、メチルオクタデシルアミノ基、フェニル
アミノ基、エチルフェニルアミノ基、３−テトラデシル
スルファモイルフェニルアミノ基、アセチルアミノ基、
トリフルオロアセチルアミン基、Ｎ−ヘキサデシルアセ
チルアミノ基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノ基、メトキ
シカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルメチル基
、Ｎ−メトキシアセチルアミノ基、アミジノアミノ基、
フェニルアミノカルボニルアミノ基、≠−シアノフェニ
ルアミノカルボ°ニルアミノ基、Ｎ−エチルエトキシカ
ルボニルアミノ基、Ｎ−メチルドデシルスルホニルアミ
ノｉ、Ｎ−（−２−シアンエチル）−ｐ−トルエンスル
ホニルアミノ基、ヘキサテシルスルホニルアミノ基、ト
リメチルアンモニオ基など）、置換あるいは無置換のス
ルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基、ヘ
キサデシルスルファモイル基、スルファモイル基、メチ
ルオクタデシルスルファモイル基、メチルヘキサデシル
スルファモイル基、コーシアノエチルヘキサデシルスル
７アモイル基、フェニルスルファモイル基、Ｎ−（ｊ、
≠−ジメチルフェニル）−Ｎ−オクチルス元ファモイル
基、ジブチルスルファモイル基、ジオクタデシルスルフ
ァモイル基、ビス（コーメトキシカルボニルエチル）ス
ルファモイル基など）、置換あるいは無置換のアシルオ
キシ基（例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、デ
シロイルオキシ基、クロロアセトキシ基など）、置換あ
るいは無置換のスルホニルオキシ基（例えばメチルスル
ホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、ｐ
−クロαフェニルスルホニルオキシ基など）、が挙げら
れる。

一般式ＣＢ”ｌにおいて ｎ“は７〜乙の整数を表わし Ｕｌ　；　−Ｙｌ　＋　Ｕ２　ｉ−Ｙ□−Ｙ２　＊　Ｕ
３　ｉ　　Ｙｌ−Ｙ２　　Ｙ３　＋Ｕ４　；　　Ｙｌ−
Ｙ２　　Ｙ３　　Ｙ４　　＋　Ｕ５　；ＹＩ　　Ｙ２　
　Ｙ３　　Ｙ４−Ｙ５　　ｔＵ６　；　　ＹＩ　　Ｙ２
−Ｙ３−Ｙ４−Ｙ５−Ｙ６　　である。

Ｓｕｂ’ Ｓｕｂ’は単なる結合（σ結合、π結合）あるいは一般
式〔Ａ）で述べたＳｕｂの置換基を表わす。

一般式（Ｂ）では置換基のハメット置換基定数σ。

の総和が＋〇、０２以上であシ、さらに好ましくは＋０
．３以上、最も好ましくは十〇、μ！以上になるように
Ｓｕｂ’を選択する。

ＥＡＧのよシ具体的な例をあげると、少なくとも一つの
電子吸引性基で置換されたアリール基（例えば弘−ニト
ロフェニル基、λ−ニトロー≠−Ｎ−）チル−Ｎ−オク
タデシルスルファモイルフェール基、λ−ＮｓＮ７メチ
ルスルフアモイルー弘−二トロフェニル基、２−シアノ
−弘−オクタデシルスルホニルフェニル基、λ、ｔ−ジ
ニトロフェニル基、λ、≠ｔＡ−１）シーｙノフェニル
基、λ−ニトローａ−Ｎ−メチルーＮ−オクタデシルカ
ルバモイルフェニル基、コーニトロー！−オクチルチオ
フェニル基、２１≠−ジメタンスルホニルフェニルａ、
’　ｅ　ｊ　　Ｖニトロフェニル基、λ−クロローμｍ
ニトローｊ−メｆルフェニル基、−ｍ＝トロー３．ｊ−
ジメチルーｌ−テトラテシルスルホニルフェニル基、Ｘ
ｔ≠−ジニトロナフチル基、λ−エチルカルバモイルー
弘−ニトロフェニル基、２１４’−ビス−ドデシルスル
ホニル−ｊ　−）　’）　フルオロメチルフェニル基、
コ。

３、ｕ、ｚ、ｔ−−＜ンタフルオロフェニル基、コーア
セチルー≠−二トロフェニル基、２ｔ４ｃｍ’）アセチ
ルフェニル基、コーニトローμｍトリフルオロメチルフ
ェニル基ナト）、 置換あるいは無置換の複素環（例えば、コーピリジル基
、コーピラジル基、ｊ−二トロー２−ピリジル基、ｊ−
Ｎ−ヘキサデシルカルパモイル−コーピリジル基、ダー
ピリジル基、３．！−ジシアノー２−ピリジル基、！−
ドデシルスルホニルー２−ピリジル基、！−シアノー２
−ピラジル基、グーニトロチオフェン−２−イル基、ｊ
−ニドローア、２−ジメチルイミダゾール−≠−イル基
、３、ｊ−ジアセチル−コーピリジル基、ｌ−ドデシル
−！−力ルバモイルピリジニウムーコーイル基など）、
置換あるいは無置換のキノン類（例えばｌ、ｌ−ペンゾ
キノンーコーイル基、３．ｊ。

６−トリメチルー７、≠−ベンゾキノンーλ−イル基、
−？−＝−メチル−／、ターナフトキノンーコーイル基
、３，６−シメチルーよ一ヘキサデシルチ、ｔ−／、弘
−ペンゾキノン−２−イル基ｊ−−？ンタデシルー／、
２−ベンゾキノン−ｌ−イル基など）あるいは、以上挙
げたもののビニローブの他にニトロアルキル基（例えば
２−ニトロ−コニプロピル基）、ニトロアルケニル基（
例、ｔばλ−二トロエテニル基）、α−ジケト化合物の
一価の基（例えばコーオキソプロ・ξノイル基など）が
あげられる。

Ｒ３は先述したように窒素原子、酸素原子と結合し３な
いしｌ負の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす
が、以下にこの複素環についていＡＧ ここで、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７はそれぞれ水素原子、
脂肪族基、芳香族基、複素環基あるいは＋Ｔｉｍｅ　）
Ｉ　　ＤＩＧを表わす。

式（ＩＩ）で表わされる化合物の中でポジ形成型化合物
として、さらに充分な特性を示す例として、式（ＩＩＩ
）で表わされる化合物をあげることが出来る。

ＥＡＧ、Ｔｉｍｅ、ｔ、ＤＩＧに関しては先述した通シ
である。Ｘは二価の連結基を表わすが特に好ましくは−
Ｃ−あるいは一５Ｏ２−を表わす。

Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素原子あるいは置換可能な
基を表わすが、互いに結合して飽和あるいは不飽和の炭
素環あるいは複素環基を形成しても良い。

Ｒ４の好ましい例としては、水素原子、置換あるいは無
置換のアルキル基（メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基
、オクタデシル基、７エネチル基、カルボキシメチル基
など）、置換あるいは無置換ノア　！Ｊ−に基（フェニ
ル基、３−二トロフェニル基、≠−メトキシフェニル基
、ｌ−アセチルアミノフェニル基、弘−メタンスルホニ
ルフェニル基、コ、≠−ジメチルフェニル基、≠−テト
ラデシル基など）、置換あるいは無置換の複素環基（２
−ピリジル基、−２−フリル基、３−ピリジル基など）
Ｒ５の好ましい例としては水素原子、置換あるいは無置
換のアルキル基（メチル基、ヒドロキシメチル基、−Ｃ
Ｈ２（Ｔｉｍｅ　）ｒ−ＤＩＧ基など）置換あるいは無
置換のアリール基（フェニル基、μｍクロルフェニル基
、コーメチルフェニル基、るいは無置換の複素環基（４
Ｌ−ピリジル基など）さらにＲ４とＲ５が環を形成し縮
合環を形成する例としては以下のものがあげられる。

