JPS63107956A - 3環性ペナム化合物,その製造法及び用途 - Google Patents
3環性ペナム化合物,その製造法及び用途Info
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- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/09—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4
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- C07D513/12—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains three hetero rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、抗菌活性を有する新規な4JO−ジオキソ−
3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6、2
、O、O” ’]デカンー2−カルボン酸骨格を有する
化合物およびそのエステルおよび塩並びにその製造法、
中間体および用途に関するものである。
3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6、2
、O、O” ’]デカンー2−カルボン酸骨格を有する
化合物およびそのエステルおよび塩並びにその製造法、
中間体および用途に関するものである。
従来の技術
最近、土壌より分離されたエンベトバクター属およびリ
ゾバクター属に属する新菌種より、グラム陽性菌および
グラム陽性菌に対して抗菌活性を示す新規抗生物質TA
N−588(以下rTAN−588Jと略称することも
ある。)が見い出された。更にその誘導体も合成され、
例えば特願昭60−280139に開示されている。
ゾバクター属に属する新菌種より、グラム陽性菌および
グラム陽性菌に対して抗菌活性を示す新規抗生物質TA
N−588(以下rTAN−588Jと略称することも
ある。)が見い出された。更にその誘導体も合成され、
例えば特願昭60−280139に開示されている。
該抗生物質TAll−588は、3−オキソイソキサゾ
リジン環の窒素原子に5−オキソ−2−テトラヒドロフ
ランカルボン酸が結合した、従来知られても・ない全く
新しい骨格を有している。
リジン環の窒素原子に5−オキソ−2−テトラヒドロフ
ランカルボン酸が結合した、従来知られても・ない全く
新しい骨格を有している。
一方、ペニシリンは今なお抗生物質として、重要な位置
を占め、特にペニシリン骨格の2位及び6位の置換基に
つき、その配位との関係も含め種々検討がなされてきて
いる。
を占め、特にペニシリン骨格の2位及び6位の置換基に
つき、その配位との関係も含め種々検討がなされてきて
いる。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、TAN−588の部分構造である5−オキソ
テトラヒドロフラン環がペニシリン骨格に導入されもは
や、TAN−588の構造ともまたペニシリン骨格とも
全く異なる従来には見られなかった全く新しい基本骨格
を有し、抗菌活性を示す、化合物を得ることにある。
テトラヒドロフラン環がペニシリン骨格に導入されもは
や、TAN−588の構造ともまたペニシリン骨格とも
全く異なる従来には見られなかった全く新しい基本骨格
を有し、抗菌活性を示す、化合物を得ることにある。
問題を解決するための手段
本発明者らは、TAN−588の骨格又はその部分構造
を有する種々の化合物について、鋭意研究した結果、T
AN−588の5−オキソテトラヒドロフラン環をペニ
シリン骨格に導入した3理性ペナム化合物は、化学的に
製造され得、かつ、かくして化学的に製造された化合物
はすぐれた抗菌活性を有することを見い出し、本発明を
完成するに至った。
を有する種々の化合物について、鋭意研究した結果、T
AN−588の5−オキソテトラヒドロフラン環をペニ
シリン骨格に導入した3理性ペナム化合物は、化学的に
製造され得、かつ、かくして化学的に製造された化合物
はすぐれた抗菌活性を有することを見い出し、本発明を
完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1) 4.10−ジオキソ−3−オキサ−7−チア
−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0″・8]デカ
ン−2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエス
テルまたは塩、 (2)とりわけ9位に、アミノ基または窒素あるいは炭
素を介する有機残基を置換基として有する(1)に記載
の骨格を有する化合物、 (3)一般式 [式中、R1は水素、アミノ基または窒素あるいは炭素
を介する有機残基を、R2は水素、メトキシまたはホル
ミルアミ7)基を、R’、R’およびR5は、同一また
は異なって、水素または有機残基を、それぞれ示す。コ
で表わされる化合物またはそのエステルまたは塩、 (4)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル
)チオグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステ
ルまたは、2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノ
ン−4−イル)チオ−5−オキソテトラヒドロフラン−
2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステル
を閉環反応に付すことを特徴とする4、10−ジオキソ
−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイ、クロ[6
,2,0,0!/6コデカンー2−カルボン酸骨格を有
する化合物またはそのエステルまたは塩の製造法、(5
)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル)チ
オグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステルま
たは塩、 (6)2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノン−
4−イル)チオ−5−オキソ−テトラヒドロフラン−2
−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステルま
たは塩、および (7) 4 、 L O−ジオキソ−3−オキサ−7
−チア、−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・
6]デカン−2−カルボン酸骨格を有する化合物または
そのエステルまたは塩を含有する抗菌剤、 に関する。
−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0″・8]デカ
ン−2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエス
テルまたは塩、 (2)とりわけ9位に、アミノ基または窒素あるいは炭
素を介する有機残基を置換基として有する(1)に記載
の骨格を有する化合物、 (3)一般式 [式中、R1は水素、アミノ基または窒素あるいは炭素
を介する有機残基を、R2は水素、メトキシまたはホル
ミルアミ7)基を、R’、R’およびR5は、同一また
は異なって、水素または有機残基を、それぞれ示す。コ
で表わされる化合物またはそのエステルまたは塩、 (4)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル
)チオグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステ
ルまたは、2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノ
ン−4−イル)チオ−5−オキソテトラヒドロフラン−
2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステル
を閉環反応に付すことを特徴とする4、10−ジオキソ
−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイ、クロ[6
,2,0,0!/6コデカンー2−カルボン酸骨格を有
する化合物またはそのエステルまたは塩の製造法、(5
)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル)チ
オグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステルま
たは塩、 (6)2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノン−
4−イル)チオ−5−オキソ−テトラヒドロフラン−2
−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステルま
たは塩、および (7) 4 、 L O−ジオキソ−3−オキサ−7
−チア、−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・
6]デカン−2−カルボン酸骨格を有する化合物または
そのエステルまたは塩を含有する抗菌剤、 に関する。
ベナム骨格に、5−オキソテトラヒドロフラン環が導入
された新規4.10−ジオキソ−3−才キサーフ−チア
−1−アザトリサイクロ[6,2゜0、Ot/’]デカ
ン−2−カルボン酸骨格を有することを特徴とする本発
明化合物のうち、好ましい化合物は、一般式 [式中、R1は水素、アミノ基または窒素あるいは炭素
を介する有機残基を、R′は水素、メトキシまたはホル
ミルアミノ基を R3、R4およびR′は、同一または
異なって、水素または有機残基を、それぞれ示す。コで
表わされる化合物またはそのエステルまたは塩である。
された新規4.10−ジオキソ−3−才キサーフ−チア
−1−アザトリサイクロ[6,2゜0、Ot/’]デカ
ン−2−カルボン酸骨格を有することを特徴とする本発
明化合物のうち、好ましい化合物は、一般式 [式中、R1は水素、アミノ基または窒素あるいは炭素
を介する有機残基を、R′は水素、メトキシまたはホル
ミルアミノ基を R3、R4およびR′は、同一または
異なって、水素または有機残基を、それぞれ示す。コで
表わされる化合物またはそのエステルまたは塩である。
上記一般式中、R1で示される窒素を介する有機残基の
例としては、たとえばアシルアミノ、アルケニルアミノ
、ウレイドおよびチオウレイド、式−Co−Go−NH
−で表わされる基など炭素を介して置換されたアミノ、
チオアミノ、ンリルアミノ、、リン酸アミノなどが挙げ
られる。
例としては、たとえばアシルアミノ、アルケニルアミノ
、ウレイドおよびチオウレイド、式−Co−Go−NH
−で表わされる基など炭素を介して置換されたアミノ、
チオアミノ、ンリルアミノ、、リン酸アミノなどが挙げ
られる。
上記アシルアミノにおけるアシルとしては、従来知られ
ているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換している
アシル基、セファロスポリン誘導体の7位アミノ基に置
換しているアシル基等が挙げられる。
ているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換している
アシル基、セファロスポリン誘導体の7位アミノ基に置
換しているアシル基等が挙げられる。
該アシルアミノ基の例としては、たとえば式%式%
[式中、R10は水素、アルキル1(本明細書における
各基の説明中、”が付された基は、置換基を有していて
もよい場合を示す。)、アルケニル”、シクロアルキル
“、アリール”、複素環ゝ、アルコキシ“またはアリー
ルオキシ1を、R”は水素またはアルキル1を示し、R
”はR”と環”を形成し、ている場合を含む。]で表わ
される基1式%式%) [式中、R”は水素、アミノ酸残基1、アミノ基の保護
基または式R” (CHz)n C(= Z)−(
式中、R′4は複素環0.アルコキシ”またはアミノ−
を、nは0,1または2を、Zは0またはSをそれぞれ
表わす。)で表わされる基を、RI3はアルキル1.ア
リール1.シクロアルケニル1または複素環”を、それ
ぞれ表わす。]で表わされる基。
各基の説明中、”が付された基は、置換基を有していて
もよい場合を示す。)、アルケニル”、シクロアルキル
“、アリール”、複素環ゝ、アルコキシ“またはアリー
ルオキシ1を、R”は水素またはアルキル1を示し、R
”はR”と環”を形成し、ている場合を含む。]で表わ
される基1式%式%) [式中、R”は水素、アミノ酸残基1、アミノ基の保護
基または式R” (CHz)n C(= Z)−(
式中、R′4は複素環0.アルコキシ”またはアミノ−
を、nは0,1または2を、Zは0またはSをそれぞれ
表わす。)で表わされる基を、RI3はアルキル1.ア
リール1.シクロアルケニル1または複素環”を、それ
ぞれ表わす。]で表わされる基。
式
%式%
[式中、R15は式n 17− C−(式中、R”はア
ルダ 0−R” キル7、複素環1またはアリール”を、R”は水素、ア
ルキル1.アルケニル7、シクロアルキル“。
ルダ 0−R” キル7、複素環1またはアリール”を、R”は水素、ア
ルキル1.アルケニル7、シクロアルキル“。
複素環“または式−RI9−RlO(式中、R′9はア
ルキレン1.シクロアルキレンまたはアルケニレンを、
R10はアリール”、カルボキシ“またはそのエステル
またはモノまたはジアルキルアミドを、それぞれ表わす
。)で表わされる基を、それぞれ表わす)で表わされる
基を、R18は化学結合手または式−Co−NH−CH
−(式中、R月はア1I ル、キル“、アリール1または複素環1を表わす。)で
表わされる基を、それぞれ表わす。]で表わされる基。
ルキレン1.シクロアルキレンまたはアルケニレンを、
R10はアリール”、カルボキシ“またはそのエステル
またはモノまたはジアルキルアミドを、それぞれ表わす
。)で表わされる基を、それぞれ表わす)で表わされる
基を、R18は化学結合手または式−Co−NH−CH
−(式中、R月はア1I ル、キル“、アリール1または複素環1を表わす。)で
表わされる基を、それぞれ表わす。]で表わされる基。
式
%式%
[式中、R”はアリール“、複素環7またはシクロアル
ケニル2を、R″3はヒドロキシ、スルファモイル、ス
ルホ、スルホオキシまたはアシルオキシ5をそれぞれ示
す。]で表わされる基。
ケニル2を、R″3はヒドロキシ、スルファモイル、ス
ルホ、スルホオキシまたはアシルオキシ5をそれぞれ示
す。]で表わされる基。
式
%式%
[式中、R1はアルキル“、シアノ、アリール′。
アリールオキシ”、アルケニル′、複素環ゝ、アミノゝ
または式R′′’−C(−S)−(式中、R24′はア
ルコキシを示す。)で表わされる基を、R”は化学結合
手または−S−を、それぞれ示す。コで表わされる基等
が挙げられる。また前記ウレイドあるいはチオウレイド
としては式 [式中、R”およびR17は、同一または異なって、水
素、アルキル1jアリール1.複素環1またはシクロア
ルキルを、ZはOまたはSをそれぞれ示ず。」で表わさ
れる基が挙げられる。
または式R′′’−C(−S)−(式中、R24′はア
ルコキシを示す。)で表わされる基を、R”は化学結合
手または−S−を、それぞれ示す。コで表わされる基等
が挙げられる。また前記ウレイドあるいはチオウレイド
としては式 [式中、R”およびR17は、同一または異なって、水
素、アルキル1jアリール1.複素環1またはシクロア
ルキルを、ZはOまたはSをそれぞれ示ず。」で表わさ
れる基が挙げられる。
また、R”における式RI7G−は、式O−R”
R1ff c−で表わされるシン異性体、式%式%
R17−C−で表わされるアンチ異性体またはRIll
−〇 それらの混合物を表わす。
−〇 それらの混合物を表わす。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
その他炭素を介して置換されたアミノの例としては、た
とえば式 %式% [式中、Rlsはアルキル1.アリール”、アルケニル
”または複素環1を示す。コで表わされる基。
その他炭素を介して置換されたアミノの例としては、た
とえば式 %式% [式中、Rlsはアルキル1.アリール”、アルケニル
”または複素環1を示す。コで表わされる基。
式・
[式中、R”およびR”は同一または異なってアルキル
1.アリール”またはアルケニル1をそれぞれ示し、R
”とR”とが隣接する窒素原子と共に複素環を形成して
いる場合を含む。]で表わされる基。
1.アリール”またはアルケニル1をそれぞれ示し、R
”とR”とが隣接する窒素原子と共に複素環を形成して
いる場合を含む。]で表わされる基。
式
[式中、R”、R”およびR33は、同一または異なっ
て、アルキル”、アリール1.アルケニル”をそれぞれ
示し、R”とR”あるいはR33とが隣接する窒素原子
と共に複素環1を形成している場合を含む。コで表わさ
れる基がそれぞれ挙げられる。
て、アルキル”、アリール1.アルケニル”をそれぞれ
示し、R”とR”あるいはR33とが隣接する窒素原子
と共に複素環1を形成している場合を含む。コで表わさ
れる基がそれぞれ挙げられる。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
アルケニルアミノの例としては、たとえば式 [式中、R”およびR35は同一または異なって、水素
、アルキル1.アリール”、シクロアルキル、アミノ”
または複素環0を示し、R”およびR”が隣接する炭素
原子と共にシクロアルキル”または複素環”を形成して
いる場合を含む。コで表わされる基が挙げられる。
アルケニルアミノの例としては、たとえば式 [式中、R”およびR35は同一または異なって、水素
、アルキル1.アリール”、シクロアルキル、アミノ”
または複素環0を示し、R”およびR”が隣接する炭素
原子と共にシクロアルキル”または複素環”を形成して
いる場合を含む。コで表わされる基が挙げられる。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
チすア・ミノの例としては、たとえば式1式% E式中、R”はアルキル7またはアリール”を、nは0
.1または2をそれぞれ示す。」で表わされる基が挙げ
られる。
チすア・ミノの例としては、たとえば式1式% E式中、R”はアルキル7またはアリール”を、nは0
.1または2をそれぞれ示す。」で表わされる基が挙げ
られる。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
シリルアミノの例としては、たとえば式 [式中、R”、R”およびR”は、同一または異なりて
、アルキル”またはアリール1を示し、これらが環状基
を形成している場合を含む。R40は水素またはシリル
1を示す。」で表わされる基が挙げられる。
シリルアミノの例としては、たとえば式 [式中、R”、R”およびR”は、同一または異なりて
、アルキル”またはアリール1を示し、これらが環状基
を形成している場合を含む。R40は水素またはシリル
1を示す。」で表わされる基が挙げられる。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
リン酸アミノの例としては、 たとえば式 〔式中、R”およびR”は、同一または異なって、アル
キル“、アリール”、アルコキシ”またはアリールオキ
シ1を示し、R”とR”が複素環崇を形成している場合
を含む。]で表わされる基が挙げられる。
リン酸アミノの例としては、 たとえば式 〔式中、R”およびR”は、同一または異なって、アル
キル“、アリール”、アルコキシ”またはアリールオキ
シ1を示し、R”とR”が複素環崇を形成している場合
を含む。]で表わされる基が挙げられる。
上記R1で示される窒素を介する有機残基の例としての
式−〇〇−Go−NH−で表わされる基を含む基の例と
しては、たとえば式 %式% [式中、R43は水素、アルキル“、アルコキシ1.ア
リール”、アリールオキシ1.複素環1.アミノ”を示
す。コで表わされる基が挙げられる。
式−〇〇−Go−NH−で表わされる基を含む基の例と
しては、たとえば式 %式% [式中、R43は水素、アルキル“、アルコキシ1.ア
リール”、アリールオキシ1.複素環1.アミノ”を示
す。コで表わされる基が挙げられる。
上記式中、R1で示される炭素を介する有機残基として
は、たとえば、アルキル“、シクロアルキル1.アルケ
ニル”、アリール“、アシル、シアノ、カルバモイル、
エステル化あるいはアミド化されていてもよいカルボキ
シルおよび複素環0基等が挙げられる。
は、たとえば、アルキル“、シクロアルキル1.アルケ
ニル”、アリール“、アシル、シアノ、カルバモイル、
エステル化あるいはアミド化されていてもよいカルボキ
シルおよび複素環0基等が挙げられる。
上記式中、R1で示される窒素又は炭素を介する有機残
基は、たとえば分子量500までのものが好ましい。
基は、たとえば分子量500までのものが好ましい。
上記式中のRIで示される基におけるアルキルとしては
、たとえば直鎖状または分枝状の炭素数1〜6のものが
好ましく、その例としてはたとえはメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n−ブチル。イソブチル、
5ec−ブヂル、t−ブチル+’+1−ジメチルプロピ
ル、n−ペンデル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソ
ヘキシルなどが挙げられる。
、たとえば直鎖状または分枝状の炭素数1〜6のものが
好ましく、その例としてはたとえはメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n−ブチル。イソブチル、
5ec−ブヂル、t−ブチル+’+1−ジメチルプロピ
ル、n−ペンデル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソ
ヘキシルなどが挙げられる。
該アルキル基が有していてもよい置換基としては、たと
えばハロゲン、オキソ、チオキソ、ニド礼アミノ(アル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アシル
、カルバモイル、N−スルホカルバモイルを置換基とし
て有していてもよい。)、スルホ、シアノ、ヒドロキシ
、カルボキシ(アルキルでエステル化されていてもよい
。)、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ
(アミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、アリー
ル、シクロアルキル、アルコキシを置換基として有して
いてもよい。)、アリール(ハロゲン、アルキル、アル
コキシ。
えばハロゲン、オキソ、チオキソ、ニド礼アミノ(アル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アシル
、カルバモイル、N−スルホカルバモイルを置換基とし
て有していてもよい。)、スルホ、シアノ、ヒドロキシ
、カルボキシ(アルキルでエステル化されていてもよい
。)、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルコキシ
(アミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、アリー
ル、シクロアルキル、アルコキシを置換基として有して
いてもよい。)、アリール(ハロゲン、アルキル、アル
コキシ。
アルキルアミノ、アミノ、カルバモイル、スルホ、アル
キルスルホニル、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、ニ
トロ、アシルオキシ、アラルキルオキシ、スルホオキシ
を置換基として有していてもよい。)、上記のアリール
と同様の置換基を有していてもよいアリールカルボニル
、上記のアリールと同様の置換基を有していてもよいア
リールオキシ、複素環にトロ、オキソ、アリール、アル
ケニレン、ハロゲノアルキル、アルキルスルホニル、ア
ルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アミノ、ハロゲ
ン、カルバモイル、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、
スルホを置換基として有していてもよい。)、アシル(
ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、ニトロを置換基として
有していてもよいアリールカルボニルヒドラジノを置換
基として有していてもよい。)アシルオキシ、アルコキ
シカルボニル、アルコキシカルボニルオキシ(ハロゲン
で置換されていてもよい。)、アシルオキシエトキシ、
アラルキル(アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ
、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、カルバモイル、スルフ
ァモイルを置換基として有していてもよい。)、アラル
キルオキシ(アシルオキシ、アルキル、アルコキシ、ハ
ロゲン、アミノ。
キルスルホニル、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、ニ
トロ、アシルオキシ、アラルキルオキシ、スルホオキシ
を置換基として有していてもよい。)、上記のアリール
と同様の置換基を有していてもよいアリールカルボニル
、上記のアリールと同様の置換基を有していてもよいア
リールオキシ、複素環にトロ、オキソ、アリール、アル
ケニレン、ハロゲノアルキル、アルキルスルホニル、ア
ルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、アミノ、ハロゲ
ン、カルバモイル、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、
スルホを置換基として有していてもよい。)、アシル(
ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、ニトロを置換基として
有していてもよいアリールカルボニルヒドラジノを置換
基として有していてもよい。)アシルオキシ、アルコキ
シカルボニル、アルコキシカルボニルオキシ(ハロゲン
で置換されていてもよい。)、アシルオキシエトキシ、
アラルキル(アルキル、アルコキシ、ハロゲン、アミノ
、ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、カルバモイル、スルフ
ァモイルを置換基として有していてもよい。)、アラル
キルオキシ(アシルオキシ、アルキル、アルコキシ、ハ
ロゲン、アミノ。
ヒドロキシ、ニトロ、シアノ、カルバモイル、スルファ
モイルを置換基として有していてもよい。)。
モイルを置換基として有していてもよい。)。
ヒドロキシスルホニルオキシ、アルキルスルホニルオキ
シ、アリールスルホニルオキシ、アルキルスルホニル、
アミノスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールス
ルホニル、アルキルスルフィニル。
シ、アリールスルホニルオキシ、アルキルスルホニル、
アミノスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールス
ルホニル、アルキルスルフィニル。
アルキルチオ(シアノ、ハロゲン、カルボキシ、アルキ
ルアミノ、イミノ、カルバモイル、アシルアミノを置換
基として有していてもよい。)、アリールチオ、複素環
チオ(シアノ、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、
アルキル、ハロゲン、オキソを置換基として有していて
もよい。)、複素環(シアノ、ヒドロキシ、アミノ、ア
ルキルアミノ、アルキル、ハロゲン、オキソを置換基と
して有していてもよい。)アルキルチオ、イミノメチル
アミノ、イミノエチルアミノ、シリル(アルキル、アリ
ールを置換基として有していてもよい。)、上記シリル
と同様の置換基を存していてもよいシリルオキシ、フタ
ルイミド、スクシンイミド、ジアルキルアミノ、ジアル
キルアミノカルボニル、アリールカルボニルアミノ。
ルアミノ、イミノ、カルバモイル、アシルアミノを置換
基として有していてもよい。)、アリールチオ、複素環
チオ(シアノ、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、
アルキル、ハロゲン、オキソを置換基として有していて
もよい。)、複素環(シアノ、ヒドロキシ、アミノ、ア
ルキルアミノ、アルキル、ハロゲン、オキソを置換基と
して有していてもよい。)アルキルチオ、イミノメチル
アミノ、イミノエチルアミノ、シリル(アルキル、アリ
ールを置換基として有していてもよい。)、上記シリル
と同様の置換基を存していてもよいシリルオキシ、フタ
ルイミド、スクシンイミド、ジアルキルアミノ、ジアル
キルアミノカルボニル、アリールカルボニルアミノ。
カルバモイル、カルバモイルオキシ、N−スルホカルバ
モイルオキシ1アルキルカルボニルカルバモイルオキシ
(ハロゲンで置換されていてもよい。)。
モイルオキシ1アルキルカルボニルカルバモイルオキシ
(ハロゲンで置換されていてもよい。)。
アルコキシイミノ、式
は、同一または異なって、水酸基またはアミノ基を示す
。)で表わされる基などが挙げられる。
。)で表わされる基などが挙げられる。
上記式中、R”で示されるアルキレンとしては、炭素数
1〜6のものが好ましく、その例としてはたとえばメヂ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレンなどが挙げられる。
1〜6のものが好ましく、その例としてはたとえばメヂ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレンなどが挙げられる。
該アルキレン基が有していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、カ
ルボキシ、カルバモイル、シアノ、ニトロなどが挙げら
れる。
とえばハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、アルコキシ、カ
ルボキシ、カルバモイル、シアノ、ニトロなどが挙げら
れる。
上記式中のR1で示される基におけるシクロアルキル、
シクロアルキルオキシにおけるシクロアルキルあるいは
2つ以上の基が結合して環を形成している場合に形成さ
れるシクロアルキルとしては、炭素数3〜8のものが好
ましく、その例としてはたとえばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチルなどが挙げられる。
シクロアルキルオキシにおけるシクロアルキルあるいは
2つ以上の基が結合して環を形成している場合に形成さ
れるシクロアルキルとしては、炭素数3〜8のものが好
ましく、その例としてはたとえばシクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチルなどが挙げられる。
該シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては
、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、ス
ルホ、シアノ、カルボキン、オキソ、チ1キソなどが挙
げられる。
、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、ス
ルホ、シアノ、カルボキン、オキソ、チ1キソなどが挙
げられる。
上記式中の基におけるシクロアルキレンとしては、上記
シクロアルキルがさらにもう一つの結合手をもったもの
が挙げられる。
シクロアルキルがさらにもう一つの結合手をもったもの
が挙げられる。
上記式中のR1で示される基におけるアリール(ary
l)、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル
、アリールオキシまたはアリールチオにおけるアリール
としては、たとえばフェニル、ナフチル、ビフェニル、
アンスリル、インデニルなどが挙げられる。
l)、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル
、アリールオキシまたはアリールチオにおけるアリール
としては、たとえばフェニル、ナフチル、ビフェニル、
アンスリル、インデニルなどが挙げられる。
該アリール基が有していてもよい置換基としては、たと
えばハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ(アルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリールを置換基として有
していてもよい。)、スルホ、メルカプト、ヒドロキシ
、カルボキシ、アシル、スルホオキシ、スルファモイル
、カルバモイル、アルキル(アミノ、ハロゲン、ヒドロ
キシ、シアノ、カルボキシを置換基として有していても
よい。)、アルコキシ、アラルキルオキシ、アルキルス
ルホンアミド。
えばハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ(アルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリールを置換基として有
していてもよい。)、スルホ、メルカプト、ヒドロキシ
、カルボキシ、アシル、スルホオキシ、スルファモイル
、カルバモイル、アルキル(アミノ、ハロゲン、ヒドロ
キシ、シアノ、カルボキシを置換基として有していても
よい。)、アルコキシ、アラルキルオキシ、アルキルス
ルホンアミド。
メヂレンジオキシ、アルキルスルホニル、アルキルスル
ボニルアミノなどが挙げられる。また、シクロアルキル
と縮合環(例、テトラヒドロナフチル。
ボニルアミノなどが挙げられる。また、シクロアルキル
と縮合環(例、テトラヒドロナフチル。
インダニル、アセナフチルなど)を形成していてもよい
。
。
上記式中のR1で示される基におけるアルコキシとして
は、炭素数1〜6のものが好ましく、その例としては、
たとえばメトキシ1エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ
、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシなどが挙げ
られる。
は、炭素数1〜6のものが好ましく、その例としては、
たとえばメトキシ1エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ
、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシなどが挙げ
られる。
該アルコキシ基が有していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ
、シアノ、カルボキシ、アリールにトロ、アミノ、ヒド
ロキシ、アルキル、アルコキシを置換基として有してい
てらよい。)、シリル(アルキル、了り−ル、アラルキ
ルを置換基として有していてもよい。)などが挙げられ
る。
とえばハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ
、シアノ、カルボキシ、アリールにトロ、アミノ、ヒド
ロキシ、アルキル、アルコキシを置換基として有してい
てらよい。)、シリル(アルキル、了り−ル、アラルキ
ルを置換基として有していてもよい。)などが挙げられ
る。
上記式中のR1で示される基におけるアルキルチオとし
ては、炭素数1〜6のものが好ましく、その例としては
、たとえばメチルヂオ、エヂルチf、n−プロピルチオ
、i−プロピルチオ、n−ブチルチオ、i−ブチルチオ
、n−ベンチルチオ、n−へキシルチオなどが挙げられ
る。該アルキルチオ基を存していてもよい置換基として
は、たとえば前記のアルコキシの置換基と同様のものが
挙げられる。
ては、炭素数1〜6のものが好ましく、その例としては
、たとえばメチルヂオ、エヂルチf、n−プロピルチオ
、i−プロピルチオ、n−ブチルチオ、i−ブチルチオ
、n−ベンチルチオ、n−へキシルチオなどが挙げられ
る。該アルキルチオ基を存していてもよい置換基として
は、たとえば前記のアルコキシの置換基と同様のものが
挙げられる。
上記式中のR1で示される基におけるアルケニルとして
は、たとえば炭素数1〜6のものが好ましく、その例と
してはたとえばメチレン、ビニル。
は、たとえば炭素数1〜6のものが好ましく、その例と
してはたとえばメチレン、ビニル。
アリノb(allyl)、イソプロペニル、1−プロペ
ニル。
ニル。
2−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、1.3−プ
タジエニル、l、3−ペンタジェニル、4−ペンテニル
、■、3−へキサジェニル、エチリデン、プロピリデン
、イソプロピリデン、ブヂリデンなどが挙げられる。
タジエニル、l、3−ペンタジェニル、4−ペンテニル
、■、3−へキサジェニル、エチリデン、プロピリデン
、イソプロピリデン、ブヂリデンなどが挙げられる。
該アルケニル基が有していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、ニトロ、アミノ(アシルを置換基とし
て有していてもよい。)、スルホ、シアノ、ヒドロキシ
、カルボキシ、カルバモイル、スルファモイル、アリー
ル(aryl)、アシルなどが挙げられる。
とえばハロゲン、ニトロ、アミノ(アシルを置換基とし
て有していてもよい。)、スルホ、シアノ、ヒドロキシ
、カルボキシ、カルバモイル、スルファモイル、アリー
ル(aryl)、アシルなどが挙げられる。
上記式中のR1で示される基におけるアルケニレンとし
ては、たとえば炭素数2〜6のものが好ましく、その例
としてはたとえばビニレン、1−プロペニレン、2−ブ
テニレン、2−ペンテニレン。
ては、たとえば炭素数2〜6のものが好ましく、その例
としてはたとえばビニレン、1−プロペニレン、2−ブ
テニレン、2−ペンテニレン。
1.3−ヘキサジエニレンなどが挙げられる。
上記式中、R13,R”で表わされるシクロアルケニル
としては、たとえば炭素数3〜8のものが好ましく、そ
の例としては、たとえばl−シクロプロペニル、l−シ
クロブテニル、■−シクロペンテニル、2−シグロペン
テニル、3−シクロペンテニル、!−シクロへキセニル
、2−シクロへキセニル。
としては、たとえば炭素数3〜8のものが好ましく、そ
の例としては、たとえばl−シクロプロペニル、l−シ
クロブテニル、■−シクロペンテニル、2−シグロペン
テニル、3−シクロペンテニル、!−シクロへキセニル
、2−シクロへキセニル。
3−シクロへキセニル、l−シクロへブテニル、l。
4−シクロへキサジェニルなどが挙げられる。
該シクロアルケニル基が有していてもよい置換基として
は、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ。
は、たとえばハロゲン、ニトロ、アミノ。
スルポ、シアノ、ヒドロキシ、カルボキシ、カルバモイ
ル、スルファモイルなどが挙げられる。
ル、スルファモイルなどが挙げられる。
上記式中のR1で示される基における複素環あるいはこ
れらの基が形成している複素環どしては、たとえば1個
の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を含む5〜7員複
素環基、2〜4個の窒素原子を含む5〜6員複素環基、
1〜2個の窒素原子および1個の硫黄原子または酸素原
子を含む5〜6員複素環基が挙げられ、これらの複素環
基は2個以下の窒素原子を含む6員環基、ベンゼン環ま
たは1個の硫黄原子を含む5員環基と縮合していてもよ
い。
れらの基が形成している複素環どしては、たとえば1個
の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を含む5〜7員複
素環基、2〜4個の窒素原子を含む5〜6員複素環基、
1〜2個の窒素原子および1個の硫黄原子または酸素原
子を含む5〜6員複素環基が挙げられ、これらの複素環
基は2個以下の窒素原子を含む6員環基、ベンゼン環ま
たは1個の硫黄原子を含む5員環基と縮合していてもよ
い。
上記の複素環基の具体例としては、たとえば、ピリジン
−(2−,3−または4−イル)、ピリミジン−(2−
,4−または5−イル)、ピラジン−2−イル、ピリダ
ジン−(3−または4−イル)、ピペラジン−1−イル
、ピペリジン−1−イル、ピラゾール−(1−,3−ま
たは4−イル)、4H−ビラン−3−イル、4H−チオ
ビラン−3−イル、デアゾール−(2−,4−または5
−イル)、イソチアゾール−(3−,4−または5−イ
ル)、オキサゾール−(2−94−または5−イル)、
イソオキサゾール−(3−14−または5−イル)、ピ
リド[2,3−d]ピリミジン−(2−,3−,4−,
5−または7−イル)。
−(2−,3−または4−イル)、ピリミジン−(2−
,4−または5−イル)、ピラジン−2−イル、ピリダ
ジン−(3−または4−イル)、ピペラジン−1−イル
、ピペリジン−1−イル、ピラゾール−(1−,3−ま
たは4−イル)、4H−ビラン−3−イル、4H−チオ
ビラン−3−イル、デアゾール−(2−,4−または5
−イル)、イソチアゾール−(3−,4−または5−イ
ル)、オキサゾール−(2−94−または5−イル)、
イソオキサゾール−(3−14−または5−イル)、ピ
リド[2,3−d]ピリミジン−(2−,3−,4−,
5−または7−イル)。
ベンゾ[1,2−bコー4H−ビラン−3−イル、1゜
8−ナフチリジン(2−,3−,4−,5−,6−また
は7−イル)、1.7−ナフチリジン−(2−,3−,
4−,5−,6−または7−イル)、1.6−ナフチリ
ジン−(2−,3−,4−、,5−,7−または8−イ
ル)j、5−ナフチリジン−(2−,3−,4−。
8−ナフチリジン(2−,3−,4−,5−,6−また
は7−イル)、1.7−ナフチリジン−(2−,3−,
4−,5−,6−または7−イル)、1.6−ナフチリ
ジン−(2−,3−,4−、,5−,7−または8−イ
ル)j、5−ナフチリジン−(2−,3−,4−。
6−17−または8−イル)、2.7−ナフチリジン−
(1−,3−,4−,5−,6−または8−イル)。
(1−,3−,4−,5−,6−または8−イル)。
2.6−ナフチリジン−(1−,3−,4−,5−,7
−または8−イル)、キノリン=(2−,3−,4−。
−または8−イル)、キノリン=(2−,3−,4−。
5−.6−.7−または8−イル)、チェノ[2,3−
b]ピリダジン(2−または3−イル)、テトラゾール
−(1−または5−イル)、I、3.5−チアジアゾー
ル−(2−または4−イル)、I、3.5−オキサジア
ゾール−(2−または4−イル)、トリアジン−2−イ
ル、l、2.3−トリアゾール−(4−または5−イル
)、l、3.5−、トリアゾール−(2−または5−イ
ル)、チオフェン−(2−または3−イル)、ビロール
−(1−,2−または3−イル)、フラン−(2−また
は3−イル)、ピロリジン−1−イル、イミダゾリジン
−(1−,2−または4−イル)、ジチェタン−2−イ
ル、テトラヒドロフラン−(2−,3−または4−イル
)、ベンゾ[1,2−bコヂオフェン−(2−または3
−イル)、インドール−(1−,2−または3−イル)
、イソインドリジン−(1−,2−または3−イル)な
どが挙げられる。
b]ピリダジン(2−または3−イル)、テトラゾール
−(1−または5−イル)、I、3.5−チアジアゾー
ル−(2−または4−イル)、I、3.5−オキサジア
ゾール−(2−または4−イル)、トリアジン−2−イ
ル、l、2.3−トリアゾール−(4−または5−イル
)、l、3.5−、トリアゾール−(2−または5−イ
ル)、チオフェン−(2−または3−イル)、ビロール
−(1−,2−または3−イル)、フラン−(2−また
は3−イル)、ピロリジン−1−イル、イミダゾリジン
−(1−,2−または4−イル)、ジチェタン−2−イ
ル、テトラヒドロフラン−(2−,3−または4−イル
)、ベンゾ[1,2−bコヂオフェン−(2−または3
−イル)、インドール−(1−,2−または3−イル)
、イソインドリジン−(1−,2−または3−イル)な
どが挙げられる。
該複素環基が有していてもよい置換基としては、たとえ
ばアミノ(アシル、ハロゲン置換アルキルアシル、フェ
ニル、アルキルを置換基として有していてもよい。)、
ハロゲン、ニトロ、スルホ、シアノ、ヒドロキシ、カル
ボキシ、オキソ、チオキソ、Cl−10アルキル[アリ
ール、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ。
ばアミノ(アシル、ハロゲン置換アルキルアシル、フェ
ニル、アルキルを置換基として有していてもよい。)、
ハロゲン、ニトロ、スルホ、シアノ、ヒドロキシ、カル
ボキシ、オキソ、チオキソ、Cl−10アルキル[アリ
ール、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ。
カルボキシ、アルコキシ、アルキルスルホニル、ジアル
キルアミノ、リン酸(アルキルを置換基として有してい
てもよい。)を置換基として有していてらよい。]、シ
クロアルキル、アルコキシ(ハロゲン。
キルアミノ、リン酸(アルキルを置換基として有してい
てもよい。)を置換基として有していてらよい。]、シ
クロアルキル、アルコキシ(ハロゲン。
ヒドロキシを置換基として有していてもよい。)。
炭素数1〜4のアシル、アリール(ハロゲン、ニトロ、
アルキル、アルコキシ、アミノ、スルホ、ヒドロキシ、
シアノを置換基として有していてもよい。)。
アルキル、アルコキシ、アミノ、スルホ、ヒドロキシ、
シアノを置換基として有していてもよい。)。
オキソ、チオキソ、アミノ酸残基−チオ(アミノ酸残基
の例としては、後述のそれらと同様のものが挙げられる
。)、C+−+oアシルルーチオ[アリール。
の例としては、後述のそれらと同様のものが挙げられる
。)、C+−+oアシルルーチオ[アリール。
ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキ
シ、アルキルスルホニル、ジアルキルアミノ。
シ、アルキルスルホニル、ジアルキルアミノ。
リン酸(アルキルを置換基として有していてもよい。)
を置換基として有していてもよい。」、複素環(アルキ
ル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、カルボキ
シ、ホルミル、アルキルスルホニルを置換基としで存し
ていてもよい。)1式R”’ −CH=N−[式中、R
50′は、複素環(アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
ニトロ、シアノ、ヒドロキシ。
を置換基として有していてもよい。」、複素環(アルキ
ル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、カルボキ
シ、ホルミル、アルキルスルホニルを置換基としで存し
ていてもよい。)1式R”’ −CH=N−[式中、R
50′は、複素環(アルキル、アルコキシ、ハロゲン、
ニトロ、シアノ、ヒドロキシ。
カルボキシ、ホルミル、アルキルスルホニルを置換基と
して有していてもよい。)を示す。]で表わされる基な
どが挙げられる。
して有していてもよい。)を示す。]で表わされる基な
どが挙げられる。
上記式中、R口がR”と共に形成する環としては、たと
えばフタロイル、スクシニル、マレオイル。
えばフタロイル、スクシニル、マレオイル。
シトラコノイル、グルタリル、アジポイルなどと共に形
成する環が挙げられ、また、形成する環としては、たと
えば2.2−ジメチル−5−オキソ−4−フェニル−イ
ミダゾリジンなども挙げられる。
成する環が挙げられ、また、形成する環としては、たと
えば2.2−ジメチル−5−オキソ−4−フェニル−イ
ミダゾリジンなども挙げられる。
該環状基が有していてもよい置換基としては、たとえば
ハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ、シア
ノ、カルボキシなどが挙げられる。
ハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ、スルホ、シア
ノ、カルボキシなどが挙げられる。
上記式中のR1で表わされる基におけるアシルオキシに
おけるアシルとしては、たとえば炭素数1〜4のものが
好ましく、その例としてはたとえばホルミル、アセデル
、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルなどが挙げら
れ、その置換基としてはたとえばアルキル(アミノ、ハ
ロゲン、シアノ、アルコキシ、カルボキシ、ヒドロキシ
を置換基として有していてもよい。)などが挙げられる
。
おけるアシルとしては、たとえば炭素数1〜4のものが
好ましく、その例としてはたとえばホルミル、アセデル
、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルなどが挙げら
れ、その置換基としてはたとえばアルキル(アミノ、ハ
ロゲン、シアノ、アルコキシ、カルボキシ、ヒドロキシ
を置換基として有していてもよい。)などが挙げられる
。
上記式中、R′1で示されるアミノ酸残基としては、た
とえばグリシル、アラニル、バリル、ロイシル、イソロ
イシル、セリル、スレオニル、システイニル、シスチル
、メチオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−また
はγ−グルタミル、リジル、アルギニル、フェニルアラ
ニル、フェニルグリシル、チロシル、ヒスチジル、トリ
プトファニル、プロリルなどが挙げられる。
とえばグリシル、アラニル、バリル、ロイシル、イソロ
イシル、セリル、スレオニル、システイニル、シスチル
、メチオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−また
はγ−グルタミル、リジル、アルギニル、フェニルアラ
ニル、フェニルグリシル、チロシル、ヒスチジル、トリ
プトファニル、プロリルなどが挙げられる。
該アミノ酸残基が有していてもよい置換基としては、た
とえばハロゲン、ヒドロキシ、スルホ、カルボキシ、シ
アノ、アルキルアミノ、アラルキをオキシカルボニル、
アラルキルオキシ、グアニジノなどが挙げられる。
とえばハロゲン、ヒドロキシ、スルホ、カルボキシ、シ
アノ、アルキルアミノ、アラルキをオキシカルボニル、
アラルキルオキシ、グアニジノなどが挙げられる。
上記式中、RI!で示されるアミノ基の保護基としては
、たとえばβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえば
フタロイル、4−ニトロベンゾイル、 4− tert
−ブヂルベンゾイル、4−tert−ブチルベンゼンス
ルホニル、ベンゼンスルホニル。
、たとえばβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえば
フタロイル、4−ニトロベンゾイル、 4− tert
−ブヂルベンゾイル、4−tert−ブチルベンゼンス
ルホニル、ベンゼンスルホニル。
トルエンスルホニル等の芳香族アシル基、たとえばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセデル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル。
ミル、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセデル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル。
メタンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロア
セチル、マロニル、スクシニル等の脂肪族アシル基、た
とえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、2
−シアノエトキシカルボニル、2゜2.2−トリクロロ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、4−
ニトロベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニ
ル、メトキシメチルオキシカルボニル、アセチルメチル
オキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、フ
ェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカルボキ
シル基、(ヘキサヒドロ−IH−アゼピン−1−イル)
メチレン等のメチレン基、2−アミノ−2−カルボキシ
エチルスルホニル等のスルホニル基。
セチル、マロニル、スクシニル等の脂肪族アシル基、た
とえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、2
−シアノエトキシカルボニル、2゜2.2−トリクロロ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、4−
ニトロベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニ
ル、メトキシメチルオキシカルボニル、アセチルメチル
オキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、フ
ェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカルボキ
シル基、(ヘキサヒドロ−IH−アゼピン−1−イル)
メチレン等のメチレン基、2−アミノ−2−カルボキシ
エチルスルホニル等のスルホニル基。
さらに、例えば、トリチル、2−ニトロフェニルチオ、
ベンジリデン、4−ニトロベンジリデン、ジもしくはト
リアルキルシリル、ベンジル、4−ニトロベンジル等の
アシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられる。該保護
基の選択は本発明においては特に限定されるものではな
いが、特にモノクロ口アセチル、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルが好ましい。
ベンジリデン、4−ニトロベンジリデン、ジもしくはト
リアルキルシリル、ベンジル、4−ニトロベンジル等の
アシル基以外のアミノ基の保護基が挙げられる。該保護
基の選択は本発明においては特に限定されるものではな
いが、特にモノクロ口アセチル、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルが好ましい。
上記式中のRIで表わされる基における置換基を有して
いてもよいカルボキシ基における置換基としては、たと
えば、アルキル(ハロゲン、シアノ。
いてもよいカルボキシ基における置換基としては、たと
えば、アルキル(ハロゲン、シアノ。
ヒドロキシを置換基として有していてもよい。)。
アリール(アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキ
シ、アシルオキシ、スルホ、シアノ、スルファモイルを
置換基として有していてもよい。)、シリル(アルキル
、アリール、アラルキルを置換基として有していてもよ
い。)、複素環(アミノ、アルキルアミノ。
シ、アシルオキシ、スルホ、シアノ、スルファモイルを
置換基として有していてもよい。)、シリル(アルキル
、アリール、アラルキルを置換基として有していてもよ
い。)、複素環(アミノ、アルキルアミノ。
スルファモイル、カルバモイル、ハロゲン、シアノ。
ニトロを置換基として有していてもよい。)、アミノ(
アルキル、アリール、シクロアルキル、スルホまたはア
ラルキルを置換基として有していてもよい。
アルキル、アリール、シクロアルキル、スルホまたはア
ラルキルを置換基として有していてもよい。
また、該アミノ基中の窒素と共に、5〜6貝複素環を形
成してもよい。)などが挙げられる。
成してもよい。)などが挙げられる。
上記式中、R”で示されるカルボキシのエステルにおけ
るエステルとしては、たとえば炭素数l〜6のアルキル
エステルが挙げられ、その具体例としては、たとえばメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、n
−ブチルエステル、イソブチルエステル、 tert−
ブチルエステルなどが挙げられる。
るエステルとしては、たとえば炭素数l〜6のアルキル
エステルが挙げられ、その具体例としては、たとえばメ
チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、n
−ブチルエステル、イソブチルエステル、 tert−
ブチルエステルなどが挙げられる。
上記式中のR1で表わされる基における置換基を有して
いてもよいアミノにおける置換基としては、たとえば、
アミジノ、イミノメチル、イミノ(アリール置換)メチ
ル、グアニジルカルボニル、複素環1(前記の複素環と
同様の置換基を有していてもよい。)、イミノ(複素環
で置換されていてもよい。)メチル、アルキルカルボニ
ル、アリールカルボニル、ヒドロキシアルキル、アルキ
ルなどが挙げられる。
いてもよいアミノにおける置換基としては、たとえば、
アミジノ、イミノメチル、イミノ(アリール置換)メチ
ル、グアニジルカルボニル、複素環1(前記の複素環と
同様の置換基を有していてもよい。)、イミノ(複素環
で置換されていてもよい。)メチル、アルキルカルボニ
ル、アリールカルボニル、ヒドロキシアルキル、アルキ
ルなどが挙げられる。
上記式中のR1で表わされる基における置換基を有して
いてもよいシリルにおける置換基としては、たとえばア
ルキル、アリール、アラルキルなどが挙げられる。
いてもよいシリルにおける置換基としては、たとえばア
ルキル、アリール、アラルキルなどが挙げられる。
上記R”、R”IR”は、R40と環状基を形成しても
よく、その例としてはたとえば、2,5−ジシリルアザ
シクロペンチルなどが挙げられ、これらはたとえばアル
キル、アリールなどの置換基を有していてもよい。
よく、その例としてはたとえば、2,5−ジシリルアザ
シクロペンチルなどが挙げられ、これらはたとえばアル
キル、アリールなどの置換基を有していてもよい。
上記置換基の説明におけるハロゲンとしては、たとえば
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素が挙げられる。
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素が挙げられる。
上記したR1で表わされる基の更なる置換基の説明にお
けるアルキルとしては、特記していない限り炭素数1〜
10、さらに1〜6.またさらに1〜4のものが好まし
く、その例としてはたとえば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、5ec−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシルなどが挙げられる。
けるアルキルとしては、特記していない限り炭素数1〜
10、さらに1〜6.またさらに1〜4のものが好まし
く、その例としてはたとえば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、5ec−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシルなどが挙げられる。
上記置換基としてのシクロアルキルとしては、特記して
いない限り炭素数3〜6のものが好ましく、その例とし
てはシクロプロピル、シクロブチル、ンクロペンヂル、
シクロヘキシルなどが挙げられる。
いない限り炭素数3〜6のものが好ましく、その例とし
てはシクロプロピル、シクロブチル、ンクロペンヂル、
シクロヘキシルなどが挙げられる。
上記置換基としてのアルコキシとしては、特記していな
い限り炭素数1〜4のものが好ましく、その例としては
たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ
などが挙げられる。
い限り炭素数1〜4のものが好ましく、その例としては
たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プ
ロポキシ、n−ブトキシ、i−ブトキシ、t−ブトキシ
などが挙げられる。
上記置換基としてのアリールとしては、たとえばフェニ
ル、ナフチルなどが挙げられる。
ル、ナフチルなどが挙げられる。
上記置換基としての複素環としては、前記した複素環と
同様のものが挙げられる。
同様のものが挙げられる。
上記置換基としてのアシルとしては、特記していない限
り炭素数1〜6さらに1〜4のものが好ましく、たとえ
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキ
サノイルなどが挙げられる。
り炭素数1〜6さらに1〜4のものが好ましく、たとえ
ばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソ
ブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキ
サノイルなどが挙げられる。
上記置換基としてのアラルキルとしてはたとえばベンジ
ル、フェネチル、フェニル−プロピルなどが挙げられる
。
ル、フェネチル、フェニル−プロピルなどが挙げられる
。
上記置換基としてのアルケニルとしては、前記したアル
ケニルと同様のものが挙げられる。
ケニルと同様のものが挙げられる。
上記置換基としてのアミノ酸残基としては、前記したR
1″で示されるアミノ酸残基と同様のものが挙げられる
。
1″で示されるアミノ酸残基と同様のものが挙げられる
。
上記置換基としてのアミノ基中の窒素と共に形成してい
る5〜6員複素環としては、たとえばピペリジジン、ピ
ロリジン、イミダゾリジン、モルホリン、ピペラジンな
どが挙げられる。
る5〜6員複素環としては、たとえばピペリジジン、ピ
ロリジン、イミダゾリジン、モルホリン、ピペラジンな
どが挙げられる。
置換基を有していてもよい上記各基および下記する各基
(’を付された基)における置換基は、1〜3個である
ことが好ましい。
(’を付された基)における置換基は、1〜3個である
ことが好ましい。
上記のアシル基において、式R”−GO−N−R鵞!