（縮合環全体を示した。） 次に＋Ｔｉｍｅ升−−Ｄ■Ｇについて詳述する。

Ｔｉｍｅは窒素−酸素一重結合の開裂をひきかねとして
、後続する反応を介してＰＵＧを放出する基を表わす。

ｔは０またはｌを表わす。

Ｔｉｍｅで表わされる基としては、下記一般式（Ｔ−／
）〜（Ｔ−１０）で表わされるものが好ましい。ここに
（＊）は破線側に結合する部位を表わし、（＊バ＊）は
ＤＩＧが結合する部位を表わす。

一般式（Ｔ−／） 式中２１は（＊）　−０−１（＊）　−０−Ｃ−０−１
（＊）−〇−ＣＨ２−０−１（＊）　　ＯＣＨ２−１（
＊）　−０−ここでＲ６は水素原子、脂肪族基、芳香族
基もしくは複素環基を表わす。

Ｘ□は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−〇
−Ｒ７、−８Ｒ７、−ＱＣ−Ｒ、シアノ基、ハロゲン原
子（例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素）もしくはニト
ロ基を表わす。ここでＲ７およびＲ８は同じであっても
異っていても良く、Ｒ６と同じ意味の基を表わす。Ｘ２
はＲ６で述べた基を表わす。

ｑは１から≠の整数を表わす。ｑが２以上の時はＸｌで
表わされる置換基は同じでも異なっていても良い。ｑが
コ以上の時はＸｌどうしが連結して環を形成しても良い
。

ｎは０、ｌまたはλを表わす。

一般式（Ｔ−／）で表わされる基は例えば米国特許第≠
、２≠ｒ、り４２号に記載されている。

一般式（Ｔ−−２） 式中、Ｚｏ、Ｘｌ、Ｘ２、ｑに関しては一般式（Ｔ−／
）で定義したものと同じ意味を表わす。

一般式（Ｔ−Ｊ） 式中Ｚ２は（＊）　−０−１（＊）　−０−Ｃ−１（＊
）　−０−ｍは１から≠の整数で好ましくは／、２また
は３である。

Ｒ６およびＸ２に関しては一般式（Ｔ−／　）での定義
と同じ意味を表わす。

一般式（Ｔ−≠） 式中２３は（＊）　−０−１（＊）　−０−Ｃ−０−１
（＊）−〇−ＣＨ２−８−を表わす。

Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｘ　およびｑは一般式（Ｔ−／）で
定義したものと同じ意味を表わす。一般式（Ｔ−≠）で
表わされる基は例えば米国特許第弘、≠Ｏり、３２３号
に記載のあるタイミング基である。

式中ｚ３、Ｒ７、Ｒ８、Ｘ□およびｑは一般式（Ｔ−４
’）において定義したものと同じ意味を表わす。

一般式（Ｔ−Ｊ） 式中Ｘ３は炭素、窒素、酸素あるいは硫黄のうちから選
ばれ、少なくとも一つ以上の原子の組合せからなシ、三
員ないし上置の複素環を形成するに必要な原子団である
。この複素環はさらにベンゼン環、または三員ないし上
置の複素環が縮合していても良い。好ましい複素環とし
て例えばビロール、ピラゾール、イミダゾール、トリア
ゾール、フラン、オキサゾール、チオフェン、チアゾー
ル、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ア
ゼピン、オキセピン、インドール、ベンゾフランならび
にキノリンなどがあげられる。

Ｚ３、Ｘｏ、９、Ｒ７、Ｒ８は一般式（Ｔ−４’）で定
義したものと同じ意味を表わす。一般式（Ｔ−１）で表
わされる基は例えば英国特許第２．Ｑりｔ、７１３号に
記載のあるタイミング基である。

一般式（Ｔ−７） 式中、Ｘ５は炭素、窒素、酸素あるいは硫黄のうちから
選ばれ少なくとも一つ以上の原子の組合せからなり、三
員ないし上置の複素環を形成する忙必要な原子団である
。Ｘ６およびＸ７は原子、脂肪族基あるいは芳香族基を
表わす。この複素環は更にベンゼン環または三員ないし
上置の複素環が縮合していても良い。

好ましい複素環としては、ピロール、イミダゾール、ト
リアゾールフラン、オキサゾール、オキサジアゾール、
チオフェン、チアゾール、チアジアゾール、ピリジン、
ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、アゼピン、オキセ
ピンならびにインキノリンなどがあげられる。

ｚ３、Ｘｌ、ｑ／Ｉｉ一般式（Ｔ−４ｔ）で定義したも
のと同じ意味を表わす。

一般式＜Ｔ−４） 式中、ＸＩＯは炭素、窒素、酸素あるいは硫黄のうちか
ら選ばれ少なくとも一つ以上の原子の組合せからなり、
三員ないし上置の複素環を形成するに必要な原子団であ
る。Ｘ８およびＸ９は一占＝あるいは〉Ｎ−である。こ
の複素環は更にベンゼン環または三員ないし上置の複素
環が縮合していても良い。

Ｘ３、Ｘｌ、Ｘ２、ｎおよびｑは一般式（Ｔ−／）で定
義したものと同じ意味を表わす。

一般式（Ｔ−タ） 式中Ｘｌｌは一般式（Ｔ−ｆ）で定義されたＸｔＯと同
じ意味を表わす。ｚ３は一般式（Ｔ−４’）で定義した
ものと同じ意味を表わす。ｌはＯまたはｌを表わす。

好ましい複素環としては、例えば次に示すものである。

ここでＸｌおよびｑは一般式（Ｔ−ｉ）で定義したもの
と同じ意味を表わし、Ｘ□２は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニ
ル基、スルファモイル基、複素環基もしくはカルバモイ
ル基を表わす。

一般式（Ｔ−１０） 式中Ｘ□、Ｘ２は一般式（Ｔ−／）で、Ｚ３は一般式（
Ｔ−１で定義したものと同じ意味を表わす。ｍは一般式
（Ｔ−Ｊ）で定義したものと同じ意味で、好ましくは１
または２である。

上記一般式（Ｔ−／）から（Ｔ−１０）において、Ｘユ
、ｘ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９が脂肪族基の部分
を含むとき、炭素数ｌから２０のものが好ましく、飽和
または不飽和、置換または無置換、鎖状または環状、直
鎖または分岐のいずれであつ、でも良い。上記Ｘ０、Ｘ
２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９が芳香族基の部分を含
むとき、炭素数６〜２０好ましくはｊ−１０でありさら
に好ましくけ置換または無置換のフェニル基である。

また上記Ｘ１、Ｘ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９が複
素環基の部分を含むときは、ヘテロ原子として窒素原子
、酸素原子あるいは硫黄原子の少なくとも１個を含む三
員もしくは六員の複素環である。

複素環基として好ましくは、ピリジル基、フリル基、チ
ェニル基、トリアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリ
ル基、チアジアゾリル基、オキサジアゾリル基もしくは
ピロリジニル基である。

タイミング基として好ましくは例えば以下に示すもので
ある。

２Ｈ５ （７）　　　　　　　　　　　　　　（ＩＱｌ（８）ａ
υ α荀　　　　　　　　（ｌｌ１９ ａυ　　　　　　　　　　　　　ｃｌＤＣ（３）　　　
　　　　　　　　　　　　　０７）ｌ ＣＯＯＣ２Ｈ５ 例 本発明の化合物（１）を含有せしめる層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む層かあるいはその隣接層が好ましい。隣接
層の場合は生保存性が優れるなどの利点があるため、特
に好ましい。また、カラー感光層である場合少なくとも
３層１以上のハロゲン化銀乳剤層を有する場合、それぞ
れの乳剤層に対応して、同一の１層またはその隣接層に
化合物（Ｉ）を組合わせることが有用である。これによ
シ異なった分光感度に増感された乳剤層を各々の層別に
（色別に）コントロールすることが可能になる。

本発明において化合物（Ｉ）に対しては、還元性物質が
組合わされる。還元性物質は、前もって同し支持体上の
いずれかの層に含有しても良いし、別の支持体上の層に
含有しても良いし、また処理液（アルカリ性処理組成物
）に含有しても良い。

いずれの場合でも最終的には化合物（Ｉ）と接触して化
合物（Ｉ）を還元する作用をするように用いられる。還
元性物質の種類と量は特に限定はなく、化合物（Ｉ）を
還元できるものならば何でも用いることが出来る。

還元性物質としては特に好ましくはハイドロキノン類、
アミンフェノール類、アミノナフトール類、３−ピラゾ
リジノン類、サッカリン及びそれらのプレカーサー、ピ
コリニウム類、特開昭ｊ３−／１０１．２７号に電子供
与体として記載されている化合物などがあげられる。

以下にその例を示す。

Ｓ−μ Ｃ　１６　Ｈ　３３ Ｓ−／／ Ｓ−／２ Ｓ−７４４ Ｓ−７！ Ｓ−／Ａ Ｓ−／７ Ｈ ８−／り ＮＨ８Ｏ２Ｕ１５Ｍ３３ Ｓ−コλ Ｓ−コ３ −２ｊ Ｓ−２！ Ｓ−λり Ｈ Ｓ−３０ Ｓ−Ｊ／ 本発明において化合物（Ｉ）を還元せしめる還元性物質
を同一支持体上に含有せしめる場合、２つの位置関係は
同一の層内かもしくは隣接の層内に存在することが好ま
しい。

一方処理液に含有せしめることのできる還元性物質は、
通常の現像主薬類、ハイドロキノン類、無機還元性剤な
どアルカリ可溶な還元性物質がこれに含まれる。これら
の還元性物質の多くは別つ機能のために用いられること
が多いが、本発明においては化合物（Ｉ）の還元性物質
としての機能をも兼ね備えて用いることが出来る。例え
ばフエニド７かどの現像主薬は銀現像から色素供与レド
ックス化合物のクロス酸化という機能に加えて本発明の
化合物（Ｉ）の還元性物質としても作用する。

一般式（Ｉ）で示される化合物の例を以下に示す。

ｌ≠ ｌｊ ／ぶ １り ココ ２≠ ２よ ｔ ｔ ２り Ｏ２ ３コ ３≠ ３！ Ｏ２ ｔ Ｏ２ＵＨ３ ３１ｒ ３り Ｃ００Ｃ１ｆｉＨ３フ ≠Ｑ 弘ｌ Ｏ２ ≠２ ≠３ Ｏ２ ≠μ ４Ａ！ Ｓ（−’１８Ｈ３７ Ｈ３ ＣＯＮＨ（、’１ｇＨ３７ φｒ ≠り ！Ｏ ”０２Ｃ１４Ｈ２９ ！３ ！弘 ！！ ！ｔ ＣＯＮＨＣ１６Ｈ３３ ！り ５０２Ｃ１２Ｈ２５ ｔコ ｔ３ （、’ＯＮＨＵ１６Ｍ３３ ｔ≠ ６よ ＯＯＨ ｔ Ｏ２ Ｉｒ ｔり ４ｔ ｊ 本発明の化合物の合成法に関して、最も大きなポイント
は、窒素−酸素グループと電子受容性基との結合方法に
ある。この結合方法は大別して■電子受容部にニトロ基
を導入し、これを亜鉛−塩化アンモニウム系で還元し、
ヒドロキシルアミンとしｒＴｉｍｅ　）（ＰＵＧを結合
していく方法、■電子受容部にハロゲン原子など置換容
易な基を導入し、ヒドロキシルアミンあるいはこの等価
体で求核置換する二法にわけられる。■については［オ
ルガニック・ファンクショナル・グループ・プレ、Ｉｔ
レーション（Ｏｒｇａｎｉｃ　　Ｆｕｎｅｔｉｏｎａｌ
Ｇｒｏｕｐ　Ｐｒｅｐａｒｅｔｉｏｎｓ）ＪｒＳ、Ｒ，
５ａｎｄｌｅｒ＆　Ｗ、　Ｋａ　ｒ　ｏ著）に記載の方
法で合成が可能である。■に関しては、エタノールやジ
メチルホルムアミドあるいはジメチルスルホキシド中、
中性あるいは塩基性条件下で反応するととＫより達成す
ることが出来るが、本発明の内容をさらにわかりやすく
説明するために以下に具体的な合成例を示す。

合成例／ｊ−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキサゾ
ールの合成 ゛　　ヒドロキシルアミン塩酸塩ＪＩＪ、７５’を弘Ｎ
−水酸化ナトリウム水溶液コｔに溶解し、水冷下エタノ
ールコｔを添加し、更にｐＮ−水酸化ナトリウム水−エ
タノール（／：／）混合溶液を加えて溶液のｐＨを１０
．０に調整し友。この溶液にピパロイル酢酸エチルエス
テル／Ｊｌｌ）ｔと弘Ｎ−水酸化ナトリウム水−エタノ
ール（／：／１混合溶液を反応溶液のｐＨがＩＯ±Ｏ，
コ、温度がｏ、ｊｏｃになる様に同時に滴下した。

滴下終了後、室温で２時間攪拌後、ｏ　’Ｃの濃塩酸水
６Ｋｇに注ぎ７２時間放置した。析出した結晶を戸取し
、十分に水洗後、乾燥した。収量７７ｏｒ、収率４ｆ、
Ｊ４、融点ｙｙ’ｃ　〜１０１０Ｃ合成例−２≠−クロ
ロー３−二トローＮ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルベンゼ
ンスルホン アミドの合成 合成例２−／　　４Ｌ−クロロ−３−二トロベンゼンス
ルホニルクロライドの合成 タークロロ−３−二トロベンゼンスルホン酸カリウム／
２１０９とアセトニトリルｉｉｚｏｗ、スルホランコｊ
Ｏｍｌとジメチルアセトアミド３０ｄの混合溶液に、オ
キシ塩化リン／ａｒｏ＃を内温ｔｏＯｃ〜７ｏ０Ｃに保
つ様に滴下した。７３０Ｃで３時間反応後、水冷し、水
４ｃｏｏｍｌを徐々に添加した後、氷水ｉｔに注いだ。

析出した結晶を戸数し、水洗後乾燥した。

収量１０６０９．収率ｙｅｓ、融点ｊｊ００〜！ぶ　０
Ｃ 合成例２−２　弘−クロロー３−二トローＮ−ヘキサデ
シルベンゼンスルホンアミドの 合成 ＜＜−クロロ−３−二トローベンゼンスルホニルクロラ
イドｒｏｏｔにジクロロメタンｌｔを加え００ＣＫ冷却
し九〇この溶液にヘキサデシルアミンｔｏｏｔ、トリエ
チルアミン−ｊ／ｒｔｔｌ、ジクロロメタン７ｔＯｍｌ
の混合物を２０〜３ｏ’ｃにて滴下した。室温で２時間
反応後、ジクロルメタンを減圧下留去し、残査にメタノ
ール３ｔを加え加熱溶解した。徐冷して室温で晶析後頁
にメタノール３ｔを加え氷冷下晶析し、結晶を戸数し乾
燥した。