で表わされるアシルアミノ基の具体例としては、たとえ
ば3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−メチルイソ
キサゾール−4−イル−カルボニルアミノ、4−エチル
−2,3−ジオキソーI−ピペラジノカルボニルアミノ
、3−フェニル−5−メチルイソキサゾール−4−イル
−カルボニルアミノ。
ば3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−メチルイソ
キサゾール−4−イル−カルボニルアミノ、4−エチル
−2,3−ジオキソーI−ピペラジノカルボニルアミノ
、3−フェニル−5−メチルイソキサゾール−4−イル
−カルボニルアミノ。
3−(2−クロロフェニル)−5−メチルイソキサゾー
ル−4−イル−カルボニルアミノ、3−(2−クロロ−
6−フルオロフェニル)−5−メチルイソキサゾール−
4−イル−カルボニルアミノ、ニコヂニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ、4−ブロモベンゾイルアミノ、2.6−
シメトキシベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノ、ブヂリルアミノ、イソ
ブチリルアミノ。
ル−4−イル−カルボニルアミノ、3−(2−クロロ−
6−フルオロフェニル)−5−メチルイソキサゾール−
4−イル−カルボニルアミノ、ニコヂニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ、4−ブロモベンゾイルアミノ、2.6−
シメトキシベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、アセチ
ルアミノ、プロピオニルアミノ、ブヂリルアミノ、イソ
ブチリルアミノ。
ピバロイルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ、l−アミノ−シクロヘキシ
ルカルボニルアミノ、2−アミノ−シクロヘキシルカル
ボニルアミノ、3−エトキシナフトイルアミノ、2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−エチリデン−アセ
チルアミノ、2−(2=アミノ−4−チアゾリル)−2
−クロロメチレン−アセチルアミノ、フタルイミド、ス
クシンイミド、l、2−シクロヘキサンジカルボキシイ
ミド。
ルオキシカルボニルアミノ、l−アミノ−シクロヘキシ
ルカルボニルアミノ、2−アミノ−シクロヘキシルカル
ボニルアミノ、3−エトキシナフトイルアミノ、2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−エチリデン−アセ
チルアミノ、2−(2=アミノ−4−チアゾリル)−2
−クロロメチレン−アセチルアミノ、フタルイミド、ス
クシンイミド、l、2−シクロヘキサンジカルボキシイ
ミド。
2−(トリメチルシリル)エトキシカルボニルアミノ、
2,2−ジメチル−5−才キソー4−フェニル−イミダ
ゾリジン、4−(カルバモイルカルボキシメチレン)−
1,3−ジチェタン−2−イル−カルボニルアミノなど
が挙げられる。
2,2−ジメチル−5−才キソー4−フェニル−イミダ
ゾリジン、4−(カルバモイルカルボキシメチレン)−
1,3−ジチェタン−2−イル−カルボニルアミノなど
が挙げられる。
式R′!−NH−OH−CO−NH−で表わさR”
れるアシルアミノの基の具体例としては、たとえばD−
アラニルアミノ、ベンジルN−カルボベンゾキン−γ−
D−グルタミルーD−アラニルアミノ、D−フェニルグ
リシル−D−アラニルアミノ、N−カルボベンゾキシ−
D−アラニルアミノ。
アラニルアミノ、ベンジルN−カルボベンゾキン−γ−
D−グルタミルーD−アラニルアミノ、D−フェニルグ
リシル−D−アラニルアミノ、N−カルボベンゾキシ−
D−アラニルアミノ。
N−カルボベンゾキシ−D−フェニルグリシルアミノ、
D−アラニル−D−フェニルグリシルアミノ、γ−D−
グルタミルーD−アラニルアミノ、2−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−
2−フェニルアセチルアミノ、2−(4−シクロへキシ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド
)−2−フェニルアセチルア・ミノ、2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)
−2−(4−スルホキシフェニル)アセチルアミノ、N
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカ
ルボニル)−D−アラニルアミノ、N−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニル)−D−
フェニルグリシルアミノ、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−(4−エヂルー2゜3−ジオキソ−!−
ピペラジノカルボキサミド)アセチルアミノ、2−(4
−ヒドロキシ−6−メチルニコチンアミド)−2−フェ
ニルアセチルアミン、2−(4−ヒドロキシ−6−メチ
ルニコチンアミド)−2−(4−ヒドロキシフェニル)
アセデルアミノ、2−(5,8−ジヒドロ−2−(4−
ホルミル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド[2
゜3−d]ピリミジン−6−カルボキサミド)−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−(3,5−ジオキソ−1,
2,4−トリアジン−6−カルボキサミド)−2−(4
−ヒドロキンフェニル)アセデルアミノ。
D−アラニル−D−フェニルグリシルアミノ、γ−D−
グルタミルーD−アラニルアミノ、2−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)−
2−フェニルアセチルアミノ、2−(4−シクロへキシ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド
)−2−フェニルアセチルア・ミノ、2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)
−2−(4−スルホキシフェニル)アセチルアミノ、N
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカ
ルボニル)−D−アラニルアミノ、N−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニル)−D−
フェニルグリシルアミノ、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−(4−エヂルー2゜3−ジオキソ−!−
ピペラジノカルボキサミド)アセチルアミノ、2−(4
−ヒドロキシ−6−メチルニコチンアミド)−2−フェ
ニルアセチルアミン、2−(4−ヒドロキシ−6−メチ
ルニコチンアミド)−2−(4−ヒドロキシフェニル)
アセデルアミノ、2−(5,8−ジヒドロ−2−(4−
ホルミル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド[2
゜3−d]ピリミジン−6−カルボキサミド)−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−(3,5−ジオキソ−1,
2,4−トリアジン−6−カルボキサミド)−2−(4
−ヒドロキンフェニル)アセデルアミノ。
2−(3−フルフリデンアミノ−2−オキソイミダゾリ
ジン−l−カルボキサミド)−2−フェニルアセデルア
ミノ、2−(クマリン−3−カルボキサミド)−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−(4−ヒドロキシ−7−メ
チル−1,8−ナフチリデン−3−カルボキサミド)−
2−フェニルアセチルアミノ、2−(4−ヒドロキン−
7−トリフルオコメチルキノリン−3−カルボキサミド
)−2−フエニルアセヂルアミノ、N−[2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)アセデル]−D−フェニルグリ
シルアミノ、2−(6−ブロモ−1−エチル−1゜4−
ジヒドロ−4−オキソチェノ[2,3−b]ピリジン−
3−カルボキサミド)−2−フェニルアセチルアミノ、
2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミノ、2−
(4−n−ペンチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミノ、2
−(4−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボキサミド)−2−ヂエニルアセチルアミノ、
2−(4−シクロへキシル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミ
ノ、2−[4−(2−フェニルエチル)−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド]−2−チェニル
アセチルアミノ、2−(3−メチルスルホニル−2−オ
キソイミダゾリジン−1−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチルアミノ、2−(3−フルフリデンアミノ−
2−オキソイミダゾリジン−1−カルボキサミド)−2
−(4−ヒドロキシフェニル)アセデルアミノ、2−(
4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−(4−ベンジルオキシフェニル)アセ
チルアミノ、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−!
−ピペラジノカルボキサミド)−2−(4−メトキシフ
ェニル)アセチルアミノ、2−(8−ヒドロキシ−1,
5−ナフチリジン−7−カルボキサミド)−2−フェニ
ルアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−ホルムアミドアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−アセトアミドアセチルアミ
ノ、2−フェニル−2−ウレイドアセチルアミノ、2−
フェニル−2−スルホウレイドアミノ、2−チェニル−
2−ウレイトアセチルアミノ、2−アミノ−3−スルフ
ァモイルプロピオニルアミノ、2−アミノ−2−(1)
f−インドール−3−イル)アセチルアミノ、2−アミ
ノ−2−(3−ベンゾ[b]チェニル)アセチルアミノ
、2−アミノ−2−(2−ナフチル)アセチルアミノ、
D−フェニルグリシル、D−2−アミノ−(4−ヒドロ
キシフェニル)アセチルアミノ、D−2−アミノ−2−
(1,4−シクロへキサジェニル)アセチルアミノ、D
−2−アミノ−2−(l−シクロへキセニル)アセチル
アミノ、D−2−アミノ−2−(3−クロロ−4−ヒド
ロキシフェニル)アセチルアミノ、2−ヒドロキシメチ
ルアミノ−2−フェニルアセチルアミノ、2−(1−シ
クロへキセニル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチルアミノ、
N−[2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペ
ラジノカルボニル)]−]D−スレオニルアミノ2−グ
アニルカルボキサミド−2−フェニルアセチルアミノ、
2−(4−エチル−2,3−シオキソーr−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)アセチルアミノ、2−(4−カルボキシ−5−イミ
ダゾリルカルボキサミド)−2−フェニルアセチルアミ
ノ、2−アミノ−2−(3−メチルスルホンアミドフェ
ニル)アセデルアミノなどが挙げられる。
ジン−l−カルボキサミド)−2−フェニルアセデルア
ミノ、2−(クマリン−3−カルボキサミド)−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−(4−ヒドロキシ−7−メ
チル−1,8−ナフチリデン−3−カルボキサミド)−
2−フェニルアセチルアミノ、2−(4−ヒドロキン−
7−トリフルオコメチルキノリン−3−カルボキサミド
)−2−フエニルアセヂルアミノ、N−[2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)アセデル]−D−フェニルグリ
シルアミノ、2−(6−ブロモ−1−エチル−1゜4−
ジヒドロ−4−オキソチェノ[2,3−b]ピリジン−
3−カルボキサミド)−2−フェニルアセチルアミノ、
2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミノ、2−
(4−n−ペンチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミノ、2
−(4−n−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボキサミド)−2−ヂエニルアセチルアミノ、
2−(4−シクロへキシル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチルアミ
ノ、2−[4−(2−フェニルエチル)−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド]−2−チェニル
アセチルアミノ、2−(3−メチルスルホニル−2−オ
キソイミダゾリジン−1−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチルアミノ、2−(3−フルフリデンアミノ−
2−オキソイミダゾリジン−1−カルボキサミド)−2
−(4−ヒドロキシフェニル)アセデルアミノ、2−(
4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−(4−ベンジルオキシフェニル)アセ
チルアミノ、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−!
−ピペラジノカルボキサミド)−2−(4−メトキシフ
ェニル)アセチルアミノ、2−(8−ヒドロキシ−1,
5−ナフチリジン−7−カルボキサミド)−2−フェニ
ルアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−ホルムアミドアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−アセトアミドアセチルアミ
ノ、2−フェニル−2−ウレイドアセチルアミノ、2−
フェニル−2−スルホウレイドアミノ、2−チェニル−
2−ウレイトアセチルアミノ、2−アミノ−3−スルフ
ァモイルプロピオニルアミノ、2−アミノ−2−(1)
f−インドール−3−イル)アセチルアミノ、2−アミ
ノ−2−(3−ベンゾ[b]チェニル)アセチルアミノ
、2−アミノ−2−(2−ナフチル)アセチルアミノ、
D−フェニルグリシル、D−2−アミノ−(4−ヒドロ
キシフェニル)アセチルアミノ、D−2−アミノ−2−
(1,4−シクロへキサジェニル)アセチルアミノ、D
−2−アミノ−2−(l−シクロへキセニル)アセチル
アミノ、D−2−アミノ−2−(3−クロロ−4−ヒド
ロキシフェニル)アセチルアミノ、2−ヒドロキシメチ
ルアミノ−2−フェニルアセチルアミノ、2−(1−シ
クロへキセニル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチルアミノ、
N−[2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペ
ラジノカルボニル)]−]D−スレオニルアミノ2−グ
アニルカルボキサミド−2−フェニルアセチルアミノ、
2−(4−エチル−2,3−シオキソーr−ピペラジノ
カルボキサミド)−2−(3,4−ジヒドロキシフェニ
ル)アセチルアミノ、2−(4−カルボキシ−5−イミ
ダゾリルカルボキサミド)−2−フェニルアセチルアミ
ノ、2−アミノ−2−(3−メチルスルホンアミドフェ
ニル)アセデルアミノなどが挙げられる。
式R”−R”−Go−NH−で表わされるアシルアミノ
基の具体例としては、たとえば、N−[2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル]
−D−アラニルアミノ、N−42−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル]−D−フ
ェニルグリシルアミノ。
基の具体例としては、たとえば、N−[2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル]
−D−アラニルアミノ、N−42−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル]−D−フ
ェニルグリシルアミノ。
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイ
ミノアセチルアミノ、2−(2−クロロアセトアミド−
4−チアゾリル)−2−メトキンイミノアセチルアミノ
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシ
イミノアセデルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−エトキノイミノアセチルアミノ、2−(2
−アミノ−・1−チアゾリル)−2−イソプロポキシイ
ミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ブトキシイミノアセチルアミノ、2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−シクロプロピルメチル
オキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−ペンジルオキシイミノアセヂルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−アリル
オキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−[(1−メチル−1−カルボキシエ
チル)オキシイミノコアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−[(1−メチル−1−メト
キシカルボニルエチル)オキシイミノコアセチルアミノ
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−カルボキ
シメチルオキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)〜2−カルボキシビニルオキシイ
ミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−カルボキシメチルオキシイミノアセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シカルボニルエチルオキシイミノアセチルアミノ、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−5−
ブロモ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチ
ルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
オキジイミノアセチルアミノ、2−チェニル−2−メト
キシイミノアセチルアミノ、2−フリル−2−メトキシ
イミノアセチルアミノ、2−(1,2,4−デアジアゾ
ール−3−イル)−2−メトキシイミノアセデルアミノ
、2−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−2
−メトキシイミノアセチルアミノ、2−(1,3,4−
チアジアゾリル)−2−メトキシイミノアセチルアミノ
、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メトキシイミ
ノアセチルアミノ、2−フェニル−2−メトキシイミノ
アセチルアミノ、2−フェニル−2−オキシイミノアセ
チルアミノ、2−[4−(γ−D−グルタミルオキシ)
フェニル]−2−才キジイミノアセチルアミノ、2−[
4−(3−アミノ−3−カルボキシプロポキシ)フェニ
ルツー2−オキシイミノアセチルアミノ、2−チェニル
−2−オキシイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−メト
キシイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル)−2−エトキシイミ
ノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−カルボキシメチルオキ
シイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2−[(1−メチル
−1−カルボキシエチル)オキシイミノコアセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(2−
アミノ−2−カルボキシ)エチルオキシイミノアセチル
アミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(
ジメチルアミドメチルオキシイミノ)アセチルアミノ、
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−1−(3,4−
ジアセトキシ−ベンゾイルオキシイミノ)アセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2〜(l−
カルボキシ−シクロプロビルオキシイミノ)アセチルア
ミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(1
−カルボキシ−シクロブチルオキシイミノ)アセチルア
ミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(2
−イミダゾリルメチルオキシイミノ)アセチルアミノ、
2−(2=アミノ−4−チアゾリル)−2−(2−メチ
ル−4−二トローl−イミダゾリルエチルオキシイミノ
)アセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(3−ピラゾリルメチルオキシイミノ)アセチ
ルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
(IH−テトラゾール−5−イル−メチルオキシイミノ
)アセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(2−オキソ−3−ピロリジニルオキシイミノ
)アセチルアミノ。
ミノアセチルアミノ、2−(2−クロロアセトアミド−
4−チアゾリル)−2−メトキンイミノアセチルアミノ
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシ
イミノアセデルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−エトキノイミノアセチルアミノ、2−(2
−アミノ−・1−チアゾリル)−2−イソプロポキシイ
ミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−ブトキシイミノアセチルアミノ、2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−シクロプロピルメチル
オキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−ペンジルオキシイミノアセヂルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−アリル
オキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−[(1−メチル−1−カルボキシエ
チル)オキシイミノコアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−[(1−メチル−1−メト
キシカルボニルエチル)オキシイミノコアセチルアミノ
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−カルボキ
シメチルオキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)〜2−カルボキシビニルオキシイ
ミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−カルボキシメチルオキシイミノアセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シカルボニルエチルオキシイミノアセチルアミノ、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチルアミノ、2−(2−アミノ−5−
ブロモ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチ
ルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
オキジイミノアセチルアミノ、2−チェニル−2−メト
キシイミノアセチルアミノ、2−フリル−2−メトキシ
イミノアセチルアミノ、2−(1,2,4−デアジアゾ
ール−3−イル)−2−メトキシイミノアセデルアミノ
、2−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−2
−メトキシイミノアセチルアミノ、2−(1,3,4−
チアジアゾリル)−2−メトキシイミノアセチルアミノ
、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メトキシイミ
ノアセチルアミノ、2−フェニル−2−メトキシイミノ
アセチルアミノ、2−フェニル−2−オキシイミノアセ
チルアミノ、2−[4−(γ−D−グルタミルオキシ)
フェニル]−2−才キジイミノアセチルアミノ、2−[
4−(3−アミノ−3−カルボキシプロポキシ)フェニ
ルツー2−オキシイミノアセチルアミノ、2−チェニル
−2−オキシイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−メト
キシイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル)−2−エトキシイミ
ノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−カルボキシメチルオキ
シイミノアセチルアミノ、2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2−[(1−メチル
−1−カルボキシエチル)オキシイミノコアセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(2−
アミノ−2−カルボキシ)エチルオキシイミノアセチル
アミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(
ジメチルアミドメチルオキシイミノ)アセチルアミノ、
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−1−(3,4−
ジアセトキシ−ベンゾイルオキシイミノ)アセチルアミ
ノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2〜(l−
カルボキシ−シクロプロビルオキシイミノ)アセチルア
ミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(1
−カルボキシ−シクロブチルオキシイミノ)アセチルア
ミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(2
−イミダゾリルメチルオキシイミノ)アセチルアミノ、
2−(2=アミノ−4−チアゾリル)−2−(2−メチ
ル−4−二トローl−イミダゾリルエチルオキシイミノ
)アセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(3−ピラゾリルメチルオキシイミノ)アセチ
ルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
(IH−テトラゾール−5−イル−メチルオキシイミノ
)アセチルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(2−オキソ−3−ピロリジニルオキシイミノ
)アセチルアミノ。
2−[2−(2−アミノ−2−カルボキシエチルチオ)
J−4−チアゾリル−2−メトキシイミノアセチルアミ
ノ、2−(2−チオキソ−4−チアゾリジニル)−2−
メトキシイミノアセチルアミノなどが挙げられる。
J−4−チアゾリル−2−メトキシイミノアセチルアミ
ノ、2−(2−チオキソ−4−チアゾリジニル)−2−
メトキシイミノアセチルアミノなどが挙げられる。
式R”−CH−Co−NH−で表わされる■
R”
アシルアミノ基の具体例として、たとえば2−フェニル
−2−スルホアセチルアミノ、2−ヒドロキシ−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−フェニル−2−スルファモ
イルアセチルアミノ52−カルボキシ−2−フェニルア
セチルアミノ、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−
カルボキシアセチルアミノ、2−フェノキシカルボニル
−2−フェニルアセチルアミノ、2−フヱニルー2−ト
リルオキシカルボニルアセチルアミノ、2−(5−イン
ダニルオキシカルボニル)−2−フェニルアセチルアミ
ノ、2−ホルミルオキシ−2−フェニルアセチルアミノ
、2−アラニルオキシ−2−フェニルアセチルアミノ、
2−カルボキシ−2−チェニルアセチルアミノ、2−(
2−メチルフエノキシカルボニル)−2−チェニルアセ
チルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2
−ヒドロキシアセチルアミノ、2−[4−(2−アミノ
−2−カルボキシエトキシカルボキサミド)フェニル]
−2−ヒドロキシアセチルアミノなどが挙げられる。
−2−スルホアセチルアミノ、2−ヒドロキシ−2−フ
ェニルアセチルアミノ、2−フェニル−2−スルファモ
イルアセチルアミノ52−カルボキシ−2−フェニルア
セチルアミノ、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−
カルボキシアセチルアミノ、2−フェノキシカルボニル
−2−フェニルアセチルアミノ、2−フヱニルー2−ト
リルオキシカルボニルアセチルアミノ、2−(5−イン
ダニルオキシカルボニル)−2−フェニルアセチルアミ
ノ、2−ホルミルオキシ−2−フェニルアセチルアミノ
、2−アラニルオキシ−2−フェニルアセチルアミノ、
2−カルボキシ−2−チェニルアセチルアミノ、2−(
2−メチルフエノキシカルボニル)−2−チェニルアセ
チルアミノ、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2
−ヒドロキシアセチルアミノ、2−[4−(2−アミノ
−2−カルボキシエトキシカルボキサミド)フェニル]
−2−ヒドロキシアセチルアミノなどが挙げられる。
式R1′ R” CH2CONH−で表わされるアシ
ルアミノ基の具体例としては、たとえば、シアノアセデ
ルアミノ、フェニルアセチルアミノ。
ルアミノ基の具体例としては、たとえば、シアノアセデ
ルアミノ、フェニルアセチルアミノ。
フェノキシアセチルアミノ、トリフルオロメチルチオア
セチルアミノ、シアノメチルチオアセチルアミノ、ジフ
ルオロメチルチオアセチルアミノ、lH−テトラゾリル
−1−アセチルアミノ、チェニルアセチルアミノ、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチルアミノ、4−
ピリジルチオアセチルアミノ、2−チェニルチオアセチ
ルアミノ、3.5−シクロロー!、4−ジヒドロ−4−
才キソピリジン−1−アセチルアミノ、β−カルボキシ
ビニルチオアセチルアミノ、2−(2−アミノメチルフ
ェニル)アセデルアミノ、2−クロロアセデルアミノ。
セチルアミノ、シアノメチルチオアセチルアミノ、ジフ
ルオロメチルチオアセチルアミノ、lH−テトラゾリル
−1−アセチルアミノ、チェニルアセチルアミノ、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチルアミノ、4−
ピリジルチオアセチルアミノ、2−チェニルチオアセチ
ルアミノ、3.5−シクロロー!、4−ジヒドロ−4−
才キソピリジン−1−アセチルアミノ、β−カルボキシ
ビニルチオアセチルアミノ、2−(2−アミノメチルフ
ェニル)アセデルアミノ、2−クロロアセデルアミノ。
3−アミノプロピオニルアミノ、(2−アミノ−2−カ
ルボキシ)エチルチオアセチルアミノ、4−アミノ−3
−ヒドロキシブチリルアミノ、2−カルボキシエチルチ
オアセチルアミノ、2−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−アセチルアミノ、β−カルバモイルーβ−フルオロ
ビニルヂチオセヂルアミノ、2−(+−イソプロピルア
ミノ−1−イソプロピルイミノメチルチオ)アセチルア
ミノ、2−[1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H
−テトラゾール−5−イル−チオコアセチルアミノ、2
−(I−メチル−1,3,5−トリアゾール−2−イル
)アセチルアミノ、2−(4−シアノ−3−ヒドロキシ
−5−イソチアゾリールチオ)アセチルアミノなどが挙
げられる。
ルボキシ)エチルチオアセチルアミノ、4−アミノ−3
−ヒドロキシブチリルアミノ、2−カルボキシエチルチ
オアセチルアミノ、2−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−アセチルアミノ、β−カルバモイルーβ−フルオロ
ビニルヂチオセヂルアミノ、2−(+−イソプロピルア
ミノ−1−イソプロピルイミノメチルチオ)アセチルア
ミノ、2−[1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H
−テトラゾール−5−イル−チオコアセチルアミノ、2
−(I−メチル−1,3,5−トリアゾール−2−イル
)アセチルアミノ、2−(4−シアノ−3−ヒドロキシ
−5−イソチアゾリールチオ)アセチルアミノなどが挙
げられる。
具体例としては、たとえばカルバモイルアミノ。
メチルアミノカルボニルアミノ、エチルアミノカルボニ
ルアミノ、t−ブチルアミノカルボニルアミノ、イソブ
チルアミノカルボニルアミノ、ジメチルアミノカルボニ
ルアミノ、2−メチルフェニルアミノカルボニルアミノ
、フェニルアミノカルボニルアミノ、3−クロロフェニ
ルアミノカルボニルアミノI4−ニトロフェニルアミノ
カルボニルアミノ、4−ブロモフェニルアミノカルボニ
ルアミノ、チオカルバモイルアミノ、メチルアミノチオ
カルボニルアミノ、エヂルアミノチオカルボニルアミノ
、フェニルアミノチオカルボニルアミノ。
ルアミノ、t−ブチルアミノカルボニルアミノ、イソブ
チルアミノカルボニルアミノ、ジメチルアミノカルボニ
ルアミノ、2−メチルフェニルアミノカルボニルアミノ
、フェニルアミノカルボニルアミノ、3−クロロフェニ
ルアミノカルボニルアミノI4−ニトロフェニルアミノ
カルボニルアミノ、4−ブロモフェニルアミノカルボニ
ルアミノ、チオカルバモイルアミノ、メチルアミノチオ
カルボニルアミノ、エヂルアミノチオカルボニルアミノ
、フェニルアミノチオカルボニルアミノ。
ジメチルアミノカルボニルアミノ、3−フルオロフェニ
ルアミノカルボニルアミノなどが挙げられる。
ルアミノカルボニルアミノなどが挙げられる。
式R”−NH−で表わされる基の具体例としては、たと
えばメチルアミノ、エチルアミノ、アリルアミノ、シク
ロへキシルアミノ、シクロへキシルメチルアミノ、ベン
ジルアミノ、4−クロロベンジルアミノ、フェニルアミ
ノ、2−イミダゾリルアミノ。
えばメチルアミノ、エチルアミノ、アリルアミノ、シク
ロへキシルアミノ、シクロへキシルメチルアミノ、ベン
ジルアミノ、4−クロロベンジルアミノ、フェニルアミ
ノ、2−イミダゾリルアミノ。
■−メチルー2−イミダゾリルアミノ、2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノ−チオアセ
チルアミノ、l−ベンジル−4−ピリジニウムアミノ、
2−アセチル−1−メチルビニルアミノなどが挙げられ
る。
ノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノ−チオアセ
チルアミノ、l−ベンジル−4−ピリジニウムアミノ、
2−アセチル−1−メチルビニルアミノなどが挙げられ
る。
の具体例としては、たとえばジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジプロピルアミノ、ジベンジルアミノ、ジシク
ロへキシルアミノ、N−ベンジル−N−メチルアミノ、
ジアリルアミノ、N−フェニル−N−メチルアミノ、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ
ルなどが挙げられる。
アミノ、ジプロピルアミノ、ジベンジルアミノ、ジシク
ロへキシルアミノ、N−ベンジル−N−メチルアミノ、
ジアリルアミノ、N−フェニル−N−メチルアミノ、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニ
ルなどが挙げられる。
ム基の具体例としては、たとえばトリメチルアンモニウ
ム、トリエチルアンモニウム、トリベンジルアンモニウ
ム、ベンジルジメチルアンモニウム、メチルピロリジニ
ウム、メチルピペリジニウムなどが挙げられる。
ム、トリエチルアンモニウム、トリベンジルアンモニウ
ム、ベンジルジメチルアンモニウム、メチルピロリジニ
ウム、メチルピペリジニウムなどが挙げられる。
ミノ基の具体例としては、たとえばジメチルアミノメチ
レンアミノ、■−ジメチルアミノエチリデンアミノ、ヘ
キサヒドロ−I H−アゼピン−I−イルメチレンアミ
ノ、1−(N−ベンジル−N−メチルアミノ〕エチリデ
ンアミノ、4−ジメチルアミノベンジリデンアミノ、(
p−ニトロ)ベンジリデンアミノ、ベンジリデンアミノ
などが挙げられる。
レンアミノ、■−ジメチルアミノエチリデンアミノ、ヘ
キサヒドロ−I H−アゼピン−I−イルメチレンアミ
ノ、1−(N−ベンジル−N−メチルアミノ〕エチリデ
ンアミノ、4−ジメチルアミノベンジリデンアミノ、(
p−ニトロ)ベンジリデンアミノ、ベンジリデンアミノ
などが挙げられる。
式R3@−5On−NH−で表わされるチオアミノ基の
具体例としては、たとえばベンゼンスルホニルアミノ、
4−メチルベンゼンスルホニルアミノ、4−メトキシベ
ンゼンスルホニルアミノ、2゜4.6−トリメチルベン
ゼンスルホニルアミノ。
具体例としては、たとえばベンゼンスルホニルアミノ、
4−メチルベンゼンスルホニルアミノ、4−メトキシベ
ンゼンスルホニルアミノ、2゜4.6−トリメチルベン
ゼンスルホニルアミノ。
ベンジルスルホニルアミノ、4−メチルベンジルスルホ
ニルアミノ。トリフルオロメチルスルホニルアミノ、フ
ェナシルスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、
エチルスルホニルアミノ、4−フルオロベンゼンスルボ
ニルアミノ、ベンゼンスルフィニルアミノ、2−ニトロ
ベンゼンスルフィニルアミノ、2.4−ジメチルベンゼ
ンスルフイニルアミノ、4−クロロベンゼンスルフィニ
ルアミノ。
ニルアミノ。トリフルオロメチルスルホニルアミノ、フ
ェナシルスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、
エチルスルホニルアミノ、4−フルオロベンゼンスルボ
ニルアミノ、ベンゼンスルフィニルアミノ、2−ニトロ
ベンゼンスルフィニルアミノ、2.4−ジメチルベンゼ
ンスルフイニルアミノ、4−クロロベンゼンスルフィニ
ルアミノ。
4−メトキシベンゼンスルフィニルアミノ、フェニルチ
オアミノ、2,4−ジニトロフェニルヂオアミノ、トリ
フェニルメチルチオアミノ、2−ニトロ−4−メトキシ
フェニルチオアミノなどが挙げられる。
オアミノ、2,4−ジニトロフェニルヂオアミノ、トリ
フェニルメチルチオアミノ、2−ニトロ−4−メトキシ
フェニルチオアミノなどが挙げられる。
ノ基の具体例としては、たとえばトリメチルシリルアミ
ノ、トリエチルシリルアミノ、t−ブチルジメチルシリ
ルアミノ、t−ブチルジフェニルシリルアミノ、イソプ
ロピルジメチルシリルアミノ、トリフヱニルシリルアミ
ノ、トリイソプロピルシリルアミノ、トリベンジルシリ
ルアミノ、および(トリフェニルメチル)ジメチルシリ
ルアミノなどが挙げられる。
ノ、トリエチルシリルアミノ、t−ブチルジメチルシリ
ルアミノ、t−ブチルジフェニルシリルアミノ、イソプ
ロピルジメチルシリルアミノ、トリフヱニルシリルアミ
ノ、トリイソプロピルシリルアミノ、トリベンジルシリ
ルアミノ、および(トリフェニルメチル)ジメチルシリ
ルアミノなどが挙げられる。
としては、たとえばジメチルリン酸アミノ、ジエチルリ
ン酸アミノ、ジフェニルリン酸アミノ、ジベンジルリン
酸アミノ、ジー4−クロロフェニルリン酸アミノなどが
挙げられる。
ン酸アミノ、ジフェニルリン酸アミノ、ジベンジルリン
酸アミノ、ジー4−クロロフェニルリン酸アミノなどが
挙げられる。
式R”−Co−Co−NI−1−で表わされる基の具体
例としては、たとえばメトキサリルアミノ。
例としては、たとえばメトキサリルアミノ。
エトキサリルアミノ、フエノキサリルアミノ、ベンジル
オキサリルアミノ、ピルボイルアミノ、エチルオキサリ
ルアミノ、オキサモイルアミノ、ベンジルアミノオキサ
リルアミノ、チェニルオキサリルアミノ、2−アミノ−
4−チアゾリル−オキサリルアミノ、エチルアミノオキ
サリルアミノなどが挙げられる。
オキサリルアミノ、ピルボイルアミノ、エチルオキサリ
ルアミノ、オキサモイルアミノ、ベンジルアミノオキサ
リルアミノ、チェニルオキサリルアミノ、2−アミノ−
4−チアゾリル−オキサリルアミノ、エチルアミノオキ
サリルアミノなどが挙げられる。
上記式中、R3,R’、およびR5で示される有機残基
としては、炭素原子において結合する有機残基;酸素原
子、窒素原子もしくは硫黄原子を介して結合する有機残
基か挙げられる。
としては、炭素原子において結合する有機残基;酸素原
子、窒素原子もしくは硫黄原子を介して結合する有機残
基か挙げられる。
上記炭素原子を介して結合する有機残基としては、たと
えばアルキル”、シクロアルキル、アルケニル1.アリ
ール1.アシル、シアノ、カルバモイル。
えばアルキル”、シクロアルキル、アルケニル1.アリ
ール1.アシル、シアノ、カルバモイル。
複素環0.またはエステル化もしくはアミド化されてい
てもよいカルボキシルが好ましい。
てもよいカルボキシルが好ましい。
上記酸素原子を介して結合する有機残基としては、式−
〇−r(7[式中、R7は水素、アルキル、アリール、
アシル、カルバモイルを示す。]で表わされる基、また
はオキソ基が好ましい。
〇−r(7[式中、R7は水素、アルキル、アリール、
アシル、カルバモイルを示す。]で表わされる基、また
はオキソ基が好ましい。
上記窒素原子を介して結合する有機残基としては、たと
えば式 同−または異なって、水素、アルキル、アリール。
えば式 同−または異なって、水素、アルキル、アリール。
アシルを示す。コで表わされる基か好ましい。
上記硫黄原子を介して結合する有機残基としては式−5
(0)n−R” [式中、R9は水素、アルキル”、ア
リール1.複素環1.またはアミノ1を、nは0.1ま
たは2を示す。コで表わされる基が好ましい。
(0)n−R” [式中、R9は水素、アルキル”、ア
リール1.複素環1.またはアミノ1を、nは0.1ま
たは2を示す。コで表わされる基が好ましい。
上記R’、R’およびR5におけるアルキル基に置換し
ていてもよい基としては、たとえばヒドロキシ、アシル
オキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、ジアルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルチオ、複素環チオ、カルボ
キシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、
アジド、アリール、ハロゲンなどが挙げられる。
ていてもよい基としては、たとえばヒドロキシ、アシル
オキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、ジアルキルアミ
ノ、アシルアミノ、アルキルチオ、複素環チオ、カルボ
キシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、
アジド、アリール、ハロゲンなどが挙げられる。
上記R3,R4およびR5におけるアリール基に置換し
ていてもよい基としては、たとえばハロゲン。
ていてもよい基としては、たとえばハロゲン。
アルコキシ、アルキルなどが挙げられる。
上記R3、n 4およびR5におけるアルケニルに置換
していてもよい玩としては、たとえばアリールなどが挙
げられる。
していてもよい玩としては、たとえばアリールなどが挙
げられる。
上記R3,R’およびR5における複素環に置換してい
てもよい基としては、たとえばアルキルなどが挙げられ
る。
てもよい基としては、たとえばアルキルなどが挙げられ
る。
上記R8におけるアミノに置換していてもよい基として
は、たとえばモノアルキル、ジアルキル。
は、たとえばモノアルキル、ジアルキル。
モノアリールなどが挙げられる。
上記R3,R’およびR′におけるエステル化されてい
てもよいカルボキシルの例としては、たとえばカルボキ
シ、アルキルオキシカルボニルなどが挙げられる。
てもよいカルボキシルの例としては、たとえばカルボキ
シ、アルキルオキシカルボニルなどが挙げられる。
上記n 3 、 R4およびR11におけるアミド化さ
れていてもよいカルボキシルの例としては、たとえば式 %式% [式中、R45′およびR”’は、同一または異なって
、水素、アルキルを示し、隣接する窒素原子と共に複素
環を形成していてもよい。コで表わされる基が挙げられ
る。
れていてもよいカルボキシルの例としては、たとえば式 %式% [式中、R45′およびR”’は、同一または異なって
、水素、アルキルを示し、隣接する窒素原子と共に複素
環を形成していてもよい。コで表わされる基が挙げられ
る。
上記のアルキル(基の中のアルキルの場合を含む。)と
しては、たとえば炭素数1〜6のものが好ましい。
しては、たとえば炭素数1〜6のものが好ましい。
上記のシクロアルキルとしては、炭素数3〜6のものが
好ましい。
好ましい。
上記のアルケニルとしては、炭素数I〜4のものが好ま
しい。
しい。
上記アシル(基の中のアシルの場合を含む。)としては
、炭素数1〜6のもの、アリールカルボニルが好ましい
。
、炭素数1〜6のもの、アリールカルボニルが好ましい
。
上記のアルコキシ(基の中のアルコキシの場合を含む。
つとしては、炭素数1〜6のものが好ましい。
上記炭素数1〜6のアルキル、炭素数3〜6のシクロア
ルキル、炭素数1〜4のアルケニル、炭素数1〜6のア
シル、炭素数1〜6のアルコキシ、アリール、複素環(
隣接する窒素原子と共に形成している場合を除く。)お
よびハロゲンの具体例としては、前記したR1で示され
るそれらと同様のものが挙げられる。
ルキル、炭素数1〜4のアルケニル、炭素数1〜6のア
シル、炭素数1〜6のアルコキシ、アリール、複素環(
隣接する窒素原子と共に形成している場合を除く。)お
よびハロゲンの具体例としては、前記したR1で示され
るそれらと同様のものが挙げられる。
上記隣接する窒素原子と共に形成している複素環として
は、たとえば5〜6員環のものが好ましく、その具体例
としては、たとえばピロリル、ピロリジニル、ピペリジ
ニル、ピペラジニルなどが挙げられる。
は、たとえば5〜6員環のものが好ましく、その具体例
としては、たとえばピロリル、ピロリジニル、ピペリジ
ニル、ピペラジニルなどが挙げられる。
上記のR3で示される基の好ましい例としては、たとえ
ばメチル、エチル1イソプロピル、ビニール。
ばメチル、エチル1イソプロピル、ビニール。
アリル(allyl)、シクロプロピル、シクロペンチ
ル。
ル。
シクロヘキシル、フェニル、パラクロルフェニル。
パラメトキシフェニル、アセチル、プロピオニル。
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、カルバモイル、ジメチルアミノカルボニル。
、カルバモイル、ジメチルアミノカルボニル。
シアノ、カルボキシル、ヒドロキシメチル、アセトキシ
メチル、カルバモイルオキシメチル、クロロメチル、メ
チルチオメチル、■−メチルーI H−5−テトラゾリ
ルチオメチル、アジドメチル、アセトアミドメチル、シ
アノメチル、メトキシカルボニルメチル、ヒドロキシエ
チル、アセトキシヒドロキシエチル、カルバモイルオキ
シエチル、クロロエチル。
メチル、カルバモイルオキシメチル、クロロメチル、メ
チルチオメチル、■−メチルーI H−5−テトラゾリ
ルチオメチル、アジドメチル、アセトアミドメチル、シ
アノメチル、メトキシカルボニルメチル、ヒドロキシエ
チル、アセトキシヒドロキシエチル、カルバモイルオキ
シエチル、クロロエチル。
メチルチオエチル、l−メチル−5−テトラゾリルチオ
エチル、シアノエチル、アセトアミドエチル。
エチル、シアノエチル、アセトアミドエチル。
スチリル、フェネチルなどが挙げられる。