収量ｔｏｘｏｆｆ、収率ｒｒ憾、融点りｌＯＣ〜り３°
Ｃ 合成例２−Ｊ　　ＩＡ−クロロ−３−ニトロ−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ヘキサデシルベンゼンスル ホンアミドの合成 グークロ０−３−二トローＮ−ヘキサテシルベンゼンス
ルホンアミド／７０ｔをアセトンｔりＯｍｌに溶解し、
炭酸カリウム７りｔ１ポリエチレンクリコール≠００　
　Ａｙｎｌ、ジメチル硫酸７／Ｓ’を加え５時間加熱還
流した。これにアセトンコ４ｃＯづを加え≠ｏ　’Ｃで
水ｒ’ｙｏｍｉを滴下し室温まで冷却すると結晶が析出
した。結晶を戸数し、水、メタノールで洗い乾燥した。

収ｔ１６りｔ１収率り７憾、融点７４！０Ｃ〜７０Ｃ 合成例３　化合物りの合成 合成例Ｊ−／ｊ−１−ブチルーーーＣ≠−Ｎ−メチル−
Ｎ−ヘキサデシルスルファモ イル−２−二トロフェニル）−３−イ ンオキサシロンの合成 合成例２−３で合成したμｍクロロ−３−二トローＮ−
ヘキサデシルベンゼンスルホンアミドぴ７０９、合成例
１で合成したｒ−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキ
サゾール／Ａりｔ１炭酸カリウム／Ａｒ？、ジメチルス
ルホキシド／、　Ｊ！ｔを混合し４ｊ’Ｃで４時間反応
した。

反応液を氷水に注ぎ析出した結晶を戸数し、水洗後乾燥
した。

収量！７６？、収率／θ０４、融点ｔ７°Ｃ〜ａｒ’ｃ 合成例３−２１−１−ブチル−弘−クロロメチル−ｒ−
（ｌＡ−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル
−２−二トロ フェニル）−３−インオキサシロンの 合成 ｊ−ｔ−ブチル−Ｊ−（≠−Ｎ−メチルーＮ−ヘキサデ
シルスルファモイル−λ−二トロフェニル）−３−イン
オキサシロンｊ　！　０９．塩化亜鉛λｏｏｔ１パラホ
ルムアルデヒドコｏｏｙ、酢酸／、！１を混合し、塩化
水素ガスを吹き込みながら１０時間加熱還流した。冷却
後、反応液を水にあけ、析出した結晶を戸数し、アセト
ニトリル−メタノール（ｌ：弘）混合溶媒よシ再結晶し
た。

収ｔｊｒｊｒ、収率５’ｊ係、融点ｔａ’ｃ合成例３−
３　化合物りの合成 ｚ−ｔ−メチル−≠−クロロメチルーコー（弘−Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフ
ェニル）−３−イソオ＃？ニアｏンλ！０９と／−フェ
ニル−よ−メルカプトテトラゾール７ｊｔｆをアセトン
ｚｏｏｍｔに溶解し、炭酸カリウムｔｏｙ、ヨウ化ナト
リウムｒｔを加え室温で２時間攪拌した。反応混合物を
希塩酸水に注ぎ酢酸エチルエステルで抽出し、抽出液を
水洗後乾燥して減圧下濃縮した。残査にエタノール／を
一酢酸エチルエステル１００ｍ１を加え再結晶し友。

収量λｔｏｙ、収率乙１１融点７３°Ｃ〜７よ０Ｃ 合成例μ　化合物ｉｏの合成 合成例≠−７！−フェニルー３−ヒドロキシインオキサ
ゾールの合成 水酸化ナトリウム弘Ｏ？に水λ００ｒｒｔｌ、エタノー
ルＪ　ｏ　ｏｒｒｔｌを加え溶解した。これにヒドロキ
シルアミン塩酸塩ｔり、ｉｔを加え、更にλＮ−水酸化
ナトリウムエタノール−水（Ｊ：２）混合溶液を加えて
溶液のｐｕを１０．０に調整した。水冷下、ベンゾイル
酢酸エチルエステルｌりｉｔと２Ｎ−水酸化ナトリウム
エタノール−水（Ｊ：λ）混合溶液を反応溶液のｐＨが
１０±０．７になる様に同時に滴下した。滴下終了後、
室温で３時間攪拌後、濃塩酸水ｒｏｏｔと氷１００９の
混合物の中へ注ぎ、エタノール２．ｉｔを加え３時間加
熱還流した後、水２１を加え冷却した。析出した結晶を
戸板し、水洗後乾燥し念。

収量りｒｔ、収率ｊ　／　？、融点／ｚｏ０ｃ〜／ｉ０
ｃ 合成例グーコ　弘−クロロ−３−ニトロ−Ｎ−メチル−
Ｎ−オクタデシルベンゼンスル ホ／アミドの合成 弘−クロロー３−二トロベンゼンスルホニルクロライド
１００ｆにクロロホルム３ｏｏｒｒｔｌを加え０　’Ｃ
Ｋ冷却した。これにメチルオフタデジルアミンｔμ、３
９のクロロホルム溶液を滴下した。

次いでトリエチルアミン３り、ｊｆを０　’Ｃ〜ｌＯ°
Ｃに保ちながら滴下した後、室温で１時間攪拌し念。減
圧下、クロロホルムを留去し、残査にメタノール、ｇｏ
ｏｍｌを加え加熱溶解した。冷却して析出した結晶を戸
数し乾燥し穴。

収量ＩＯＯ１２取木７１壬、融点を乙〜ｔ７°Ｃ合成例
４ｔ−３化合物１０の合成 合成例Ｊ−／から合成例３−３に示した方法を用いて合
成した。

ゝ　　　　　　　　融点／／７°ｃ−ｉｉｒ　０Ｃ合成
例！　化合物３の合成 合成例ｊ−／　　ｌＡ−クロロ−３−ニトロ−Ｎ−メチ
ル−Ｎ−オクタデシルベンツアミド の合成 ＩＯ！、７ｆの３−ニトロ−≠−クロロ安息香酸とｒｏ
ｏｍｌのアセトニトリルを混合し、これに塩化チオニル
ａｌｒ、ｔｔを加え、弘時間加熱費流した。冷却後、溶
媒を留去しクロロホルムに溶解した。この溶液にトリエ
チルアミンＪＪ、！ｆを加え、！０Ｃとした。つぎにＮ
−メチルオクタデシルアミンｔａｒ、ｔりのクロロホル
ム溶液をこれに滴下した。反応終了後、水を加え分液し
た後、有機相を無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。無
機物をろ別したのち溶媒を留去し、アセトニトリル−メ
タノール（／：Ｊ）より再結晶した。

収−Ｂ（ｉｔぶｔ、収率７６、Ｏ係、融点！ｊ〜！６°
Ｃ 合成例ｊ−２１−ｔ−ブチルーコー（４Ｃ−Ｎ−メチル
−Ｎ−オクタデシルカルバモイ ル−２−二トロフェニル）−３−イン オキサシロンの合成 ｓｔｔ、ｉｔのＮ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−二
）　ｏ　−ＩＩ−クロロベンツアミド、／コ、ｌＡｔの
ｚ−ｔ−７’チル−３−ヒドロキシインオキサゾール、
１．２．≠ｔの炭酸カリウム疋ジメチルホルムアミド３
ｏｏｍｌを加え、ｔｏｏｏｃにて！時間反応した。溶媒
を減圧留去し酢酸エチルと水を加えて攪拌したのち有機
相をとり、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで主生
成物を分散した。