上記のR4およびR5で示される基の好ましい例として
は、たとえばメチル、エヂル、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、ビニール、アリル、フェニ
ル、パラクロルフェニル、パラメトキシフェニル、アセ
チル、プロピオニル、ベンゾイル。
は、たとえばメチル、エヂル、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、ビニール、アリル、フェニ
ル、パラクロルフェニル、パラメトキシフェニル、アセ
チル、プロピオニル、ベンゾイル。
シアノ、カルバモイル、メトキシカルボニル、工(・キ
ンカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、アセトキシ
メチル、メチルチオメチル、アセトアミドメチル、ヒド
ロキシ、メトキシ、エトキシ、アセトキシ。
ンカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、アセトキシ
メチル、メチルチオメチル、アセトアミドメチル、ヒド
ロキシ、メトキシ、エトキシ、アセトキシ。
フェニルオキシ、ベンゾイルオキシ、カルバモイルオキ
シ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、
アセチルアミノ、メチルチオ、エチルチオ。
シ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、
アセチルアミノ、メチルチオ、エチルチオ。
2−アセトアミドエチルチオ、2−N、N−ジメチルア
ミノエヂルチオ、2−アミノエチルチオ、2−ヒドロキ
シエチルチオ、カルボキシメチルチオ、メトキシカルボ
ニルメトキシチオ、カルバモイルメチルチオ、フェニル
チオ、3−ピリダジニルチオ。
ミノエヂルチオ、2−アミノエチルチオ、2−ヒドロキ
シエチルチオ、カルボキシメチルチオ、メトキシカルボ
ニルメトキシチオ、カルバモイルメチルチオ、フェニル
チオ、3−ピリダジニルチオ。
2−ピリミジニルチオ、4−ピリジルチオ、I−メチル
ーIH−5−テトラゾリルチオ、ベンジルチオ、4−ピ
リジルメチルチオ、スルファモイル、フェニルアミノス
ルホニルなどが挙げられる。
ーIH−5−テトラゾリルチオ、ベンジルチオ、4−ピ
リジルメチルチオ、スルファモイル、フェニルアミノス
ルホニルなどが挙げられる。
本発明目的化合物のエステルとしては、例えば、式(1
)であられされる化合物の、2位または9位に式 %式% [式中、R44は、アルキル”、アルケニル1.アリー
ル1.シクロアルキル“、複素環”またはシリル”を示
す。コで表わされる基を有する化合物などが挙げられる
。
)であられされる化合物の、2位または9位に式 %式% [式中、R44は、アルキル”、アルケニル1.アリー
ル1.シクロアルキル“、複素環”またはシリル”を示
す。コで表わされる基を有する化合物などが挙げられる
。
上記−cooR”で表わされる基は、分子機が500ま
でのらのが好ましい。
でのらのが好ましい。
上記式中、R44が示すアルキル0.アルケニル1゜ア
リール1.シクロアルキル“、複素環1およびシリル”
の各基についての、説明および例示としては、R′に関
して前記した対応する各基の説明および例示が、そのま
ま適用される。
リール1.シクロアルキル“、複素環1およびシリル”
の各基についての、説明および例示としては、R′に関
して前記した対応する各基の説明および例示が、そのま
ま適用される。
式−COOR44で表わされる基の具体例としては、た
とえばメチルエステル、エチルエステル、n−プロピル
エステル、イソプロピルエステル、1−ブチルエステル
、t−アミルエステル、ベンジルエステル、4−ブロモ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、2−
ニトロベンジルエステル。
とえばメチルエステル、エチルエステル、n−プロピル
エステル、イソプロピルエステル、1−ブチルエステル
、t−アミルエステル、ベンジルエステル、4−ブロモ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、2−
ニトロベンジルエステル。
3.5−ジニトロベンジルエステル、4−メトキシベン
ジルエステル、ベンズヒドリルエステル、フェナシルエ
ステル、4−ブロモ−フェナシルエステル、フェニルエ
ステル、4−ニトロフェニルエステル、メトキシメチル
エステル、メトキシエトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、ベンジルオキシメチルエステル、アセ
トキシメチルエステル、ビバロイルオキンメチルエステ
ル、2−メチルスルホニルエチルエステル、2−トリメ
チルシリルエチルエステル、メチルチオメチルエステル
、トリデルエステル、2,2.2−トリクロロエヂルエ
ステル、2−ヨードエチルエステル、シクロヘキシルエ
ステル、シクロペンチルエステル、アリルエステル、シ
ンナミルエステル、4−ピコリルエステル。
ジルエステル、ベンズヒドリルエステル、フェナシルエ
ステル、4−ブロモ−フェナシルエステル、フェニルエ
ステル、4−ニトロフェニルエステル、メトキシメチル
エステル、メトキシエトキシメチルエステル、エトキシ
メチルエステル、ベンジルオキシメチルエステル、アセ
トキシメチルエステル、ビバロイルオキンメチルエステ
ル、2−メチルスルホニルエチルエステル、2−トリメ
チルシリルエチルエステル、メチルチオメチルエステル
、トリデルエステル、2,2.2−トリクロロエヂルエ
ステル、2−ヨードエチルエステル、シクロヘキシルエ
ステル、シクロペンチルエステル、アリルエステル、シ
ンナミルエステル、4−ピコリルエステル。
2−テトラヒドロピラニルエステル、2−テトラヒドロ
フラニルエステル、トリメチルシリルエステル、t−ブ
チルジメチルシリルエステル、t−プチルノフェニルシ
リルエステル、アセチルメチルエステル、4−ムトロベ
ンゾイルメチルエステル、4 ″−メンルベンゾイルメ
チルエステル、フタルイミドメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、[,1−ツメチルプロピル
エステル、3−メチル−3−ブテニルエステル、スクシ
ンイミドメチルエステル、3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルエステル、メシルメチルエステル
、ベンゼンスルホニルメチルエステル、フェニルチオメ
チルエステル、イミノメチルアミノエチルエステル、l
−イミノエチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノ
エチルエステル、ピリジン−1−才キシト−2−メチル
エステル、メチルスルフィニルメチルエステル、ビス−
(4−メトキシフェニル)メチルエステル、2−シアノ
−1,1−ジメチルエチルエステル、t−ブチルオキシ
カルボニルメチルエステル、ベンゾイルアミノメチルエ
ステル。
フラニルエステル、トリメチルシリルエステル、t−ブ
チルジメチルシリルエステル、t−プチルノフェニルシ
リルエステル、アセチルメチルエステル、4−ムトロベ
ンゾイルメチルエステル、4 ″−メンルベンゾイルメ
チルエステル、フタルイミドメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、[,1−ツメチルプロピル
エステル、3−メチル−3−ブテニルエステル、スクシ
ンイミドメチルエステル、3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルエステル、メシルメチルエステル
、ベンゼンスルホニルメチルエステル、フェニルチオメ
チルエステル、イミノメチルアミノエチルエステル、l
−イミノエチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノ
エチルエステル、ピリジン−1−才キシト−2−メチル
エステル、メチルスルフィニルメチルエステル、ビス−
(4−メトキシフェニル)メチルエステル、2−シアノ
−1,1−ジメチルエチルエステル、t−ブチルオキシ
カルボニルメチルエステル、ベンゾイルアミノメチルエ
ステル。
■−アセトキシエチルエステル、l−イソプヂリルオキ
シエチルエステル、I−エトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、フタライドエステル、4−t−ブチルベン
ジルエステル、5−インダニルエステル、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメチルエ
ステル、5−t−ブチル−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イルメチルエステルなどが挙げられる。
シエチルエステル、I−エトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、フタライドエステル、4−t−ブチルベン
ジルエステル、5−インダニルエステル、5−メチル−
2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメチルエ
ステル、5−t−ブチル−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イルメチルエステルなどが挙げられる。
本発明化合物は、2位のカルボキシル基について、遊離
のままで用いてもよいが、自体公知の方法により薬理上
許容される塩の形にして用いることもできる。たとえば
ナトリウム、カリウム等の無毒性カチオン、たとえばア
ルギニン、オルニチン。
のままで用いてもよいが、自体公知の方法により薬理上
許容される塩の形にして用いることもできる。たとえば
ナトリウム、カリウム等の無毒性カチオン、たとえばア
ルギニン、オルニチン。
リジン、ヒスチジン等の塩基性アミノ酸、たとえばN−
メチルグルカミン、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、トリスヒドロキシメヂルアミノメタンなどの
ポリヒドロキシアルキルアミン等との塩を形成させて用
いてもよい。また1、R1に塩基性基(例えばアミノ基
)が含まれている場合には、たとえば酢酸、酒石酸、メ
タンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、リン酸などの無機酸との塩、たとえば
アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性
アミノ酸との塩などを形成させて用いてもよい。
メチルグルカミン、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、トリスヒドロキシメヂルアミノメタンなどの
ポリヒドロキシアルキルアミン等との塩を形成させて用
いてもよい。また1、R1に塩基性基(例えばアミノ基
)が含まれている場合には、たとえば酢酸、酒石酸、メ
タンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、リン酸などの無機酸との塩、たとえば
アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸などの酸性
アミノ酸との塩などを形成させて用いてもよい。
次に本発明の目的化合物の製造法について説明する。
本発明の目的化合物である4,10−ジオキソ−3−オ
キサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,
0’・6コデカンー2−カルボン酸骨格を有する化合物
またはそのエステルまたは塩は、2−オキソ−3−(2
−アゼチジノン−4−イル)チオグルタル酸骨格を有す
る化合物またはそのエステルまたは、2位に脱離基を有
する3−(2−アゼチジノン−4−イル)チオ−5−オ
キソ−テトラヒドロフラン−2−カルボン酸骨格を有す
る化合物またはそのエステルを閉環反応に付すことによ
って得られる。
キサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,
0’・6コデカンー2−カルボン酸骨格を有する化合物
またはそのエステルまたは塩は、2−オキソ−3−(2
−アゼチジノン−4−イル)チオグルタル酸骨格を有す
る化合物またはそのエステルまたは、2位に脱離基を有
する3−(2−アゼチジノン−4−イル)チオ−5−オ
キソ−テトラヒドロフラン−2−カルボン酸骨格を有す
る化合物またはそのエステルを閉環反応に付すことによ
って得られる。
更に詳しくは、本発明の目的化合物のうち、一般式
[式中、R’、R″a 3 、 R4およびR5は前記
と同意義を有する。コで表わされる化合物またはそのエ
ステルまたは塩は、一般式 [式中、R”は水素または窒素あるいは炭素を介する有
機残基を示し、R8はカルボキシル基から誘導され得る
基を示す。R”、R3,R’およびR5は前記と同意義
を有する。]で表わされる化合物、または、一般式 [式中、Yは脱離基を示す。R”、R″n 3 、 R
4゜R5およびR8は前記と同意義を有する。]で表わ
される化合物を閉環反応に付し、一般式[式中、Rl
’ 、 R! 、 R3、R4、R5およびR6は前記
と同意義を有する。]で表わされる化合物(■′)を得
、さらに所望により化合物(■′)のR′′および/ま
たはR8の変換反応に付すことにより、製造される。
と同意義を有する。コで表わされる化合物またはそのエ
ステルまたは塩は、一般式 [式中、R”は水素または窒素あるいは炭素を介する有
機残基を示し、R8はカルボキシル基から誘導され得る
基を示す。R”、R3,R’およびR5は前記と同意義
を有する。]で表わされる化合物、または、一般式 [式中、Yは脱離基を示す。R”、R″n 3 、 R
4゜R5およびR8は前記と同意義を有する。]で表わ
される化合物を閉環反応に付し、一般式[式中、Rl
’ 、 R! 、 R3、R4、R5およびR6は前記
と同意義を有する。]で表わされる化合物(■′)を得
、さらに所望により化合物(■′)のR′′および/ま
たはR8の変換反応に付すことにより、製造される。
上記式中のR”の説明並びに例示としては、前記したR
1のそれらが、そのまま適用される。
1のそれらが、そのまま適用される。
上記式中、R@で示されるカルボキシル基から誘導され
得る基の例としては、たとえば式%式% [式中、R44′はアルキル7、アルケニル”、アリー
ル”、シクロアルキル”、複素環1またはシリル7を示
す。]で表わされる基1式 [式中、RoおよびR”は、同一または異なって、水素
、アルキル″Jアリール“、シクロアルキル1゜アルケ
ニル”または複素環1を示し、R”およびR4@が隣接
する窒素原子と共に複素環1を形成している場合を含む
。コで表わされる基がそれぞれ挙げられる。
得る基の例としては、たとえば式%式% [式中、R44′はアルキル7、アルケニル”、アリー
ル”、シクロアルキル”、複素環1またはシリル7を示
す。]で表わされる基1式 [式中、RoおよびR”は、同一または異なって、水素
、アルキル″Jアリール“、シクロアルキル1゜アルケ
ニル”または複素環1を示し、R”およびR4@が隣接
する窒素原子と共に複素環1を形成している場合を含む
。コで表わされる基がそれぞれ挙げられる。
上記式中、R6で示されるカルボキシル基から誘導され
得る基は、たとえば分子量が500までのものが好まし
い。
得る基は、たとえば分子量が500までのものが好まし
い。
式−GOOR44’で表わされる基について、さらに詳
しくは前記した一〇〇OR”についての説明及び具体例
が、そのまま挙げられる。
しくは前記した一〇〇OR”についての説明及び具体例
が、そのまま挙げられる。
としては、たとえばジメチルアミド、ジエチルアミド、
ジプロピルアミド、ジベンジルアミド、ジシクロへキシ
ルアミド、N−ベンジル−N−メチルアミド、ジアリル
アミド、N−フェニル−N−メチルアミド。ピロリジン
アミド、ピペリジンアミド。
ジプロピルアミド、ジベンジルアミド、ジシクロへキシ
ルアミド、N−ベンジル−N−メチルアミド、ジアリル
アミド、N−フェニル−N−メチルアミド。ピロリジン
アミド、ピペリジンアミド。
ピペラジンアミド、モルホリンアミド、カルボキシメチ
ルアミド。l−カルボキシエチルアミドなどが挙げられ
る。
ルアミド。l−カルボキシエチルアミドなどが挙げられ
る。
上記式中、Yで示される脱離基としては、化合物(II
I)のβ−1actam環のNH基の水素といっしょに
脱離し、その結果C−N結合を形成しうるものであれば
如何なるものでもよい。その例としては、たとえばハロ
ゲン(例、ブロム、クロル)、置換基(例、アルキル、
アリール)(アルキル、アリールとしてはR1に関して
前記した置換基と同様のものが挙げられる。)を有する
スルホニルオキシ(その具体例としては、たとえばp−
トルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフェニルスルホ
ニルオキシ、メタンスルホニルオキシ)、ジ置換ホスホ
リルオキシ(例、ジフェニルホスホリルオキシ、ジエチ
ルホスホリルオキシ)などが挙げられる。
I)のβ−1actam環のNH基の水素といっしょに
脱離し、その結果C−N結合を形成しうるものであれば
如何なるものでもよい。その例としては、たとえばハロ
ゲン(例、ブロム、クロル)、置換基(例、アルキル、
アリール)(アルキル、アリールとしてはR1に関して
前記した置換基と同様のものが挙げられる。)を有する
スルホニルオキシ(その具体例としては、たとえばp−
トルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフェニルスルホ
ニルオキシ、メタンスルホニルオキシ)、ジ置換ホスホ
リルオキシ(例、ジフェニルホスホリルオキシ、ジエチ
ルホスホリルオキシ)などが挙げられる。
化合物(n)から化合物(f′)への反応は、縮合剤。
C端活性化剤、酸あるいはルイス酸の存在下で行われる
。
。
該反応は望ましくは溶媒中で行なわれる。ここでC端活
性化剤とは、ペプタイド分野のペプチド結合形成あるい
はβ−ラクタム類のアミノ基のアシル化においてカルボ
ン酸を反応性誘導体に変換させる試薬を意味する。ここ
で用いられる縮合剤としては、具体的にはたとえば、N
、N’−ジシクロへキンルカルボジイミド(以下DCC
と略称することがある。)、DCC+、:N−ヒドロキ
シスクシンイミドあるいは1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾールを添加したちの;1−エチル−3−[3−(ジア
リルアミド)プロピル]カルボジイミド(以下WSCと
略称することがある);カルボニルジイミダゾール;N
−エチル−5−イソキサゾリウム−3′−スルホン酸塩
;2−エチル−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム
トリフルオロホウ素塩;1−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン、2’、2’ −
ジピリジルジスルフィドとトリフェニルホスフィンの組
み合わせ;四塩化炭素とトリフェニルホスフィンの組み
合わせ:たとえばヨウ化2−クロロ−■−メチルーピリ
ジニウム、2−フルオロ−1−メチル−ピリジニウムト
シレートなどの2−ハロゲノピリジニウム塩、たとえば
2−クロロ−1−メチルピリミジニウムフルオロサルフ
ェートなどのピリミジニウム塩、2−クロロ−3−エチ
ル−ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボーレート、2
−フルオロ−3−メチル−ベンゾチアゾリウムフルオロ
サルフェートなどのアザアレンのオニウム塩類[アンゲ
バンテ・ヘミ−・インターナショナル・エディジョン(
Angewandte Chemie、 Inter
nationalEdition)、 18 、 7
07 (1979)参照]などが挙げられる。
性化剤とは、ペプタイド分野のペプチド結合形成あるい
はβ−ラクタム類のアミノ基のアシル化においてカルボ
ン酸を反応性誘導体に変換させる試薬を意味する。ここ
で用いられる縮合剤としては、具体的にはたとえば、N
、N’−ジシクロへキンルカルボジイミド(以下DCC
と略称することがある。)、DCC+、:N−ヒドロキ
シスクシンイミドあるいは1−ヒドロキシベンゾトリア
ゾールを添加したちの;1−エチル−3−[3−(ジア
リルアミド)プロピル]カルボジイミド(以下WSCと
略称することがある);カルボニルジイミダゾール;N
−エチル−5−イソキサゾリウム−3′−スルホン酸塩
;2−エチル−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム
トリフルオロホウ素塩;1−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン、2’、2’ −
ジピリジルジスルフィドとトリフェニルホスフィンの組
み合わせ;四塩化炭素とトリフェニルホスフィンの組み
合わせ:たとえばヨウ化2−クロロ−■−メチルーピリ
ジニウム、2−フルオロ−1−メチル−ピリジニウムト
シレートなどの2−ハロゲノピリジニウム塩、たとえば
2−クロロ−1−メチルピリミジニウムフルオロサルフ
ェートなどのピリミジニウム塩、2−クロロ−3−エチ
ル−ベンゾキサゾリウムテトラフルオロボーレート、2
−フルオロ−3−メチル−ベンゾチアゾリウムフルオロ
サルフェートなどのアザアレンのオニウム塩類[アンゲ
バンテ・ヘミ−・インターナショナル・エディジョン(
Angewandte Chemie、 Inter
nationalEdition)、 18 、 7
07 (1979)参照]などが挙げられる。
上記カルボン酸の反応性誘導体とは、酸クロリド、酸プ
ロミドなどの酸ハライド;酸アジド;炭酸モノアルキル
エステルとの混合酸無水物、たとえば酢酸、ビバル酸、
吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸等の脂肪族カルボ
ン酸とからなる混合酸無水物、たとえばジフェニルリン
酸、ジエチルリン酸等のリン酸、硫酸等の酸とからなる
混合酸無水物、たとえば安息香酸等からなる混合酸無水
物、対称型酸無水物;たとえばピラゾール、イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、ペン
ゾトリアゾール、チアゾリジン−2−チオン等の環内の
窒素にアシル基が結合したアミド化合物:たとえば4−
ニトロフェニル、2.4−ジニトロフェニル、トリクロ
ロフェニル、ペンタクロロフェニル。
ロミドなどの酸ハライド;酸アジド;炭酸モノアルキル
エステルとの混合酸無水物、たとえば酢酸、ビバル酸、
吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸等の脂肪族カルボ
ン酸とからなる混合酸無水物、たとえばジフェニルリン
酸、ジエチルリン酸等のリン酸、硫酸等の酸とからなる
混合酸無水物、たとえば安息香酸等からなる混合酸無水
物、対称型酸無水物;たとえばピラゾール、イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、ペン
ゾトリアゾール、チアゾリジン−2−チオン等の環内の
窒素にアシル基が結合したアミド化合物:たとえば4−
ニトロフェニル、2.4−ジニトロフェニル、トリクロ
ロフェニル、ペンタクロロフェニル。
ペンタフルオロフェニル、シアノメチル、N−ヒドロキ
シサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド等との
活性エステル;たとえば2−ピリジルチオール、2−ベ
ンズチアゾリルチオール等の複素環チオール等との活性
チオエステル等が挙げられる。
シサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド等との
活性エステル;たとえば2−ピリジルチオール、2−ベ
ンズチアゾリルチオール等の複素環チオール等との活性
チオエステル等が挙げられる。
これらの反応性誘導体に変換させるC端活性化剤として
は、たとえば、泉屋信夫;加藤哲夫、大野素徳、青柳東
彦著“ペプチド合成”、117頁〜153頁、1975
年発行、(丸善)に記載の試薬が用いられる。゛これら
活性化剤として、さらに具体例には、例えば、チオニル
クロリド、チオニルプロミド、スルフリルクロリド、オ
キシ塩化リン、オキサリルクロリド、塩素、臭素あるい
は四塩化炭素とトリフェニルホスフィンなどのハロゲン
化剤、たとえば無水p−トルエンスルホン酸、無水p−
ニトロベンゼンスルホン酸、無水2,4.6−1−リイ
ソブロピルフェニルスルホン酸、無水メタンスルホン酸
、p−)ルエンスルホニルクロリド、p−クロロベンゼ
ンスルホニルクロリドなどのスルホニル化剤、たとえば
ジフェニルリン酸クロリド、ジエチルリン酸クロリド、
ジエチルリン酸クロリドなどのホスホリル化剤などが挙
げられる。
は、たとえば、泉屋信夫;加藤哲夫、大野素徳、青柳東
彦著“ペプチド合成”、117頁〜153頁、1975
年発行、(丸善)に記載の試薬が用いられる。゛これら
活性化剤として、さらに具体例には、例えば、チオニル
クロリド、チオニルプロミド、スルフリルクロリド、オ
キシ塩化リン、オキサリルクロリド、塩素、臭素あるい
は四塩化炭素とトリフェニルホスフィンなどのハロゲン
化剤、たとえば無水p−トルエンスルホン酸、無水p−
ニトロベンゼンスルホン酸、無水2,4.6−1−リイ
ソブロピルフェニルスルホン酸、無水メタンスルホン酸
、p−)ルエンスルホニルクロリド、p−クロロベンゼ
ンスルホニルクロリドなどのスルホニル化剤、たとえば
ジフェニルリン酸クロリド、ジエチルリン酸クロリド、
ジエチルリン酸クロリドなどのホスホリル化剤などが挙
げられる。
本反応で用いられる酸としては、たとえば、塩酸、硫酸
、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、カンファース
ル中ン酸等が挙げられる。
、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、カンファース
ル中ン酸等が挙げられる。
本反応で用いられるルイス酸としてはたとえば三フッ化
ホウ素エーテラート、塩化亜鉛、四塩化スズ、塩化アル
ミニウム、四塩化チタン、三塩化ホウ素などが挙げられ
る。
ホウ素エーテラート、塩化亜鉛、四塩化スズ、塩化アル
ミニウム、四塩化チタン、三塩化ホウ素などが挙げられ
る。
溶媒としては反応に影響を及ぼさないものであれば何ら
さしつかえないが、たとえばジクロロメタン、クロロホ
ルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサン
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの通常の
溶媒が用いられる。
さしつかえないが、たとえばジクロロメタン、クロロホ
ルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、n−ヘキサン
、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの通常の
溶媒が用いられる。
本反応において塩基の存在下実施してもよい場合(たと
えば、縮合剤としてヨウ化2−クロロ−1−メチルピリ
ジニウム、2.2’ −ジピリジルジスルフィド−トリ
フェニルホスフィン、四塩化炭素−トリフェニルポスフ
ィンなどを使用する場合など)もあり、ここにおいて用
いられる塩基としては、たとえばトリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、3
.4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,2−ミコピリミジ
ン−2−オンなどの有機残基、たとえば炭酸水素ナトリ
ウムなどの無機塩基が挙げられ、なかでも3゜4−ジヒ
ドロ−28−ピリド[1,2−aコピリミジン−2−オ
ンが好適である。
えば、縮合剤としてヨウ化2−クロロ−1−メチルピリ
ジニウム、2.2’ −ジピリジルジスルフィド−トリ
フェニルホスフィン、四塩化炭素−トリフェニルポスフ
ィンなどを使用する場合など)もあり、ここにおいて用
いられる塩基としては、たとえばトリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、3
.4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,2−ミコピリミジ
ン−2−オンなどの有機残基、たとえば炭酸水素ナトリ
ウムなどの無機塩基が挙げられ、なかでも3゜4−ジヒ
ドロ−28−ピリド[1,2−aコピリミジン−2−オ
ンが好適である。
また、たとえば塩化銀、四フッ化ホウ素酸銀、過塩素酸
銀などの存在下に反応させてもよい場合(たとえば、2
,2′−ジピリジルジスルフィド−トリフェニルホスフ
ィンを縮合剤として用いる場合)もある。
銀などの存在下に反応させてもよい場合(たとえば、2
,2′−ジピリジルジスルフィド−トリフェニルホスフ
ィンを縮合剤として用いる場合)もある。
反応温度は、反応が進行するかぎりとくに限定されない
が、通常的−50℃ないし150℃、好ましくは約−1
0℃ないし100℃で行なわれる。反応時間は用いられ
る原料、試薬、溶媒の種類。
が、通常的−50℃ないし150℃、好ましくは約−1
0℃ないし100℃で行なわれる。反応時間は用いられ
る原料、試薬、溶媒の種類。
反応温度などにより異なるが、通常約5分間ないし30
時時間開である。
時時間開である。
なお、ルイス酸を触媒として縮合する際、反応系内にた
とえばモレキュラーシーブスなどの脱水剤を共存させる
場合もある。
とえばモレキュラーシーブスなどの脱水剤を共存させる
場合もある。
また、化合物(Iff)を閉環反応に付し、化合物(I
′)とし、さらに所望により化合物(I′)のRl /
および/またはR8の変換反応に付すことによっても、
化合物(1)を製造することができる。
′)とし、さらに所望により化合物(I′)のRl /
および/またはR8の変換反応に付すことによっても、
化合物(1)を製造することができる。
化合物([)から化合物(ビ)への変換反応は、通常化
合物(III)を塩基で処理することにより行なわれる
。該反応は、好ましくは溶媒中で、行なわれる。塩基と
しては、たとえば、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリーローブチルアミン。
合物(III)を塩基で処理することにより行なわれる
。該反応は、好ましくは溶媒中で、行なわれる。塩基と
しては、たとえば、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリーローブチルアミン。
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチレンノアミン、
1.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(以下
DABCOと略称することもある)、I、El−ジアザ
ビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以下DBU
と略称することもある)、N−メチルホルホリン、N−
メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、3.4−ジ
ヒドロ−2H−ピリド[1,’2−a]ピリミジン−2
−オン、4−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、ルヂ
ジン、γ−コリジンなどの有機アミン類、たとえばリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウムなどのアルカリ
金属、たとえばマグネシウム、カルシウムなどのアルカ
リ土類金属あるいはこれらの水素化物、水酸化物、炭酸
塩あるいはアルコラード類などが用いられる。溶媒とし
ては、たとえばジクロロメタン、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、アセ
トニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミドなどの通常の溶媒が用いられる。
1.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(以下
DABCOと略称することもある)、I、El−ジアザ
ビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(以下DBU
と略称することもある)、N−メチルホルホリン、N−
メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、3.4−ジ
ヒドロ−2H−ピリド[1,’2−a]ピリミジン−2
−オン、4−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、ルヂ
ジン、γ−コリジンなどの有機アミン類、たとえばリチ
ウム、ナトリウム、カリウム、セシウムなどのアルカリ
金属、たとえばマグネシウム、カルシウムなどのアルカ
リ土類金属あるいはこれらの水素化物、水酸化物、炭酸
塩あるいはアルコラード類などが用いられる。溶媒とし
ては、たとえばジクロロメタン、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、アセ
トニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミドなどの通常の溶媒が用いられる。
また、前記の塩基のなかで液体のものは溶媒を兼ねて使
用することもできる。本反応において、化合物(III
)に対し塩基は通常約当量用いるが、反応に支障のない
かぎり過剰に用いることもできる。
用することもできる。本反応において、化合物(III
)に対し塩基は通常約当量用いるが、反応に支障のない
かぎり過剰に用いることもできる。
反応温度は、通常的−20℃ないし100℃で行なわれ
、反応時間は、通常約5分間ないし30時間である。
、反応時間は、通常約5分間ないし30時間である。
このようにして得られる化合物(I′)を、さらに必要
によりR1/およびR6の変換反応に付すことにより、
化合物(I)またはそのエステルまたは塩を製造するこ
とができる。該変換反応としては、たとえば、イミノエ
ーテル法によるアシル切断反応、脱保護反応、アシル化
反応、ウレイド化(チオウレイド化)反応、アルキル化
反応、アルケニル化反応、チオ化反応、シリル化反応、
リン酸化反応、エステル化反応、アミド化反応などが挙
げられる。
によりR1/およびR6の変換反応に付すことにより、
化合物(I)またはそのエステルまたは塩を製造するこ
とができる。該変換反応としては、たとえば、イミノエ
ーテル法によるアシル切断反応、脱保護反応、アシル化
反応、ウレイド化(チオウレイド化)反応、アルキル化
反応、アルケニル化反応、チオ化反応、シリル化反応、
リン酸化反応、エステル化反応、アミド化反応などが挙
げられる。
イミノエーテル法によるアシル切断反応は、先ず化合物
(■′)において、R”かR”’−C−NH−[式中、
R”’ −〇−は窒素を介する有機残基における窒素以
外の部分を示す。]で表われる基である化合物に、五塩
化リン、ホスゲン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどを
反応させ′る。上記反応試薬は、約l〜5当量さらに好
ましくは約1.5〜3当量用いるのが好ましい。該反応
はたとえばメチレンクロライド、ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、トリクロロエタンなどの溶媒の
存在下に行なうと好都合である。反応を促進させるため
に、たとえばピリジン、N、N−ジメチルアニリン、ト
リエチルアミン、アニリン、トルイジンなどを過剰量た
とえば約3〜20当量さらに好ましくは約5〜10当量
用いるとよい。
(■′)において、R”かR”’−C−NH−[式中、
R”’ −〇−は窒素を介する有機残基における窒素以
外の部分を示す。]で表われる基である化合物に、五塩
化リン、ホスゲン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどを
反応させ′る。上記反応試薬は、約l〜5当量さらに好
ましくは約1.5〜3当量用いるのが好ましい。該反応
はたとえばメチレンクロライド、ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、トリクロロエタンなどの溶媒の
存在下に行なうと好都合である。反応を促進させるため
に、たとえばピリジン、N、N−ジメチルアニリン、ト
リエチルアミン、アニリン、トルイジンなどを過剰量た
とえば約3〜20当量さらに好ましくは約5〜10当量
用いるとよい。
上記反応は、反応温度約−30℃ないし0℃さらに好ま
しくは一15℃ないし一5℃で、反応時間約15分ない
し8時間さらに好ましくは約30分ないし2時間で行な
うのが良い。反応は攪拌下に行なうのが好都合である。
しくは一15℃ないし一5℃で、反応時間約15分ない
し8時間さらに好ましくは約30分ないし2時間で行な
うのが良い。反応は攪拌下に行なうのが好都合である。
中間体として生成されるイミノクロライドをイミノエー
テルにするために反応液中に過剰のメタノールを加え、
約−30℃〜0℃好ましくは約−15℃〜−5℃で約1
5分ないし2時間好ましくは約30分ないし1時間攪拌
し、さらに反応の終結のために約lO℃〜40℃好まし
くは約20℃〜30℃で約30分ないし2時間攪拌する
。さらに反応液中に希塩酸を加え、C−N結合を切断す
る。反応温度は約10℃〜40℃好ましくは約20℃〜
30℃で、反応時間は約15分ないし2時間好ましくは
約30分ないし1時間である。
テルにするために反応液中に過剰のメタノールを加え、
約−30℃〜0℃好ましくは約−15℃〜−5℃で約1
5分ないし2時間好ましくは約30分ないし1時間攪拌
し、さらに反応の終結のために約lO℃〜40℃好まし
くは約20℃〜30℃で約30分ないし2時間攪拌する
。さらに反応液中に希塩酸を加え、C−N結合を切断す
る。反応温度は約10℃〜40℃好ましくは約20℃〜
30℃で、反応時間は約15分ないし2時間好ましくは
約30分ないし1時間である。
かくして得られる反応液はたとえば炭酸水素ナトリウム
で中和され、水と混和しない有機溶媒たとえばメチレン
クロライド、ジエチルエーテル、酢酸エチルなどで、抽
出することにより生成物は得られる。
で中和され、水と混和しない有機溶媒たとえばメチレン
クロライド、ジエチルエーテル、酢酸エチルなどで、抽
出することにより生成物は得られる。
脱保護反応としては、その保護基の種類に応じて、酸に
よる方法、塩基による方法、ヒドラジンによる方法、還
元による方法等の常用の方法を適宜選択して行なうこと
ができる。ここで酸による方法の場合には、保護基の種
類その他の条件によって異なるが、酸として例えば塩酸
、硫酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸、プロピオン酸等の有機酸の他、酸性イオン交換樹
脂等が使用される。塩基による方法の場合には、保護基
の種類その他の条件によって異なるが、塩基として例え
ばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属もしくはカル
シウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物
、炭酸塩等の無機塩基、金属アルコキサイド類、有機ア
ミン類、第四アンモニウム塩等の有機塩基の他、塩基性
イオン交換樹脂等が使用される。上記酸または塩基によ
る方法の場合において溶媒を使用する場合には親水性有
機溶媒、水または混合溶媒が使用されることが多い。
よる方法、塩基による方法、ヒドラジンによる方法、還
元による方法等の常用の方法を適宜選択して行なうこと
ができる。ここで酸による方法の場合には、保護基の種
類その他の条件によって異なるが、酸として例えば塩酸
、硫酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸、プロピオン酸等の有機酸の他、酸性イオン交換樹
脂等が使用される。塩基による方法の場合には、保護基
の種類その他の条件によって異なるが、塩基として例え
ばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属もしくはカル
シウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物
、炭酸塩等の無機塩基、金属アルコキサイド類、有機ア
ミン類、第四アンモニウム塩等の有機塩基の他、塩基性
イオン交換樹脂等が使用される。上記酸または塩基によ
る方法の場合において溶媒を使用する場合には親水性有
機溶媒、水または混合溶媒が使用されることが多い。
還元による方法による場合には、保護基の種類その他の
条件により異なるが、例えばスズ、亜鉛等の金属あるい
は二塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、酢酸、
プロピオン酸、塩酸等の有機および無機酸等の酸を使用
する方法、接触還元用金属触媒の存在下に還元する方法
等が用いられ、ここで接触還元による方法で使用される
触媒としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸化
白金。
条件により異なるが、例えばスズ、亜鉛等の金属あるい
は二塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、酢酸、
プロピオン酸、塩酸等の有機および無機酸等の酸を使用
する方法、接触還元用金属触媒の存在下に還元する方法
等が用いられ、ここで接触還元による方法で使用される
触媒としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸化
白金。
コロイド白金等の白金触媒、パラジウム海綿、パラジウ
ム黒、酸化パラジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラ
ジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素。
ム黒、酸化パラジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラ
ジウム炭酸バリウム、パラジウム炭素。
パラジウムシリカゲル、コロイドパラジウム等のパラジ
ウム触媒、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ル、漆原ニッケル等が挙げられる。また金属と酸による
還元方法の場合においては鉄。
ウム触媒、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ル、漆原ニッケル等が挙げられる。また金属と酸による
還元方法の場合においては鉄。
クロム等の金属と塩酸等の無機酸またはギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸等の有機酸が使用される。還元による方法は
通常溶媒中で行なわれ、例えば接触還元による方法にお
いてはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール等のアルコール類、酢酸エチル
等が繁用される。
ロピオン酸等の有機酸が使用される。還元による方法は
通常溶媒中で行なわれ、例えば接触還元による方法にお
いてはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール等のアルコール類、酢酸エチル
等が繁用される。
また金属と酸による方法においては水、アセトン等が繁
用されるが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用す
ることもできる。
用されるが酸が液体のときは酸自身を溶媒として使用す
ることもできる。
酸による方法、塩基による方法、還元による方法におけ
る反応温度は、通常冷却下ないし加温程度で行なわれる
。
る反応温度は、通常冷却下ないし加温程度で行なわれる
。
また、得られた化合物の各基の中の保護基を脱離するに
は、上記と同様の方法で行なうことができる。要するに
脱保護反応は自体公知の方法により行われうる。
は、上記と同様の方法で行なうことができる。要するに
脱保護反応は自体公知の方法により行われうる。
例えば、R”が保護されたアミノでR11がエステルで
ある化合物(■′)の10位アミノ保護基を脱保護する
ことにより、化合物(I)においてR効(アミノ基であ
る化合物の2位カルボキシルにおけるエステル体(以下
化合物(1−1)とすることがある。)が得られる。ま
た例えば、化合物(I′)の2位カルボキシル保護基を
脱保護することにより化合物(I)においてR1が窒素
を介する有機残基である化合物C以下化合物(1−2)
とすることがある。)を製造することができ、さらに化
合物(■−1)の2位カルボキシル基保護基の脱保護反
応を行うか、または化合物([−2)の10位アミノ保
護基の脱保護反応を行うことにより化合物(1)におい
てR1がアミノ基である化合物(以下化合物(1−3)
とすることがある。)を製造することができる。
ある化合物(■′)の10位アミノ保護基を脱保護する
ことにより、化合物(I)においてR効(アミノ基であ
る化合物の2位カルボキシルにおけるエステル体(以下
化合物(1−1)とすることがある。)が得られる。ま
た例えば、化合物(I′)の2位カルボキシル保護基を
脱保護することにより化合物(I)においてR1が窒素
を介する有機残基である化合物C以下化合物(1−2)
とすることがある。)を製造することができ、さらに化
合物(■−1)の2位カルボキシル基保護基の脱保護反
応を行うか、または化合物([−2)の10位アミノ保
護基の脱保護反応を行うことにより化合物(1)におい
てR1がアミノ基である化合物(以下化合物(1−3)
とすることがある。)を製造することができる。
また、化合物(ド)の10位アミノ保護基と、2位カル
ボキシル保護基を同時に脱保護し、−挙に化合物(+−
3)とすることもできる。
ボキシル保護基を同時に脱保護し、−挙に化合物(+−
3)とすることもできる。
また、化合物(■−1)を、たとえばアシル化、ウレイ
ド化(チオウレイド化)、アルキル化、アルケニル化、
チオ化、シリル化9リン酸化などの反応に付すことによ
って、化合物(1−2)に変換することもできる。次に
、該反応について詳述する。
ド化(チオウレイド化)、アルキル化、アルケニル化、
チオ化、シリル化9リン酸化などの反応に付すことによ
って、化合物(1−2)に変換することもできる。次に
、該反応について詳述する。
アシル化
アミノ基のアシル化は溶媒中で、原料化合物と、基RI
中のアシル基を含むアシル化剤、たとえばカルボン酸の
反応性誘導体とを反応させることにより行なうことがで
きる。カルボン酸の反応性誘導体としては、たとえば酸
ハライド、酸無水物、アミド化合物、活性エステル、活
性チオエステル等が用いられ、このような反応性誘導体
を具体的に述べると次のとおりである。
中のアシル基を含むアシル化剤、たとえばカルボン酸の
反応性誘導体とを反応させることにより行なうことがで
きる。カルボン酸の反応性誘導体としては、たとえば酸
ハライド、酸無水物、アミド化合物、活性エステル、活
性チオエステル等が用いられ、このような反応性誘導体
を具体的に述べると次のとおりである。
1)酸ハライド:
ここで酸ハライドとしては、たとえば酸クロリド、酸プ
ロミド等が用いられる。
ロミド等が用いられる。
2)酸無水物:
ここで酸無水物としては、たとえばモノアルキル炭酸混
合酸無水物、脂肪族カルボン酸(たとえば、酢酸、ピバ
ル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸等)からな
る混合酸無水物、芳容族カルボン酸(たとえば、安息香
酸等)からなる混合酸無水物、対称型酸無水物等が用い
られる。
合酸無水物、脂肪族カルボン酸(たとえば、酢酸、ピバ
ル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸等)からな
る混合酸無水物、芳容族カルボン酸(たとえば、安息香
酸等)からなる混合酸無水物、対称型酸無水物等が用い
られる。
3)アミド化合物:
ここでアミド化合物としては、たとえばピラゾール、イ
ミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール等の環内の
窒素にアシル基が結合した化合物が用いられる。
ミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール等の環内の
窒素にアシル基が結合した化合物が用いられる。
4)活性エステル:
ここで活性エステルとしては、たとえばメチルエステル
、エチルエステル、メトキシメチルエステル、プロパル
ギルエステル、4−ニトロフェニルエステル、2,4−
ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステ
ル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエ
ステル、ベンゾトリアゾリルエステル等のエステルの他
、■−ヒドロキシーIH−2−ピリドン、N−ヒドロキ
シサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド等との
エステル等が用いられる。
、エチルエステル、メトキシメチルエステル、プロパル
ギルエステル、4−ニトロフェニルエステル、2,4−
ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステ
ル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエ
ステル、ベンゾトリアゾリルエステル等のエステルの他
、■−ヒドロキシーIH−2−ピリドン、N−ヒドロキ
シサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド等との