ｎ−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶し友。

収量ｉｔ、りｔ１収率弘Ｊ、／憾、融点を参〇Ｃ合成例
！−３μｍクロロメチル−１−１−ブチル−λ−（４ｃ
ｍＮ−メチル−Ｎ−オクタデシルカルパモイルーコ−二
トロフ ェニル）−３−イソオキサシロンの合 成 １−１−ブチル−λ−（４ｃｍＮ−メチル−Ｎ−オクタ
デシルカルバモイル−２−二トロフェニル）−３−イン
オキサシロンＪ　４　ｔ１パラホルムアルデヒドｔ、７
１．塩化亜鉛ｉｏ、３ｔを酢酸コ！ｏｒｔｔｌと混合し
、塩化水素ガスを吹き込みながら１００°Ｃａｏ時間反
応した。反応終了後、冷却し反応混合物を氷水にあけた
。析出した固体をろ取し、クロロホルムに溶解しカラム
クロマトグラフィーで精製した。

収量１０．Ｏｆ、収率コを係、融点７７°Ｃ合成例！−
グ　化合物３の合成 弘−クロロメチルーｒ−ｔ−７’チルーコ−（≠−Ｎ−
メチルーＮ−オクタデシルカルバモイル−２−ニトロフ
ェニル）　−Ｊ−４ソオキサソロングＯ２とｌ−フェニ
ル−！−メルカプトテトラゾール／　、２　ｔヲア七ト
ンに溶解した。次にこれに炭酸カリウムｌμｔを加えて
室温で３時間攪拌した。

無機物を炉別した後、メタノールよシ再結晶をした。

収量３３ｔ１収率ｔ７チ、融点４Ｊ−／ｕｒＯｃ本発明
に使用されるハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、臭化銀、塩
臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀もしくはこれらの混合物
の親水性コロイド状分散物であって、ハロゲン組成は感
光材料の使用目的と処理条件に応じて選択されるが、沃
化物含量が１０　ｍｏｌｅ　％以下、塩化物含量がＪＯ
ｍｏｌｅ４以下の臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀が特
に好ましい。

本発明には表面潜像を形成するネガ型乳剤でも、直接反
転型乳剤でも使用できる。後者の乳剤としては内部潜像
型乳剤や予めカブラせた直接反転型乳剤がある。

本発明には内部潜像型ハロゲン化銀乳剤が有利に使用で
き、この型の乳剤としては例えば米国特許コ、　ＪＰ２
．２！Ｄ号、同３．２０６，３１ｊ号、同３．参≠７，
２２７号、同３，７４１．２７を号、及び同３．り３ｒ
、ｏｉ参号等に記載があるコンバージョン型乳剤、コア
／シェル型乳剤、異種金属を内蔵させた乳剤等を挙げる
ことができる。

この型の乳剤の造核剤としては、米国特許２゜！ｔｌ＃
、　２１２号、同コ、　、ｔ−６３，７Ｊ’Ｊ−号に記
載されたヒドラジン類；同３，２２７．ｊ！λ号に記載
されたヒドラジド類とヒドラゾン類；英国特許／、２１
３．１３！号、特公昭１４９−３１１ｔμ号、米国特許
３．７３≠、７３を号、同３゜７１り、μり係号、同３
．乙／！、６１３号に記載された四級塩化合物：米国特
許ｊ、７／Ｉ！、４’７０号に記載された、かぶらせ作
用のある（ｎｕｃｌｅａｔｉｎｇ　）置換基を色素分−
子中に有する増感色素；米国特許ｌ、θ３０．Ｐコ！号
、同μ。

ＯＪ／、１２７号に記載されたアシルヒドラジノフェニ
ルチオ尿素系化合物が代表的なものである。

本発明に使用されるハロゲン化銀乳剤は、所望に応じて
分光増感色素によって拡大された感色性をもち得る。分
光増感色素としては、シアニン色素やメロシアニン色素
等を適宜使用できる。

色素放出レドックス化合物のうち、酸化を受けた・化合
物がアルカリ加水分解して色素を放出するものとしては
、下記の文献に記載のものを挙げることができる。

米国特許グ、０！Ｊ、３１コ号、同４４．０！ｊ。

≠２ｊ号、同ぴ、０７６．１２２号、同ぴ、ｉｓコ、７
１３号、同≠、／３３；、りλり号、特開昭！Ｊ−／４
（２３２１号、同！−／−１０１Ａ３１１３号、同ｊＪ
−４ｃ６７３０号、同！ＩＩ　−１３０１２２号、同Ｊ
−Ｊ−ＪＩＦＦＹ号、同Ｊ−Ａ−／２ｔｌ１２号、同ｊ
Ｊ−／ｌ／３０号、同！ｔ−／ｌ／３１号、等このうち
、イエロー色素を放出するもの：米国特許ヶ、０／３．
ｔＪＪ号、特開昭３３−／４ｔり３２ｒ号、同ｒｉ−ｔ
ｉｐり３０号、同！Ａ−７１０７．２号、リサーチ・デ
ィスクロージャー　（Ｒｅｓｅａｒｃｈ　　Ｄｉｓｃｌ
ｏｓｕｒｅ）／　７６ＪＯ（’７１）、同／１ｌｔ７！
（’７７）等マゼンタ色素を放出するもの： 米国特許３．りｊ弘、≠７乙号、同３．りＪ／。

ハ１号、同３．り３２，３０１号、特開昭！３−２３６
．２ｒ号、同！２−１０ｔ７２７号、同！４Ｌ−６ｊＯ
ＪＩＡ号、同ｊ≠−／Ａ／３３２号、同！！−’１０２
１号、同Ｊ−３−３６１０１１号、同ｊ乙−７３０！７
号、同ｊｊ−７１Ｏ６Ｏ号、同！！−１３≠ｒｒｏ号、
西独特許出願（ＯＬＳ）、２゜ｆ４’７，３７／号、等 シアン色素を放出するもの： 米国特許３．り≠コ、２Ｆ７号、同３．り２？。

７乙０号、同弘、ｏｉｓ、乙３ｊ号、特開昭！ｌ−１０
９９２１号、同！３−／’Ａ？３２ｒ号、同！２−１＃
２７号、同！３−／４１３３２３号、同！３−’ｔ７１
２３号、同！ｔ−７１０６／号、等また、酸化を受けな
かった方の化合物が酵環するなどして色素を放出するレ
ドックス化合物としては、下記の文献に記載のものを挙
げることができる。

米国特許弘、／３り、３７り号、同３．ヂｔθ。

≠７２号、西独特許用ＨＣＯＬｓ）、２．≠０２゜２０
０号、同一、１す、ｌ７７号、等。

本発明の実施には次の一般式で表わされる色素放出レド
ックス化合物が好ましい。

−Ｘ ただし上式において、Ｙはレドックス母核（キャリアー
）を表わし、Ｘは前記Ｙに直接に結合しているかまたは
介在基りを介して結合している染料残基または染料前駆
体残基を表わす。

Ｌは、炭素数／〜を個有するアルキレン基（またはアル
キリデン基）、アリーレン基または複素環式基の如き介
在基を表わし、この介在基りは前記Ｘと直接に結合して
いるかまたは一〇−１−Ｓ−１−ｓｏ２−１−ＮＲｏ−
（Ｒｏは水素原子着定はアルキル基）、−ＣＱ−１−Ｃ
Ｏ−ＮＨ−または−８Ｏ２−ＮＨ−を介して結合してい
るものである。