エステル等が用いられる。
5)活性チオエステル:
ここで活性チオエステルとしては、たとえば2−ピリジ
ルチオール、2−ベンズチアゾリルチオール等の複素環
チオール等とのチオエステル等が用いられる。
ルチオール、2−ベンズチアゾリルチオール等の複素環
チオール等とのチオエステル等が用いられる。
以上のような各種反応性誘導体は、カルボン酸の種類に
よって適宜選択される。
よって適宜選択される。
本反応において塩基の存在下実施される場合があり、用
いられる塩基としては、たとえば脂肪族第三アミン(た
とえばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリーn−ブチルアミンなど)、N−メチ
ルピペリジン、N−メチルピロリジン、シクロへキシル
ジメチルアミン、N−メチルモルホリンなどの第三アミ
ン、たとえばジ−n−ブチルアミン、シイツブデルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンなどのジアルキルアミン、
たとえばピリジン、ルチジン、γ−コリジンなどの芳香
族アミン、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属、たとえばカルシウム、マグネシウム
などのアルカリ土類金属等の水酸化物または炭酸塩など
が用いられる。
いられる塩基としては、たとえば脂肪族第三アミン(た
とえばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリーn−ブチルアミンなど)、N−メチ
ルピペリジン、N−メチルピロリジン、シクロへキシル
ジメチルアミン、N−メチルモルホリンなどの第三アミ
ン、たとえばジ−n−ブチルアミン、シイツブデルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンなどのジアルキルアミン、
たとえばピリジン、ルチジン、γ−コリジンなどの芳香
族アミン、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属、たとえばカルシウム、マグネシウム
などのアルカリ土類金属等の水酸化物または炭酸塩など
が用いられる。
本方法においては、化合物(I−1)に対してカルボン
酸の反応性誘導体を通常約当量用いるが、反応に支障の
ないかぎり過剰に用いることもできる。塩基を用いる場
合、塩基の使用量は、用いられる原料化合物(I−1)
、カルボン酸の反応性誘導体の種類、池の反応条件によ
って異なるが、化合物(1−1)に対して通常約当量な
いし30当量、好ましくは約当量ないし10当量である
。本反応は、通常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては
、たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドなどのエーテル類、たとえば酢酸
エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、たとえばクロロ
ホルム、ジクロロメタン、l。
酸の反応性誘導体を通常約当量用いるが、反応に支障の
ないかぎり過剰に用いることもできる。塩基を用いる場
合、塩基の使用量は、用いられる原料化合物(I−1)
、カルボン酸の反応性誘導体の種類、池の反応条件によ
って異なるが、化合物(1−1)に対して通常約当量な
いし30当量、好ましくは約当量ないし10当量である
。本反応は、通常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては
、たとえばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドなどのエーテル類、たとえば酢酸
エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、たとえばクロロ
ホルム、ジクロロメタン、l。
2−ジクロロエタン、1.I、1−トリクロルエタンな
どのハロゲン化炭化水素類、たとえばベンゼン、トルエ
ン、n−ヘキサンなどの炭化水素類、たとえばN、N−
ジメチルホルムアミド−、N、N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、たとえばアセトニトリルなどのニト
リル類など通常の有機溶媒が単独または混合して用いら
れる。また、前述の塩基のうち液体のものは溶媒を兼ね
て使用することもできる。反応温度は、反応が進行する
かぎり特に限定されないが、通常的−50℃ないし15
0℃好ましくは約−30℃ないし80℃で行なわれる。
どのハロゲン化炭化水素類、たとえばベンゼン、トルエ
ン、n−ヘキサンなどの炭化水素類、たとえばN、N−
ジメチルホルムアミド−、N、N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、たとえばアセトニトリルなどのニト
リル類など通常の有機溶媒が単独または混合して用いら
れる。また、前述の塩基のうち液体のものは溶媒を兼ね
て使用することもできる。反応温度は、反応が進行する
かぎり特に限定されないが、通常的−50℃ないし15
0℃好ましくは約−30℃ないし80℃で行なわれる。
用いられる原料、塩基、反応温度、溶媒の種類により異
なるが、通常数十分間から数十時間で反応は終了するが
、ときに数十日間を要することらある。
なるが、通常数十分間から数十時間で反応は終了するが
、ときに数十日間を要することらある。
ウレイド化(チオウレイド化)
アミノ基のウレイド基あるいはチオウレイド基への変換
反応は例えば溶媒の存在下、原料化合物に、式R”−N
=C=Z (式中、R”およびZは前記と同意義を有す
る。)で表わされる置換イソシアネートあるいは置換イ
ソチオシアネートを反応させることによって行なわれる
。該置換イソシアネートとしては、たとえば、メチルイ
ソシアネート、エチルイソシアネート、フェニルイソシ
アネート、p−ブロモフェニルイソシアネートなどが、
置換イソチオシアネートとしては、たとえば、メヂルイ
ソチオシアネート、フェニルイソチオシアネートなどが
用いられる。本反応においては、化合物(il)に対し
て置換イソシアネートあるいは置換イソチオシアネート
を通常約当量用いるが、反応に支障のないかぎり過剰に
用いることもできる。用いられる溶媒としては、たとえ
ばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル
、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエンなどが用い
られる。反応温度は約−20℃から50℃付近、反応時
間は通常約10分間から5時間程度である。
反応は例えば溶媒の存在下、原料化合物に、式R”−N
=C=Z (式中、R”およびZは前記と同意義を有す
る。)で表わされる置換イソシアネートあるいは置換イ
ソチオシアネートを反応させることによって行なわれる
。該置換イソシアネートとしては、たとえば、メチルイ
ソシアネート、エチルイソシアネート、フェニルイソシ
アネート、p−ブロモフェニルイソシアネートなどが、
置換イソチオシアネートとしては、たとえば、メヂルイ
ソチオシアネート、フェニルイソチオシアネートなどが
用いられる。本反応においては、化合物(il)に対し
て置換イソシアネートあるいは置換イソチオシアネート
を通常約当量用いるが、反応に支障のないかぎり過剰に
用いることもできる。用いられる溶媒としては、たとえ
ばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル
、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエンなどが用い
られる。反応温度は約−20℃から50℃付近、反応時
間は通常約10分間から5時間程度である。
アルキル化
化合物(1−1)のアミノ基に、炭素を介して結合する
基としてアルキル基を有する化合物を得る反応は、以下
に、アルキル化として説明する。
基としてアルキル基を有する化合物を得る反応は、以下
に、アルキル化として説明する。
化合物(1−1)のアルキル化は、化合物(1−1)に
、基R1の該窒素に炭素を介して結合する基を含むアル
キル化剤を作用させることにより行なうことができる。
、基R1の該窒素に炭素を介して結合する基を含むアル
キル化剤を作用させることにより行なうことができる。
アルキル化剤としては、例えばプロピルクロリド、ブチ
ルクロリド、ベンジルクロリド、ブチルプロミド、ベン
ジルプロミド、アリルプロミド、ヨウ化メチル、ヨウ化
エチル、ヨウ化プロピル等のハロゲン化アルキル化合物
、例えばジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のジアルキル硫
酸化合物、例えばメチルメシレート、エチルメシレート
、メチルトシレート、エチルメシレート等の置換スルホ
ン酸エステル化合物、ジハロゲン化アルキル化合物(例
、1.5−ジクロロペンタン、1.4−ジクロロブタン
等)等が用いられる。本反応は通常溶媒中で行なわれ、
使用される溶媒としては、水、メタノール、エタノール
、ベンジルアルコール。
ルクロリド、ベンジルクロリド、ブチルプロミド、ベン
ジルプロミド、アリルプロミド、ヨウ化メチル、ヨウ化
エチル、ヨウ化プロピル等のハロゲン化アルキル化合物
、例えばジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のジアルキル硫
酸化合物、例えばメチルメシレート、エチルメシレート
、メチルトシレート、エチルメシレート等の置換スルホ
ン酸エステル化合物、ジハロゲン化アルキル化合物(例
、1.5−ジクロロペンタン、1.4−ジクロロブタン
等)等が用いられる。本反応は通常溶媒中で行なわれ、
使用される溶媒としては、水、メタノール、エタノール
、ベンジルアルコール。
ベンゼン、N、N−ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、アセトニトリル等があげられる。
ロフラン、アセトニトリル等があげられる。
本反応の温度は約20℃ないし200℃であり、反応時
間は約30分間から50時間である。本反応は反応条件
1例えば化合物(1−1)とアルキル化剤とのモル比を
変えることにより、第二アミン化合物、第三アミン化合
物あるいは第四アンモニウム化合物を選択的に製造する
ことができる。また段階的に反応を行なうことにより、
窒素に異なる置換基を導入することも可能である。アル
キル以外の炭素を介して結合する基を導入する反応も、
上記と同様に行なうことができる。
間は約30分間から50時間である。本反応は反応条件
1例えば化合物(1−1)とアルキル化剤とのモル比を
変えることにより、第二アミン化合物、第三アミン化合
物あるいは第四アンモニウム化合物を選択的に製造する
ことができる。また段階的に反応を行なうことにより、
窒素に異なる置換基を導入することも可能である。アル
キル以外の炭素を介して結合する基を導入する反応も、
上記と同様に行なうことができる。
又、該アルキル化は、化合物(r−1)とカルボニル化
合物とを還元剤の存在下で結合させて行なうことも出来
る。本反応で用いられる還元剤としては、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素ナトリウム、ナトリウム、ナトリウムアマルガ
ム、亜鉛と酸との組み合わせ等があげられる。またパラ
ジウム、白金。
合物とを還元剤の存在下で結合させて行なうことも出来
る。本反応で用いられる還元剤としては、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素
化ホウ素ナトリウム、ナトリウム、ナトリウムアマルガ
ム、亜鉛と酸との組み合わせ等があげられる。またパラ
ジウム、白金。
ロジウム等を触媒とする接触還元によっても行なわれる
。
。
アミノ基をR”−NH−(イミノ基置換アルキルアミノ
基、アルキルイミノ基置換アルキルアミノあるいは置換
グアニジノ基)で表わされる化合物に変換する反応ニ アミノ基のイミノ基置換アルキルアミノ基、アルキルイ
ミノ基置換アルキルアミノ基への変換反応は、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、クロロホルム、アセ)・ン。
基、アルキルイミノ基置換アルキルアミノあるいは置換
グアニジノ基)で表わされる化合物に変換する反応ニ アミノ基のイミノ基置換アルキルアミノ基、アルキルイ
ミノ基置換アルキルアミノ基への変換反応は、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、クロロホルム、アセ)・ン。
アセトニトリル、水などの溶媒中、たとえば、イミドエ
ステル類と反応させることによって行なわれる。適当な
イミドエステル類としては、たとえば、メチルホルムイ
ミデート。エチルホルムイミデート、ベンジルホルムイ
ミデート、メチルアセトイミデート、エチルアセトイミ
デート、メチルフェニルアセトイミデート、エチル N
−メチルホルムイミデート。メチル N−エチルホルム
イミデート、メチル N−イソプロピルホルムイミデー
トなどが用いられる。反応温度は0℃から25℃付近、
反応時間は通常1時間から6時間程度である。アミノ基
のグアニジノ基への変換反応は、水。
ステル類と反応させることによって行なわれる。適当な
イミドエステル類としては、たとえば、メチルホルムイ
ミデート。エチルホルムイミデート、ベンジルホルムイ
ミデート、メチルアセトイミデート、エチルアセトイミ
デート、メチルフェニルアセトイミデート、エチル N
−メチルホルムイミデート。メチル N−エチルホルム
イミデート、メチル N−イソプロピルホルムイミデー
トなどが用いられる。反応温度は0℃から25℃付近、
反応時間は通常1時間から6時間程度である。アミノ基
のグアニジノ基への変換反応は、水。
N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチレンホスホ
ルアミドなどの溶媒中、たとえば、0−アルキルまたは
、0−アリールプソイド尿素、または、S−アルキルま
たは、S−アリールプソイドチオ尿素類と反応させるこ
とによって行なわれる。上記プソイド尿素類としては、
0−メチルプソイド尿素、S−メチルプソイド尿素、C
1−2,4−ジクロロフェニルプソイド尿素、O−N、
N−トIJメチルブソイド尿素など、上記プソイドチオ
尿素類としては、5−p−二トロフェニルプソイドチオ
尿素などが用いられる。反応温度は0℃から40℃付近
、反応時間は通常1時間から24時間程度である。
ルアミドなどの溶媒中、たとえば、0−アルキルまたは
、0−アリールプソイド尿素、または、S−アルキルま
たは、S−アリールプソイドチオ尿素類と反応させるこ
とによって行なわれる。上記プソイド尿素類としては、
0−メチルプソイド尿素、S−メチルプソイド尿素、C
1−2,4−ジクロロフェニルプソイド尿素、O−N、
N−トIJメチルブソイド尿素など、上記プソイドチオ
尿素類としては、5−p−二トロフェニルプソイドチオ
尿素などが用いられる。反応温度は0℃から40℃付近
、反応時間は通常1時間から24時間程度である。
アルケニル化(イミノ化)
化合物(1−1)のアルケニル化(イミノ化)は、化合
物(1−1)とカルボニル化合物(例、プロピオンアル
デヒド、ジエチルケトン)との脱水縮合により行なうこ
とが出来る。本反応は無溶媒でも進行するが、溶媒中で
行なうことも出来る。酸あるいは塩基を触媒として使用
することもある。また化合物(1−1)とカルボニル化
合物とを脱水剤の存在下あるいはディーンスタークのよ
うな脱水装置を用い加熱還流して製造することも出来る
。本反応で使用される溶媒としては、例えばベンゼン。
物(1−1)とカルボニル化合物(例、プロピオンアル
デヒド、ジエチルケトン)との脱水縮合により行なうこ
とが出来る。本反応は無溶媒でも進行するが、溶媒中で
行なうことも出来る。酸あるいは塩基を触媒として使用
することもある。また化合物(1−1)とカルボニル化
合物とを脱水剤の存在下あるいはディーンスタークのよ
うな脱水装置を用い加熱還流して製造することも出来る
。本反応で使用される溶媒としては、例えばベンゼン。
トルエン、ジクロロメタン、エタノール等であり、反応
温度は約O℃から200℃であり、反応時間は約1時間
から20時間である。触媒として用いられる酸としては
、例えばベンゼンスルホン酸:メタンスルホン酸、硫酸
、三フッ化ホウ素、塩化亜鉛等があり、塩基としては水
酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。本反
応で用いられる脱水剤としては、モレキュラーシーブス
、シリカゲル、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリ
ウムなどが挙げられる。
温度は約O℃から200℃であり、反応時間は約1時間
から20時間である。触媒として用いられる酸としては
、例えばベンゼンスルホン酸:メタンスルホン酸、硫酸
、三フッ化ホウ素、塩化亜鉛等があり、塩基としては水
酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。本反
応で用いられる脱水剤としては、モレキュラーシーブス
、シリカゲル、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリ
ウムなどが挙げられる。
チオ化
化合物(1−1)のチオ化反応は、通常、化合物(■−
1)と、式R”−5on−X(式中、Xは塩素、臭素等
のハロゲンを示し、R”およびnは前記と同意義を有す
る。〕で表わされるハロゲン化チオ化合物(例、ハロゲ
ン化スルホニル、ハロゲン化スルフィニル、ハロゲン化
スルフェニル)とを塩基の存在下に溶媒中で反応させる
ことにより行なわれる。
1)と、式R”−5on−X(式中、Xは塩素、臭素等
のハロゲンを示し、R”およびnは前記と同意義を有す
る。〕で表わされるハロゲン化チオ化合物(例、ハロゲ
ン化スルホニル、ハロゲン化スルフィニル、ハロゲン化
スルフェニル)とを塩基の存在下に溶媒中で反応させる
ことにより行なわれる。
本反応で用いられる溶媒としては、例えば水、アセトン
、ジオキサン、N、N−ジメチルホルムアミド、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、あるいはこ
れらの混合溶媒などが挙げられる。
、ジオキサン、N、N−ジメチルホルムアミド、ベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、あるいはこ
れらの混合溶媒などが挙げられる。
塩基としては、ピリジン、ピコリン、トリエチルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン
などの有機塩基あるいは、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウムなどの無機塩基が用いられる。本反応は通常化合
物(I−1)に対しハロゲン化チオ化合物を約1当量、
塩基を約1当量ないし10当量使用し、反応温度は約−
20℃ないし80℃であり、反応時間は15分間ないし
10時間である。
、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン
などの有機塩基あるいは、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウムなどの無機塩基が用いられる。本反応は通常化合
物(I−1)に対しハロゲン化チオ化合物を約1当量、
塩基を約1当量ないし10当量使用し、反応温度は約−
20℃ないし80℃であり、反応時間は15分間ないし
10時間である。
本反応はハロゲン化チオ化合物のかわりにチオ酸無水物
(例、トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロメタン
スルホン酸無水物など)を用いても行なわれる。また例
えば、N−スルホニル−N−メチルピロリジニウム、N
−スルホニルイミダゾリドあるいはN−スルホニル−1
)I−1,2,4−トリアゾリドなどのチオ化試薬と反
応させることによっても行なうことができる。
(例、トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロメタン
スルホン酸無水物など)を用いても行なわれる。また例
えば、N−スルホニル−N−メチルピロリジニウム、N
−スルホニルイミダゾリドあるいはN−スルホニル−1
)I−1,2,4−トリアゾリドなどのチオ化試薬と反
応させることによっても行なうことができる。
シリル化
化合物(1−1)のシリル化反応は、通常、化合R”
物(I−1)と、式R”−5i−Xあるいは3s
R”’−X(式中、R37−39ハ前記と同意義を有し
、R40′はシリル1を、Xはハロゲンをそれぞれ示す
。)で表わされるハロゲン化シリル化合物(例、シリル
クロリド化合物、シリルプロミド化合物)とを塩基の存
在下に反応させることにより行なうことができる。該塩
基としては、たとえばピリジン。
、R40′はシリル1を、Xはハロゲンをそれぞれ示す
。)で表わされるハロゲン化シリル化合物(例、シリル
クロリド化合物、シリルプロミド化合物)とを塩基の存
在下に反応させることにより行なうことができる。該塩
基としては、たとえばピリジン。
ピコリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、N−メチルモルホリンなどの有機塩基が挙げられ
る。反応は溶媒中で行なうのが好ましく、該溶媒として
はたとえばアセトン、ジオキサン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド。ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジクロロ
メタンなどが挙げられる。反応温度は約−20°Cない
し溶媒の沸点まで、あるいは約−20℃ないし80℃で
あり、反応時間は約15分間ないし20時間である。
ミン、N−メチルモルホリンなどの有機塩基が挙げられ
る。反応は溶媒中で行なうのが好ましく、該溶媒として
はたとえばアセトン、ジオキサン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド。ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジクロロ
メタンなどが挙げられる。反応温度は約−20°Cない
し溶媒の沸点まで、あるいは約−20℃ないし80℃で
あり、反応時間は約15分間ないし20時間である。
リン酸化
化合物(I−1)のリン酸化反応は、通常化合R−1、
RAMは前記と同意義を有する。)で表わされるリン酸
クロリド(例えばジメチルリン酸クロリド、ジエチルリ
ン酸クロリド、ジフェニルリン酸クロリド、ジベンジル
リン酸クロリドなど)とを約当量ないし過剰量の塩基と
溶媒中で反応させることにより行なわれる。塩基として
はピリジン、ピコリン、トリエチルアミン、N−メチル
モルホリンなどの有機塩基あるいは、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ムなどの無機塩基などが用いられる。溶媒としてはたと
えば水、アセトン、アセトニトリル、ジオキサン、N、
N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジク
ロロメタンなど、あるいはこれらの・ 混合溶媒が用
いられる。反応温度は約−20℃ないし80℃であり、
反応時間は15分間ないし15時間である。
RAMは前記と同意義を有する。)で表わされるリン酸
クロリド(例えばジメチルリン酸クロリド、ジエチルリ
ン酸クロリド、ジフェニルリン酸クロリド、ジベンジル
リン酸クロリドなど)とを約当量ないし過剰量の塩基と
溶媒中で反応させることにより行なわれる。塩基として
はピリジン、ピコリン、トリエチルアミン、N−メチル
モルホリンなどの有機塩基あるいは、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウ
ムなどの無機塩基などが用いられる。溶媒としてはたと
えば水、アセトン、アセトニトリル、ジオキサン、N、
N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジク
ロロメタンなど、あるいはこれらの・ 混合溶媒が用
いられる。反応温度は約−20℃ないし80℃であり、
反応時間は15分間ないし15時間である。
化合物(I −3)を、たとえばアシル化、ウレイド化
(チオウレイド化)、アルキル化、アルケニル化。
(チオウレイド化)、アルキル化、アルケニル化。
チオ化、シリル化、リン酸化などの反応に付すことによ
って、化合物(1−2)に変換することができる。該変
換反応は、上記した化合物(1−1)から化合物(1−
2)への変換反応と同様に行なうことができる。
って、化合物(1−2)に変換することができる。該変
換反応は、上記した化合物(1−1)から化合物(1−
2)への変換反応と同様に行なうことができる。
また、化合物(I −2)を、たとえばカルボキシル基
のエステル化反応、カルボキシル基のアミド化反応に付
すことにより、化合物(■′)または(I−1)に変換
することもできる。次に該反応について説明する。
のエステル化反応、カルボキシル基のアミド化反応に付
すことにより、化合物(■′)または(I−1)に変換
することもできる。次に該反応について説明する。
カルボキシル基のエステル化
カルボキシル基のエステル化は、たとえば次の方法によ
り行なわれる。
り行なわれる。
り原料化合物をジアゾアルカン、例えば、ジアゾメタン
、フェニルジアゾメタン、ジフェニルジアゾメタンなど
、と溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、酢
酸エチル、アセトニトリルなど、の中で、約0℃ないし
還流温度で約2分間から2時間反応させる。
、フェニルジアゾメタン、ジフェニルジアゾメタンなど
、と溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、酢
酸エチル、アセトニトリルなど、の中で、約0℃ないし
還流温度で約2分間から2時間反応させる。
2)原料化合物のアルカリ金属塩を活性化アルキルハラ
イド、例えば、ヨウ化メチル、ベンジルプロミド、p−
ニトロ−ベンジルプロミド、m−フェノキシベンジルプ
ロミド、p−t−ブチルベンジルプロミド、ピバロイル
オキシメチルクロリド、などと反応させる。適当な反応
条件は、溶媒、例えば、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドまたはへキサメチルホ
スホルアミドなどを使用し、約θ℃ないし60℃で、約
2分間から4時間反応させる。この反応液中にトリエチ
ルアミンなどを共存させても反応の進行には差しつかえ
ない。
イド、例えば、ヨウ化メチル、ベンジルプロミド、p−
ニトロ−ベンジルプロミド、m−フェノキシベンジルプ
ロミド、p−t−ブチルベンジルプロミド、ピバロイル
オキシメチルクロリド、などと反応させる。適当な反応
条件は、溶媒、例えば、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドまたはへキサメチルホ
スホルアミドなどを使用し、約θ℃ないし60℃で、約
2分間から4時間反応させる。この反応液中にトリエチ
ルアミンなどを共存させても反応の進行には差しつかえ
ない。
3)原料化合物を式R”−OHまたはR”’−OH[式
中、R44,R44’は前記と同意義を有する。]で示
されるアルコール、例えば、メタノール、エタノール、
ベンジルアルコールなどと反応させる。この反応は、カ
ルボジイミド縮合剤、例えば、DCCなどの存在下で行
なわれる。約θ℃ないし還流温度で、約15分間ないし
18時間行ない、溶媒としてはクロロホルム、ジクロロ
メタン。
中、R44,R44’は前記と同意義を有する。]で示
されるアルコール、例えば、メタノール、エタノール、
ベンジルアルコールなどと反応させる。この反応は、カ
ルボジイミド縮合剤、例えば、DCCなどの存在下で行
なわれる。約θ℃ないし還流温度で、約15分間ないし
18時間行ない、溶媒としてはクロロホルム、ジクロロ
メタン。
ジクロロエタンなどが用いられる。
4)原料化合物を酸クロリド、たとえば、クロロ炭酸エ
チル、クロロ炭酸ベンジルなどと反応させて得られた原
料化合物の酸無水物をアルコール、例えば、3)に挙げ
たものと、3)に記載の反応条件下で反応させる。この
無水物は原料化合物を酸クロリドと、溶媒、例えば、テ
トラヒドロフラン。
チル、クロロ炭酸ベンジルなどと反応させて得られた原
料化合物の酸無水物をアルコール、例えば、3)に挙げ
たものと、3)に記載の反応条件下で反応させる。この
無水物は原料化合物を酸クロリドと、溶媒、例えば、テ
トラヒドロフラン。
ジクロロメタン、などの中で25℃ないし還充温度で、
約15分間ないし!O時間反応さけることにより得られ
る。
約15分間ないし!O時間反応さけることにより得られ
る。
5)原料化合物をシリル化剤たとえばトリメデルシリル
クロリド、t−ブチル−ジメチルシリルクロリドとトリ
エチルアミンなどとの共存化、溶媒たとえばジクロロメ
タン、クロロホルム、テトラヒドロフランなどの中で約
0℃ないし還流温度で約15分間ないし16時間反応さ
せる。
クロリド、t−ブチル−ジメチルシリルクロリドとトリ
エチルアミンなどとの共存化、溶媒たとえばジクロロメ
タン、クロロホルム、テトラヒドロフランなどの中で約
0℃ないし還流温度で約15分間ないし16時間反応さ
せる。
カルボン酸化合物のアミド化
カルボン酸のアミド化は、原料化合物を酸クロリド、た
とえば、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸ベンジル、ピバ
リン酸クロリドまたは酸無水物、たとえば無水酢酸、無
水トリフルオロ酢酸などで原料化合物の酸無水物を合成
し、アンモニア又は選んだアミン、例えば、前記のアル
キル−、ジアルキル−、アラルキル−又は複素環アミン
類とを反応させることにより行なわれる。あるいはカル
ボン酸と上記アミン類とをDCC,N−3−ジメチルア
ミノプロピル−N−エチルカルボジイミドなどの縮合剤
の存在下反応させることによっても行なわれる。
とえば、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸ベンジル、ピバ
リン酸クロリドまたは酸無水物、たとえば無水酢酸、無
水トリフルオロ酢酸などで原料化合物の酸無水物を合成
し、アンモニア又は選んだアミン、例えば、前記のアル
キル−、ジアルキル−、アラルキル−又は複素環アミン
類とを反応させることにより行なわれる。あるいはカル
ボン酸と上記アミン類とをDCC,N−3−ジメチルア
ミノプロピル−N−エチルカルボジイミドなどの縮合剤
の存在下反応させることによっても行なわれる。
上記反応は溶媒たとえばジクロロメタン、テトラヒドロ
フラン、N、N−ジメチルホルムアミドなどの中で約0
℃ないし還流温度で約15分間、ないし16時間反応さ
せることにより行なわれる。
フラン、N、N−ジメチルホルムアミドなどの中で約0
℃ないし還流温度で約15分間、ないし16時間反応さ
せることにより行なわれる。
化合物(I)においてR1がメトキシである化合物は、
化合物(■′)においてR1が水素である化合物をメト
キシ化反応に付すことによっても製造できる。
化合物(■′)においてR1が水素である化合物をメト
キシ化反応に付すことによっても製造できる。
メトキシ化
上記のメトキシ化は、ペニシリン、セファロスポリンの
分野で行なわれている、6位あるいは7位のメトキシ化
法を適用することができる。ペニシリンあるいはセファ
ロスポリンのメトキシ化については、たとえばE、 M
、 Gordon、R,B。
分野で行なわれている、6位あるいは7位のメトキシ化
法を適用することができる。ペニシリンあるいはセファ
ロスポリンのメトキシ化については、たとえばE、 M
、 Gordon、R,B。
S ykesらケミストリー・アンド・バイオロジー・
オブ・ベーターラクタム・アンティビオティクス(Ch
emistry and Biology ofβ−
L actalllAntibiotics) vol
、 l 、 p、 199 (1982)。
オブ・ベーターラクタム・アンティビオティクス(Ch
emistry and Biology ofβ−
L actalllAntibiotics) vol
、 l 、 p、 199 (1982)。
Academic Pressに詳しく述べられており
、(1)ジアゾ中間体、(2)アシルイミン中間体、(
3)ケテンイミンおよび関連イミン中間体、(4)キノ
イドイミン中間体、(5)スルフェンイミン中間体、(
6)エンイミン中間体、等を経由する方法が記載されて
いる。これらのいずれの方法によっても、目的化合物を
製造することが可能であるが代表的なメトキシ化の例と
して、アシルイミン中間体を経由する方法について詳し
く説明する。
、(1)ジアゾ中間体、(2)アシルイミン中間体、(
3)ケテンイミンおよび関連イミン中間体、(4)キノ
イドイミン中間体、(5)スルフェンイミン中間体、(
6)エンイミン中間体、等を経由する方法が記載されて
いる。これらのいずれの方法によっても、目的化合物を
製造することが可能であるが代表的なメトキシ化の例と
して、アシルイミン中間体を経由する方法について詳し
く説明する。
メトキシ化反応は、原料化合物をメタノールの存在下、
メタノールのアルカリ金属塩とハロゲン化剤とを作用さ
せることにより行なわれる。メタノールのアルカリ金属
塩としては、リヂウムメトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムメトキシド等が用いられる。またハロゲン
化剤としては、例えばt−プチルビポクロリド、N−ク
ロルスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−
クロルアセトアミド、N−ブロモアセトアミド、N−ク
ロルベンゼンスルホンアミド、塩素、臭素などが用いら
れる。本反応は溶媒中で行なわれ、溶媒としては、例え
ばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタン、
クロロホルム、アセトニトリル、メタノール、N、N−
ジメチルホルムアミド等が使用される。本反応は原料化
合物を前記溶媒に溶解またはP%濁し、これにメタノー
ルのアルカリ金属、メタノールおよびハロゲン化剤を加
え反応させる。
メタノールのアルカリ金属塩とハロゲン化剤とを作用さ
せることにより行なわれる。メタノールのアルカリ金属
塩としては、リヂウムメトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムメトキシド等が用いられる。またハロゲン
化剤としては、例えばt−プチルビポクロリド、N−ク
ロルスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−
クロルアセトアミド、N−ブロモアセトアミド、N−ク
ロルベンゼンスルホンアミド、塩素、臭素などが用いら
れる。本反応は溶媒中で行なわれ、溶媒としては、例え
ばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロメタン、
クロロホルム、アセトニトリル、メタノール、N、N−
ジメチルホルムアミド等が使用される。本反応は原料化
合物を前記溶媒に溶解またはP%濁し、これにメタノー
ルのアルカリ金属、メタノールおよびハロゲン化剤を加
え反応させる。
この際原料化合物に対してメタノールは、1当量以上、
メタノールのアルカリ金属塩は約1ないし3.5当量、
ハロゲン化剤は約1ないし2当里加えて反応させること
が好ましい。反応稈約−80℃ないし30℃で進行し、
反応系内を酸性にすることにより反応が停止される。反
応停止のための適当な酸としては、例えばギ酸、酢酸、
トリクロル酢酸等が用いられる。反応終了後、過剰のノ
10ゲン化剤は、例えばチオ硫酸ナトリウム、亜リン酸
のトリアルキルエステル等の還元剤で処理することによ
り除去される。
メタノールのアルカリ金属塩は約1ないし3.5当量、
ハロゲン化剤は約1ないし2当里加えて反応させること
が好ましい。反応稈約−80℃ないし30℃で進行し、
反応系内を酸性にすることにより反応が停止される。反
応停止のための適当な酸としては、例えばギ酸、酢酸、
トリクロル酢酸等が用いられる。反応終了後、過剰のノ
10ゲン化剤は、例えばチオ硫酸ナトリウム、亜リン酸
のトリアルキルエステル等の還元剤で処理することによ
り除去される。
化合物(■′)においてR2がホルミルアミノである化
合物は、化合物(I′)においてR″が水素である化合
物をホルミルアミノ化反応に付すことによっても製造で
きる。
合物は、化合物(I′)においてR″が水素である化合
物をホルミルアミノ化反応に付すことによっても製造で
きる。
ホルミルアミノ化
ホルミルアミノ化は、化合物(I′)においてR″が水
素である化合物を一般式 [式中、RI″′は窒素を介する有機残基におけるN素
置外の部分を、R3、R4,R5およびR11は前記と
同意義を有する。コで表わされるイミン体とし、これに
式 [式中、WおよびW′は同一または異なって水素。
素である化合物を一般式 [式中、RI″′は窒素を介する有機残基におけるN素
置外の部分を、R3、R4,R5およびR11は前記と
同意義を有する。コで表わされるイミン体とし、これに
式 [式中、WおよびW′は同一または異なって水素。
シリル11(R1におけるシリル”について上記したよ
うな置換基で置換されていてもよいシリルを示す。)、
スタニルまたはホスホリルコで表わされるホルムアミド
の親核性誘導体を作用させることにより行なわれる。な
かでも好適なホルムアミドの親核性誘導体は、N、N−
ビス(トリメチルシリル)ホルムアミドである。該ホル
ミルアミド化反応は通常、溶媒中で、窒素、アルゴン等
の不活性雰囲気下で行なわれ、反応温度は約−100℃
ないし−20℃であり、好ましくは約−80℃ないし−
50℃である。反応時間は約10分間ないし8時間であ
り、好ましくは約15分間ないし2時間である。使用さ
れる溶媒としては好適には非プロトン系溶媒であればよ
く、例えばテトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルホスホルアミドまたはジオキサ
ンである。w、w’がともに上記したようなシリル1の
場合は、更に、残るもう一方のシリル”を除去すべく、
上記ホルムアミドの親核性誘導体との反応に引き続き、
公知方法に従い、酸あるいは塩基による加水分解するこ
とによりポルミルアミド基を生成することができる。な
お原料化合物であるイミン体の製造は前記メトキシ化の
EoM、 Gordonらの文献に記載の方法と同様の
方法で製造することができる。
うな置換基で置換されていてもよいシリルを示す。)、
スタニルまたはホスホリルコで表わされるホルムアミド
の親核性誘導体を作用させることにより行なわれる。な
かでも好適なホルムアミドの親核性誘導体は、N、N−
ビス(トリメチルシリル)ホルムアミドである。該ホル
ミルアミド化反応は通常、溶媒中で、窒素、アルゴン等
の不活性雰囲気下で行なわれ、反応温度は約−100℃
ないし−20℃であり、好ましくは約−80℃ないし−
50℃である。反応時間は約10分間ないし8時間であ
り、好ましくは約15分間ないし2時間である。使用さ
れる溶媒としては好適には非プロトン系溶媒であればよ
く、例えばテトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルホスホルアミドまたはジオキサ
ンである。w、w’がともに上記したようなシリル1の
場合は、更に、残るもう一方のシリル”を除去すべく、
上記ホルムアミドの親核性誘導体との反応に引き続き、
公知方法に従い、酸あるいは塩基による加水分解するこ
とによりポルミルアミド基を生成することができる。な
お原料化合物であるイミン体の製造は前記メトキシ化の
EoM、 Gordonらの文献に記載の方法と同様の
方法で製造することができる。
かくして得られる目的化合物は、自体公知の手段たとえ
ば濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、結晶化
、再結晶3分留、クロマトグラフィーなどにより単離精
製することができる。
ば濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、結晶化
、再結晶3分留、クロマトグラフィーなどにより単離精
製することができる。
目的化合物は基本骨格中に2個以上の不斉炭素があるた
め理論上4種類以上の立体異性体が存在するがそれらの
各異性体、およびそれらの混合物も本発明に含まれる。
め理論上4種類以上の立体異性体が存在するがそれらの
各異性体、およびそれらの混合物も本発明に含まれる。
またR1で示される基に不斉炭素を有する場合およびエ
ステルの場合、基本骨格の2位の=G OOR”[式中
、R”は前記と同意義を有する]で表わされる基に不斉
炭素を有する場合も同様に立体異性体を生ずるが、それ
らの各異性体、およびそれらの混合物も本発明に含まれ
る。前記の反応でこれらの異性体が混在して生成する場
合には必要に応じて、それぞれの異性体を種々のクロマ
トグラフィー、再結晶等の常法により単離することがで
きる。
ステルの場合、基本骨格の2位の=G OOR”[式中
、R”は前記と同意義を有する]で表わされる基に不斉
炭素を有する場合も同様に立体異性体を生ずるが、それ
らの各異性体、およびそれらの混合物も本発明に含まれ
る。前記の反応でこれらの異性体が混在して生成する場
合には必要に応じて、それぞれの異性体を種々のクロマ
トグラフィー、再結晶等の常法により単離することがで
きる。
本発明の基本構造として4.lO−ジオキソ−3−オキ
サ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0
″・S]デカン−2−カルボン酸骨格を有する化合物は
、塩基と作用し合って塩を形成することがあり得る。該
塩としてはたとえばナトリウム、カリウム、リチウム、
カルシウム、マグネシウム、アンモニウム塩などの無機
塩基との塩、たとえばピリジン、コリジン、トリエチル
アミン、トリエタノールアミンなどの有機塩基との塩な
どが挙げられる。
サ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0
″・S]デカン−2−カルボン酸骨格を有する化合物は
、塩基と作用し合って塩を形成することがあり得る。該
塩としてはたとえばナトリウム、カリウム、リチウム、
カルシウム、マグネシウム、アンモニウム塩などの無機
塩基との塩、たとえばピリジン、コリジン、トリエチル
アミン、トリエタノールアミンなどの有機塩基との塩な
どが挙げられる。
本発明の化合物が遊離形で得られた場合にこれを常套手
段を用いて塩を形成さけてもよく、また、塩として得ら
れたものを常套手段を用いて遊離形としてもよい。
段を用いて塩を形成さけてもよく、また、塩として得ら
れたものを常套手段を用いて遊離形としてもよい。
また目的化合物は分子内塩を形成する場合もあり、その
場合も本発明に含まれる。
場合も本発明に含まれる。
目的化合物の立体異性体はそれぞれ単独で、あるいは混
合物のいずれの状態でも医薬として使用することができ
る。
合物のいずれの状態でも医薬として使用することができ
る。
本発明方法において原料化合物として用いられる化合物
(U)は、たとえば次の方法により製造することができ
る。なお、式中のR”、R″Jt3.R’。
(U)は、たとえば次の方法により製造することができ
る。なお、式中のR”、R″Jt3.R’。
R5およびR6は、前記と同意義を示す。
本工程は、式
[式中、R49は水素または水銀、銀、タリウムなどの
金属イオンを、R50は水素または水素に変換され得る
基を示す。R”およびR1は前記と同意義を有する。コ
で表わされる化合物(■)と、式[式中、R”は脱離基
を、Rソはカルボキシル基またはそれから誘導され得る
基をそれぞれ示す。
金属イオンを、R50は水素または水素に変換され得る
基を示す。R”およびR1は前記と同意義を有する。コ
で表わされる化合物(■)と、式[式中、R”は脱離基
を、Rソはカルボキシル基またはそれから誘導され得る
基をそれぞれ示す。
R3,l’、R’およびR8は前記と同意義を示す。]
で表わされる化合物(V)とを反応させ、式[式中、R
1’ 、 R1、R3、R4、R11、RII 、 R
!i 0およびR”は前記と同意義を示す。]で表わさ
れる化合物(■)を得、当該化合物のR”がカルボキシ
ル基でない場合、R”をカルボキシル基に変換し、また
R”が水素でない場合、R”を水素に変換し、あるいは
、要すればR”およびR8を脱保護等の変換反応に付し
て化合物(II)を製造する工程である。上記式CJ)
におけるR”としては、例えば水素または水銀、銀、タ
リウムなどの金属イオンが挙げられる。上記式(T¥)
、(Vl)におけるR”としては、水素または、たとえ
ばトリメチルシリル、1−ブチルジメチルシリル、ジフ
ェ÷ルメチルシリルなどのシリル基、たとえばイソプロ
ピリデンに関して前記したような炭素を介する有機残基
コが挙げられる。上記式(V)におけるR”で示される
脱離基としては、たとえばハロゲン(例、ブロム、クロ
ル)置換基(例、アルキル、アリール)(アルキル、ア
リールとしてはR1に関して前記した置換基と同様のも
のが挙げられる。)を有するスルホニルオキシ(その具
体例としては、たとえばp−トルエンスルホニルオキシ
、p−ニトロフェニルスルホニルオキシ、メタンスルホ
ニルオキシ)、ジ置換ホスホリルオキシ(例、ジフェニ
ルホスホリルオキシ、ジエチルホスホリルオキシ)など
が挙げられる。
で表わされる化合物(V)とを反応させ、式[式中、R
1’ 、 R1、R3、R4、R11、RII 、 R
!i 0およびR”は前記と同意義を示す。]で表わさ
れる化合物(■)を得、当該化合物のR”がカルボキシ
ル基でない場合、R”をカルボキシル基に変換し、また
R”が水素でない場合、R”を水素に変換し、あるいは
、要すればR”およびR8を脱保護等の変換反応に付し
て化合物(II)を製造する工程である。上記式CJ)
におけるR”としては、例えば水素または水銀、銀、タ
リウムなどの金属イオンが挙げられる。上記式(T¥)
、(Vl)におけるR”としては、水素または、たとえ
ばトリメチルシリル、1−ブチルジメチルシリル、ジフ
ェ÷ルメチルシリルなどのシリル基、たとえばイソプロ
ピリデンに関して前記したような炭素を介する有機残基
コが挙げられる。上記式(V)におけるR”で示される
脱離基としては、たとえばハロゲン(例、ブロム、クロ
ル)置換基(例、アルキル、アリール)(アルキル、ア
リールとしてはR1に関して前記した置換基と同様のも
のが挙げられる。)を有するスルホニルオキシ(その具
体例としては、たとえばp−トルエンスルホニルオキシ
、p−ニトロフェニルスルホニルオキシ、メタンスルホ
ニルオキシ)、ジ置換ホスホリルオキシ(例、ジフェニ
ルホスホリルオキシ、ジエチルホスホリルオキシ)など
が挙げられる。
上記式(V)、(VI)におけるR”としては、カルボ
キシル基または、たとえばt−ブチオキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、4−二トロペンジルオキシ
カルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニルなどのカルボン酸エステルが挙げ
られる。
キシル基または、たとえばt−ブチオキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、4−二トロペンジルオキシ
カルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニル、アリ
ールオキシカルボニルなどのカルボン酸エステルが挙げ
られる。
化合物(IV)と化合物(V)とを反応させ、化合物(
Vl)に変換する工程は、溶媒中、反応に支障のない限
り、たとえばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン
、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどの塩基を
使用する場合もある。溶媒としては、たとえばジクロル
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼン、トルエン。
Vl)に変換する工程は、溶媒中、反応に支障のない限
り、たとえばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン
、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどの塩基を
使用する場合もある。溶媒としては、たとえばジクロル
メタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ベンゼン、トルエン。
アセトニトリル、N、N−ジメチルアセトアミド。
N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホル
アミドなどが挙げられる。反応温度は、通常=20℃な
いし100℃程度であり、反応時間は約10分間ないし
50時間程度である。
アミドなどが挙げられる。反応温度は、通常=20℃な
いし100℃程度であり、反応時間は約10分間ないし
50時間程度である。
化合物(Vl)から化合物(II)への反応は、化合物
(V[)のR”がシリル基の場合、溶媒中酸(たとえば
塩酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられる
。)あるいはフッ素アニオン(たとえばテトラ−n−ブ
チルアンモニウム・フルオライド、カリウムフルオライ
ド、トリチルボロンテトラフルオライドなどが挙げられ
る。)と反応させることにより行われ・る。R”がイソ
プロピリデン酢酸エステル基の場合、酸化剤(たとえば
、過マンガン酸カリウム、オゾン)と反応させることに
よって行われる。また化合物(Vl)のR”が前記した
カルボキシル基から誘導される基である場合及び化合物
(Vl)において、R1′で表わされる基がシリル基(