前記染料残基は原則として、任意の種類の染料の残基で
あり得る。ただし、この染料残基は、感光材料内の３真
層を通過して受像層に到達するに充分な拡散性を有する
ものでなければならない。

この目的のために、所望によりこの染料残基にｌオたは
それ以上の水溶性付与基を結合させることができる。適
当な水溶性付与基の例には次のものがあげられる：カル
ボキシル基、スルホ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、脂肪族または芳香族のヒドロキシル基。

本発明に特に適当な染料の例には次のものがあげられる
：アゾ染料、アゾメチン染料、アンスラキノン染料、フ
タロシアニン染料、インジゴイド染料、トリフェニルメ
タン染料、金属錯体染料、有色金属錯体。

前記染料前駆体（プレカーサー）残基とは、写真処理工
程中の常用処理段階において、あるいは追加的処理段階
において、酸化による発色系内での助色基（助色団）の
遊離（すなわち助色団が遊離して、これが発色団に加わ
ること）により、染料に変換し得る化合物の残基のこと
である。この場合の染料先駆体はロイコ染料であっても
よく、あるいは、写真処理中に他の染料に変換される染
料であってもよい。

このレドックス化合物に有効なＹの例はＮ−置換スルフ
ァモイル基である。例えば、Ｙとして次の式（Ａ）で表
わされる一Ａを挙げることができる。

α 式中、βはベンゼン環を形成するに必要な非金属原子群
を表わし、該ベンゼン環に炭素環もしくはペテロ環が縮
合して例えばナフタレン環、キノリン！、ｔ、＋、７．
ｊｒ−テトラヒドロナフタレン環、クロマン環等を形成
してもよい。更に上記ベンゼン環又は該ベンゼン環に炭
素環もしくは−、テロ環が縮合して形成された環には、
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基
、７リールオキシ基、ニトロ基、アミン基、アルキルア
ミノ基、了り−ルアミノ基、アミド基、シアン基、アル
キルメルカプト基、ケト基、カルボアルコキシ基、ヘテ
ロ環基等が置換していてもよい。

αは一０Ｇ１又は−ＮＨＧ２で示される基を表わす。こ
こに０１は水素原子又は加水分解されて水酸基を生ずる
基を表わし、好ましくは水素原子、−ＣＧ３又は−Ｃ−
０−Ｇ３で示される基である。

ここにＧｌｔアルキル基、％にメチル基、エチル基、プ
ロピル基の如き炭素原子数／〜ｉｔのアルキル基、クロ
ルメチル基、トリフルオロメチル基等の炭素原子数／〜
／ｒのノ・ロゲン置換アルキル基、フェニル基、置換フ
ェニル基を表わす。又、Ｇ２は水素原子、炭素原子数７
〜２２個のアルキル基又は加水分解可能な基を表わす。

ここに上記Ｇ２の加水分解可能な基として好ましいもの
は、−ＣＧ４、−８Ｏ２Ｇ５又は−８ＯＧ５で示される
基である。ことＫＯ２は、メチル基の如き炭素原子数ｌ
−≠のアルキル基；モノ、ジ若しくはトリクロロメチル
基やトリフルオロメチル基の如きハロゲン置換アルキル
基；アセチル基の如きアルキルカルボニル基；アルキル
オキシ基；ニトロフェニル基やシアノフェニル基の如き
置換フェニル基：低級アルキル基若しくはノ・ロゲン原
子で置換された又は未置換のフェニルオキシ基；カルボ
キシル基；アルキルオキシカルボニル基；アリールオキ
シカルボニル基；アルキルスルホニルエトキシ基又はア
リールスルホニルエトキシ基を表わす。又Ｇ５は置換又
は未置換のアルキル基又はアリール基を表わす。

更にｂは０．／又はλの整数である。但し上記αには上
述の如き−ＮＨＧ２００２として上述した一般式（Ａ）
で示される化合物を不動性かつ非拡散性にするアルキル
基に該当するものが導入されていることがあるが、その
場合を除いて、即ちαが一〇ＧＩで示される基である時
及びαが−ＮＨＧ　２で示されかつＧ２が水素原子、炭
素原子数／〜ｌのアルキル基、又は加水分解可能な基で
あるときにはｂは／又はλ、好ましくはｌである。Ｂａ
ｔＬは化合物を耐拡散性にする基を表わす。

この種のＹの具体例は、特開昭ダｆ−３３ｒｌｔ号、同
！ｊ−ｊＯｍ号、同！≠−ｚ４Ｌｏコ／号及び同！≠−
／ｌｌ−３２３０号に述べられている。この型の化合物
に適するＹの別の例として、次の式（Ｂ）で表わされる
基が挙げられる。

α 式中、Ｂａ！、Ｌｌａ、、ｂは式（Ａ　）の場合と同義
であり、β′は炭素環たとえばベンゼン環を形成するの
に必要な原子団を表わし、該ベンゼン環に、更に炭素環
もしくは複素環が縮合してナフタレン環、キノリン［、
ｒ、　　６，７．？−テトラヒドロナフタレン環、クロ
マン環等を形成してもよい。

更に上記各種の環にハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、ニトロ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アミド
基、シアノ基、アルキルメルカプト基、ケト基、カルボ
アルコキシ基、ヘテロ環基等が置換していてもよい。こ
の種のＹの具体例は、特開昭！／−／１３６２弘号、同
！３−７弘２３コを号、同！グー６１０３４Ｌ号、同！
≠−／／／３４４１１号、同ｊｌＡ−タ／／１７号、米
国特許弘、０１３．Ｊ／λ号等に記載されている。

又本発明では、一般式（Ｉ）におけるＤＩＧをＤＹＥ（
色素部分）と置換した型の色素放出レドックス化合物も
用いられつる。

色素放出レドックス化合物の塗布量は、ｌ×１０″−’
　〜／　Ｘ／　０　　”ｍｏ１ｅ／ｍ２、好ましくは、
２×／θ−’　〜Ｊ　Ｘ　／　０　　”　ｍｏ　Ｉｅ／
ｍ２である。

本発明に用いられる色素放出レドックス化合物は、担体
である親水性コロイド中てこの化合物の型に応じて、種
々の方法で分散することが出来る。

Ｎ、ｔば、スルホ基やカルボキシ基のような解離性基を
もつ化合物は水又はアルカリ性水溶液に溶解してから親
水性コロイド溶液に加えて分散できる。

一方、水性媒体に溶は難く、有機溶媒に溶は易い化合物
は、この分野で知られた方法で分散できる。

本発明に用いるカラー拡散転写写真感光要素は、感光性
ハロゲン化銀写真乳剤、色素放出レドックス化合物、及
び色素受像層とが同一支持体上に担持されている態様の
フィルム・ユニットであればいずれも用いられる。