該シリル基がアルキル基等で置換されている場合も含む
)で保護されている場合等には(■′)から(1)を製
造する方法に関連して、R”およびR8の変換反応とし
て前記した脱保護反応に付すことにより、化合物(VI
)から化合物(II)へ変換される。
(V[)のR”がシリル基の場合、溶媒中酸(たとえば
塩酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられる
。)あるいはフッ素アニオン(たとえばテトラ−n−ブ
チルアンモニウム・フルオライド、カリウムフルオライ
ド、トリチルボロンテトラフルオライドなどが挙げられ
る。)と反応させることにより行われ・る。R”がイソ
プロピリデン酢酸エステル基の場合、酸化剤(たとえば
、過マンガン酸カリウム、オゾン)と反応させることに
よって行われる。また化合物(Vl)のR”が前記した
カルボキシル基から誘導される基である場合及び化合物
(Vl)において、R1′で表わされる基がシリル基(
該シリル基がアルキル基等で置換されている場合も含む
)で保護されている場合等には(■′)から(1)を製
造する方法に関連して、R”およびR8の変換反応とし
て前記した脱保護反応に付すことにより、化合物(VI
)から化合物(II)へ変換される。
たとえばR”がt−ブチルオキシカルボニルまたはジフ
ェニルメチルオキシカルボニルの場合、アニソールの存
在下トリフルオル酢酸と反応さけて実施される。ベンジ
ルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルの場合、接触還元反応によって実施される。
ェニルメチルオキシカルボニルの場合、アニソールの存
在下トリフルオル酢酸と反応さけて実施される。ベンジ
ルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルの場合、接触還元反応によって実施される。
原料化合物である化合物(IV)は、公知の種々の方法
又はそれに準じる方法により製造することができる。た
とえばつぎに掲げる文献などにより、化合物自体が公知
であるか、またはそれらに記載の方法に準じて化合物(
■)を得ることができる。
又はそれに準じる方法により製造することができる。た
とえばつぎに掲げる文献などにより、化合物自体が公知
であるか、またはそれらに記載の方法に準じて化合物(
■)を得ることができる。
(1)ハマシマら(Y、 llamashima e
t、 al、)“り一セント・アドバンス イン ザ
ケミストリーオブ β−ラクタム アンティバイオティ
ックス(Recent Advences in t
he’chemistry ofβ−Lactam A
ntibiotics)” No、 28 、243−
2 j51頁(1977)。
t、 al、)“り一セント・アドバンス イン ザ
ケミストリーオブ β−ラクタム アンティバイオティ
ックス(Recent Advences in t
he’chemistry ofβ−Lactam A
ntibiotics)” No、 28 、243−
2 j51頁(1977)。
(2) クーパーら(R,D、G、Cooper、 G
、A、Koppel)。
、A、Koppel)。
“ケミストリー アンド バイオロジー イブβ−ラク
タム アンティバイオティックス(Chemistry
and Biology of β−Lac
tamAntibiotics)” I a 1〜
92頁、2巻 315〜360頁(+ 982)。
タム アンティバイオティックス(Chemistry
and Biology of β−Lac
tamAntibiotics)” I a 1〜
92頁、2巻 315〜360頁(+ 982)。
(3) ヒライら(K、1lirai et、 al、
)テトラヘドロン レターズ 23巻 4021(+9
82)。
)テトラヘドロン レターズ 23巻 4021(+9
82)。
(4)ヤナギサワら(H,Yanagisawa e
t、 at、)テトラヘドロン レターズ 24巻 1
037(+983)。
t、 at、)テトラヘドロン レターズ 24巻 1
037(+983)。
化合物(IVXR”が水素、R1′がNを介する有機残
基の場合)はたとえば次反応式に従っても製造すること
ができる。
基の場合)はたとえば次反応式に従っても製造すること
ができる。
(■) (■)
(IX) (X)[式中、φは
フェニール基を、その他の各記号は前記と同意義を示す
。コ 化合物(■)[E、G、Brain et、 al、、
J、 Chem、Soc。
フェニール基を、その他の各記号は前記と同意義を示す
。コ 化合物(■)[E、G、Brain et、 al、、
J、 Chem、Soc。
Perkinl 、447 (1976)]から化合物
(■)を得る反応は、化合物(■)を溶媒中で、塩基の
存在下、トリチルメルカプタンと反応させることによっ
て行なわれる。塩基としては、たとえば、トリエチルア
ミン、トリーn−ブチルアミンなどの有機アミン類、た
とえばリチウム、ナトリウム、カリウム。
(■)を得る反応は、化合物(■)を溶媒中で、塩基の
存在下、トリチルメルカプタンと反応させることによっ
て行なわれる。塩基としては、たとえば、トリエチルア
ミン、トリーn−ブチルアミンなどの有機アミン類、た
とえばリチウム、ナトリウム、カリウム。
セシウムなどのアルカリ金属の水素化物、水酸化物、炭
酸塩などが用いられる。溶媒としては反応を阻害しない
かぎりどのようなものでもよく、具体的には例えば水、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホルアミドあるいはこれらの
混合溶媒などが用いられる。反応時間は約5分間ないし
30時間程度であり、反応温度は、通常的−20℃ない
し100℃程度である。
酸塩などが用いられる。溶媒としては反応を阻害しない
かぎりどのようなものでもよく、具体的には例えば水、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホルアミドあるいはこれらの
混合溶媒などが用いられる。反応時間は約5分間ないし
30時間程度であり、反応温度は、通常的−20℃ない
し100℃程度である。
化合物(■)から化合物(IX)への反応は、化合物(
■)を溶媒中で酸と反応させることによって行われる。
■)を溶媒中で酸と反応させることによって行われる。
酸としては、たとえば、p−トルエンスルホン酸、塩酸
、ギ酸などが用いられる。溶媒は反応を阻害しないかぎ
りどのようなものでらよく、具体的には例えば、水、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、アセ
トン、ジクロルメタン。
、ギ酸などが用いられる。溶媒は反応を阻害しないかぎ
りどのようなものでらよく、具体的には例えば、水、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、アセ
トン、ジクロルメタン。
酢酸エチルおよびこれらの混合溶媒などが用いられる。
化合物(IX)から化合物(X)への反応は、ペニシリ
ンの6位のアミノ基あるいはセファロスポリンの7位の
アミノ基への保護基の導入反応あるいはアシル化反応に
準じて行なうことができる。より具体的には、(I′)
から(1)への製造に関し Rl’の変換反応として、
前記したアシル化の方法に従い行なうことができる。
ンの6位のアミノ基あるいはセファロスポリンの7位の
アミノ基への保護基の導入反応あるいはアシル化反応に
準じて行なうことができる。より具体的には、(I′)
から(1)への製造に関し Rl’の変換反応として、
前記したアシル化の方法に従い行なうことができる。
前記式中、R50が前記した意義のうち、水素に変換さ
れ得る基である場合、化合物(X)から化合物(X[)
の反応は、化合物(X)を溶媒中例えばトリメチルシリ
ルクロリド、t−プチルジメチルシリルクロリド、t−
ブチルジメチルシリルトリフレートあるいはジフェニル
メチルシリルクロリド等のシリル化剤と塩基の存在下反
応させることによって行われる。溶媒は、反応を阻害し
ないかぎりどのようなものでもよく、具体的には例えば
ジクロルメタン、酢酸エチル、ベンゼン、クロロホルム
、N。
れ得る基である場合、化合物(X)から化合物(X[)
の反応は、化合物(X)を溶媒中例えばトリメチルシリ
ルクロリド、t−プチルジメチルシリルクロリド、t−
ブチルジメチルシリルトリフレートあるいはジフェニル
メチルシリルクロリド等のシリル化剤と塩基の存在下反
応させることによって行われる。溶媒は、反応を阻害し
ないかぎりどのようなものでもよく、具体的には例えば
ジクロルメタン、酢酸エチル、ベンゼン、クロロホルム
、N。
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミドなどがあげられる。塩基としては、トリエチルアミ
ン、トリーn−ブチルアミン、N、N−ジメチルアミノ
ピリジン、イミダゾールまたはメチルイミダゾールなど
の有機アミン類が挙げられる。
ミドなどがあげられる。塩基としては、トリエチルアミ
ン、トリーn−ブチルアミン、N、N−ジメチルアミノ
ピリジン、イミダゾールまたはメチルイミダゾールなど
の有機アミン類が挙げられる。
反応時間は約5分間ないし30時間程度であり、反応温
度は、通常約−20℃ないし100℃程度である。
度は、通常約−20℃ないし100℃程度である。
化合物(テ)から化合物(■)への変換反応は、溶媒中
、例えば、塩化第二水銀、硝酸第二水銀、硝酸銀または
硝酸タリウム等を加えることにより、水銀、銀、または
タリウムなどの金属イオン存在下で行われる。R″′が
水素の化合物(IV)は、更に、前記のようにして得た
生成物を硫化水素と反応させることにより得られる。ま
たR”が水素の化合物(IV)は、さらに、たとえば塩
酸等の無機酸、または、例えば酢酸、ギ酸、トリフルオ
ル酢酸などの有機酸等の酸を作用させることによって得
られる。
、例えば、塩化第二水銀、硝酸第二水銀、硝酸銀または
硝酸タリウム等を加えることにより、水銀、銀、または
タリウムなどの金属イオン存在下で行われる。R″′が
水素の化合物(IV)は、更に、前記のようにして得た
生成物を硫化水素と反応させることにより得られる。ま
たR”が水素の化合物(IV)は、さらに、たとえば塩
酸等の無機酸、または、例えば酢酸、ギ酸、トリフルオ
ル酢酸などの有機酸等の酸を作用させることによって得
られる。
反応溶媒は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフ
ラン、ジクロルメタン、酢酸エチル、クロロホルム、N
、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルム
アミドなどが具体例として挙げられ、反応温度は通常約
−78℃から50℃程度で行われるが、これ以外の温度
で行なってもよい。
ラン、ジクロルメタン、酢酸エチル、クロロホルム、N
、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルム
アミドなどが具体例として挙げられ、反応温度は通常約
−78℃から50℃程度で行われるが、これ以外の温度
で行なってもよい。
原料化合物である化合物(V)においてR”が前記した
意義のうち、カルボキシル基から誘導される基である場
合、たとえば次の方法により製造することができる。
意義のうち、カルボキシル基から誘導される基である場
合、たとえば次の方法により製造することができる。
[式中、各記号は、前記と同意義を有する。]化合物C
M)を、溶媒中臭素、塩素などのハロゲン化剤を作用さ
せて化合物(XIII)に変換し、これをペプタイド分
野で知られている自体公知のカルボン酸のエステル化等
の方法、就中、(1)へ導くための(I′)のR”およ
び/またはR8の変換反応に関して前記したエステル化
の方法に従って化合物(■)に変換する。化合物(Xl
)から化合物(XII[)への反応に用いられる溶媒と
しては、酢酸、クロロホルム、ジクロルメタン、四塩化
炭素などが挙げられ、反応温度は通常約−20℃ないし
100℃、で行われる。
M)を、溶媒中臭素、塩素などのハロゲン化剤を作用さ
せて化合物(XIII)に変換し、これをペプタイド分
野で知られている自体公知のカルボン酸のエステル化等
の方法、就中、(1)へ導くための(I′)のR”およ
び/またはR8の変換反応に関して前記したエステル化
の方法に従って化合物(■)に変換する。化合物(Xl
)から化合物(XII[)への反応に用いられる溶媒と
しては、酢酸、クロロホルム、ジクロルメタン、四塩化
炭素などが挙げられ、反応温度は通常約−20℃ないし
100℃、で行われる。
化合物(XI[)から化合物(V)への変換は、例えば
塩酸または硫酸などの酸の存在下、メタノール。
塩酸または硫酸などの酸の存在下、メタノール。
エタノール、ベンジルアルコールを作用させること、例
えばジアゾメタン、ジフェニルジアゾメタンを作用させ
ること、または例えば硫酸存在下イソブチンを作用させ
ることなどの方法によってエステル化された化合物(V
)に変換される。
えばジアゾメタン、ジフェニルジアゾメタンを作用させ
ること、または例えば硫酸存在下イソブチンを作用させ
ることなどの方法によってエステル化された化合物(V
)に変換される。
原料化合物として用いられる化合物(yl)は、たとえ
ば次の方法により製造することができる。なお、式中の
R・3 、 R4、R5およびR6は、前記と同意義を
有する。
ば次の方法により製造することができる。なお、式中の
R・3 、 R4、R5およびR6は、前記と同意義を
有する。
化合物(X■)−化合物(■):
本工程は、式
で表わされる化合物の2つあるカルボキシル基のうち1
位のカルボキシル基のみを選択的にエステル化し、モノ
フエステル体である化合物(yl)を製造する工程であ
る。本反応は化合物(XIV)を溶媒中で、当量の塩基
の存在下、約当虫ないし小過剰のエステル化剤と反応さ
けることにより行なわれる。ここで用いられるエステル
化剤としては、たとえばヨウ化メチル、ベンジルプロミ
ド、p−ニトロベンジルプロミド、m−フェノキシベン
ジルプロミド、p−t−ブチルベンジルプロミド、ジフ
ェニルメチルプロミド、ピバロイルオキシメチルクロリ
ドなどのハライド類、たとえば硫酸ジメチル、硫酸ジエ
チルなどの硫酸ジアルキル類などが挙げられる。塩基と
しては、たとえば、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、シクロヘキシルイソプロピルアミン、ト
リエヂルアミン、トリブロピルアミノ。トリーn−ブチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DABCO,
DBU、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン
、N−メチルビロリジン、3,4−ジヒドロ−2H−ピ
リド[1゜2−a]ピリミジン−2−オン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジン
などの有機アミン類、たとえばリチウム、ナトリウム。
位のカルボキシル基のみを選択的にエステル化し、モノ
フエステル体である化合物(yl)を製造する工程であ
る。本反応は化合物(XIV)を溶媒中で、当量の塩基
の存在下、約当虫ないし小過剰のエステル化剤と反応さ
けることにより行なわれる。ここで用いられるエステル
化剤としては、たとえばヨウ化メチル、ベンジルプロミ
ド、p−ニトロベンジルプロミド、m−フェノキシベン
ジルプロミド、p−t−ブチルベンジルプロミド、ジフ
ェニルメチルプロミド、ピバロイルオキシメチルクロリ
ドなどのハライド類、たとえば硫酸ジメチル、硫酸ジエ
チルなどの硫酸ジアルキル類などが挙げられる。塩基と
しては、たとえば、ジイソプロピルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、シクロヘキシルイソプロピルアミン、ト
リエヂルアミン、トリブロピルアミノ。トリーn−ブチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DABCO,
DBU、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン
、N−メチルビロリジン、3,4−ジヒドロ−2H−ピ
リド[1゜2−a]ピリミジン−2−オン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジン
などの有機アミン類、たとえばリチウム、ナトリウム。
カリウム、セシウムなどのアルカリ金属との水素化物、
水酸化物、炭酸塩などが用いられる。
水酸化物、炭酸塩などが用いられる。
溶媒としては、N、N−ジメチルホルムアミド。
N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホル
アミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、アセ
トニトリル、テトラヒドロフランなどが用いられる。反
応温度は、通常約−20℃ないし!00℃程度であり、
反応時間は、約5分間ないし30時間程度である。
アミド、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、アセ
トニトリル、テトラヒドロフランなどが用いられる。反
応温度は、通常約−20℃ないし!00℃程度であり、
反応時間は、約5分間ないし30時間程度である。
化合物(XIV)→化合物(XV)−化合物(X■)−
化合物(Xlり: 本工程は、化合物(1’)にベンジルカルバメートを反
応させ、式 で表わされる化合物(XV)を製造し、次いでこれをエ
ステル化反応に付すことにより、式で表わされる化合物
(XVI)に変換した後、酸処理することにより、化合
物CM)を製造する工程である。
化合物(Xlり: 本工程は、化合物(1’)にベンジルカルバメートを反
応させ、式 で表わされる化合物(XV)を製造し、次いでこれをエ
ステル化反応に付すことにより、式で表わされる化合物
(XVI)に変換した後、酸処理することにより、化合
物CM)を製造する工程である。
本反応は化合物(X■)に対し、ベンジルカルバメート
を約当量ないし小過剰用い、通常無溶媒で減圧下に加熱
して脱水縮合することにより行なわれる。減圧度は約0
.lmmHgないし5QmmHg程度である。反応温度
は、通常約50’Cないし120℃程度であり、反応時
間は、約30分間ないし20時間程度である。化合物(
XV)はついでエステル化反応に付し、化合物(XVI
)に変換する。エステル化反応は前記の化合物(XIV
)から化合物(■)へのエステル化と同様の条件を適用
することにより実施される。さらにたとえばジアゾメタ
ンなどのようなジアゾアルカン類と、あるいはたとえば
メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなどと、
たとえばDCCなどのカルボジイミド縮合剤の存在下に
エステル化を行なう場合もある。
を約当量ないし小過剰用い、通常無溶媒で減圧下に加熱
して脱水縮合することにより行なわれる。減圧度は約0
.lmmHgないし5QmmHg程度である。反応温度
は、通常約50’Cないし120℃程度であり、反応時
間は、約30分間ないし20時間程度である。化合物(
XV)はついでエステル化反応に付し、化合物(XVI
)に変換する。エステル化反応は前記の化合物(XIV
)から化合物(■)へのエステル化と同様の条件を適用
することにより実施される。さらにたとえばジアゾメタ
ンなどのようなジアゾアルカン類と、あるいはたとえば
メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなどと、
たとえばDCCなどのカルボジイミド縮合剤の存在下に
エステル化を行なう場合もある。
エステル化の方法は適宜目的とするエステルにより選択
されるが、ここで用いられるエステルは次反応で酸を使
用するために比較的酸に安定なものが選ばれる。化合物
(XVI)は酸処理することにより化合物(■・)へ変
換される。ここで用いられる酸・とじては、たとえば過
剰量の塩酸、硫酸、臭化水素酸、過塩素酸、過ヨウ素酸
、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホ
ン酸などが単独あるいは組み合わせて用いられる。それ
らの中で臭化水素酸−酢酸を組み合わけたものが好適で
ある。反応温度は約0℃ないし50℃程度であり、反応
時間は約15分間ないし5時間程度である。
されるが、ここで用いられるエステルは次反応で酸を使
用するために比較的酸に安定なものが選ばれる。化合物
(XVI)は酸処理することにより化合物(■・)へ変
換される。ここで用いられる酸・とじては、たとえば過
剰量の塩酸、硫酸、臭化水素酸、過塩素酸、過ヨウ素酸
、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホ
ン酸などが単独あるいは組み合わせて用いられる。それ
らの中で臭化水素酸−酢酸を組み合わけたものが好適で
ある。反応温度は約0℃ないし50℃程度であり、反応
時間は約15分間ないし5時間程度である。
化合物(XIV)→化合物(X■)→化合物(■):本
工程は化合物(XIV)にハロゲノ炭酸エステルを反応
させ式 で表わされる化合物(X■)に導き、ついで脱炭酸する
ことにより化合物CM)を製造する工程である。
工程は化合物(XIV)にハロゲノ炭酸エステルを反応
させ式 で表わされる化合物(X■)に導き、ついで脱炭酸する
ことにより化合物CM)を製造する工程である。
2−オキソグルタル酸(化合物(XIV)においてR3
=R’=R’=Hの化合物)とクロロ炭酸エチルとを反
応させ、ついで脱炭酸して2−オキソグルタル酸の1−
エチルエステルを合成した例は文献」二既知である。[
J、 M、 pomagata、、テトラヘドロン°レ
ターズ(Tetrahedron Letters)
21巻。
=R’=R’=Hの化合物)とクロロ炭酸エチルとを反
応させ、ついで脱炭酸して2−オキソグルタル酸の1−
エチルエステルを合成した例は文献」二既知である。[
J、 M、 pomagata、、テトラヘドロン°レ
ターズ(Tetrahedron Letters)
21巻。
4997頁、1980年]。本反応は化合物(XI’i
’)を溶媒中で塩基の存在下に、ハロゲノ炭酸エステル
と反応させ、ついで脱炭酸することにより化合物(X[
l)を製造する。ハロゲノ炭酸エステルの具体例として
、たとえば、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、ク
ロロ炭酸ベンジル、クロロ炭酸−2゜2.2−トリクロ
ロエチルなどが挙げられる。ここで用いられる塩基とし
ては、たとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、トリーn−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリエヂレンジアミン、DABCO,DBU、N−
メチルモルホリン、N−メチルビベリジン。N−メチル
ピロリジン、3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,2
−aコビリミジン−2−オン、4−ジメチルアミノピリ
ジン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジンなどの有機ア
ミン類、たとえばリチウム2ナトリウム、カリウム、セ
シウムなどのアルカリ金属、たとえばマグネシウム、カ
ルシウムなどのアルカリ土類金属あるいはこれらの水素
化物、水酸化物、炭酸塩あるいはアルコラード類などが
用いられる。溶媒としては、たとえばジクロロメタンク
ロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド
、ジメチルポルムアミドなどの通常の溶媒が用いられる
。
’)を溶媒中で塩基の存在下に、ハロゲノ炭酸エステル
と反応させ、ついで脱炭酸することにより化合物(X[
l)を製造する。ハロゲノ炭酸エステルの具体例として
、たとえば、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、ク
ロロ炭酸ベンジル、クロロ炭酸−2゜2.2−トリクロ
ロエチルなどが挙げられる。ここで用いられる塩基とし
ては、たとえばトリエチルアミン、トリプロピルアミン
、トリーn−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリエヂレンジアミン、DABCO,DBU、N−
メチルモルホリン、N−メチルビベリジン。N−メチル
ピロリジン、3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,2
−aコビリミジン−2−オン、4−ジメチルアミノピリ
ジン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジンなどの有機ア
ミン類、たとえばリチウム2ナトリウム、カリウム、セ
シウムなどのアルカリ金属、たとえばマグネシウム、カ
ルシウムなどのアルカリ土類金属あるいはこれらの水素
化物、水酸化物、炭酸塩あるいはアルコラード類などが
用いられる。溶媒としては、たとえばジクロロメタンク
ロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド
、ジメチルポルムアミドなどの通常の溶媒が用いられる
。
本反応は化合物(XIV)に対して約当量の塩基ならび
に約当量のハロゲノ炭酸エステルが使用される。
に約当量のハロゲノ炭酸エステルが使用される。
反応温度は通常的−30℃ないし60℃であり、反応時
間は約1分間ないし2時間程度である。化合物(X■)
はとくに単離する必要がなく、前記反応条件で脱炭酸反
応も引き続き進行し、化合物(X[)を−挙に得ること
ができる。
間は約1分間ないし2時間程度である。化合物(X■)
はとくに単離する必要がなく、前記反応条件で脱炭酸反
応も引き続き進行し、化合物(X[)を−挙に得ること
ができる。
化合物(XIV)−化合物(X■)−化合物(X[[)
:本工程は化合物(X■)に脱水剤を作用させ、酸無水
物である式 で表わされる化合物(X■)を製造し、ついでアルコー
ルを反応させ、化合物(yl)を製造する工程である。
:本工程は化合物(X■)に脱水剤を作用させ、酸無水
物である式 で表わされる化合物(X■)を製造し、ついでアルコー
ルを反応させ、化合物(yl)を製造する工程である。
本反応で用いられる脱水剤としては、たとえばオキシ塩
化リン、チオニルクロリド、クロロスルホン酸などのハ
ロゲン化合物、たとえば無水酢酸、無水トリフルオロ酢
酸などの低級脂肪酸の酸無水物、たとえばアセチルクロ
リドなどの酸ハライド、たとえばN、N’−カルボニル
ジイミダゾール、N−トリフルオロアセチルイミダゾー
ルなどのイミダゾール誘導体、DCCなどが挙げられる
。
化リン、チオニルクロリド、クロロスルホン酸などのハ
ロゲン化合物、たとえば無水酢酸、無水トリフルオロ酢
酸などの低級脂肪酸の酸無水物、たとえばアセチルクロ
リドなどの酸ハライド、たとえばN、N’−カルボニル
ジイミダゾール、N−トリフルオロアセチルイミダゾー
ルなどのイミダゾール誘導体、DCCなどが挙げられる
。
上記の酸ハライドを使用する時は、たとえばピリジン、
トリエチルアミンなどの有機塩基を併用する場合もある
。本反応は化合物(XIV)に対q1約当量ないし過剰
量の脱水剤を使用し、溶媒中で行なうか、あるいは脱水
剤が液体の場合は溶媒を兼ねて行なわれる。溶媒として
は、たとえば、ジクロメタン、ベンゼン、トルエン、ア
セトニトリルなどが用いられる。反応温度は、通常的O
℃ないしIOθ℃程度であり、反応時間は約15分間か
ら30時間程度である。ついで化合物(X■)と約当量
ないし過剰量のアルコールを反応させると、化合物(■
)が得られる。ここでアルコールとしては、R”OHま
たはR”’OHC式中、R”およびR44′は前記と同
意義を有する。コで表わされるアルコールが用いられる
。たとえばメチルアルコール、エチルアルコール、ベン
ジルアルコール、p−ニトロベンジルアルコール、t−
ブチルアルコールなどが挙げられる。この反応では、た
とえば硫酸、p−トルエンスルホン酸、塩化亜鉛、酢酸
ナトリウム。
トリエチルアミンなどの有機塩基を併用する場合もある
。本反応は化合物(XIV)に対q1約当量ないし過剰
量の脱水剤を使用し、溶媒中で行なうか、あるいは脱水
剤が液体の場合は溶媒を兼ねて行なわれる。溶媒として
は、たとえば、ジクロメタン、ベンゼン、トルエン、ア
セトニトリルなどが用いられる。反応温度は、通常的O
℃ないしIOθ℃程度であり、反応時間は約15分間か
ら30時間程度である。ついで化合物(X■)と約当量
ないし過剰量のアルコールを反応させると、化合物(■
)が得られる。ここでアルコールとしては、R”OHま
たはR”’OHC式中、R”およびR44′は前記と同
意義を有する。コで表わされるアルコールが用いられる
。たとえばメチルアルコール、エチルアルコール、ベン
ジルアルコール、p−ニトロベンジルアルコール、t−
ブチルアルコールなどが挙げられる。この反応では、た
とえば硫酸、p−トルエンスルホン酸、塩化亜鉛、酢酸
ナトリウム。
ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジ
ノピリジン、トリエチルアミン、炭化カルシウムなどの
触媒を用いる場合もある。反応温度は、約O℃ないし1
00℃程度であり、反応時間は約10分間ないし4日間
程度である。
ノピリジン、トリエチルアミン、炭化カルシウムなどの
触媒を用いる場合もある。反応温度は、約O℃ないし1
00℃程度であり、反応時間は約10分間ないし4日間
程度である。
本工程は化合物(XIV)をジエステル化して式で表わ
される化合物(X■)を製造し、ついで1位のエステル
基のみを選択的に加水分解し、式で表わされる化合物(
XX)に変換後、1位のカルボキシル基に5位のエステ
ル基と異なるエステル基を導入し、式 で表わされる化合物(XXI)を得、最後に5位のエス
テル基のみを選択的にカルボキシル基に変換し、化合物
(■)を製造する工程である。上記式(XIX)。
される化合物(X■)を製造し、ついで1位のエステル
基のみを選択的に加水分解し、式で表わされる化合物(
XX)に変換後、1位のカルボキシル基に5位のエステ
ル基と異なるエステル基を導入し、式 で表わされる化合物(XXI)を得、最後に5位のエス
テル基のみを選択的にカルボキシル基に変換し、化合物
(■)を製造する工程である。上記式(XIX)。
(XX)J(X)ff)におけるR”としては、たとえ
ばメチル、エチルなどのアルキル基たとえばベンジル、
p−ブロムベンジル、p−ニトロベンジルなどのアラル
キル基などが挙げられる。
ばメチル、エチルなどのアルキル基たとえばベンジル、
p−ブロムベンジル、p−ニトロベンジルなどのアラル
キル基などが挙げられる。
化合物(XIV)から化合物(XTX)の反応は、さき
に化合物(XIV)から化合物(yl)の製造法で記載
した方法において、エステル化剤および塩基を化合物(
XIV)に対し、それぞれ約2当量ないし過剰量使用す
ることにより行なわれる。化合物(XI)C)から化合
物(XX)の加水分解は、通常、たとえばリヂウム、ナ
トリウム、カリウム、セシウムなどのアルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、アルコラードなどの塩基により溶媒中
で行なわれる。溶媒としては、水、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン。
に化合物(XIV)から化合物(yl)の製造法で記載
した方法において、エステル化剤および塩基を化合物(
XIV)に対し、それぞれ約2当量ないし過剰量使用す
ることにより行なわれる。化合物(XI)C)から化合
物(XX)の加水分解は、通常、たとえばリヂウム、ナ
トリウム、カリウム、セシウムなどのアルカリ金属の水
酸化物、炭酸塩、アルコラードなどの塩基により溶媒中
で行なわれる。溶媒としては、水、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン。
ジメチルスルホキシドなどが単独にあるいは混合溶媒と
して用いられる。本加水分解反応は、化合物(X[)に
対して約当潰の塩基を用いて行なわれる。反応温度は、
通常約0℃ないし80℃程度であり、反応時間は、約1
0分間ないし20時間程度である。化合物(XX)から
化合物(XXI)のエステル化反応は、さきに化合物(
XIV)から化合物(XI[)の製造法で記載した方法
に従って行なうことができる。さらに化合物(XX)を
酸触媒存在下イソブチンと反応させt−ブチルエステル
を製造する場合もある。化合物(XXI)から化合物(
XXI)への変換反応は、1位のエステル基が塩基に対
して安定であり、5位のエステル基が安定でない場合(
たとえば、R”=t−ブチル、R”=メチルなどの場合
)は、前記の化合物(XIX)から化合物(XX)への
アルカリ加水分解の方法を適用することにより達成され
る。また1位のエステル基が還元条件に安定であり、5
位のエステル基が安定でない場合(たとえば、R’=t
−ブチル、R6′=ベンジルなどの場合)は、還元によ
る方法により選択的にモノエステル体[化合物(■)コ
が得られる。還元方法としては、たとえばパラジウム炭
素、パラジウム黒。
して用いられる。本加水分解反応は、化合物(X[)に
対して約当潰の塩基を用いて行なわれる。反応温度は、
通常約0℃ないし80℃程度であり、反応時間は、約1
0分間ないし20時間程度である。化合物(XX)から
化合物(XXI)のエステル化反応は、さきに化合物(
XIV)から化合物(XI[)の製造法で記載した方法
に従って行なうことができる。さらに化合物(XX)を
酸触媒存在下イソブチンと反応させt−ブチルエステル
を製造する場合もある。化合物(XXI)から化合物(
XXI)への変換反応は、1位のエステル基が塩基に対
して安定であり、5位のエステル基が安定でない場合(
たとえば、R”=t−ブチル、R”=メチルなどの場合
)は、前記の化合物(XIX)から化合物(XX)への
アルカリ加水分解の方法を適用することにより達成され
る。また1位のエステル基が還元条件に安定であり、5
位のエステル基が安定でない場合(たとえば、R’=t
−ブチル、R6′=ベンジルなどの場合)は、還元によ
る方法により選択的にモノエステル体[化合物(■)コ
が得られる。還元方法としては、たとえばパラジウム炭
素、パラジウム黒。
パラジウム炭酸バリウム、酸化白金、白金黒、ラネーニ
ブケルなどの金属触媒を用いる触媒還元による方法、た
とえば亜鉛、鉄、クロムなどの金属と、たとえば塩酸、
ギ酸、酢酸などの酸による還元方法などが適用される。
ブケルなどの金属触媒を用いる触媒還元による方法、た
とえば亜鉛、鉄、クロムなどの金属と、たとえば塩酸、
ギ酸、酢酸などの酸による還元方法などが適用される。
還元による方法は通常溶媒中で行なわれ、たとえば水、
メタノール、エタノール。
メタノール、エタノール。
酢酸エチル、アセトンあるいは上記の酸などが用いられ
る。反応温度は通常約O℃ないし60℃程度であり、反
応時間は約10分間ないし20時間である。
る。反応温度は通常約O℃ないし60℃程度であり、反
応時間は約10分間ないし20時間である。
化合物(X■)−化合物(Xχ■)−化合物(XXIV
)本工程は、式 で表わされる化合物(X店)をエステル化し、式で表わ
される化合物(XXIII)に導いた後、加水分解反応
に付して、式 で表わされる化合物(XX■)を得、これを再びエステ
ル化して、式 で表わされる化合物(XXV)に変換し、さらに水酸基
を酸化して化合物(XXIXffi出)とし、これを前
記した化合物(XXI)から化合物(X[[)の反応に
付し、化合物(XI[)を製造することができる。
)本工程は、式 で表わされる化合物(X店)をエステル化し、式で表わ
される化合物(XXIII)に導いた後、加水分解反応
に付して、式 で表わされる化合物(XX■)を得、これを再びエステ
ル化して、式 で表わされる化合物(XXV)に変換し、さらに水酸基
を酸化して化合物(XXIXffi出)とし、これを前
記した化合物(XXI)から化合物(X[[)の反応に
付し、化合物(XI[)を製造することができる。
原料化合物(XXI[)においてR3=R’=R’=H
である化合物は文献既知であり、グルタミン酸から容易
に合成することができる[M 、 T aniguch
iet al、 、テトラヘドロン(T etrah
edron)、 30 。
である化合物は文献既知であり、グルタミン酸から容易
に合成することができる[M 、 T aniguch
iet al、 、テトラヘドロン(T etrah
edron)、 30 。
3547(1974)参照]。R3−R5に置換基のあ
る化合物も、この方法に準じて合成することができる。
る化合物も、この方法に準じて合成することができる。
化合物(X■)から化合物(XXnI)へのエステル化
は、さきに化合物(X ■)から化合物(X[)への製
造法で記載した方法と同様にして製造される。さらに化
合物(XXff)をたとえばイソブチンなどのアルケン
と、たとえば硫酸、塩酸等の酸あるいは三フッ化ホウ素
などを触媒として付加させ、t−アルキルエステルを製
造する場合もあり、本反応は通常溶媒中で行なわれる。
は、さきに化合物(X ■)から化合物(X[)への製
造法で記載した方法と同様にして製造される。さらに化
合物(XXff)をたとえばイソブチンなどのアルケン
と、たとえば硫酸、塩酸等の酸あるいは三フッ化ホウ素
などを触媒として付加させ、t−アルキルエステルを製
造する場合もあり、本反応は通常溶媒中で行なわれる。
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ンなどが用いられ、過剰量のイソブチンを導入後、密封
し、約O℃ないし50℃で、約5時間ないし数日間程度
反応させることにより実施される。化合物(X X I
II)から化合物(X X IV)のアルカリによる加
水分解は、さきの化合物(XIX)から化合物(XX)
の製造法で記載した方法が適用できる。なお、本反応を
行なうためには化合物(XX[[)のエステル基がアル
カリに対して比較的安定なもの(たとえばR’=t−ブ
チルオキシカルボニル)を選択する必要がある。化合物
(XXIV)から化合物(XXV)へのエステル化は、
前記の化合物(XV)から化合物(XVj)への方法と
同様に実施される。化合物(XXV)から化合物(XX
[)への酸化反応は、化合、物(X X V)を溶媒中
で、酸化剤と処理することにより行なわれる。酸化剤と
しては、たとえば過マンガン酸カリウム、二酸化マンガ
ン、ジメチルスルホキシド(DMSO)−DCC,DM
SO−無水酢酸。
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ンなどが用いられ、過剰量のイソブチンを導入後、密封
し、約O℃ないし50℃で、約5時間ないし数日間程度
反応させることにより実施される。化合物(X X I
II)から化合物(X X IV)のアルカリによる加
水分解は、さきの化合物(XIX)から化合物(XX)
の製造法で記載した方法が適用できる。なお、本反応を
行なうためには化合物(XX[[)のエステル基がアル
カリに対して比較的安定なもの(たとえばR’=t−ブ
チルオキシカルボニル)を選択する必要がある。化合物
(XXIV)から化合物(XXV)へのエステル化は、
前記の化合物(XV)から化合物(XVj)への方法と
同様に実施される。化合物(XXV)から化合物(XX
[)への酸化反応は、化合、物(X X V)を溶媒中
で、酸化剤と処理することにより行なわれる。酸化剤と
しては、たとえば過マンガン酸カリウム、二酸化マンガ
ン、ジメチルスルホキシド(DMSO)−DCC,DM
SO−無水酢酸。
DMSO−オキサリルクロリド、 D M S O−五
酸化リンなどが用いられる。溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸エチル、ベ
ンゼン、トルエン、DMSO,N、N−ジメチルホルム
アミド、アセトン、エーテルなどが用いられる。本反応
は通常化合物(XXV)に対し約当量ないし過剰量の酸
化剤を使用する。反応温度は約−80℃ないし60℃程
度であり、反応時間は約10分間ないし30時間である
。
酸化リンなどが用いられる。溶媒としては、ジクロロメ
タン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸エチル、ベ
ンゼン、トルエン、DMSO,N、N−ジメチルホルム
アミド、アセトン、エーテルなどが用いられる。本反応
は通常化合物(XXV)に対し約当量ないし過剰量の酸
化剤を使用する。反応温度は約−80℃ないし60℃程
度であり、反応時間は約10分間ないし30時間である
。
化合物(′A)においてR8がアミド化されたカルボキ
シル基である化合物の製造は、前記の化合物(XX)に
前記したカルボン酸のアミド化の製造法を適用し、つい
で化合物(XXI)から化合物(X[[)を製造する方
法で記載した方法に従って行なうことができる。
シル基である化合物の製造は、前記の化合物(XX)に
前記したカルボン酸のアミド化の製造法を適用し、つい
で化合物(XXI)から化合物(X[[)を製造する方
法で記載した方法に従って行なうことができる。
本発明に用いられる原料化合物である化合物(XIV)
は、既に報告されている種々の方法によって製造するこ
とができる。たとえば以下に挙げる文献によって、化合
物自体が公知であるか、またはこれらの文献に記載の方
法に従って化合物(XI)を得ることができる。
は、既に報告されている種々の方法によって製造するこ
とができる。たとえば以下に挙げる文献によって、化合
物自体が公知であるか、またはこれらの文献に記載の方
法に従って化合物(XI)を得ることができる。
(I)、オーガニック・シンセシス(OrganicS
ynthesis)、Co11ective vol
、3.510(2)、 M、 E、 E、 Blais
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テ・シミク・デュ・フランス(Bulletin d
e Ia 5ociete Chimique
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、 W、 H,Perkin et al、 、ジ
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テ・シミク・デュ・フランス(Bulletin d
e Ia 5ociete Chimique
deFrance)、9,458(1911)(3)
、 W、 H,Perkin et al、 、ジ
ャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ(J ou
rnal ofthe Chemical 5o
ciety) 79,729(4)、 J、 C,Ba
rdhan、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエ
ティ、1928.2591(5)、 W、 N、 Ha
worth et al、 、ジャーナル・オブ・
ザ・ケミカル・ソサエティ、105゜1342(191
4,) (6)、 F、 C,Hartman、バイオケミス
トリー(B iocbemistry)20 、 89
4 (1981)(7)、 G、 He5se et
aL、 、アナーレン・プアーヘミ−(Annal
en der Chemie)、 697 。
化合物(XX)は、次反応式などに従って製造すること
ができる。
ができる。
(XXVI) (XX■) (XX■
)なお、上記式中、R’、R’、R’およびR8は前記
と同意義を有する。
)なお、上記式中、R’、R’、R’およびR8は前記
と同意義を有する。
化合物(XXVI)から化合物(XX■)への変換はい
わゆる CIaisen縮合としてよく知られている反
応であり、化合物(X X VI)と化合物(Xx■)
を溶媒中塩基の存在下に縮合させる工程である。本反応
に用いられる塩基としては、たとえばリチウム。
わゆる CIaisen縮合としてよく知られている反
応であり、化合物(X X VI)と化合物(Xx■)
を溶媒中塩基の存在下に縮合させる工程である。本反応
に用いられる塩基としては、たとえばリチウム。
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、たとえばマ
グネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属、ある
いはこれらの水素化物、アルコラード。
グネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属、ある
いはこれらの水素化物、アルコラード。
アミド、アルキル金属など、あるいは第四アンモニウム
など)などが挙げられる。溶媒としてはメタノール、エ
タノールなどのアルコール類(アルコラードを用いる場
合には、エステルのアルコキシル基と同一のアルコール
)9エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、
N−ジメチルホルムアミド、1.2−ジメトキシエタン
、ジクロロメタン。
など)などが挙げられる。溶媒としてはメタノール、エ
タノールなどのアルコール類(アルコラードを用いる場
合には、エステルのアルコキシル基と同一のアルコール
)9エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、
N−ジメチルホルムアミド、1.2−ジメトキシエタン
、ジクロロメタン。
ベンゼン、トルエンなどが用いられる。
反応温度は、通常的O℃ないし80℃程度であり、反応
時間は、約 10分間ないし10時間程度である。
時間は、約 10分間ないし10時間程度である。
化合物(XX■)から化合物(XIV)への変換は酸。
アルカリあるいは還元的処理を行なうことにより化合物
(XX)を製造する工程である。本反応は前記のたとえ
ば化合物(XIX)から化合物(XX)へあるいは化合
物(XXI)から化合物(′A)への製造法に従って実
施することができる。
(XX)を製造する工程である。本反応は前記のたとえ
ば化合物(XIX)から化合物(XX)へあるいは化合
物(XXI)から化合物(′A)への製造法に従って実
施することができる。
化合物(I[[)の製造法
本工程は、化合物(VI)を反応させ、式[式中、R”
、R″n 3 、 R4、R5、R@ 、 R150お
よびYは前記と同意義を示す。コで表わされる化合物を
得、当該化合物のR50が前記した意義のうち、水素に
変換し得る基である場合、R”を水素に変換して化合物
(III)を製造する工程である。
、R″n 3 、 R4、R5、R@ 、 R150お
よびYは前記と同意義を示す。コで表わされる化合物を
得、当該化合物のR50が前記した意義のうち、水素に
変換し得る基である場合、R”を水素に変換して化合物
(III)を製造する工程である。
本反応は通常溶媒中あるいは無溶媒で活性化剤と反応さ
せることにより実施される。ここで用いられる活性化剤
としては先に、化合物(ff)から(■′)への反応に
関し、説明し、例示したカルボキシル基の活性化剤が用
いられ得るが、本反応は化合物(V[)を、該化合物に
対し約当量から過剰量の前記活性化剤で、溶媒中あるい
は無溶媒で処理することにより実施される。また反応に
支障のない限り、たとえば、トリエチルアミン、ノイソ
ブロビルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジンなどの塩基を使用する場合もある。溶媒として
は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、l、
2−ジクロロエタン、 N 、 N−ジメチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル
、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエンなどが用い
られる。反応温度は、通常的−20°Cないし100°
C程度であり、反応時間は、約30分間ないし50時間
程度である。化合物(’XXIX)において、R”が前
記した意義のうち水素に変換しうる基である場合、化合
物(VI)から化合物(II)への製造法に阜じて、当
該化合物(XX■)は化合物(III)に変換される。
せることにより実施される。ここで用いられる活性化剤
としては先に、化合物(ff)から(■′)への反応に
関し、説明し、例示したカルボキシル基の活性化剤が用
いられ得るが、本反応は化合物(V[)を、該化合物に
対し約当量から過剰量の前記活性化剤で、溶媒中あるい
は無溶媒で処理することにより実施される。また反応に
支障のない限り、たとえば、トリエチルアミン、ノイソ
ブロビルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジンなどの塩基を使用する場合もある。溶媒として
は、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、l、
2−ジクロロエタン、 N 、 N−ジメチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル
、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエンなどが用い
られる。反応温度は、通常的−20°Cないし100°
C程度であり、反応時間は、約30分間ないし50時間
程度である。化合物(’XXIX)において、R”が前
記した意義のうち水素に変換しうる基である場合、化合
物(VI)から化合物(II)への製造法に阜じて、当
該化合物(XX■)は化合物(III)に変換される。
かくして得られる各中間体化合物は、自体公知の手段た
とえば濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、結
晶化、再結晶1分留、クロマトグラフィーなどにより単
離することができる。
とえば濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、結