フィルム・ユニットの代表的な形態は、一つの透明な支
持体上に上記の色素受像層と色素放出レドックス化合物
と組合わさったハロゲン化銀写真乳剤層が積層されてお
り、転写画像の完成後、受像層等を剥離する必要のない
形態である。更に具体的に述べると、少なくとも一層の
色素受像層からなり、又ハロゲン化銀乳剤層の好ましい
態様に於いては青感性乳剤層、緑感性乳剤層及び赤感性
乳剤層の組合せ、又は緑感性乳剤層、赤感性乳剤層及び
赤外光感光性乳剤層の組合せ、或いは青感性乳剤層、赤
感性乳剤層及び赤外光感光性乳剤層の組合せと、前記の
各乳剤層にイエロー色素供与性物質、マゼンタ色素供与
性物質及びシアン色素供与性物質がそれぞれ組合わされ
て構成されるにこで「赤外光感光性乳剤層とは７００ｎ
ｍ以上、特に７μｏｎｍ以上の光に対して感光性を持つ
乳剤層をいう）。そして、該受像層とハロゲン化銀層或
いは色素放出レドックス化合物含有層の間には、透明支
持体を通して転写画像が観賞できるように、酸化チタン
等の固体顔料を含む白色反射層が設けられる。明所で現
像処理を完成できるようにするために白色反射層と感光
性ハロゲン化銀層の間に更に遮光層を設けてもよい。又
、所望によ多感光要素の全部又は一部を受像要素から剥
離できるようにするために適幽な位置に剥離層を設けて
もよい（このような態様は例えば特開昭！ぶ−ｊ７ｒ４
ｔＯ号やカナダ特許Ｊ７４ｔ、ｏｒλ号に記載されてい
る）。

また、別の剥離不要の形態では、一つの透明支持体上に
前記の感光要素が塗設され、その上に白色反射層が塗設
され、−にその上に受像層が積層される。同一支持体上
に受像要素と白色反射層と剥離層と感光要素とが積層さ
れており、感光要素を受像要素から意図的に剥離する態
様については、米国特許Ｊ、７３０．７１ｒ号に記載さ
れている。

さらに白色支持体上に少なくとも（ａ）色素受像層、（
ｂ）剥離層、（ｃ）色素放出レドックス化合物と組み合
わされた少なくとも１つのハロゲン化銀乳剤層を順次有
する感光要素、不透明化剤を含むアルカリ処理組成物、
及び透明カバーシートからなることを特徴とするカラー
拡散転写写真フィルムユニットも本発明に用いられつる
。

（実施例） 実施例−ｌ 以下のようにして、積層一体型カラー拡散転写感光シー
トおよびカバーシートを作成した。

ポリエチレンテレフタレート透明支持体上に、次の順に
各層を塗布して感光シート／〜りを作成した。

（１）　　コポリ〔スチレン−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ
−メチル−ピペリジニウムクロライド〕３．０２／ｍ２
、ゼラチ７Ｊ、Ｏｆｆ／ｍ２を含有する受像層。

（２）二酸化チタン２０９７ｍ２、ゼラチン２゜０９７
ｍ２を含有する白色反射層。

（３）　　カーボンブラック２，０９７ｍ２　とゼラチ
ン／、！ｔ／ｍ２を含有する遮光層。

（４）下記のシアン色素放出レドックス化合物Ｏ１弘≠
ｆ／ｍ２、トリシクロへキシルホスフェート０．０７ｔ
／ｍ２．２．ｊ−ジーｔ−はンタデシルハイドロキノン
ｏ　、　ｏ　ｏ　ｒ　？　／　ｍ２、およびゼラチンｏ
、ｒｔ７ｍ２を含有する層。

５Ｏ２Ｃ：Ｈ３ （５）赤感性赤感性内接ポジ臭化銀乳剤（銀の量で／、
０３９／ｍ２　　）、ゼラチ７／、２？／ｍ２、下記の
造核剤Ｏ０Ｏ≠ｑ／ｍ２およびコースルホ−ｊ−ｎ−ペ
ンタデシルハイドロキノン・ナトリウム塩０．１３９７
ｍ２を含有する赤感性乳剤層。

（６）　　Ｊ、　ｚ−シーｔ−＜ンタデシルノ為イドロ
キ）７０．１７３９７ｍ２　、）リヘキシルホスフエー
ト０．／ｆ／ｍ２およびゼラチン０．１ｆｉｆ７ｍ２を
含有する層。

（７）下記のマゼンタ色素放出レドックス化合物を０．
３９７ｍ２　、ト１７シクロヘキシルホスフエート（０
，０１９７ｍ２　　）、２．ｊ−ジーｔｅｒｔ−ヘンタ
デシルハイドロキノン（０，００２ｆ／ｍ２）及びゼラ
チン（０，１９７ｍ２　　）を含有する層。

α−Ｉ （８）緑感性内層型直接ポジ臭化銀乳剤（鋼の量でｏ、
ｒコｆ／ｍ２）、ゼラチ７ｇ０．９９７ｍ２）、層（５
）と同じ造核剤（０，０３ダ／ｍ２）およびコースルホ
ーｊ−ｎ−ｄンタデシルハイドロキノン・ナトリウム塩
（０，０１９７ｍ２　　）を含有する緑感性乳剤層。

＋９１　　＋６１と同一の層。

０１　下記構造のイエロー色素放出レドックス化合物（
ｏ、よｊｆ／ｍ２　　）、トリシクロヘキシルホスフェ
ート（０，１３９１７ｍ２　　）、コ、！−ジーｔ−イ
ンタデシルハイドロキノンＣ００Ｏ１４Ｌｔ／ｍ２）お
よびゼラチン（０，７９７ｍ２　＞を含有する層。

（１１）　　青感性内温型直接ポジ臭化銀乳剤Ｃ銀の量
で／、θりｆ／ｍ２’＞、ゼラチ７　（／　、　／　ｆ
／ｍ２）、層（５）と同じ造核剤（ｏ、ｏ弘〜／ｍ２　
）、コースルホーよ−ｎ−ペンタデシルハイドロキノン
・ナトリウム塩（０，０７９７ｍ２　　）、および表１
に示す化合物を表１の量だけ含有する青感性乳剤層。

０２　　下記構造の紫外線吸収剤をそれぞれ≠×ｌＯｍ
ｏ１／ｍ２、及びゼラチン０，３０９／ｍ２を含む紫外
線吸収層。

（１３１ポリメチルメタクリレートラテックス（平均粒
子サイズ≠μ、ｏ、ｉｏｔ／ｍ２　）、ゼラチン（ｏ、
ｉｆ／ｍ２　　）及び硬膜剤としてトリアクロイルトリ
アジン（０，０２９７ｍ２　　）を含む保１層。

カバーシートＡの構成 透明ナポリエチレンテレフタレート支持体上に順次、以
下の層ｒノ’）〜（弘′）を塗部してカバーシートを作
製した。

ｃ戸）平均分子量ｔｏ、ｏｏｏのアクリル酸−ブチルア
クリレート（重量比ざ：２）共重合体を１０？７ｍ２お
よび／、４ｃｍビス（２，３−エポキシプロポキシ）−
ブタンｏ、　２ｆ／ｍ２ｔｅｋ布し九中和層。

１２勺　酢化度Ｊ’／、０４のセルロースアセテートお
よヒメチルビニルエーテルーマレイン酸モノメチルエス
テル交互共重合体を重量比り！／！で７．！ｆｆ／ｍ２
塗布した第２タイミング層。

（３’）　　メチルビニルエーテル−無水マレイン酸交
互共重合体１．０！？／ｍ２、およびｊ−（Ｊ−シアノ
−／−メチルチオ）−／−フェニルテトラゾールを０．
Ｆｆｍｍｏｌ／ＦＦＩ２を含む補助中和層。

（μ勺　スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−アクリル
酸−Ｎ−メチロールアクリルアミドの≠２゜７対≠２．
３対３対ｊの共重合体ラテックスとメチルメタアクリレ
ート−アクリル酸−Ｎ−メチロールアクリルアミドの２
３対μ対３Ｃ重量比）共重合体ラテックスを前者のラテ
ックスと後者のラテックスの固形分比がｔ対≠になるよ
うに混合し、塗布した厚さλμの第１タイミング層。

このようにして作製した感光シート／〜りを連続くさび
ウェッジで露光ｉ〜た後、処理液とカバーシートと組合
わせ／対の加圧ローラーを通して展開処理した。７時間
後にカラー濃度計で濃度を測定し、＠１表に示すＤｍａ
ｘ、　Ｄｍｉｎを得た。

呻た、展開直後からｔ秒毎にＤｍａｘの変化を測定し、
ｔｏ分後の濃度（Ｄｍａｘ　）の１４に達する時間を読
み取つ念。転写速度を表わすもので速いほど良い。

ｉ／表から明らかなように、本発明の感光シートを用い
た写真要素では、Ｄｍａｘを下げることなくＤｍｉｎを
大巾に下げており、しかも転写速度は遅らさないという
非常て優れ念ものである。

なお、転写速度の差は銀現像速度の差に対応しているこ
とか別の解析実駐で明らかになった。即ち転写速度の遅
いものは、銀現像速度が遅れていることに起因する。

実施例−一 ポリエチレンテレフタレート透明支持体上に次の層を順
次塗布して感光シートｌθ〜１６を作製した。

（１）コポリ〔ジビニルベンゼン−ビニルベンジル−Ｎ
−）’Ｊヘキシルアンモニウムクロライド〕、２．ＯＳ
’／ｍ２．ゼラチン２．１９７ｍ２を含有する層。

（２１コポリ〔スチレン−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ−メ
チルピペリジニウムクロライド〕ｉ、ｒｙ／ｍ２、ゼラ
チン／、Ｏｆ／ｍ２を含有する層。

（３）実施例−／の層（２）と同じ。

（４）　　　　　　　　層（３）＃ （５）　　　　　　　　層（４）ｌ （６）　　二酸化チタンＪ、Ｏｆ／ｍ２　、ゼラチンｏ
。

２９７ｍ２と第２表に示す化合物を含有する層。

（７）実施例−７の層（５）と同じ。

（８）　　　　　　　　層（６）Ｉ （９１層（７）ｌ ａｌ　　二酸化チタンｉ、０９／ｍ２、−１！’うｆ７
０゜２９７ｍ２　と第２表に示す化合物を含有する層。

０　実施例−７の層（８）と同じ。

Ｑ２　　　　　　　　層（９１１ （１３下記構造のイエロー色素放出レドックス化合物（
０，１９７ｍ２　　）、トリシクロヘキシルホスフェ−
）（Ｏ，１３ｔ／ｍ２　　）およびゼラチン０．１ｆ／
ｍ２を含む層。

Ｉ　実施例−ｌの層ａυから表−／の化合物を除いた他
は同じ層。

（１５１実施例−７の層α２に加えて第２表に記載の化
合物を含有する層。

αｅ　実施例−ｌの層αＪに同じ。

以上のようにして作製した感光シート１０〜／乙を実施
例−／と同様にしてＤｍａｘ％ｌ）ｍｉｎ、転写速度を
測定し、第２表の結果を得た。

第−表から、本発明の写真要素は、Ｄｍａｘ高く、Ｄｍ
ｉｎは高温処理でも充分低く、シかも転写速度の速い優
れたものであることが判る。

実施例−３ 次のようにしてカバーシート、処理液を作製した。

カバーシートＢ （／’）実施例−７の層（１勺と同じ。

１勺　実施例−７の層（２勺に同じ。

Ｃ３′）実施例−７の層Ｃ３勺において、テトラゾール
銹導体の量を０．４！２ｍｏｌ／ｍ２に減らした以外は
同じ。

（μ勺　実施例−１の層ｃμ′）と同じ。

処理液Ｂ 実施例−７の処理液Ａから！−メチルベンゾトリアゾー
ルを半分に減らした以外は同じ。

以上のようにして作製した感光シート、カバーシート、
処理液を組合わせて展開処理し、第３表に示す結果を得
た。

第３表から、本発明の逆イメージワイズにカブリ防止剤
を含む感光シートを用いれば、カバーシート内の現像抑
制剤プレカーサーを減らしても、又は処理液内の現像抑
制剤ｔｒ−メチルベンゾトリアゾール）を減らしても、
充分低いＤｍｉｎに到達でき、白地の美しい画像が得ら
れることが判る。

また、処理液の抑制剤を減らすと転写速度もかなり速ま
ることが判る。即ち、本発明の感光シートと現像抑制剤
を減らした処理液を組合わせることで、Ｄｍｉｎは低く
て転写速度はより速い写真要素が得られる。

（発明の効果） 本発明の化合物（１）または（ｌ［）で表わされる現像
抑制剤放出化合物を用いることで、少量で極めて有効な
カブリ抑制効果ｒＤｍｉｎ低下）が得られ、かつ現像速
度は遅れないという優れた写真材料が得られた。化合物
（１）はハロゲン化銀乳剤の現像に対して逆イメージワ
イズ、即ち基本的には現像部分では放出せず未現像部分
（カブリ部分）では抑制剤を放出するものであるから、
現像が必要な部分では抑制しないために現像が速く、一
方力ブリ部分では有効に抑制するためにカブリが極めて
低くできるものである。従来の現像抑制剤は銀現像パタ
ーンに関係なく全面均一に作用していたので必要な現像
を遅らせてしまうのに比べ、本発明の現像抑制剤放出化
合物は必要な部分だけに作用する現想的な化合物である
。

本発明の化合物は、処理中に共存する還元性物質によっ
て還元されることで窒素−酸素原子結合が開裂し、引続
いて起る重子移動を介して現像抑制剤を放出するもので
あり、一方の銀現像が充分に起る部分では、共存する還
元性物質が少なくなるために還元されず現像抑制剤は放
出しないものである。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社手続補正書 昭和Ｊ、２年λ月ご日 特許庁長官　殿　　　　　　　　　　　　　　〔葛１、
事件の表示　　　　昭和２７年特願第２ｊり３コロ号２
、発ゆｊの名称　　カラー拡散転写写真感光要素３、補
正をする者 事件との関係　　　　　　　特許出願人柱　所　　神奈
川慇南足柄市中沼２１０番地ご５（ ４、補正の対象　　明ｆ！ｆＵ臀の「発明の詳細な説明
」の欄 ５、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。

１）第！！頁６行目の 「フェニドン」の後に 「誘導体」 を挿入する。

２）第１２３頁１０行目の 「カバーシートと組合わせ」の後に 「３ｊ０Ｃの条件下で」 を挿入する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上にハロゲン化銀写真乳剤、色素放出レドックス
   化合物、及び色素受像層を有するカラー拡散転写写真感
   光要素において下記一般式（ I ）で示される化合物を
   含有することを特徴とするカラー拡散転写写真感光要素 （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、ＥＡＧは還元性物質から電子を受け取る基を表わ
   す。ＮおよびＯはそれぞれ窒素原子、酸素原子を表わす
   。Ｒ＾１、Ｒ＾２は水素原子以外の置換基を表わす。Ｒ
   ＿１もしくはＲ＿２が−（Ｔｉｍｅ）＿ｔＤＩＧと結合
   している場合には単なる結合手または水素原子以外の置
   換基を表わす。Ｒ＿１とＲ＿２は互いに結合して環を形
   成してもよい。 Ｔｉｍｅは式中の窒素−酸素−重結合の開裂をひきがね
   として後続する反応を介してＤＩＧを放出する基、ＤＩ
   Ｇは、放出の結実現像抑制剤となる部分を表わす。 ｔは０または１の整数を表わす。 また式中実線は結合を、破線は少なくとも一つが結合し
   ていることを表わす。