晶化、再結晶1分留、クロマトグラフィーなどにより単
離することができる。
このようにして得られる化合物(n)および(III)
は、新規物質でありたとえば化合物(I′)を製造する
ための原料化合物として有用である。
は、新規物質でありたとえば化合物(I′)を製造する
ための原料化合物として有用である。
また、上記のようにして得られる化合物(1)またはそ
のエステルまたは塩は医薬として有用であり、たとえば
ある種のグラム陽性菌、グラム陰性菌に対して抗菌力を
有する。化合物(1)のなかで代表的な化合物の各種微
生物に対する抗菌スペクトルは次表1に示すとおりであ
る。
のエステルまたは塩は医薬として有用であり、たとえば
ある種のグラム陽性菌、グラム陰性菌に対して抗菌力を
有する。化合物(1)のなかで代表的な化合物の各種微
生物に対する抗菌スペクトルは次表1に示すとおりであ
る。
(以下余白)
(注1)培地として、バクト・アンティビオテイッ 。
り・メチイウム3(ディフコ・ラボラトリーズ、米国)
:I7.5g、バクト・イースト・エキストラクト(デ
ィフコ・ラボラトリーズ、米国):50g。
:I7.5g、バクト・イースト・エキストラクト(デ
ィフコ・ラボラトリーズ、米国):50g。
バクト・アガー(ディフコ・ラボラトリーズ、米国):
20g、蒸留水、1000蔵(pH無調整)を用い、接
種菌液として約10’コロニー・フォーミング・ユニッ
ト/Mlを用いた。
20g、蒸留水、1000蔵(pH無調整)を用い、接
種菌液として約10’コロニー・フォーミング・ユニッ
ト/Mlを用いた。
(注2)化合物(1−2)、(1−4)および(1−7
)はそれぞれ後述の実施例2,4.7で製造された化合
物を示す。
)はそれぞれ後述の実施例2,4.7で製造された化合
物を示す。
本発明化合物の毒性は低い。
このように、本発明の化合物は、ある種のダラム陽性菌
、ダラム陰性菌に対し抗菌力を示すので、細菌による感
染をひきおこされだ哺乳動物(例、マウス、ラット、犬
、豚、牛1人など)の細菌感染症(例、呼吸器感染症、
尿路感染症、化膿性疾患、胆道感染症、腸内感染症、産
婦人科感染症、外科感染症など)の治療に細菌感染症治
療剤あるいは抗菌剤として用いることができる。
、ダラム陰性菌に対し抗菌力を示すので、細菌による感
染をひきおこされだ哺乳動物(例、マウス、ラット、犬
、豚、牛1人など)の細菌感染症(例、呼吸器感染症、
尿路感染症、化膿性疾患、胆道感染症、腸内感染症、産
婦人科感染症、外科感染症など)の治療に細菌感染症治
療剤あるいは抗菌剤として用いることができる。
本発明化合物を投与するには、適宜の薬理的に許容され
得る担体、賦形剤、希釈剤と混合し、たとえば錠剤、顆
粒剤、カプセル剤、ドロップ剤などの剤型にして経口的
に投与することができ、または常套手段によってたとえ
ば注射剤に成型し、常套手段によって製造された滅菌性
担体中に配合し非経口的に投与することができる。
得る担体、賦形剤、希釈剤と混合し、たとえば錠剤、顆
粒剤、カプセル剤、ドロップ剤などの剤型にして経口的
に投与することができ、または常套手段によってたとえ
ば注射剤に成型し、常套手段によって製造された滅菌性
担体中に配合し非経口的に投与することができる。
本発明化合物の1日投与量は、例えば、注射剤として投
与する場合化合物(1)として約2〜10 omg/K
g、さらに好ましくは約5〜40mg/Kgとなる量で
ある。
与する場合化合物(1)として約2〜10 omg/K
g、さらに好ましくは約5〜40mg/Kgとなる量で
ある。
上記経口製剤、例えば錠剤を製造する際には、u合剤c
例、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース、マクロゴールなど)、崩壊糾(例
、デンプン、カルボキシメチルセルロースカルシウムな
ど)、賦形剤(例、乳糖、デンプンなど)、滑沢剤(例
、ステアリン酸マグネシウム、タルクなど)などを適宜
配合することができる。
例、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース、マクロゴールなど)、崩壊糾(例
、デンプン、カルボキシメチルセルロースカルシウムな
ど)、賦形剤(例、乳糖、デンプンなど)、滑沢剤(例
、ステアリン酸マグネシウム、タルクなど)などを適宜
配合することができる。
また、非経口製剤、たとえば注射剤を製造する際には、
等張化剤(例、ブドウ糖、D−ソルビトール、D−マン
ニトール、塩化ナトリウムなど)、防腐剤(例、ベンジ
ルアルコール、クロロブタノール。
等張化剤(例、ブドウ糖、D−ソルビトール、D−マン
ニトール、塩化ナトリウムなど)、防腐剤(例、ベンジ
ルアルコール、クロロブタノール。
バラオキシ安息香酸メチル、バラオキシ安息香酸プロピ
ルなど)、緩衝剤(例、リン酸塩緩衝液、酢酸ナトリウ
ム緩衝液など)などを適宜配合することができる。
ルなど)、緩衝剤(例、リン酸塩緩衝液、酢酸ナトリウ
ム緩衝液など)などを適宜配合することができる。
実施例
本発明は、さらに下記の実施例、参考例で詳しく説明さ
れるが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定
するものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲
で変化させてもよい。
れるが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定
するものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲
で変化させてもよい。
実施例、参考例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
は、特記しない場合はT L C(Th1nLayer
Chromatography、薄層クロマトグラフ
ィ)による観察下に行なわれた。T L C観察におい
ては、TLCプレートとしてメルク(Merck)社製
の60F7,4を、展開溶媒としてカラムクロマトグラ
フィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法として
UV検出器を採用した。また、TLCブレート上のスポ
ットに48%HB rを噴霧し、加熱して加水分解した
後にニンヒドリン(ninhydrin)試薬を噴霧し
、再び加熱して赤〜赤紫色に変わる現象も検出法として
併用して目的物を含む溶出分画を確認し、集めた。
は、特記しない場合はT L C(Th1nLayer
Chromatography、薄層クロマトグラフ
ィ)による観察下に行なわれた。T L C観察におい
ては、TLCプレートとしてメルク(Merck)社製
の60F7,4を、展開溶媒としてカラムクロマトグラ
フィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法として
UV検出器を採用した。また、TLCブレート上のスポ
ットに48%HB rを噴霧し、加熱して加水分解した
後にニンヒドリン(ninhydrin)試薬を噴霧し
、再び加熱して赤〜赤紫色に変わる現象も検出法として
併用して目的物を含む溶出分画を確認し、集めた。
展開溶媒に関して、()に示した数値は、各混合溶媒の
容量混合比を表し展開溶媒として二種類のものが用いら
れている場合は、特記しなし〕限り、()内の最初に示
した容量混合比の溶媒で副産物を溶出し、つづいて()
内の矢印の後に示した容量混合比の溶媒で目的物を溶出
している。“アンバーライト(Amberlite)X
A D −2”を用いるカラムクロマトグラフィ精製
では、展開溶媒として実施例、参考例中に特に言及がさ
れていなければ、最初に水、ついでエタノール水溶液を
濃度を徐々に上げながら用いた。
容量混合比を表し展開溶媒として二種類のものが用いら
れている場合は、特記しなし〕限り、()内の最初に示
した容量混合比の溶媒で副産物を溶出し、つづいて()
内の矢印の後に示した容量混合比の溶媒で目的物を溶出
している。“アンバーライト(Amberlite)X
A D −2”を用いるカラムクロマトグラフィ精製
では、展開溶媒として実施例、参考例中に特に言及がさ
れていなければ、最初に水、ついでエタノール水溶液を
濃度を徐々に上げながら用いた。
“アンバーライト”はローム アンド ハース社(Ro
hm & Haas Co、 in U、S、A)製で
ある。特記しない限りカラム用シリカゲルは、和光純薬
社製の和光ゲルC,300(200〜300メツシユ)
を用い、W、C,5till et、al、、 J、O
rg、Chem、、±1.2923 (197g)に記
載されている方法に準じてフラッシュクロマトグラフィ
ーに付した。NMRスペクトルは、内部または外部基準
としてテトラメチルシランを用いてVARIANE M
390型(90MT4Z)。
hm & Haas Co、 in U、S、A)製で
ある。特記しない限りカラム用シリカゲルは、和光純薬
社製の和光ゲルC,300(200〜300メツシユ)
を用い、W、C,5till et、al、、 J、O
rg、Chem、、±1.2923 (197g)に記
載されている方法に準じてフラッシュクロマトグラフィ
ーに付した。NMRスペクトルは、内部または外部基準
としてテトラメチルシランを用いてVARIANE M
390型(90MT4Z)。
VARIANT 60型(60MH2)、JEOL(日
本電子)JNM−GX270型(270MHz)または
JEOL(日本電子)JNM−GX400型(400M
HZ>スペクトロメーターで測定し、全δ値をppm
で示した。質信スペクトルとしては、フィールドデソー
ブション マススペクトル(F D M S :Fie
ldDesorption Mass Spectru
m)およびセコンダリーイオンマススペクトル(S I
M S :5econdaryJon Mass
Spectrum)を、旧tachi M −80A型
スペクトロメーターで測定したものもある。尚“室温”
とあるのは通常的O℃から40℃を意味する。また、特
記しない限り、%は重量百分率を示す。混合溶媒を用い
た場合の()内の数字は各溶媒の容量混合比を示す。実
施例、参考例中の記号は次のごときを意味する。
本電子)JNM−GX270型(270MHz)または
JEOL(日本電子)JNM−GX400型(400M
HZ>スペクトロメーターで測定し、全δ値をppm
で示した。質信スペクトルとしては、フィールドデソー
ブション マススペクトル(F D M S :Fie
ldDesorption Mass Spectru
m)およびセコンダリーイオンマススペクトル(S I
M S :5econdaryJon Mass
Spectrum)を、旧tachi M −80A型
スペクトロメーターで測定したものもある。尚“室温”
とあるのは通常的O℃から40℃を意味する。また、特
記しない限り、%は重量百分率を示す。混合溶媒を用い
た場合の()内の数字は各溶媒の容量混合比を示す。実
施例、参考例中の記号は次のごときを意味する。
■ S :シングレット(singlet)■ d
:ダブレット(doub 1et)■ t ニトリ
プレット(triplet)■ q :クワルテット
(quartet)■ ABq:AB型クりルテット(
AB tYpequartet) ■ dd:ダブルダブレット(double doub
let)■ Im=マルヂプレット(mult 1pl
et)■ sh:シジルダー(shoulder)■
b ニブロード(broad) [相]J :カップリング定数(coupling
constant)o mg =ミリグラム(+n i
l I igram)@ g ニゲラム(gram
) ■成:ミリリーター(Illil lil 1ter)
■ tt(1:マイクロリークー(microl 1t
er)■ a :リークー(liter) @l ppm :百万分の−(part per
m1llion)@ Hz :ヘルツ(Herz) @ DMSOニジメチルスルホキシド(dfmeth
ylsu14oxide) ■ D、0:重水 参考例1 2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)コの製造:(a)2−オキソグル
タル酸2.93gのジメチルホルムアミド20d溶液に
ジシクロヘキシルアミン3.63gを加え50℃に加温
した。ついで4−ニトロベンジルプロミド4.75gを
加え、70℃で15分間攪拌した。冷浸酢酸エチル10
0藏を加え析出した結晶をろ去し、酢酸エチルで洗浄し
た。ろ液および洗液を合わせ、水および飽和食塩水で洗
浄後、乾燥(MgSO,)した。溶媒を減圧下に濃縮し
、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサン−酢酸エチル−酢酸(50:50:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮す
ると、連記化合物(1)5.2gが結晶として得られた
。
:ダブレット(doub 1et)■ t ニトリ
プレット(triplet)■ q :クワルテット
(quartet)■ ABq:AB型クりルテット(
AB tYpequartet) ■ dd:ダブルダブレット(double doub
let)■ Im=マルヂプレット(mult 1pl
et)■ sh:シジルダー(shoulder)■
b ニブロード(broad) [相]J :カップリング定数(coupling
constant)o mg =ミリグラム(+n i
l I igram)@ g ニゲラム(gram
) ■成:ミリリーター(Illil lil 1ter)
■ tt(1:マイクロリークー(microl 1t
er)■ a :リークー(liter) @l ppm :百万分の−(part per
m1llion)@ Hz :ヘルツ(Herz) @ DMSOニジメチルスルホキシド(dfmeth
ylsu14oxide) ■ D、0:重水 参考例1 2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)コの製造:(a)2−オキソグル
タル酸2.93gのジメチルホルムアミド20d溶液に
ジシクロヘキシルアミン3.63gを加え50℃に加温
した。ついで4−ニトロベンジルプロミド4.75gを
加え、70℃で15分間攪拌した。冷浸酢酸エチル10
0藏を加え析出した結晶をろ去し、酢酸エチルで洗浄し
た。ろ液および洗液を合わせ、水および飽和食塩水で洗
浄後、乾燥(MgSO,)した。溶媒を減圧下に濃縮し
、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサン−酢酸エチル−酢酸(50:50:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮す
ると、連記化合物(1)5.2gが結晶として得られた
。
融点:l0O−102°C
I RvKBrcm−’: 1735.1707.15
30.1345゜ax 1275、 1085 NMR(1085N、CDC1,−da−DMSO)δ
:2.5−2.8(211,l11)、2.9−3.3
(2H,m)、5.40(2H,s)。
30.1345゜ax 1275、 1085 NMR(1085N、CDC1,−da−DMSO)δ
:2.5−2.8(211,l11)、2.9−3.3
(2H,m)、5.40(2H,s)。
7.62<211.d、J= 9Hz)、8.28(2
H,dj= 9Hz)元素分析値: C+ t Hl+
N O?計算値 C,51,25,H,3,94,N
、4.98実測値 C,51,17,H,3,92,N
、4.96(b)、2−才キソグルタル酸2.93gの
ジメチルホルムアミド2〇−溶液に、トリエチルアミン
2.79dついで4−ニトロベンジルプロミド4.53
gを加え室温で5時間攪拌した。反応液を氷水中に注加
し、酢酸エチルで抽出(2回)した。ついで参考例!(
a)と同様に処理すると、連記化合物(+)3.6gが
結晶として得られた。
H,dj= 9Hz)元素分析値: C+ t Hl+
N O?計算値 C,51,25,H,3,94,N
、4.98実測値 C,51,17,H,3,92,N
、4.96(b)、2−才キソグルタル酸2.93gの
ジメチルホルムアミド2〇−溶液に、トリエチルアミン
2.79dついで4−ニトロベンジルプロミド4.53
gを加え室温で5時間攪拌した。反応液を氷水中に注加
し、酢酸エチルで抽出(2回)した。ついで参考例!(
a)と同様に処理すると、連記化合物(+)3.6gが
結晶として得られた。
(c)、2−オキソグルタル酸モノナトリウム塩346
gのジメチルホルムアミド30滅懸濁液に4−ニトロベ
ンジルプロミド4.53gを加え、50℃〜60℃で2
時間攪拌した。反応液を氷水中に注加し、酢酸エチルで
抽出(2回)した。ついで参考例1 (a)と同様に処
理すると、連記化合物(1)3.92gが結晶として得
られた。
gのジメチルホルムアミド30滅懸濁液に4−ニトロベ
ンジルプロミド4.53gを加え、50℃〜60℃で2
時間攪拌した。反応液を氷水中に注加し、酢酸エチルで
抽出(2回)した。ついで参考例1 (a)と同様に処
理すると、連記化合物(1)3.92gが結晶として得
られた。
参考例2
2−オキソグルタル酸 I−メチルエステル[化合物(
2)コの製造; ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Jo
urnal of Organic Cheli
stry)、6゜878(1941)に記載の方法によ
り得た2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−オキ
ソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸27.93gの
ジメチルホルムアミド100威溶液に、水冷攪拌下水素
化ナトリウム4.0g(60%油性)を加え、ついでヨ
ウ化メチル28.4gを加え室温で4時間反応した。
2)コの製造; ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Jo
urnal of Organic Cheli
stry)、6゜878(1941)に記載の方法によ
り得た2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−オキ
ソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸27.93gの
ジメチルホルムアミド100威溶液に、水冷攪拌下水素
化ナトリウム4.0g(60%油性)を加え、ついでヨ
ウ化メチル28.4gを加え室温で4時間反応した。
ヨウ化メチル14.2gを追加しさらに3時間攪拌した
。反応液を水に圧加し酢酸エチルで抽出した。
。反応液を水に圧加し酢酸エチルで抽出した。
有機層は炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄後
、乾燥(MgS O、)!、た。溶媒を留去し、析出し
た結晶をろ取し、エーテルで洗浄すると2−ベジジルオ
キシカルボニルアミノ−5−オキソ−2−テトラヒドロ
フランカルボン酸 メチルエステル27.25gが無色
結晶として得られた。
、乾燥(MgS O、)!、た。溶媒を留去し、析出し
た結晶をろ取し、エーテルで洗浄すると2−ベジジルオ
キシカルボニルアミノ−5−オキソ−2−テトラヒドロ
フランカルボン酸 メチルエステル27.25gが無色
結晶として得られた。
融点 134−134.5℃。
I RシKBrcm−’: 3295.1780,17
58,1700,1540゜ax 1308.1196.1049 水晶10.0gに30%臭化水素酢酸溶液20−を加え
30分間攪拌した。反応混合物を水冷下ヘキサンーエー
テル(9:1)500dで2回洗浄(デカンテーション
)後、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出(4回)した。
58,1700,1540゜ax 1308.1196.1049 水晶10.0gに30%臭化水素酢酸溶液20−を加え
30分間攪拌した。反応混合物を水冷下ヘキサンーエー
テル(9:1)500dで2回洗浄(デカンテーション
)後、残渣に水を加え酢酸エチルで抽出(4回)した。
有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥(MgSO,)L、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラムク
ロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1:
l)で溶出し、目的化合物を含む分画を集め、減圧濃縮
すると連記化合物(2)2.95gが無色結晶として得
られた。
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラムク
ロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1:
l)で溶出し、目的化合物を含む分画を集め、減圧濃縮
すると連記化合物(2)2.95gが無色結晶として得
られた。
融点:54.5−55.0℃
I RシKBrcm−’: 3430.1750,17
35,1710,1275゜O+aX 1255.1225.108O NMR(108ON、CDC1,)δ:2.60−3.
27(4H,m)。
35,1710,1275゜O+aX 1255.1225.108O NMR(108ON、CDC1,)δ:2.60−3.
27(4H,m)。
3.88(3H,s)、8.20(IH,bs)元素分
析値: Ca Hs Os 計算値 C,45,Ql、 H,5,04実測値 C,
44,92,H,4,92参考例3 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)]の製造:2−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−5−オキソ−2−テトラヒドロフラン
カルボン酸838mgのジメチルホルムアミド5滅溶液
に水冷攪拌下、水素化ナトリウム120mg(60%油
性)を加え、ついで4−ニトロベンジルプロミド648
mgを加え、室温で2.5時間攪拌した。反応液に飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した
。有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥(MgSO,)し
、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮す
ると2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−オキソ
−2−テトラヒドロフランカルボン酸 4−ニトロベン
ジルエステル687mgが無色結晶として得られた。
析値: Ca Hs Os 計算値 C,45,Ql、 H,5,04実測値 C,
44,92,H,4,92参考例3 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)]の製造:2−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−5−オキソ−2−テトラヒドロフラン
カルボン酸838mgのジメチルホルムアミド5滅溶液
に水冷攪拌下、水素化ナトリウム120mg(60%油
性)を加え、ついで4−ニトロベンジルプロミド648
mgを加え、室温で2.5時間攪拌した。反応液に飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した
。有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥(MgSO,)し
、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮す
ると2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−オキソ
−2−テトラヒドロフランカルボン酸 4−ニトロベン
ジルエステル687mgが無色結晶として得られた。
融点:127−127.5℃
I RνKBrcm−’:3310,1780.1?5
9.1728.1520゜ax 1345.1185.1042 水晶2.07gを用い参考例2の方法と同様に反応処理
を行なうと連記化合物(1)1.14gが得られた。
9.1728.1520゜ax 1345.1185.1042 水晶2.07gを用い参考例2の方法と同様に反応処理
を行なうと連記化合物(1)1.14gが得られた。
水晶は参考例1で得た化合物(1)と融点、IRおよび
NMRスペクトルが完全に一致した。
NMRスペクトルが完全に一致した。
参考例4
2−オキソグルタル酸 1−ベンジルエステル[化合物
(4)]の製造: 2−オキソグルタル酸2.92gを無水ジメチルポルム
アミド20−に溶解し、ジシクロヘキシルアミン3.6
3gとベンジルプロミド2.61dを加え、室温で2時
°間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え析出した結晶
をろ去した。ろ液を水洗後、乾燥(Na*5O−)し、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラムク
ロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル−酢酸
(50:50:l)で溶出後、目的物を含む分画を集め
て、減圧濃縮すると連記化合物(4)3.20gが無色
結晶として得られた。エーテル−ヘキサンから再結晶す
ると無色プリズム品が得られた。融点:51−52℃I
Rν”””cm−’:1740,1705,1270
,1090,1040ax N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 2
.67(2fLtj=611z)、2.97(2tLm
)、5.26°(2+1.S)、7.35(5H,S)
、8.9(III、b) 元素分析値:C+tH+tOs 計算値 C,61,01; H,5,12実測値 C,
61,02,H,5,12参考例5 4−メチル−2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロ
ベンジル)エステルU化合物(5)コの製造:4−メチ
ル−2−才キソグルタル酸0.74gを無水ジメチルホ
ルムアミド6滅に溶解し、ジシクロヘキシルアミン0.
9Wと4−ニトロベンジルプロミド1.Ogを加え、室
温で14時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え析出
した結晶をろ去した。
(4)]の製造: 2−オキソグルタル酸2.92gを無水ジメチルポルム
アミド20−に溶解し、ジシクロヘキシルアミン3.6
3gとベンジルプロミド2.61dを加え、室温で2時
°間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え析出した結晶
をろ去した。ろ液を水洗後、乾燥(Na*5O−)し、
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用いるカラムク
ロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル−酢酸
(50:50:l)で溶出後、目的物を含む分画を集め
て、減圧濃縮すると連記化合物(4)3.20gが無色
結晶として得られた。エーテル−ヘキサンから再結晶す
ると無色プリズム品が得られた。融点:51−52℃I
Rν”””cm−’:1740,1705,1270
,1090,1040ax N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 2
.67(2fLtj=611z)、2.97(2tLm
)、5.26°(2+1.S)、7.35(5H,S)
、8.9(III、b) 元素分析値:C+tH+tOs 計算値 C,61,01; H,5,12実測値 C,
61,02,H,5,12参考例5 4−メチル−2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロ
ベンジル)エステルU化合物(5)コの製造:4−メチ
ル−2−才キソグルタル酸0.74gを無水ジメチルホ
ルムアミド6滅に溶解し、ジシクロヘキシルアミン0.
9Wと4−ニトロベンジルプロミド1.Ogを加え、室
温で14時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え析出
した結晶をろ去した。
ろ液を水洗、乾燥(N at S O4)後、溶媒を留
去した。
去した。
残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィー
に付し、ヘキサン−酢酸エチル(i:1→l:3)で溶
出後、目的化合物を含む分画を集めて、減圧濃縮すると
題記化合物(5)0.66gが淡黄色油状物として得ら
れた。
に付し、ヘキサン−酢酸エチル(i:1→l:3)で溶
出後、目的化合物を含む分画を集めて、減圧濃縮すると
題記化合物(5)0.66gが淡黄色油状物として得ら
れた。
I RJ/ Noatcm−’: 1780−1700
.1520.1345゜aX 1220.117O N M R(90M HZ、 CD C13)δ:1.
32(3H,d、J= 6H2)。
.1520.1345゜aX 1220.117O N M R(90M HZ、 CD C13)δ:1.
32(3H,d、J= 6H2)。
2.2−3J(3H,n+)、5.38(211,s)
、6.0(IH,b)、7.55(2H,d、J= 9
Hz)、8.22(2H,d、J= 9tiz)参考例
6 2−オキソ−3−フェニルチオグルタル酸 1−(4−
ニトロベンジル)エステル[化合物(6)コの製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸2.25gのジクロ
ロメタン40蔵懸濁液に水冷、攪拌下チオフェノール1
.0dを加え、次いでトリエチルアミン4.15M1を
加えた。反応液を室温で45分間攪拌後、溶媒を留去し
、残留物を酢酸エチルとIN−塩酸に分配した。酢酸エ
チル層を分取し、水洗、乾燥(N az S O4)後
、溶媒を留去すると2−オキソ−3−フェニルチオグル
タル酸2.28gが淡黄色油状物として得られた。
、6.0(IH,b)、7.55(2H,d、J= 9
Hz)、8.22(2H,d、J= 9tiz)参考例
6 2−オキソ−3−フェニルチオグルタル酸 1−(4−
ニトロベンジル)エステル[化合物(6)コの製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸2.25gのジクロ
ロメタン40蔵懸濁液に水冷、攪拌下チオフェノール1
.0dを加え、次いでトリエチルアミン4.15M1を
加えた。反応液を室温で45分間攪拌後、溶媒を留去し
、残留物を酢酸エチルとIN−塩酸に分配した。酢酸エ
チル層を分取し、水洗、乾燥(N az S O4)後
、溶媒を留去すると2−オキソ−3−フェニルチオグル
タル酸2.28gが淡黄色油状物として得られた。
r Rp Noatcm−’:3000(b)、 17
20.1470.1440゜aX !400.1280.120O N MR(90M Hz、 CD CIs)δ:2.8
7(2H,d、J=8Hz)。
20.1470.1440゜aX !400.1280.120O N MR(90M Hz、 CD CIs)δ:2.8
7(2H,d、J=8Hz)。
4.73(lit、t、J=8Hz)、7.40(5H
,s)、9.4(2H,b)氷晶2.28gのジメチル
ホルムアミド181n1溶液に水冷、攪拌下ジシクロヘ
キシルアミンl、43旋と4−ニトロベンジルプロミド
1.56dを加えた。反応液を室温で15時間攪拌し、
酢酸エチルで希釈した。析出した結晶をろ去し、ろ液を
水洗、乾燥(Na*5o4)後、溶媒を留去した。残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン−酢酸エチル(1:2−1+3)で溶出後
、目的化合物を含む分画を集め、減圧濃縮すると連記化
合物(6)2.25gが無色結晶として得られた。エー
テル−ヘキサンから再結晶すると無色プリズム晶が得ら
れた。融点 119−120℃ I Rv Nuj” cm−’: 1745.1730
.1700.1520゜flax 1440.1350.128O NMR(90MH2,CDC1,3)δ:2.85(2
H,d、J=81(z)。
,s)、9.4(2H,b)氷晶2.28gのジメチル
ホルムアミド181n1溶液に水冷、攪拌下ジシクロヘ
キシルアミンl、43旋と4−ニトロベンジルプロミド
1.56dを加えた。反応液を室温で15時間攪拌し、
酢酸エチルで希釈した。析出した結晶をろ去し、ろ液を
水洗、乾燥(Na*5o4)後、溶媒を留去した。残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン−酢酸エチル(1:2−1+3)で溶出後
、目的化合物を含む分画を集め、減圧濃縮すると連記化
合物(6)2.25gが無色結晶として得られた。エー
テル−ヘキサンから再結晶すると無色プリズム晶が得ら
れた。融点 119−120℃ I Rv Nuj” cm−’: 1745.1730
.1700.1520゜flax 1440.1350.128O NMR(90MH2,CDC1,3)δ:2.85(2
H,d、J=81(z)。
4.7(IH,m) 、 5.43(2H,s) 、
6.7 (IH,b) 、 7.35(51i、 s)
。
6.7 (IH,b) 、 7.35(51i、 s)
。
7.60(2H,d、J=91(z)
元素分析値: CIe H15N O? S計算値 C
,55,52; H,3,88; N 、3.60実測
値 C,55,49,H,3,90,N、3.50参考
例7 3−エチルチオ−2−オキソグルタル酸 I−(4−ニ
トロベンジル)エステル「化合物(7)」の製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸1.oOgのジクロ
ロメタン20旋懸濁液に水冷、攪拌下エタンチオール0
.337n1.を加え、次いでトリエチルアミン1.8
3+Jを加えた。反応液を室温で3時間攪拌後、溶媒を
留去し、残留物を酢酸二ナルと1N−塩酸に分配した。
,55,52; H,3,88; N 、3.60実測
値 C,55,49,H,3,90,N、3.50参考
例7 3−エチルチオ−2−オキソグルタル酸 I−(4−ニ
トロベンジル)エステル「化合物(7)」の製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸1.oOgのジクロ
ロメタン20旋懸濁液に水冷、攪拌下エタンチオール0
.337n1.を加え、次いでトリエチルアミン1.8
3+Jを加えた。反応液を室温で3時間攪拌後、溶媒を
留去し、残留物を酢酸二ナルと1N−塩酸に分配した。
酢酸エチル層を分取し、水洗、乾燥(Natso*)後
、溶媒を留去すると3−エチルチオ−2−オキソグルタ
ル酸0.82gが淡黄色油状物として得られた。
、溶媒を留去すると3−エチルチオ−2−オキソグルタ
ル酸0.82gが淡黄色油状物として得られた。
I Rv””tcm−’: 3000(b)、 172
0.1400.1250ax NMR(90MH2,CDCl5)δ:1.23(3H
,t、J=8Hz)。
0.1400.1250ax NMR(90MH2,CDCl5)δ:1.23(3H
,t、J=8Hz)。
2.55(2H,q、 J = 8Hz)、 3.0(
2H,b) 、 4.4(IH,b)、8.9(2+1
.b) 水晶0.82gのジメチルホルムアミド8成溶液に水冷
、攪拌下ジシクロヘキシルアミン0.65−と4−ニト
ロベンジルプロミド0.70gを加えた。
2H,b) 、 4.4(IH,b)、8.9(2+1
.b) 水晶0.82gのジメチルホルムアミド8成溶液に水冷
、攪拌下ジシクロヘキシルアミン0.65−と4−ニト
ロベンジルプロミド0.70gを加えた。
反応液を室温で3時間攪拌し、酢酸エチルで希釈した。
析出した結晶をろ去し、ろ液を水洗、乾燥(N at
s O4)後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを
用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢
酸エチル(3:2)および酢酸エチルで溶出後、目的化
合物を含む分画を集めて、減圧濃縮すると連記化合物(
7)0.61gが無色結晶として得られた。イソプロピ
ルエーテルから再結晶すると無色プリズム品が得られた
。
s O4)後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを
用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢
酸エチル(3:2)および酢酸エチルで溶出後、目的化
合物を含む分画を集めて、減圧濃縮すると連記化合物(
7)0.61gが無色結晶として得られた。イソプロピ
ルエーテルから再結晶すると無色プリズム品が得られた
。
融点 +00−101℃
I Rv Nuj0’ cm−’:1745,1720
,1700,1530,1350゜aX N M R(90M Hz、 CD CIs)δ:1.
18(3H,t、J=8tlz)。
,1700,1530,1350゜aX N M R(90M Hz、 CD CIs)δ:1.
18(3H,t、J=8tlz)。
2.48(2H,q、J=lltFIz)、2.95(
2H,m)、4.3(IH,b)。
2H,m)、4.3(IH,b)。
5.41(211,s)、7.0(ltl、b)、7.
57(2H,d、J= 91(z)。
57(2H,d、J= 91(z)。
8.25(211,d、J=9Hz)
元素分析値:C+48 +5N O?S計算値 C,4
9,26,H,4,43,N、4.10実測値 C,4
9J2. H,4,33,N、3.99参考例8 2−オキソグルタル酸 1−t−ブチルエステル[化合
物(8)]の製造: 5−オキソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸5.0
gのジクロロメタン10071dl溶液に一60℃で濃
硫酸0,3蔵を加え、次いで過剰のイソブチン(約50
−)を加えた。反応混合液を密栓して室温で一夜静置後
、冷却した炭酸水素ナトリウム飽和水溶液中に注加し、
ジクロロメタン層を分取した。ジクロロメタン層を水洗
、乾燥(N at ’; 04)後、濃縮すると5−オ
キソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸 t−ブチル
エステルが無色油状物として得られた。
9,26,H,4,43,N、4.10実測値 C,4
9J2. H,4,33,N、3.99参考例8 2−オキソグルタル酸 1−t−ブチルエステル[化合
物(8)]の製造: 5−オキソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸5.0
gのジクロロメタン10071dl溶液に一60℃で濃
硫酸0,3蔵を加え、次いで過剰のイソブチン(約50
−)を加えた。反応混合液を密栓して室温で一夜静置後
、冷却した炭酸水素ナトリウム飽和水溶液中に注加し、
ジクロロメタン層を分取した。ジクロロメタン層を水洗
、乾燥(N at ’; 04)後、濃縮すると5−オ
キソ−2−テトラヒドロフランカルボン酸 t−ブチル
エステルが無色油状物として得られた。
NoatCm−’: 1760
IRvm a x
NMR(60MHz、CDCl5)δ: 1.50(9
H,s)、2.4(4if、m)、4.8(ill、m
) 水晶を無水メタノール50滅に溶解し、水冷。
H,s)、2.4(4if、m)、4.8(ill、m
) 水晶を無水メタノール50滅に溶解し、水冷。
攪拌下ナトリウム メチラート100+ngを加えた。
反応液を水冷下3時間攪拌後、濃縮し、酢酸エチルと塩
化アンモニウム水中に注加した。酢酸エチル層を分取し
、乾燥(N a’y S O4)後、溶媒を留去すると
2−ヒドロキシグルタル酸 1−t−ブチル5−メチル
エステル8.2gが無色結晶として得られた。ヘキサン
から再結晶すると無色プリズム晶が得られた。融点3
B−37℃ r Rv Nu”’am−’ :3450,1735,
1260,1230,1160゜aX 11O N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 1
.47(9H,s)、1.7−2.6(4H,m) 、
2.87(IH,d、 J = 5Hz) 、 3.
63(311,s) 、 4.1(IH,m) 元素分析値:C8゜H1805 計算値 C,55,03,H,8J1 実測値 C,54,60,H,8,35オキサリルクロ
リド0.3!W!のジクロロメタン12成溶液に窒素雰
囲気下、−70℃でジメチルスルホキシド0.60dの
ジクロロメタン4滅溶液を攪拌下加えた。次いで上記で
得た2−ヒドロキシグルタル酸 1−t−ブチル 5−
メチルエステル0.95gのジクロロメタン3,5戒溶
液を加え一70℃で15分間攪拌後、トリエチルアミン
3.0滅を加えた。反応液を一40℃迄昇温さ仕た後、
氷水中に注加し、ジクロロメタンで抽出液を水、希酢酸
、水で順次洗浄後、乾燥(Na2SO4)し、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(5:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮し2−オキソ
グルタル酸 1−t−ブチル 5−メチルエステル0.
60gが淡黄色油状物として得られた。
化アンモニウム水中に注加した。酢酸エチル層を分取し
、乾燥(N a’y S O4)後、溶媒を留去すると
2−ヒドロキシグルタル酸 1−t−ブチル5−メチル
エステル8.2gが無色結晶として得られた。ヘキサン
から再結晶すると無色プリズム晶が得られた。融点3
B−37℃ r Rv Nu”’am−’ :3450,1735,
1260,1230,1160゜aX 11O N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 1
.47(9H,s)、1.7−2.6(4H,m) 、
2.87(IH,d、 J = 5Hz) 、 3.
63(311,s) 、 4.1(IH,m) 元素分析値:C8゜H1805 計算値 C,55,03,H,8J1 実測値 C,54,60,H,8,35オキサリルクロ
リド0.3!W!のジクロロメタン12成溶液に窒素雰
囲気下、−70℃でジメチルスルホキシド0.60dの
ジクロロメタン4滅溶液を攪拌下加えた。次いで上記で
得た2−ヒドロキシグルタル酸 1−t−ブチル 5−
メチルエステル0.95gのジクロロメタン3,5戒溶
液を加え一70℃で15分間攪拌後、トリエチルアミン
3.0滅を加えた。反応液を一40℃迄昇温さ仕た後、
氷水中に注加し、ジクロロメタンで抽出液を水、希酢酸
、水で順次洗浄後、乾燥(Na2SO4)し、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(5:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮し2−オキソ
グルタル酸 1−t−ブチル 5−メチルエステル0.
60gが淡黄色油状物として得られた。
I Rv Noatcm−’:1730,1370,1
295,1260,1200゜ax 1160.108O N M R(90M Hz、 CD Cis)δ: 1
.57(9H,s)、2.63(2H4,J= 611
z)、3.10(2H,s、J= 6Hz)、3.69
(3H,s)水晶108mgをテトラヒドロフラン11
nlと水!戒に溶解し、水冷、W1押下!N−水酸化ナ
トリウム0.4濯を加えた。反応液を水冷下、45分間
攪拌後、水および酢酸エチルの混液に圧加した。水層を
分取し、IN−塩酸を加えてpH4に調整後、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄後、乾燥(N a
s S O4) L、溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ン−酢酸エチル(3:2→1:2)で溶出後、目的物を
含む分画を集めて、減圧濃縮すると連記化合物(8)2
6mgが無色油状物として得られた。
295,1260,1200゜ax 1160.108O N M R(90M Hz、 CD Cis)δ: 1
.57(9H,s)、2.63(2H4,J= 611
z)、3.10(2H,s、J= 6Hz)、3.69
(3H,s)水晶108mgをテトラヒドロフラン11
nlと水!戒に溶解し、水冷、W1押下!N−水酸化ナ
トリウム0.4濯を加えた。反応液を水冷下、45分間
攪拌後、水および酢酸エチルの混液に圧加した。水層を
分取し、IN−塩酸を加えてpH4に調整後、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄後、乾燥(N a
s S O4) L、溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサ
ン−酢酸エチル(3:2→1:2)で溶出後、目的物を
含む分画を集めて、減圧濃縮すると連記化合物(8)2
6mgが無色油状物として得られた。
I Rv ””tcm−’:1740,1370,13
00,1255,1160゜l′l1aX 08O N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 1
.53(9fl、m)、2.75(4ILb) 参考例9 2−オキソグルタル酸 l−ジフェニルメチルエステル
[化合物(9)コの製造: 2−才キソグルタル酸2.93g、ジフェニルメチルプ
ロミド4.75gおよびジシクロヘキシルアミン3.8
3gを用いて参考例! (a)と同様の方法により連記
化合物(9)3.2gを結晶として得た。
00,1255,1160゜l′l1aX 08O N M R(90M Hz、 CD C13)δ: 1
.53(9fl、m)、2.75(4ILb) 参考例9 2−オキソグルタル酸 l−ジフェニルメチルエステル
[化合物(9)コの製造: 2−才キソグルタル酸2.93g、ジフェニルメチルプ
ロミド4.75gおよびジシクロヘキシルアミン3.8
3gを用いて参考例! (a)と同様の方法により連記
化合物(9)3.2gを結晶として得た。
融点:107°−109℃
I RvKBrcm−’: 1730.1710fla
X N M R(60M Hz、 CD C13)δ: 2
.5g−4,17(4H,m)。
X N M R(60M Hz、 CD C13)δ: 2
.5g−4,17(4H,m)。
6.99(III、s)、7.31−7.54(IOH
,m)元素分析値:C+eHraOs 計算値 C,69,22; H,5,16実測値 C,
69,30,H,5,18参考例10 2−オキソ−3−フェニルチオグルタル酸 I−ジフェ
ニルメチルエステル[化合物(10)]の製造: 参考例6の方法で得た粗製の2−オキソ−3−フェニル
チオグルタル酸6.7gのジメチルホルムアミド30成
溶液に室温、攪拌下ジシクロヘキシルアミン4.0−と
ジフェニルメチルプロミド5.0gとを加えた。反応液
を室温で15時間攪拌後、酢酸エチルで希釈した。析出
した結晶をろ去し、ろ液を水洗、乾燥(N at s
O4)後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用い
るカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エ
チル(3:1−1:1)で溶出後、目的物を含む分画を
集め、減圧a縮すると連記化合物(to)3.2gが淡
黄色結晶として得られた。ヘキサン−酢酸エチルから再
結晶すると無色針状晶が得られた。融点98−100°
C I Rp Nuj0’cm−’ :1740.1205
.1180゜ax N M R(60M I−(z、 CD CI+)δ:
2.85(2[1,d、J=8[(z)。
,m)元素分析値:C+eHraOs 計算値 C,69,22; H,5,16実測値 C,
69,30,H,5,18参考例10 2−オキソ−3−フェニルチオグルタル酸 I−ジフェ
ニルメチルエステル[化合物(10)]の製造: 参考例6の方法で得た粗製の2−オキソ−3−フェニル
チオグルタル酸6.7gのジメチルホルムアミド30成
溶液に室温、攪拌下ジシクロヘキシルアミン4.0−と
ジフェニルメチルプロミド5.0gとを加えた。反応液
を室温で15時間攪拌後、酢酸エチルで希釈した。析出
した結晶をろ去し、ろ液を水洗、乾燥(N at s
O4)後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルを用い
るカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エ
チル(3:1−1:1)で溶出後、目的物を含む分画を
集め、減圧a縮すると連記化合物(to)3.2gが淡
黄色結晶として得られた。ヘキサン−酢酸エチルから再
結晶すると無色針状晶が得られた。融点98−100°
C I Rp Nuj0’cm−’ :1740.1205
.1180゜ax N M R(60M I−(z、 CD CI+)δ:
2.85(2[1,d、J=8[(z)。
4.70(IH,t、J=8Hz)、7.05(iH,
s)、7.3(1511,m)。
s)、7.3(1511,m)。
参考例11
2−オキソグルタル酸 l−ピバロイルオキシメチルエ
ステル[化合物(11)]の]製造:2−オキソグルタ
ル酸2.93およびN、N−ジイソプロピルエチルアミ
ン3.48dのジメチルホルムアミド20d溶液にヨウ
化ナトリウム3.13gおよびピバリ、ン酸クロロメチ
ル3.02滅を加え室温で2時間攪拌した。酢酸エチル
で希釈し、析出した結晶をろ去した。ろ液を減圧下濃縮
乾固し、残留物に酢酸エチルを加え、水洗後乾燥(Mg
SO,)した。ついで溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロ
メタン−酢酸エチル(1:1)で溶出後、目的物を含む
分画を集め、減圧濃縮すると、連記化合物(11)1.
52gが無色油状物として得られた。
ステル[化合物(11)]の]製造:2−オキソグルタ
ル酸2.93およびN、N−ジイソプロピルエチルアミ
ン3.48dのジメチルホルムアミド20d溶液にヨウ
化ナトリウム3.13gおよびピバリ、ン酸クロロメチ
ル3.02滅を加え室温で2時間攪拌した。酢酸エチル
で希釈し、析出した結晶をろ去した。ろ液を減圧下濃縮
乾固し、残留物に酢酸エチルを加え、水洗後乾燥(Mg
SO,)した。ついで溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロ
メタン−酢酸エチル(1:1)で溶出後、目的物を含む
分画を集め、減圧濃縮すると、連記化合物(11)1.
52gが無色油状物として得られた。
I Rv Noatcm−’ :2970,1750.
1710ax N M R(90M Hz、 CD CI3)δ:1.
24(9H,s)、2.67−3.19(4t(、n+
)、5.89(211,s)参考例12 4−フェニル−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニト
ロベンジル)エステル[化合物(12)]の製造: 4−フェニル−2−オキソグルタル酸4.26gのジメ
チルホルムアミド3〇−溶液にジシクロヘキシルアミン
2.67dと4−二トロペンジルブロミド2.9gを加
え、室温で20時間攪拌した。
1710ax N M R(90M Hz、 CD CI3)δ:1.
24(9H,s)、2.67−3.19(4t(、n+
)、5.89(211,s)参考例12 4−フェニル−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニト
ロベンジル)エステル[化合物(12)]の製造: 4−フェニル−2−オキソグルタル酸4.26gのジメ
チルホルムアミド3〇−溶液にジシクロヘキシルアミン
2.67dと4−二トロペンジルブロミド2.9gを加
え、室温で20時間攪拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、析出結晶をろ去した。ろ
液を水洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1→l:I)で溶出
後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮すると連記化合
物(+ 2)2.89gが淡黄色結晶として得られた。
液を水洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1→l:I)で溶出
後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮すると連記化合
物(+ 2)2.89gが淡黄色結晶として得られた。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶すると淡黄色プリズム
品が得られた。
品が得られた。
融点 149−150℃。
IRJ/KBrC111−’:1780,1740,1
710.1600aX NMR(90MH2,CDCl、)δ:2.5−4.5
(3[(、m)。
710.1600aX NMR(90MH2,CDCl、)δ:2.5−4.5
(3[(、m)。
5.40(2H,s)、7.30(5H,s)、7.6
8(2H,d、J= 9Hz)。
8(2H,d、J= 9Hz)。
8.24(21i、d、J=9Hz)
参考例13
4−ベンジル−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニト
ロベンジル)エステル[化合物(13)]の製造: 窒素雰囲気下ジイソプロピルアミン0.98dの無水テ
トラヒドロフラン13−溶液に1..5Mn−ブチルリ
チウム(ヘキサン溶液)4.29dを一78℃で攪拌下
加えた。15分間攪拌後、2−オキソグルタル酸 ジメ
チルエステル ジメチルケタール1.18gの無水テト
ラヒドロフラン7蔵溶液を5分間を要して加え、15分
間攪拌した。
ロベンジル)エステル[化合物(13)]の製造: 窒素雰囲気下ジイソプロピルアミン0.98dの無水テ
トラヒドロフラン13−溶液に1..5Mn−ブチルリ
チウム(ヘキサン溶液)4.29dを一78℃で攪拌下
加えた。15分間攪拌後、2−オキソグルタル酸 ジメ
チルエステル ジメチルケタール1.18gの無水テト
ラヒドロフラン7蔵溶液を5分間を要して加え、15分
間攪拌した。
次いで臭化ベンジル0.76−とへキサメチルホスホル
アミド0.28Mlの無水テトラヒドロフラン7滅溶液
を5分間を要して加え、30分間。
アミド0.28Mlの無水テトラヒドロフラン7滅溶液
を5分間を要して加え、30分間。
−78℃で攪拌した。反応液を攪拌下2時間を要して一
20℃まで昇温後、飽和塩化アンモニウム水を加え、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を水洗。
20℃まで昇温後、飽和塩化アンモニウム水を加え、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を水洗。
乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去した。残留物をシリ
カゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サン−酢酸エチル(5:l→2:1)で溶出すると4−
ベンジル−2−オキソグルタル酸 ジメチルエステル
ジメチルケタール1.64gが淡黄色油状物として得ら
れた。
カゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキ
サン−酢酸エチル(5:l→2:1)で溶出すると4−
ベンジル−2−オキソグルタル酸 ジメチルエステル
ジメチルケタール1.64gが淡黄色油状物として得ら
れた。
I RシN8atcm−’:1740.1600fla
X N M R(90M Hz、 CD CI3)δ:2.
2−3.0(5H,m)。
X N M R(90M Hz、 CD CI3)δ:2.
2−3.0(5H,m)。
3.07(3)1.s)、3.17(38,s)、 3
.57(38,s)、3.68(3H。
.57(38,s)、3.68(3H。
s)、7.0−7.4(5H,+n)
氷晶をメタノール10dに溶解し、3.5M水酸化カリ
ウム水溶液15蔵を加え、室温で3.5時間攪拌後、メ
タノールを留去した。反応液に6N塩酸を加えてI)H
lとし、食塩で飽和さけ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄、乾燥(N a2 s O4)後、溶
媒を留去すると4−ベンジル−2−オキソグルタル酸
ジメチルケタール1.43gが黄色油状物とし得られた
。
ウム水溶液15蔵を加え、室温で3.5時間攪拌後、メ
タノールを留去した。反応液に6N塩酸を加えてI)H
lとし、食塩で飽和さけ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄、乾燥(N a2 s O4)後、溶
媒を留去すると4−ベンジル−2−オキソグルタル酸
ジメチルケタール1.43gが黄色油状物とし得られた
。
本油状物をテトラヒドロフラン40滅に溶解し、IN塩
酸40旙を加えて室温で30分間攪拌した。
酸40旙を加えて室温で30分間攪拌した。
テトラヒドロフランを留去し、水層を食塩で飽和させ酢
酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄、乾燥(N
at s O4)後、溶媒を留去すると4−ベンジル
−2−才キソグルタル酸1.40gが黄色油状物として
得られた。
酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄、乾燥(N
at s O4)後、溶媒を留去すると4−ベンジル
−2−才キソグルタル酸1.40gが黄色油状物として
得られた。
本油状物をジメチルホルムアミド10蔵に溶解し、ジシ
クロヘキシルアミン0.83dと4−二トロペンジルブ
ロミド0.90gを加えて室温で15時間攪拌した。反
応液に酢酸エチルを加え、析出結晶をろ去し、ろ液を水
洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、
ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出後、目的物を含
む分画につき減圧濃縮すると連記化合物(13)1.3
5gが無色油状物として得られた。
クロヘキシルアミン0.83dと4−二トロペンジルブ
ロミド0.90gを加えて室温で15時間攪拌した。反
応液に酢酸エチルを加え、析出結晶をろ去し、ろ液を水
洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、
ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出後、目的物を含
む分画につき減圧濃縮すると連記化合物(13)1.3
5gが無色油状物として得られた。
l Rv Neatcm−’:3700−3200.3
150−3000゜aX 1780(b)、180O N M R(90M HZ、 CD C13)δ:2.
5−3.4(511,m)。
150−3000゜aX 1780(b)、180O N M R(90M HZ、 CD C13)δ:2.
5−3.4(511,m)。
5.30(21[、s)、7.0−7.4(5H,m)
、 7.45(211,d、 J = 9)Iz)
。
、 7.45(211,d、 J = 9)Iz)
。
8、18(2B、d、 J = 9Hz)マススペクト
ル m/z:371 (M”)参考例14 4−メトキシメチル−2−才キソグルタル酸1−(4−
ニトロベンジル)エステル[化合物(!4)コの製造ニ ジイソプロピルアミン2.85dの無水テトラヒドロフ
ラン3〇−溶液に1.5M n−ブチルリチウム(ヘキ
サン溶液)12.5dを窒素雰囲気下、−78℃で加え
、15分間攪拌した。この溶液に2−オキソグルタル酸
ジメチルエステル ジメチルケタール3.45gの無
水テトラヒドロフラン15滅溶液を10分間を要して加
え、15分間攪拌した。次いでクロロメチルメチルエー
テル1.32dとヘキサメチルホスホルアミド1.36
−の無水テトラヒドロフラン溶液を10分間を要して加
え、30分間を要して一20℃まで昇温後、この温度で
3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥(Mg
SO,)後、溶媒を留去した。
ル m/z:371 (M”)参考例14 4−メトキシメチル−2−才キソグルタル酸1−(4−
ニトロベンジル)エステル[化合物(!4)コの製造ニ ジイソプロピルアミン2.85dの無水テトラヒドロフ
ラン3〇−溶液に1.5M n−ブチルリチウム(ヘキ
サン溶液)12.5dを窒素雰囲気下、−78℃で加え
、15分間攪拌した。この溶液に2−オキソグルタル酸
ジメチルエステル ジメチルケタール3.45gの無
水テトラヒドロフラン15滅溶液を10分間を要して加
え、15分間攪拌した。次いでクロロメチルメチルエー
テル1.32dとヘキサメチルホスホルアミド1.36
−の無水テトラヒドロフラン溶液を10分間を要して加
え、30分間を要して一20℃まで昇温後、この温度で
3時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を加
え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥(Mg
SO,)後、溶媒を留去した。
残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィー
に付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出すると
4−メトキシメチル−2−オキソグルタル酸 ジメチル
エステル ジメチルケタール2.28gが淡黄色油状物
として得られた。
に付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出すると
4−メトキシメチル−2−オキソグルタル酸 ジメチル
エステル ジメチルケタール2.28gが淡黄色油状物
として得られた。
I R!/ ””tCm−’:1750aX
NMR(90MH2,CDC13)δ:2.02(il
l、dd、J= 5゜1511z)、2.15(111
,dd、J=、9.15Hz)、2.75(IH,+n
)。
l、dd、J= 5゜1511z)、2.15(111
,dd、J=、9.15Hz)、2.75(IH,+n
)。
3.23(6H,S)、3.28(3H,S)、3.4
4(ill、d、J= 5Hz)。
4(ill、d、J= 5Hz)。
3.46(IH,d、J= 611z)、3.67(3
11,s)、3.77(3H,s)氷晶560mgのメ
タノール41n1.溶液に1.8M水酸化カリウム水溶
液6蔵を加え、室温で3時間攪拌した。メタノールを留
去し、水層をエーテルで洗浄後、6N塩酸を加えてpH
1とし、食塩で飽和させ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去
すると4−メトキシメチル−2−オキソグルタル酸 ジ
メチルケタール471mgが黄色油状物として得られた
。本油状物をテトラヒドロフラン10−に溶解し、IN
塩酸10蔵を加えて室温で4日間攪拌した。テトラヒド
ロフランを留去し、水層を食塩で飽和させ酢酸エチルで
抽出した。抽出液を食塩水で洗浄、乾燥(MgSO,)
後、溶媒を留去すると4−メトキシメチル−2−オキソ
グルタル酸397+ngが無色油状物として得られた。
11,s)、3.77(3H,s)氷晶560mgのメ
タノール41n1.溶液に1.8M水酸化カリウム水溶
液6蔵を加え、室温で3時間攪拌した。メタノールを留
去し、水層をエーテルで洗浄後、6N塩酸を加えてpH
1とし、食塩で飽和させ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄、乾燥(MgSO,)後、溶媒を留去
すると4−メトキシメチル−2−オキソグルタル酸 ジ
メチルケタール471mgが黄色油状物として得られた
。本油状物をテトラヒドロフラン10−に溶解し、IN
塩酸10蔵を加えて室温で4日間攪拌した。テトラヒド
ロフランを留去し、水層を食塩で飽和させ酢酸エチルで
抽出した。抽出液を食塩水で洗浄、乾燥(MgSO,)
後、溶媒を留去すると4−メトキシメチル−2−オキソ
グルタル酸397+ngが無色油状物として得られた。
本油状物355mgをジメチルホルムアミド31n1に
溶解し、ジシクロヘキシルアミン0.30dと4−ニト
ロベンジルプロミド323mgを加えて室温で15時間
攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、析出結晶をろ去
し、ろ液を水洗、乾燥(MgS O、)後、溶媒を留去
した。残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:l)で溶出
後、目的物を含む分画につき減圧濃縮すると連記化合物
(14)293mgが黄色油状物として得られた。
溶解し、ジシクロヘキシルアミン0.30dと4−ニト
ロベンジルプロミド323mgを加えて室温で15時間
攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、析出結晶をろ去
し、ろ液を水洗、乾燥(MgS O、)後、溶媒を留去
した。残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:l)で溶出
後、目的物を含む分画につき減圧濃縮すると連記化合物
(14)293mgが黄色油状物として得られた。
I Rv NeatCm−’:1750(b)、160
0ax N M R(90M HZ、 CD C13)δ:3.
05(3H,m)、3.48(3H,s) 、3.6−
3.9(21,m) 、 5.37(2t[、s) 、
7 、52(2tl 、d、 J=9)1z)、8.2
1(2H,d、J=9Hz)参考例15 2−オキソグルタル酸 l−アニリド[化合物(I5)
コの製造: 2−才キソグルタル酸1.46gのアセトニトリル溶液
(20蔵)にDCC2,06gを加え室温で10分間攪
拌した。ついでアニリン930mgを加え室温で5時間
攪拌した。析出した白色性でんをろ去し、ろ液に酢酸エ
チル(40yn!l)を加えた後、炭酸水素ナトリウム
水溶液(30mi2)で抽出した。
0ax N M R(90M HZ、 CD C13)δ:3.
05(3H,m)、3.48(3H,s) 、3.6−
3.9(21,m) 、 5.37(2t[、s) 、
7 、52(2tl 、d、 J=9)1z)、8.2
1(2H,d、J=9Hz)参考例15 2−オキソグルタル酸 l−アニリド[化合物(I5)
コの製造: 2−才キソグルタル酸1.46gのアセトニトリル溶液
(20蔵)にDCC2,06gを加え室温で10分間攪
拌した。ついでアニリン930mgを加え室温で5時間
攪拌した。析出した白色性でんをろ去し、ろ液に酢酸エ
チル(40yn!l)を加えた後、炭酸水素ナトリウム
水溶液(30mi2)で抽出した。
ついで2N塩酸でpHを3.0に調整し、酢酸エチルで
抽出した。有機層は水洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒
を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン−酢酸エチル(1:2)で溶出後、目的物
を含む分画を減圧濃縮すると連記化合物(15)390
mgが無色結晶として得られた。
抽出した。有機層は水洗、乾燥(MgSO,)後、溶媒
を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付
し、ヘキサン−酢酸エチル(1:2)で溶出後、目的物
を含む分画を減圧濃縮すると連記化合物(15)390
mgが無色結晶として得られた。
融点=192°−■93℃
r RvKBrcm−’:3340,1700,169
0.1600゜ax 154Q、 1450.1320 NMR(90MI−1z、CDCl3 ds DMS
O)δ;2.42−2.70(211,m)、 2.9
0−3.32(2H,m) 、 7.01−7.90(
5H。
0.1600゜ax 154Q、 1450.1320 NMR(90MI−1z、CDCl3 ds DMS
O)δ;2.42−2.70(211,m)、 2.9
0−3.32(2H,m) 、 7.01−7.90(
5H。
m)
参考例16
2−オキソグルタル酸 !−ピロリジンアミド[化合物
(16)]の製造: 2−オキソグルタル酸584mgおよびピロリジン28
4mgを用い、参考例15と同様に処理すると連記化合
物(16)412mgが無色結晶として得られた。融点
:IOピー102°C E RシKBrcm−’:2970,1730,171
0,1600,1390aX 1330.1210.117O NMR(90MH2,CDC13)δ:1.81−2.
06(48,m)。
(16)]の製造: 2−オキソグルタル酸584mgおよびピロリジン28
4mgを用い、参考例15と同様に処理すると連記化合
物(16)412mgが無色結晶として得られた。融点
:IOピー102°C E RシKBrcm−’:2970,1730,171
0,1600,1390aX 1330.1210.117O NMR(90MH2,CDC13)δ:1.81−2.
06(48,m)。
2、65−2.84(211,m) 、 3.08−3
.27 (2H,m) 、 3.43−3.80(4H
,m)、8.60−9.01(IH,m)参考例17 2−オキソグルタル酸 1−n−プロピルアミド[化合
物(17)]の製造: 2−オキソグルタル酸1.46gおよびn−プロピルア
ミン0.828dを用い、参考例15と同様に処理する
と連記化合物(17)496mgが淡黄色結晶として得
られた。融点ニア9°−st℃TRI7KBrcm−’
:3250,2960,1730,1690゜aX 1660、1530.1440.140ON M R(
90M Hz、 CD C+3)δ:0.81−1.1
9(311,t、J=6Hz)、1.36−1.75(
2H,m)、2.58−2.72(2H,l11)。
.27 (2H,m) 、 3.43−3.80(4H
,m)、8.60−9.01(IH,m)参考例17 2−オキソグルタル酸 1−n−プロピルアミド[化合
物(17)]の製造: 2−オキソグルタル酸1.46gおよびn−プロピルア
ミン0.828dを用い、参考例15と同様に処理する
と連記化合物(17)496mgが淡黄色結晶として得
られた。融点ニア9°−st℃TRI7KBrcm−’
:3250,2960,1730,1690゜aX 1660、1530.1440.140ON M R(
90M Hz、 CD C+3)δ:0.81−1.1
9(311,t、J=6Hz)、1.36−1.75(
2H,m)、2.58−2.72(2H,l11)。
3、12−3..34(4)1. m) 、 6.79
−7.03(IH,m) 、 7.91−8.37(1
11、m) 参考例l8 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)エステル[化合物(18)]の製造: 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル(1)1.5gを無水クロロホルム15dに溶か
し、50℃に加熱攪拌下、ブロム0.3dの無水クロロ
ホルム5−の溶液を4時間かけて徐々に滴下した。冷後
反応液に飽和食塩水を加えジクロルメタンで抽出した。
−7.03(IH,m) 、 7.91−8.37(1
11、m) 参考例l8 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)エステル[化合物(18)]の製造: 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル(1)1.5gを無水クロロホルム15dに溶か
し、50℃に加熱攪拌下、ブロム0.3dの無水クロロ
ホルム5−の溶液を4時間かけて徐々に滴下した。冷後
反応液に飽和食塩水を加えジクロルメタンで抽出した。
有機層を水洗。
乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧上留去して連記
化合物(+8)を淡黄色油状物として1.89g得た。
化合物(+8)を淡黄色油状物として1.89g得た。
I Rシn8atcm−’: 3300.1800.1
735.1605゜ax 1520、135O N M R(90Mtlz、 CDC13)δ: 2.
67−3.55(2H,m)、 5.30−5.38(
IH,m)、 5.46(2Ls)、 7.58 an
d 8.22(4B。
735.1605゜ax 1520、135O N M R(90Mtlz、 CDC13)δ: 2.
67−3.55(2H,m)、 5.30−5.38(
IH,m)、 5.46(2Ls)、 7.58 an
d 8.22(4B。
2d、J=911z)、 8.80−9.50(III
、br)参考例19 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)−5−t−ブチルジエステル[化合物(19
)]の製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジルエステル(+8)1.89gを無水ジクロルメ
タン10m1に溶かし、水冷攪拌下、濃硫酸0.1−を
加えた。水冷下、液化させたイソブチン10戒を加え、
密栓した後、反応液を徐々に昇温し室温で一夜放置した
。反応液に重曹水を加えて中和し、ついで窒素ガスを通
じて過剰のイソブチンを留去した。残留物に水を加えて
ジクロルメタンで抽出し、有機層を水洗、乾燥(MgS
O,)した後溶媒を減圧上留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムに通しジクロルメタンで溶出後、目的物を含む
分画を集めて、減圧濃縮して連記化合物(19)を淡黄
色油状物として1.448g得た。
、br)参考例19 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)−5−t−ブチルジエステル[化合物(19
)]の製造: 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジルエステル(+8)1.89gを無水ジクロルメ
タン10m1に溶かし、水冷攪拌下、濃硫酸0.1−を
加えた。水冷下、液化させたイソブチン10戒を加え、
密栓した後、反応液を徐々に昇温し室温で一夜放置した
。反応液に重曹水を加えて中和し、ついで窒素ガスを通
じて過剰のイソブチンを留去した。残留物に水を加えて
ジクロルメタンで抽出し、有機層を水洗、乾燥(MgS
O,)した後溶媒を減圧上留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムに通しジクロルメタンで溶出後、目的物を含む
分画を集めて、減圧濃縮して連記化合物(19)を淡黄
色油状物として1.448g得た。
I Rシn0atcm−’: 2980.1735.1
605.1525゜aX 1370、135O N M R(90MHz、CDCIt)δ: 1.42
(9tl、s)、 2.82−3.41(2tl、m)
、 5.26−5.36(IH,m)、 5.46(2
tl、s)、 7.62 and 8.21(4[1,
2d、J=911z)参考例20 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)−5−エチルジエステル[化合物(20汀の
製造: 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)]1.Ogを参考例18の合成法
に準じて、溶媒として一級クロロホルムを用いブロム化
反応に付すことにより厘記化合物(20)を淡黄色油状
物として772mg得、副生物として化合物(18)を
368.5mg得た。
605.1525゜aX 1370、135O N M R(90MHz、CDCIt)δ: 1.42
(9tl、s)、 2.82−3.41(2tl、m)
、 5.26−5.36(IH,m)、 5.46(2
tl、s)、 7.62 and 8.21(4[1,
2d、J=911z)参考例20 3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ
ベンジル)−5−エチルジエステル[化合物(20汀の
製造: 2−オキソグルタル酸 !−(4−ニトロベンジル)エ
ステル[化合物(1)]1.Ogを参考例18の合成法
に準じて、溶媒として一級クロロホルムを用いブロム化
反応に付すことにより厘記化合物(20)を淡黄色油状
物として772mg得、副生物として化合物(18)を
368.5mg得た。
N M R(90MIIZ、CDC13)δ: 1.2
3(38,t、J=6Hz)、 2゜89−3.48(
211,a+)、 4.14(2H,q、J=6Hz)
、 5.26−5.42(111,m)、 5.46(
2H,s)、 7.63 and 8.23(411,
2d、J=911z) 参考例21 2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェニルアセ
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ニトロ)ベンジル−5−t−ブチルジエ
ステル[化合物(21)]の製造:(3R,4R)−4
−メルカプト−3−フェニルアセトアミド−2−アゼチ
ジノン109mgと参考例19で得た化合物(19)6
90mgをアセトン3−7こ懸濁させ、室温で15分間
攪拌した後、ヘキサメチルホスホルアミド3dを加えて
室温で3時間攪拌した。反応液に水IO−を加え酢酸エ
チル+5dで抽出した。有機層を水洗し、乾燥(MgS
O3)L、た後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリ
カゲルカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(1:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮し
てジアステレオマーの混合物である連記化合物(21)
を白色粉末として209mg得た。
3(38,t、J=6Hz)、 2゜89−3.48(
211,a+)、 4.14(2H,q、J=6Hz)
、 5.26−5.42(111,m)、 5.46(
2H,s)、 7.63 and 8.23(411,
2d、J=911z) 参考例21 2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェニルアセ
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ニトロ)ベンジル−5−t−ブチルジエ
ステル[化合物(21)]の製造:(3R,4R)−4
−メルカプト−3−フェニルアセトアミド−2−アゼチ
ジノン109mgと参考例19で得た化合物(19)6
90mgをアセトン3−7こ懸濁させ、室温で15分間
攪拌した後、ヘキサメチルホスホルアミド3dを加えて
室温で3時間攪拌した。反応液に水IO−を加え酢酸エ
チル+5dで抽出した。有機層を水洗し、乾燥(MgS
O3)L、た後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリ
カゲルカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(1:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮し
てジアステレオマーの混合物である連記化合物(21)
を白色粉末として209mg得た。
I Rv KBrcm−’:3300.2970.17
80.1720゜a+aX 1650、1520.1340.1260.114ON
M R(90MH2,CDC13)δ: 1.42(
91f、s)、 2.58−2.94(21Lm)、
3.57(2H,2s)、 4.40−4.63(11
1−m)。
80.1720゜a+aX 1650、1520.1340.1260.114ON
M R(90MH2,CDC13)δ: 1.42(
91f、s)、 2.58−2.94(21Lm)、
3.57(2H,2s)、 4.40−4.63(11
1−m)。
4.72(IH,br)、 4.96−5.16(II
I、m)、 5.31−5.58(3H。
I、m)、 5.31−5.58(3H。
rA)、6.48 and 6.72(11,2d、J
=9Hz)、 7.27(511,s)。
=9Hz)、 7.27(511,s)。
7.49−7.57 and 8.12−8.25(4
11,m)参考例22 2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェニルアセ
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ニトロ)ベンジル−5−エチルジエステ
ル[化合物(22)]の製造:(3R,4R)−4−メ
ルカプト−3−フェニルアセトアミド−2−アゼチジノ
ン15BIIIgと参考例20で得た化合物(20)6
70mgをアセトン3歳に懸濁させ、室温で15分間攪
拌した後、ヘキサメチルホスホルアミド3滅を加えて室
温で4時間攪拌した。反応液に水50tdを加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗、乾燥(MgS O、
) した後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(555:
45)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮
して、白色粉末として連記化合物(22)を300mg
得た。
11,m)参考例22 2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェニルアセ
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ニトロ)ベンジル−5−エチルジエステ
ル[化合物(22)]の製造:(3R,4R)−4−メ
ルカプト−3−フェニルアセトアミド−2−アゼチジノ
ン15BIIIgと参考例20で得た化合物(20)6
70mgをアセトン3歳に懸濁させ、室温で15分間攪
拌した後、ヘキサメチルホスホルアミド3滅を加えて室
温で4時間攪拌した。反応液に水50tdを加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗、乾燥(MgS O、
) した後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(555:
45)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮
して、白色粉末として連記化合物(22)を300mg
得た。
I RvKBrcm−’: 3320.1780.17
30.1660゜ax +600.1520.1350.1270.1010.
850. 73ON M R(90MHz、CDCl
5)δ: x、20(3H,t、J=611z)、 2
゜43−3.16(2H,m)、 3.56(211,
s)、 4.09(211,q、J=8Hz)、 4.
35−4.75(IH,m)、 4.96−5.15(
IH,m)、 5J4(211,s)、 5.42−5
.56(III、III)、 6.63−7.QO(N
1.br)。
30.1660゜ax +600.1520.1350.1270.1010.
850. 73ON M R(90MHz、CDCl
5)δ: x、20(3H,t、J=611z)、 2
゜43−3.16(2H,m)、 3.56(211,
s)、 4.09(211,q、J=8Hz)、 4.
35−4.75(IH,m)、 4.96−5.15(
IH,m)、 5J4(211,s)、 5.42−5
.56(III、III)、 6.63−7.QO(N
1.br)。
7.26(511,s)、 7.52(2H,dj=9
Hz)、 8.10−8.22(211、m) 参考例23 2−オキソ−3−[(3rt、4 R)−3−フェニル
アセトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグル
タル酸 1−(4−ニトロベンジル)エステル[化合物
(23)]の製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン623.5mgと参考例I8
で得た化合物(18)2.121gをアセトン14旋に
懸濁さt)室温で15分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド14dを加えて室温で4時間攪拌した。反
応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水
で洗い、乾燥(MgS O、) L。
Hz)、 8.10−8.22(211、m) 参考例23 2−オキソ−3−[(3rt、4 R)−3−フェニル
アセトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグル
タル酸 1−(4−ニトロベンジル)エステル[化合物
(23)]の製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン623.5mgと参考例I8
で得た化合物(18)2.121gをアセトン14旋に
懸濁さt)室温で15分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド14dを加えて室温で4時間攪拌した。反
応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水
で洗い、乾燥(MgS O、) L。
た後、溶媒を減圧上留去し、淡黄色油状物として連記化
合物(23)の粗生成物を3.063g得た。
合物(23)の粗生成物を3.063g得た。
参考例24
2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェノキシア
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−(4−ニトロベンジル)エステル[化合物(
24)コの製造: (3R,4,R)−4−メルカプト−3−フェノキシア
セトアミド−2−アゼチジノン2.523gと参考例1
8で得た化合物(18)5.004gをアセトン60蔵
に懸濁し、室温で15分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド60−を加えて室温で4時間攪拌した。反
応液に水4001n1を加え、酢酸エチルで抽出した。
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−(4−ニトロベンジル)エステル[化合物(
24)コの製造: (3R,4,R)−4−メルカプト−3−フェノキシア
セトアミド−2−アゼチジノン2.523gと参考例1
8で得た化合物(18)5.004gをアセトン60蔵
に懸濁し、室温で15分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド60−を加えて室温で4時間攪拌した。反
応液に水4001n1を加え、酢酸エチルで抽出した。
有機層を食塩水で洗い、乾燥(M g S O4)シた
後、溶媒を減圧下留去して、連記化合物(24)の粗生
成物の黄色オイルを9.80g得た。
後、溶媒を減圧下留去して、連記化合物(24)の粗生
成物の黄色オイルを9.80g得た。
参考例25
(3R,4R)−3−トリチルアミノ−4−トリチルチ
オ−2−アゼチジノン[化合物(25月の製造: (3rl、4 R)−3−トリチルアミノ−4−メタン
スルホニル−2−アゼチジノン!、Ogをテトラヒドロ
フラン20?nIlに溶かし、水冷下これにトリチルメ
ルカプタンs、15mgのテトラヒドロフラン溶液25
−と1規定水酸化ナトリウム水溶液2゜83−を加え室
温で25分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した後、水
30dを加え40威の酢酸エチルで抽出した。有機層を
減圧下濃縮し析出した結晶をろ取した。ろ液を乾燥(M
gS O4) L、溶媒を減圧下留去した。残留物をシ
リカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(
1:5)で溶出後、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮
し、連記化合物(25)を白色結晶として486.5f
f1g得た。
オ−2−アゼチジノン[化合物(25月の製造: (3rl、4 R)−3−トリチルアミノ−4−メタン
スルホニル−2−アゼチジノン!、Ogをテトラヒドロ
フラン20?nIlに溶かし、水冷下これにトリチルメ
ルカプタンs、15mgのテトラヒドロフラン溶液25
−と1規定水酸化ナトリウム水溶液2゜83−を加え室
温で25分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮した後、水
30dを加え40威の酢酸エチルで抽出した。有機層を
減圧下濃縮し析出した結晶をろ取した。ろ液を乾燥(M
gS O4) L、溶媒を減圧下留去した。残留物をシ
リカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン(
1:5)で溶出後、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮
し、連記化合物(25)を白色結晶として486.5f
f1g得た。
I Rv KB’ cm−’: 3400.3060.
1760.1490゜ax 1445、1180. 745. 70ON M R(
90MHz、CDC1,)δ: 2,89(IH,d、
J=8H2)、 3゜93(1■、s)、 4.39(
ill、d、J=5Hz)、 4.56(IH,dd、
J=5Hz、811z)、 7.14−7.59(30
H,m)参考例26 (3R,4R)−3−フェニルアセトアミド−4−トリ
チルチオ−2−アゼチジノン[化合物(26)コの製造
: 参考例25で得た化合物(25)302mgをアセトン
IO−に溶かし、これに水冷下p−トルエンスルホン酸
・l水和物114mgを加えた後、室温で1時間攪拌し
た。反応液を減圧下濃縮し、これにエーテルを加えて結
晶化させた。結晶をろ取しエーテル10dで洗った。こ
の白色結晶をジクロルメタン10戒に溶かし、水冷下こ
れにトリエチルアミン0.21dとフェニルアセチルク
ロリド0.09dを加えた後、1時間攪拌した。反応液
を減圧下濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムに通し、
酢酸エチル−n−ヘキサン(1:1)で溶出後、目的物
を含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物(26)を
白色粉末として204mg得た。
1760.1490゜ax 1445、1180. 745. 70ON M R(
90MHz、CDC1,)δ: 2,89(IH,d、
J=8H2)、 3゜93(1■、s)、 4.39(
ill、d、J=5Hz)、 4.56(IH,dd、
J=5Hz、811z)、 7.14−7.59(30
H,m)参考例26 (3R,4R)−3−フェニルアセトアミド−4−トリ
チルチオ−2−アゼチジノン[化合物(26)コの製造
: 参考例25で得た化合物(25)302mgをアセトン
IO−に溶かし、これに水冷下p−トルエンスルホン酸
・l水和物114mgを加えた後、室温で1時間攪拌し
た。反応液を減圧下濃縮し、これにエーテルを加えて結
晶化させた。結晶をろ取しエーテル10dで洗った。こ
の白色結晶をジクロルメタン10戒に溶かし、水冷下こ
れにトリエチルアミン0.21dとフェニルアセチルク
ロリド0.09dを加えた後、1時間攪拌した。反応液
を減圧下濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムに通し、
酢酸エチル−n−ヘキサン(1:1)で溶出後、目的物
を含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物(26)を
白色粉末として204mg得た。
T RシKBrcm−’: 3270.3050.17
65.1665゜ax 1495、1440. 740. 70ON M R(
90Mt(z、CDCI−)δ: 3.62(2H,s
)、 4.63(IH,d。
65.1665゜ax 1495、1440. 740. 70ON M R(
90Mt(z、CDCI−)δ: 3.62(2H,s
)、 4.63(IH,d。
J=511z)、 4.76(III、br、s)、
5.43(III、dd、J=511z。
5.43(III、dd、J=511z。
91[z)、 6.47(III、d、J=911z)
、 7.27(2011,s)参考例27 (3R,4R)−3−(4−ニトロ)ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−4−トリチルチオ−2−アゼチジノン
[化合物(27)]の製造:参参考25で得た化合物(
25)3.9125gをアセトン130滅に溶かし、こ
れに水冷下p−トルエンスルホン酸・l水和物1.48
2gを加えた後、室温で1時間攪拌した。反応液を減圧
下濃縮し、残留物にエーテル150−を加え結晶化させ
た。結晶をろ取しエーテル50−で洗い、白色結晶とし
て(3R,4R)−3−アミノ−4−トリチルチオ−2
−アゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩を3.21
1g得た。
、 7.27(2011,s)参考例27 (3R,4R)−3−(4−ニトロ)ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−4−トリチルチオ−2−アゼチジノン
[化合物(27)]の製造:参参考25で得た化合物(
25)3.9125gをアセトン130滅に溶かし、こ
れに水冷下p−トルエンスルホン酸・l水和物1.48
2gを加えた後、室温で1時間攪拌した。反応液を減圧
下濃縮し、残留物にエーテル150−を加え結晶化させ
た。結晶をろ取しエーテル50−で洗い、白色結晶とし
て(3R,4R)−3−アミノ−4−トリチルチオ−2
−アゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩を3.21
1g得た。
I RLIKBrcm−’: 3050.1760.1
495.1445゜18X 1185、1120.1030.1G10.740.7
00.68ON M R(90MH2,d、 −DMS
O)δ: 2.27(31(、S)、 4.43(IH
,d、J=511z−)、 4.53−4.61(IH
,m)、 7.07(2H,d、J= 811z) 、
7.19−7.37(1511,m) 、 7.48
(2H,d、 J = 8flz) 。
495.1445゜18X 1185、1120.1030.1G10.740.7
00.68ON M R(90MH2,d、 −DMS
O)δ: 2.27(31(、S)、 4.43(IH
,d、J=511z−)、 4.53−4.61(IH
,m)、 7.07(2H,d、J= 811z) 、
7.19−7.37(1511,m) 、 7.48
(2H,d、 J = 8flz) 。
8.81(3H,br、s)、 8.99(IH,s)
得られた°p−トルエンスルホン酸塩799mgをテト
ラヒドロフランIO−に懸濁させ、水冷下これに水10
蔵と炭酸水素ナトリウム277mgを加えた。つぎにこ
の溶液に4−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド
388mgのテトラヒドロフラン溶液3蔵を水冷下層下
した後、40分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、酢
酸エチル2o旋で抽出した。有機層を水で洗い、乾燥(
MgSO,)した後、減圧下溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン
(1:1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧
濃縮して、連記化合物(27)を白色粉末として760
mg得た。
得られた°p−トルエンスルホン酸塩799mgをテト
ラヒドロフランIO−に懸濁させ、水冷下これに水10
蔵と炭酸水素ナトリウム277mgを加えた。つぎにこ
の溶液に4−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド
388mgのテトラヒドロフラン溶液3蔵を水冷下層下
した後、40分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮し、酢
酸エチル2o旋で抽出した。有機層を水で洗い、乾燥(
MgSO,)した後、減圧下溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−n−ヘキサン
(1:1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて、減圧
濃縮して、連記化合物(27)を白色粉末として760
mg得た。
I RシKBrcm−’: 3290.3060.17
75.1730゜18X 1525、1350.1250.745.70ON M
R(90MIIZ、CDCl5)δ: 4,66(I
H,d、J=5Hz)、 5゜03−5.42(4H,
m)、 6.H(l)l、d、J=91(z)、 7.
15−7.41(15H,a+)、 7.49(211
,d、J=9Hz)、 8.10(2tLd、J=9H
z) 参考例28 (3R,4R) −1−Q−ブチルジメチル)シリル−
3−フェニルアセトアミド−4−トリチルチオ−2−ア
ゼチジノン[化合物(28)]の製造:参参考26で得
た化合物(26)4.56mgとt−ブチルジメチルク
ロロシラン187mgをN、N−ジメチルホルムアミド
5dに溶した。水冷攪拌下これにトリエチルアミン15
3μQを滴下した後、室温で14,5時間攪拌した。さ
らにt−ブチルジメチルクロロシラン86mgとトリエ
チルアミン66μQを加えて室温で2.5時間叫拌した
。反応液に水50成を加え酢酸エチル50戒で抽出した
。
75.1730゜18X 1525、1350.1250.745.70ON M
R(90MIIZ、CDCl5)δ: 4,66(I
H,d、J=5Hz)、 5゜03−5.42(4H,
m)、 6.H(l)l、d、J=91(z)、 7.
15−7.41(15H,a+)、 7.49(211
,d、J=9Hz)、 8.10(2tLd、J=9H
z) 参考例28 (3R,4R) −1−Q−ブチルジメチル)シリル−
3−フェニルアセトアミド−4−トリチルチオ−2−ア
ゼチジノン[化合物(28)]の製造:参参考26で得
た化合物(26)4.56mgとt−ブチルジメチルク
ロロシラン187mgをN、N−ジメチルホルムアミド
5dに溶した。水冷攪拌下これにトリエチルアミン15
3μQを滴下した後、室温で14,5時間攪拌した。さ
らにt−ブチルジメチルクロロシラン86mgとトリエ
チルアミン66μQを加えて室温で2.5時間叫拌した
。反応液に水50成を加え酢酸エチル50戒で抽出した
。
有機層を水洗、乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧
下留去した。残留物をシリカゲルカラムに通し、n−ヘ
キサン−酢酸エチル(Ill)で溶出後、目的物を含む
分画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物(28〕を白色
粉末として451.5mg得た。
下留去した。残留物をシリカゲルカラムに通し、n−ヘ
キサン−酢酸エチル(Ill)で溶出後、目的物を含む
分画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物(28〕を白色
粉末として451.5mg得た。
T Rv KBrcm−’+ 3300.2930.2
855.1760゜ax 1685、1495.1250.840.820.74
0.70ON M R(90MHz、CDC1,、)δ
:O,19(611,s)、0.86(911,s)。
855.1760゜ax 1685、1495.1250.840.820.74
0.70ON M R(90MHz、CDC1,、)δ
:O,19(611,s)、0.86(911,s)。
3.12(IH,d、J=1511z)、 3.39(
III、d、J=15Hz)。
III、d、J=15Hz)。
4.76(IH,d、J=511z)、 5.41(I
H,dd、J=5t(z、9tlz)。
H,dd、J=5t(z、9tlz)。
5.95(IH,dj=9f!z)、 7.10−7.
38(20tl、m)参考例29 (3R,4R)−1−(t−ブチルジメチル)シリル−
3−フェニルアセトアミド−4−メルカプト−2−アゼ
チジノン[化合物(29)]の製造:参参考28で得た
化合物(28)100mgをメタノール3dに溶かし、
−53℃〜−47℃に水冷下、酢酸第二水銀70mgの
メタノール214の溶液を滴下した。反応液を一53℃
〜−47℃で70分間攪拌した後、−70℃以下で硫化
水素ガスを5分間通じた。ついで窒素ガスを30分間通
じて硫化水素ガスを除去した。反応液を減圧下aWiし
、残留物をジクロルメタンに溶かし、不溶物をろ去した
。ろ液を減圧下a縮し、残留物をシリカゲルカラムに通
し、n−ヘキザンー酢酸エチル(7:3)で溶出後、目
的物を含む分画を集めて減圧濃縮して連記化合物(29
)をオイルとして48mg得た。
38(20tl、m)参考例29 (3R,4R)−1−(t−ブチルジメチル)シリル−
3−フェニルアセトアミド−4−メルカプト−2−アゼ
チジノン[化合物(29)]の製造:参参考28で得た
化合物(28)100mgをメタノール3dに溶かし、
−53℃〜−47℃に水冷下、酢酸第二水銀70mgの
メタノール214の溶液を滴下した。反応液を一53℃
〜−47℃で70分間攪拌した後、−70℃以下で硫化
水素ガスを5分間通じた。ついで窒素ガスを30分間通
じて硫化水素ガスを除去した。反応液を減圧下aWiし
、残留物をジクロルメタンに溶かし、不溶物をろ去した
。ろ液を減圧下a縮し、残留物をシリカゲルカラムに通
し、n−ヘキザンー酢酸エチル(7:3)で溶出後、目
的物を含む分画を集めて減圧濃縮して連記化合物(29
)をオイルとして48mg得た。
I Rνneatcm−’+ 3300.2960.2
940.2860゜aX 2550、1765.1740.1660.1540.
1255.1020゜840、 82O N M R(90MIIZ、 CDCl5)δ:0.2
6(6tLs)、0.94(911,s)。
940.2860゜aX 2550、1765.1740.1660.1540.
1255.1020゜840、 82O N M R(90MIIZ、 CDCl5)δ:0.2
6(6tLs)、0.94(911,s)。
1.81(Ill、d、J=8Hz)、 3.61(2
11,s)、 4.96(III、dd。
11,s)、 4.96(III、dd。
J=5tlz、811z)、 5.45(ltl、dd
、J=511z、9tlz)、 6.85(1H,d、
J=9Hz)、7.28(5H,s)参考例30 (3R,4R)−3−フェニルアセトアミド−4−メル
カプト−2−アゼチジノン[化合物(30)]の製造: 参考例29で得た化合物(29)27mgをアセトン!
、2Jに溶かし、これに1規定塩酸0.5dを加え室
温で1時間攪拌した。水冷下1反応液に水20蔵を加え
ジクロルメタン30蔵で抽出した。
、J=511z、9tlz)、 6.85(1H,d、
J=9Hz)、7.28(5H,s)参考例30 (3R,4R)−3−フェニルアセトアミド−4−メル
カプト−2−アゼチジノン[化合物(30)]の製造: 参考例29で得た化合物(29)27mgをアセトン!
、2Jに溶かし、これに1規定塩酸0.5dを加え室
温で1時間攪拌した。水冷下1反応液に水20蔵を加え
ジクロルメタン30蔵で抽出した。
有機層を減圧下留去して連記化合物(30)を白色結晶
として16.5mg得た。
として16.5mg得た。
I RI7KBrcm−’: 3270.2540.1
780.1760゜ax 1725、1660.1550.1250.980.7
0ON M R(90Mliz 、 do DMSO
)δ: 2.89(lIl、d、J= 91(z)。
780.1760゜ax 1725、1660.1550.1250.980.7
0ON M R(90Mliz 、 do DMSO
)δ: 2.89(lIl、d、J= 91(z)。
3.52(211,sl 4.98(IH,dd、J=
511z、911z)、 5.25(1!1.ddj=
5tlz、911z)、 7.31(511,s)、
8.73(Ill、br。
511z、911z)、 5.25(1!1.ddj=
5tlz、911z)、 7.31(511,s)、
8.73(Ill、br。
s)、 8.35(ill、d)
参考例31
(3R,4R)−1−(t−ブチルツメチル)ンリル−
3−(4−二トロ)ベンジルオキシカルボニルアミノ−
4−トリチルチオ−2−アゼチジノン[化合物(31)
]の製造: 参考例27で得た化合物(27)367mgとt−ブチ
ルジメチルクロロシラン133BをN、N−ジメチルホ
ルムアミド4蔵に溶かし、水冷攪拌下これにトリエチル
アミン109μaを滴下した後、室温で14時間攪拌し
た。さらにt−ブチルジメチルクロロシラン62mgと
トリエチルアミン47μaを加えて室温で3時間攪拌し
た。反応液に水40−を加え、酢酸エチル40藏で抽出
した。有機層を水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶媒
を減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し
、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)で溶出後、目的
物を含む分画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物(31
)を白色粉末として286mg得た。
3−(4−二トロ)ベンジルオキシカルボニルアミノ−
4−トリチルチオ−2−アゼチジノン[化合物(31)
]の製造: 参考例27で得た化合物(27)367mgとt−ブチ
ルジメチルクロロシラン133BをN、N−ジメチルホ
ルムアミド4蔵に溶かし、水冷攪拌下これにトリエチル
アミン109μaを滴下した後、室温で14時間攪拌し
た。さらにt−ブチルジメチルクロロシラン62mgと
トリエチルアミン47μaを加えて室温で3時間攪拌し
た。反応液に水40−を加え、酢酸エチル40藏で抽出
した。有機層を水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶媒
を減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し
、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)で溶出後、目的
物を含む分画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物(31
)を白色粉末として286mg得た。
I RvKBrcm−’: 2960.2930.28
60.1765゜aX 1730、1530.1345.1250.740.7
0ON M R(90MH2,CDC13)δ:0.3
0(6H,s)、0.96(9H,s)。
60.1765゜aX 1730、1530.1345.1250.740.7
0ON M R(90MH2,CDC13)δ:0.3
0(6H,s)、0.96(9H,s)。
4.70−5.31(511,m)、 7.18−7.
49(17H,m)、 8.15(2H,d、J=9H
z) 参考例32 (3n、4 R)−3−[(2R)−2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−■−ピペラジンカルボキサアミド
)フェニルアセトアミド]−4−トリチルヂオー2−ア
ゼチジノン[化合物(32)]の製造=(2R)−2−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカル
ボキサアミド)フェニル酢酸383mgをジクロルメタ
ンIO戒に懸濁させ、これに水冷下トリメチルクロルシ
ラン165μgとトリエチルアミン181μeを滴下し
た。滴下後室部で30分間攪拌した後、−25〜−20
℃に冷却した反応液にN、N−ジメチルホルムアミド1
01μaとトリクロロメチルクロロホルメート78μg
を加え、−25℃〜−20℃で2時間攪拌した。反応液
を一70℃に冷却し、これにピリジン186μf2.(
3R,4R)−3−アミノ−4−トリチルチオ−2−ア
ゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩533mgとプ
ロピレンオキシドtyを加えた後、冷却浴(ドライアイ
ス−アセトン浴)をはずし、1時間かけて反応液を室温
まで昇温した。
49(17H,m)、 8.15(2H,d、J=9H
z) 参考例32 (3n、4 R)−3−[(2R)−2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−■−ピペラジンカルボキサアミド
)フェニルアセトアミド]−4−トリチルヂオー2−ア
ゼチジノン[化合物(32)]の製造=(2R)−2−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカル
ボキサアミド)フェニル酢酸383mgをジクロルメタ
ンIO戒に懸濁させ、これに水冷下トリメチルクロルシ
ラン165μgとトリエチルアミン181μeを滴下し
た。滴下後室部で30分間攪拌した後、−25〜−20
℃に冷却した反応液にN、N−ジメチルホルムアミド1
01μaとトリクロロメチルクロロホルメート78μg
を加え、−25℃〜−20℃で2時間攪拌した。反応液
を一70℃に冷却し、これにピリジン186μf2.(
3R,4R)−3−アミノ−4−トリチルチオ−2−ア
ゼチジノンのp−トルエンスルホン酸塩533mgとプ
ロピレンオキシドtyを加えた後、冷却浴(ドライアイ
ス−アセトン浴)をはずし、1時間かけて反応液を室温
まで昇温した。
反応液を減圧上濃縮し、得られた残留物をシリカゲルの
カラムに通し、酢酸エチルで溶出後、目的物を含む分画
を集めて、減圧濃縮して連記化合物(32)を白色粉末
として496B得た。
カラムに通し、酢酸エチルで溶出後、目的物を含む分画
を集めて、減圧濃縮して連記化合物(32)を白色粉末
として496B得た。
I n vKBrcm−’: 3300.1780.1
770.1720゜aX 1690、1510.1360.1180.740.7
0ON M R(90MHz、 CDC13)δ: 1
.18(3H,t、J=7H2)、 3゜22−3.9
3(6H,m)、 4.54(III、d、J−5tl
z)、 5.21(ill。
770.1720゜aX 1690、1510.1360.1180.740.7
0ON M R(90MHz、 CDC13)δ: 1
.18(3H,t、J=7H2)、 3゜22−3.9
3(6H,m)、 4.54(III、d、J−5tl
z)、 5.21(ill。
br、s)、 5.47−5.62(2H,m)、 7
.17−7.57(20H,m)。
.17−7.57(20H,m)。
8.03(ltl、d、J=9Hz)、 10.06(
III、d、J=61(z)参考例33 (3R,4R)−1−(t−ブチルジメチル)シリル−
3−[(2R)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサアミド)フヱニルアセトア
ミド]−4−トリチルチオ−2−アゼチジノン[化合物
(33)]の製造: 参参考32で得た化合物(32)200mgをジクロル
メタン3−に溶かし、これに水冷下トリエチルアミン4
7μQを加えた。水冷Jf1ML下、窒素下流窒素気流
中−ブチルジメチルトリフルオルメタンスルホネート7
0μgを滴下し、同じ温度で1時間攪拌した。反応液を
水20dに注ぎジクロルメタンで抽出した。有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥(M g S
Oり した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残留
物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチルで溶出後、
目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮して、連記化合物
(33)を白色粉末として183.5mg得た。
III、d、J=61(z)参考例33 (3R,4R)−1−(t−ブチルジメチル)シリル−
3−[(2R)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサアミド)フヱニルアセトア
ミド]−4−トリチルチオ−2−アゼチジノン[化合物
(33)]の製造: 参参考32で得た化合物(32)200mgをジクロル
メタン3−に溶かし、これに水冷下トリエチルアミン4
7μQを加えた。水冷Jf1ML下、窒素下流窒素気流
中−ブチルジメチルトリフルオルメタンスルホネート7
0μgを滴下し、同じ温度で1時間攪拌した。反応液を
水20dに注ぎジクロルメタンで抽出した。有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥(M g S
Oり した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残留
物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチルで溶出後、
目的物を含む分画を集めて、減圧濃縮して、連記化合物
(33)を白色粉末として183.5mg得た。
I R+7”” cm−’: 3300.2930.1
765.1730゜ax 1695、1500.1360.1250.1180.
70ONMR(90MH2,CDCl5)δ:0.12
(611,s)、0.91(9H,s)。
765.1730゜ax 1695、1500.1360.1250.1180.
70ONMR(90MH2,CDCl5)δ:0.12
(611,s)、0.91(9H,s)。
1.24(3H,t、J=8Hz)、 3.26−4.
40(7H,m)、 4.73(ill、d、J=5H
z)、 5.48−5.63(2tl、m)、 7.0
2−7.40(20H,m)、 10.00(IH,d
、J=7Hz)参考例34 2−オキソ−3−((3r(,4R)−3−[(2R)
−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサアミド)フェニルアセトアミドクー2−ア
ゼチジノン−4−イル)チオグルタル酸!−(4−ニト
ロ)ベンジルエステル[化合物(34)]の製造: 参考例33で得た化合物(33)1.ogをメタノール
35−に溶かし、これを−55℃〜−50℃に冷却した
後、酢酸第二水銀534mgのメタノール+4meの溶
液を15分間で滴下し、攪拌した。
40(7H,m)、 4.73(ill、d、J=5H
z)、 5.48−5.63(2tl、m)、 7.0
2−7.40(20H,m)、 10.00(IH,d
、J=7Hz)参考例34 2−オキソ−3−((3r(,4R)−3−[(2R)
−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサアミド)フェニルアセトアミドクー2−ア
ゼチジノン−4−イル)チオグルタル酸!−(4−ニト
ロ)ベンジルエステル[化合物(34)]の製造: 参考例33で得た化合物(33)1.ogをメタノール
35−に溶かし、これを−55℃〜−50℃に冷却した
後、酢酸第二水銀534mgのメタノール+4meの溶
液を15分間で滴下し、攪拌した。
43分後作酸第二水銀267mgのメタノール7滅の溶
液を、また82分後作酸第二水銀134mgのメタノー
ル4gの溶液を順次追加し、−55℃〜−50℃に保ち
ながら合計2時間IO分間攪拌した。反応液に硫化水素
ガスを一50℃以下で2分間通じ、さらに窒素ガスを2
0分間通じた後、反応液の溶媒を減圧下留去した。残留
物をジクロルメタンに溶かし不溶物をろ去した。得られ
たろ液を留去して粗生成物として(3R,4R)−1−
(t−ブチルジメチル)シリル−3−[(2R)−2−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペラジンカル
ボキサアミド)フェニルアセトアミドロー4−メルカプ
ト−2−アゼチジノンの淡黄色粉末1.037g得た。
液を、また82分後作酸第二水銀134mgのメタノー
ル4gの溶液を順次追加し、−55℃〜−50℃に保ち
ながら合計2時間IO分間攪拌した。反応液に硫化水素
ガスを一50℃以下で2分間通じ、さらに窒素ガスを2
0分間通じた後、反応液の溶媒を減圧下留去した。残留
物をジクロルメタンに溶かし不溶物をろ去した。得られ
たろ液を留去して粗生成物として(3R,4R)−1−
(t−ブチルジメチル)シリル−3−[(2R)−2−
(4−エチル−2,3−ジオキソ−I−ピペラジンカル
ボキサアミド)フェニルアセトアミドロー4−メルカプ
ト−2−アゼチジノンの淡黄色粉末1.037g得た。
これと参考例I8で得た化合物(18)467.5mg
をアセトンlodとへキサメチルホスホルアミド10艷
との混合溶媒に溶かし、室温で2時間攪拌した後、これ
に1規定塩酸IO−を加えて室温で1時間40分間攪拌
した。反応液に水を加えて酢酸エチル15dで抽出した
。有機層を水洗、乾燥(MgS O、)t、た後、溶媒
を減圧下留去し、淡黄色オイルの粗生成物として連記化
合物(35)を1.4415g得た。
をアセトンlodとへキサメチルホスホルアミド10艷
との混合溶媒に溶かし、室温で2時間攪拌した後、これ
に1規定塩酸IO−を加えて室温で1時間40分間攪拌
した。反応液に水を加えて酢酸エチル15dで抽出した
。有機層を水洗、乾燥(MgS O、)t、た後、溶媒
を減圧下留去し、淡黄色オイルの粗生成物として連記化
合物(35)を1.4415g得た。
参考例35
1−(t−ブチルジメチルシリル)−2−アゼチジノン
−4−チオールの水銀塩[化合物(35)]の製造; 1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−トリチルチオ
−2−アゼチジノンO,1gをジクロルメタンldに溶
かし、−78℃に冷却し、かきまぜた。
−4−チオールの水銀塩[化合物(35)]の製造; 1−(t−ブチルジメチルシリル)−4−トリチルチオ
−2−アゼチジノンO,1gをジクロルメタンldに溶
かし、−78℃に冷却し、かきまぜた。
これに酢酸第二水銀0.083gを溶かしたメタノール
溶液5dを加え、20分間かきまぜた。反応液にトリエ
チルアミン0.057g、酢酸エチル15d、飽和食塩
水5滅と水5藏を順次加えたのち、有機層を分離した。
溶液5dを加え、20分間かきまぜた。反応液にトリエ
チルアミン0.057g、酢酸エチル15d、飽和食塩
水5滅と水5藏を順次加えたのち、有機層を分離した。
有機層を乾燥(MgSO4)L、溶媒を留去して得た残
留物をシリカゲルのカラムに通し、ヘキサン−酢酸エチ
ル(2:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧
濃縮して連記化合物(35)を粉末として0.038g
得た。
留物をシリカゲルのカラムに通し、ヘキサン−酢酸エチ
ル(2:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧
濃縮して連記化合物(35)を粉末として0.038g
得た。
I Rv neatam””: 1755.1712a
X N M R(90MIIz、CDCl5)δ: 0JI
(3H,s)、0.33(3H,s)。
X N M R(90MIIz、CDCl5)δ: 0JI
(3H,s)、0.33(3H,s)。
1.00(9t(、s)、 2.93(LH,dd、J
=2Hz、16tlz)、 3.77(IH,dd、
J = 511z、 16Hz) 、 5.35(Il
l、dd、 J = 2Hz、 5Hz)参考例36 1−(t−ブチルジメチルシリル)−2−アゼチジノン
−4−チオール[化合物(3G)]の製造=1−(t−
ブチルジメチルシリル)−4−トリチルチオ−2−アゼ
チジノン0.3gをジクロルメタン2MLに溶かし、−
78℃に冷却しかき混ぜた。
=2Hz、16tlz)、 3.77(IH,dd、
J = 511z、 16Hz) 、 5.35(Il
l、dd、 J = 2Hz、 5Hz)参考例36 1−(t−ブチルジメチルシリル)−2−アゼチジノン
−4−チオール[化合物(3G)]の製造=1−(t−
ブチルジメチルシリル)−4−トリチルチオ−2−アゼ
チジノン0.3gをジクロルメタン2MLに溶かし、−
78℃に冷却しかき混ぜた。
これに酢酸第二水銀0.25gのメタノール溶液101
nlを加え、20分間かき混ぜた。反応液に一78℃で
硫化水素ガスを15分間通じた後、窒素ガスを通じなが
ら反応液を0℃まで昇温した。溶媒を減圧下留去し、残
留物にジクロルメタンIOdを加え、不溶物をろ去した
。ろ液を減圧上濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムに
通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:4)で溶出後、目的
物を含む分画を集め減圧濃縮して連記化合物(36)の
油状物が0.093g得られた。
nlを加え、20分間かき混ぜた。反応液に一78℃で
硫化水素ガスを15分間通じた後、窒素ガスを通じなが
ら反応液を0℃まで昇温した。溶媒を減圧下留去し、残
留物にジクロルメタンIOdを加え、不溶物をろ去した
。ろ液を減圧上濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムに
通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:4)で溶出後、目的
物を含む分画を集め減圧濃縮して連記化合物(36)の
油状物が0.093g得られた。
I Rシn8atcm−’: 2545.1742.1
467、1294゜1ax 1250、1173 N M R(90MHz、CDCl 、) δ: 0
JO(61(、s)、0.99(9t(、s)。
467、1294゜1ax 1250、1173 N M R(90MHz、CDCl 、) δ: 0
JO(61(、s)、0.99(9t(、s)。
2.18(IH,d、J=811z)、 2.95(I
ll、dd、J=311z、1B1[z)、 3.63
(IH,dd、J=6t(z、16Hz)、 4.78
(18,m)参考例37 3−[1−(t−ブチルジメチルシリル)−2−アゼチ
ジノン−4−イルコチオ−2−オキソグルタル酸 5−
(t−ブチル)−1−(4−ニトロベンジル)ジエステ
ル[化合物(37)]の製造:参参考36で得た化合物
(36)0.07gを窒素気流下ジクロルメタンldに
溶かし、水冷下これにN、N−ジメチルアセトアミド1
−と参考例19で得た化合物(19)0.116gをジ
クロルメタンl蔵に溶かした溶液とピリジン0.030
6gを加え、水冷下20分間かき混ぜた。反応液に酢酸
エチル10−を加え、水洗、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。得られた残留物をシリカゲル
のカラムに通し、ジクロルメタンついで酢酸エチル−ヘ
キサン(1:3)で溶出後、目的物を含む分画を集め減
圧濃縮して、連記化合物(37)を油状物として0.0
99g得た。
ll、dd、J=311z、1B1[z)、 3.63
(IH,dd、J=6t(z、16Hz)、 4.78
(18,m)参考例37 3−[1−(t−ブチルジメチルシリル)−2−アゼチ
ジノン−4−イルコチオ−2−オキソグルタル酸 5−
(t−ブチル)−1−(4−ニトロベンジル)ジエステ
ル[化合物(37)]の製造:参参考36で得た化合物
(36)0.07gを窒素気流下ジクロルメタンldに
溶かし、水冷下これにN、N−ジメチルアセトアミド1
−と参考例19で得た化合物(19)0.116gをジ
クロルメタンl蔵に溶かした溶液とピリジン0.030
6gを加え、水冷下20分間かき混ぜた。反応液に酢酸
エチル10−を加え、水洗、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。得られた残留物をシリカゲル
のカラムに通し、ジクロルメタンついで酢酸エチル−ヘ
キサン(1:3)で溶出後、目的物を含む分画を集め減
圧濃縮して、連記化合物(37)を油状物として0.0
99g得た。
I Rvnoatcm−’: 1750.1726.1
526.1347゜ax 1250、1160 参考例38 2−ヒドロキシ−3−(t−ブチルオキシカルボニルメ
チル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3
、2、0]へ]ブタンー2−カルボン酸4−ニトロ)ベ
ンジルエステル[化合物(38月の製造: 参考例37で得た化合物(37)0.0998をN、N
−ジメチルアセトアミドI−に溶かし、これに水0.1
−と2規定塩酸4滴を加え室温で1時間かき混ぜた。反
応液に酢酸エチル5−を加えて抽出した。有機層を水洗
、乾燥(MgSO,)したのち、溶媒を減圧下留去した
。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸−ヘキサン
(2:3)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮
し連記化合物(38)を油状物として0.066g得た
。
526.1347゜ax 1250、1160 参考例38 2−ヒドロキシ−3−(t−ブチルオキシカルボニルメ
チル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3
、2、0]へ]ブタンー2−カルボン酸4−ニトロ)ベ
ンジルエステル[化合物(38月の製造: 参考例37で得た化合物(37)0.0998をN、N
−ジメチルアセトアミドI−に溶かし、これに水0.1
−と2規定塩酸4滴を加え室温で1時間かき混ぜた。反
応液に酢酸エチル5−を加えて抽出した。有機層を水洗
、乾燥(MgSO,)したのち、溶媒を減圧下留去した
。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸−ヘキサン
(2:3)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮
し連記化合物(38)を油状物として0.066g得た
。
IRν””tcm−’: 3350.1775.174
5.1725゜ax 1514、1345 参考例39 3−(2−アゼチジノン−4−イル)チオ−2−オキソ
グルタル酸 1−(4−ニトロ)ベンジルエステル[化
合物(39)コの製造: 参考例36で得た化合物(36)01107gを窒素気
流下アセトン21n1とへキサメチルホスホルアミド!
−の混合物に溶かし、これに参考例18で得た化合物(
1B)0.177gを加えて室温で2時間かき混ぜた。
5.1725゜ax 1514、1345 参考例39 3−(2−アゼチジノン−4−イル)チオ−2−オキソ
グルタル酸 1−(4−ニトロ)ベンジルエステル[化
合物(39)コの製造: 参考例36で得た化合物(36)01107gを窒素気
流下アセトン21n1とへキサメチルホスホルアミド!
−の混合物に溶かし、これに参考例18で得た化合物(
1B)0.177gを加えて室温で2時間かき混ぜた。
反応液に!規定塩酸3成を加えたのち、45分間かき混
ぜた。酢酸エチル10dで抽出し、有機層を水洗、乾燥
(MgS 04) した後、溶媒を留去して、粗生成物
として油状物の連記化合物(39)を得た。氷晶は精製
せず実施例8の原料として用いた。
ぜた。酢酸エチル10dで抽出し、有機層を水洗、乾燥
(MgS 04) した後、溶媒を留去して、粗生成物
として油状物の連記化合物(39)を得た。氷晶は精製
せず実施例8の原料として用いた。
参考例40
(3S、4 R)−3−[(l R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−1リチルチオ
ー2−アゼデジノン[化合物(40)]の製造:(3S
、4 R)−3−[(I R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]−4−フェニルスルホニ
ル−2−アゼチジノン1.02gをメタノール17M1
に溶かし、水冷下これにトリチルメルカプタン0.91
5gをメタノール25滅とテトラヒドロフラン8蔵の混
合物に溶かした溶液を加えた。室温で35分間かき混ぜ
たのち、溶媒を減圧下留去した。残留物に酢酸エチルを
加えて溶かし、これを水洗、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラム
に通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:6)で溶出後、目
的物を含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物(4o
)を粉末として1.27g得た。
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−1リチルチオ
ー2−アゼデジノン[化合物(40)]の製造:(3S
、4 R)−3−[(I R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]−4−フェニルスルホニ
ル−2−アゼチジノン1.02gをメタノール17M1
に溶かし、水冷下これにトリチルメルカプタン0.91
5gをメタノール25滅とテトラヒドロフラン8蔵の混
合物に溶かした溶液を加えた。室温で35分間かき混ぜ
たのち、溶媒を減圧下留去した。残留物に酢酸エチルを
加えて溶かし、これを水洗、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラム
に通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:6)で溶出後、目
的物を含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物(4o
)を粉末として1.27g得た。
I RvKB’ cm−’: 3400.1765a+
aX N M R(90MHz、 CDCl5)δ: 0,0
7(6H,s)、0.82(9H,s)。
aX N M R(90MHz、 CDCl5)δ: 0,0
7(6H,s)、0.82(9H,s)。
1.33(3H,d、J=6.3Hz)、 3.19(
IH,t、J=2.711z)。
IH,t、J=2.711z)。
4.31(LH,dQ、J=2.7Hz、6.3Hz)
、 4.51(IH,br、s)。
、 4.51(IH,br、s)。
4.63(1fLdJ=3Hz)、 6.9−8.0(
151,m)参考例41 (3S、4 R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−[(l R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]−4−トリチルチオー2−アゼチジノ
ン[化合物(4I)コの製造: 参考例40で得た化合物(40)4.55gをジクロル
メタン20蔵に溶かし、水冷下これにトリエ。
151,m)参考例41 (3S、4 R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−[(l R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]−4−トリチルチオー2−アゼチジノ
ン[化合物(4I)コの製造: 参考例40で得た化合物(40)4.55gをジクロル
メタン20蔵に溶かし、水冷下これにトリエ。
チルアミン1.47一ついでt−ブチルジメチルシリル
トリフレート2.22mffを窒素気流下加えた。水
冷下20分間かき混ぜたのち、反応液を水氷tooyに
注ぎジクロルメタン1207uで抽出した。有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液及び水で洗浄し、乾燥(M
gSO,)した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサ
ン(1:I o)で溶出後、目的物を含む分画を集め減
圧濃縮して、連記化合物(41)を油状物として5.1
1滅得た。
トリフレート2.22mffを窒素気流下加えた。水
冷下20分間かき混ぜたのち、反応液を水氷tooyに
注ぎジクロルメタン1207uで抽出した。有機層を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液及び水で洗浄し、乾燥(M
gSO,)した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサ
ン(1:I o)で溶出後、目的物を含む分画を集め減
圧濃縮して、連記化合物(41)を油状物として5.1
1滅得た。
I Rシn0atcm−’: 1755.1465.1
290.1250aX 参考例42 (3S 、4 R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
)−3−[(l R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル]−4−メルカプトー2−アゼチジノ
ン[化合物(42)]の製造: 参考例41で得た化合物(41)4.55gをメタノー
ル130−に溶かし、−60℃に冷却しかき混ぜる。こ
れに酢酸第二水銀3.05gをメタノール85dに溶か
した溶液を滴下した。40分後さらに酢酸第二水銀46
9mgをメタノール5滅に溶かした溶液を加え、さらに
30分間かき混ぜた。
290.1250aX 参考例42 (3S 、4 R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
)−3−[(l R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル]−4−メルカプトー2−アゼチジノ
ン[化合物(42)]の製造: 参考例41で得た化合物(41)4.55gをメタノー
ル130−に溶かし、−60℃に冷却しかき混ぜる。こ
れに酢酸第二水銀3.05gをメタノール85dに溶か
した溶液を滴下した。40分後さらに酢酸第二水銀46
9mgをメタノール5滅に溶かした溶液を加え、さらに
30分間かき混ぜた。
反応液を一78℃に冷却し、これに硫化水素ガスを5分
間通じ、ついで室温で窒素ガスを45分間通じた後、溶
媒を減圧下留去した。残留物にジクロルメタンを加え不
溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残留物をシリカ
ゲルのカラムに通じ、酢酸エチル−ヘキサン(1:2
o)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮し、連
記化合物(42)を粉末として2.04g得た。
間通じ、ついで室温で窒素ガスを45分間通じた後、溶
媒を減圧下留去した。残留物にジクロルメタンを加え不
溶物をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残留物をシリカ
ゲルのカラムに通じ、酢酸エチル−ヘキサン(1:2
o)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮し、連
記化合物(42)を粉末として2.04g得た。
I RI7KBrcm−’: 2500.1730.1
470.1250−ax N M R(90MH2,CDC13) δ二 0.0
〜0.1(3Hx3. 3s)。
470.1250−ax N M R(90MH2,CDC13) δ二 0.0
〜0.1(3Hx3. 3s)。
0.89(9H,s)、 1.00(91,s)、 1
.22(3H,d、J= 6.3Hz)。
.22(3H,d、J= 6.3Hz)。
2.11(IH,d、J=8.7Hz)、 3.07(
ill、dd、J=311z、3Hz)、 4.2(1
■、m)、 4.83(lil、dd、J=8.711
z、3.0Hz)参考例43 3−((3S、4R)−3−[(IR)−1−ヒドロキ
シコニチル−2−アゼチジノン−4−イル)チオ−2−
オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ)ベンジルエステ
ル[化合物(43)]の製造:参参考42で得た化合物
(42)1.78gをアセトン25t12に溶解し、こ
れにピリジン1.80g。
ill、dd、J=311z、3Hz)、 4.2(1
■、m)、 4.83(lil、dd、J=8.711
z、3.0Hz)参考例43 3−((3S、4R)−3−[(IR)−1−ヒドロキ
シコニチル−2−アゼチジノン−4−イル)チオ−2−
オキソグルタル酸 1−(4−ニトロ)ベンジルエステ
ル[化合物(43)]の製造:参参考42で得た化合物
(42)1.78gをアセトン25t12に溶解し、こ
れにピリジン1.80g。
ヘキサメチルホスホルアミド50d、ついで参考例18
で得た化合物(18)2.39gをアセトン25M1に
溶かした溶液を加え室温で4時間かき混ぜた。反応液に
水冷下2規定塩酸50滅を加えてかき混ぜた。1時間後
さらに2規定塩酸40藏を加え、3時間かき混ぜた。反
応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を、水洗
、乾燥(MgSQ、)L、たのち、溶媒を減圧下留去し
、連記化合物(43)の粗生成物として5.04gの粉
末を得た。
で得た化合物(18)2.39gをアセトン25M1に
溶かした溶液を加え室温で4時間かき混ぜた。反応液に
水冷下2規定塩酸50滅を加えてかき混ぜた。1時間後
さらに2規定塩酸40藏を加え、3時間かき混ぜた。反
応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を、水洗
、乾燥(MgSQ、)L、たのち、溶媒を減圧下留去し
、連記化合物(43)の粗生成物として5.04gの粉
末を得た。
ρ
参考例44
3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 !−(4−ブロモ
)ベンジルエステル[化合物(44)]の製造: 参考例3の製造例に準じて合成した2−オキソグルタル
酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル3.0gを乾
燥クロロホルム25藏に溶かし、50〜60℃で加熱攪
拌下ブルム0 、54 nlの乾燥クロロホルム溶液1
0滅を徐々に6時間かけて滴下した。反応液を室温まで
冷却し、これにジクロルメタン100滅を加え、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧
下留去して連記化合物(44)を淡黄色油状物として3
.8615g得た。
)ベンジルエステル[化合物(44)]の製造: 参考例3の製造例に準じて合成した2−オキソグルタル
酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル3.0gを乾
燥クロロホルム25藏に溶かし、50〜60℃で加熱攪
拌下ブルム0 、54 nlの乾燥クロロホルム溶液1
0滅を徐々に6時間かけて滴下した。反応液を室温まで
冷却し、これにジクロルメタン100滅を加え、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧
下留去して連記化合物(44)を淡黄色油状物として3
.8615g得た。
I Rv noatcm−’: 3360.3000.
1800.1740゜ax 1595、1490.1405.12g0.1210.
1070.101ON M R(90MHz、CDCl
5)δ: 2.88−3.50(2H,+n)、 5.
19−5.41(3H,m)、 7.26 and 7
.51(4H,2d、J=911z)。
1800.1740゜ax 1595、1490.1405.12g0.1210.
1070.101ON M R(90MHz、CDCl
5)δ: 2.88−3.50(2H,+n)、 5.
19−5.41(3H,m)、 7.26 and 7
.51(4H,2d、J=911z)。
9.43(ill、br)
参考例45
2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェノキシア
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル[化合物(
45)コの製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェノキシアセ
トアミド−2−アゼチジノン252mgと参考例44で
得た化合物(44)430mgをアセトン5dに懸濁さ
せた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホスホ
ルアミド5藏を加えて1時間10分攪拌した。反応液に
水10雁を加え、酢酸エチル15trdlで抽出した。
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル[化合物(
45)コの製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェノキシアセ
トアミド−2−アゼチジノン252mgと参考例44で
得た化合物(44)430mgをアセトン5dに懸濁さ
せた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホスホ
ルアミド5藏を加えて1時間10分攪拌した。反応液に
水10雁を加え、酢酸エチル15trdlで抽出した。
有機層を水洗、乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧
下留去して連記化合物(45)の粗生成物を粉末として
764 mg得た。
下留去して連記化合物(45)の粗生成物を粉末として
764 mg得た。
参考例46
2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェニルアセ
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル[化合物(4
6)コの製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン709mgと参考例44で得
た化合物(44)1.247gをアセトン7−に懸濁さ
せた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホスホ
ルアミド7滅を加えて1時間半攪拌した。反応液に水を
加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧下留去して連記化合物(4
6)の粗生成物を淡黄色粉末として1.571g得た。
トアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル
酸 1−(4−ブロモ)ベンジルエステル[化合物(4
6)コの製造: (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン709mgと参考例44で得
た化合物(44)1.247gをアセトン7−に懸濁さ
せた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホスホ
ルアミド7滅を加えて1時間半攪拌した。反応液に水を
加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧下留去して連記化合物(4
6)の粗生成物を淡黄色粉末として1.571g得た。
参考例47
3−ブロモ−2−オキソグルタル酸 l−ジフェニルメ
チルエステル[化合物(47)]の]製造:バイオケミ
ストリーBiochemistry)、 20 。
チルエステル[化合物(47)]の]製造:バイオケミ
ストリーBiochemistry)、 20 。
894(198+、)に記載の方法により得た粗生成物
の3−ブロモ−2−オキソグルタル酸5.082gをジ
クロルメタン50dに溶かし、水冷攪拌下ジフェニルジ
アゾメタン3.989gのジクロルメタン溶液25滅を
45分間かけて徐々に滴下した。同温で15分間攪拌後
、反応液を減圧上濃縮した。残留物をシリカゲルのカラ
ムに通し、酢酸エチル−ヘキサン−酢酸(30ニア0:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮した
。得られた淡黄色油状物をジクロルメタン200−に溶
かし、食塩水で洗浄し、乾燥(MgSO,)した後、溶
媒を減圧下留去して連記化合物(47)を淡黄色油状物
として4.863g得た。
の3−ブロモ−2−オキソグルタル酸5.082gをジ
クロルメタン50dに溶かし、水冷攪拌下ジフェニルジ
アゾメタン3.989gのジクロルメタン溶液25滅を
45分間かけて徐々に滴下した。同温で15分間攪拌後
、反応液を減圧上濃縮した。残留物をシリカゲルのカラ
ムに通し、酢酸エチル−ヘキサン−酢酸(30ニア0:
1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮した
。得られた淡黄色油状物をジクロルメタン200−に溶
かし、食塩水で洗浄し、乾燥(MgSO,)した後、溶
媒を減圧下留去して連記化合物(47)を淡黄色油状物
として4.863g得た。
rRvnoatcm−’:3025,1800,173
0,1495,1450゜aX 1405.1270.1095,1025,940,7
60,745,695N M R(90M Hz、 C
D CIs)δ: 2.91−3.45(2H,n+)
。
0,1495,1450゜aX 1405.1270.1095,1025,940,7
60,745,695N M R(90M Hz、 C
D CIs)δ: 2.91−3.45(2H,n+)
。
4.90−5.40(IH,br)、5.90−6.5
0(IH,br)、6.97(IH。
0(IH,br)、6.97(IH。
s)、7.33(IOH,s)
参考例48
2−オキソ−3−[3R,4R)−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル酸
I−ジフェニルメチルエステル[化合物(48)コの
製造・ (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン1.182gと参考例47で
得た化合物(47)2.159gをアセトン20滅に懸
濁させた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド20dを加えて1時間25分間攪拌した。
アミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタル酸
I−ジフェニルメチルエステル[化合物(48)コの
製造・ (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェニルアセト
アミド−2−アゼチジノン1.182gと参考例47で
得た化合物(47)2.159gをアセトン20滅に懸
濁させた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチルホ
スホルアミド20dを加えて1時間25分間攪拌した。
反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗
し、乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧下留去して
、連記化合物(48)の粗生成物を淡黄色粉末として2
.8385g得た。
し、乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧下留去して
、連記化合物(48)の粗生成物を淡黄色粉末として2
.8385g得た。
参考例49
2−オキソ−3−[(3R,4R)−3−フェノキシア
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−ジフェニルメチルエステル[化合物(49)
]の製造; (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェノキシアセ
トアミド−2−アゼチジノン1.262gと参考例47
で得た化合物(47)2.135gをアセトン20蔵に
懸濁させた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチル
ホスホルアミド20戒を加えて1時間半攪拌した。反応
液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し
、乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧下留去して、
連記化合物(49)の粗生成物を淡黄色粉末として2.
81113g得た。
セトアミド−2−アゼチジノン−4−イルコチオグルタ
ル酸 1−ジフェニルメチルエステル[化合物(49)
]の製造; (3R,4R)−4−メルカプト−3−フェノキシアセ
トアミド−2−アゼチジノン1.262gと参考例47
で得た化合物(47)2.135gをアセトン20蔵に
懸濁させた。室温で10分間攪拌した後、ヘキサメチル
ホスホルアミド20戒を加えて1時間半攪拌した。反応
液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し
、乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧下留去して、
連記化合物(49)の粗生成物を淡黄色粉末として2.
81113g得た。
実施例1
(2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0” ”コブカン−2
−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステルの製造: 参考例23で得た粗生成物の化合物(23)3.603
gをジクロルメタン40滅に溶かし、窒素気流下これに
ジシクロへキシルカルボジイミド1.760gを加えて
室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル50M1を
加え析出しているジシクロへキシルウレアをろ去し、得
られたろ液を減圧上濃縮した。残留物をシリカゲルのカ
ラムに通し、n−ヘキサン−酢酸エチル(1:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化
合物を淡茶色粉末として308mg得た。
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0” ”コブカン−2
−カルボン酸 4−ニトロベンジルエステルの製造: 参考例23で得た粗生成物の化合物(23)3.603
gをジクロルメタン40滅に溶かし、窒素気流下これに
ジシクロへキシルカルボジイミド1.760gを加えて
室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル50M1を
加え析出しているジシクロへキシルウレアをろ去し、得
られたろ液を減圧上濃縮した。残留物をシリカゲルのカ
ラムに通し、n−ヘキサン−酢酸エチル(1:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化
合物を淡茶色粉末として308mg得た。
[α]22+157.6°(c=0.425. CIC
13)FDMS IIIHz: 497(M” )T
RvKBrcm−’: 33g0.3025.179
0.1755゜18X 1875、1515.1350 。
13)FDMS IIIHz: 497(M” )T
RvKBrcm−’: 33g0.3025.179
0.1755゜18X 1875、1515.1350 。
N M R(400MHz、CDCl5)δ:2.93
(1B、dd、J−2,69Hz。
(1B、dd、J−2,69Hz。
IL811z)、 3.18(IH,dd、J=8.5
4Hz、18.8Hz)、3.64(2H,ABqj=
16.1Hz)、 4.94(IH,dd、J−2,6
9Hz。
4Hz、18.8Hz)、3.64(2H,ABqj=
16.1Hz)、 4.94(IH,dd、J−2,6
9Hz。
8.5411z)、 5.39(2H,ABqJ=12
.9Hz)、 5.53(IH,d。
.9Hz)、 5.53(IH,d。
J=4.39Hz)、 5.66(IH,dd、J=4
J9Hz、8.79Hz)。
J9Hz、8.79Hz)。
6.09(IH,dj=8.79H2)、 7.22−
7.29,7.30−7.41(5■、m)、?、56
,8.24(4H,2d、J=8.79Hz)実施例2 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0”・l′]デカン−
2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:参考例1で得た
化合物187mgを酢酸エチル6.5蔵とpH7,0の
0.1モルのリン酸緩衝液8雁の混合溶媒に溶かし、こ
れに水冷下10%(W/W)パラジウム−炭素149m
gを加え、攪拌上水素ガスを通じた。反応開始後、45
分、1時間39分。
7.29,7.30−7.41(5■、m)、?、56
,8.24(4H,2d、J=8.79Hz)実施例2 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0”・l′]デカン−
2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:参考例1で得た
化合物187mgを酢酸エチル6.5蔵とpH7,0の
0.1モルのリン酸緩衝液8雁の混合溶媒に溶かし、こ
れに水冷下10%(W/W)パラジウム−炭素149m
gを加え、攪拌上水素ガスを通じた。反応開始後、45
分、1時間39分。
2時間15分経過した時点で、それぞれ10%(W/W
)パラジウム−炭素74mgを加え、水冷攪拌下水素ガ
スを合計3時間通じた。反応液をろ過し、得られたろ液
に酢酸エチル10−を加えて抽出した。水層をとり、減
圧下これに混入している酢酸エチルを留去した後、これ
をアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水−エ
タノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて、減
圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合物
を″微黄色粉末として88B得た。
)パラジウム−炭素74mgを加え、水冷攪拌下水素ガ
スを合計3時間通じた。反応液をろ過し、得られたろ液
に酢酸エチル10−を加えて抽出した。水層をとり、減
圧下これに混入している酢酸エチルを留去した後、これ
をアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水−エ
タノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて、減
圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合物
を″微黄色粉末として88B得た。
融点 150−154°C(分解)
S I MS m/z: 385(MH”)I Rv
KBrcm−1: 3400.1780.1655.1
540゜ax 1390.120O N M R(270MHz、DtO)δ:3.03(L
H,dd、J=4.8Hz。
KBrcm−1: 3400.1780.1655.1
540゜ax 1390.120O N M R(270MHz、DtO)δ:3.03(L
H,dd、J=4.8Hz。
19.511z)、 3.34(IH,dd、J=9J
tlz、19.5Hz)、 3.70(2tl、s)、
4.92(ill、dd、J=4.8Hz、9.3H
z)、 5.48(111、d、J=4.2Hz)、5
.67(IH,d、J=4.2Hz)、7.34−7.
45(5H,m) 実施例3 (2S、6 R,8R,9r()−4、I O−ジオキ
ソ−9−フェノキシアセトアミド−3−才キサーフ−チ
ア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0″・6〕デ
カン−2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステ
ルの製造: a)参考例24で得た粗生成物の化合物(24)9.8
0gをジクロルメタン1501n1に溶かし、窒素気流
下これにジシクロへキシルカルボジイミド4.932g
を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル1
00蔵を加え、析出しているジシクロへキシルウレアを
ろ去し、得られたろ液を減圧上濃縮した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、n−ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮し
、白色粉末として連記化合物を519.5mg得た。
tlz、19.5Hz)、 3.70(2tl、s)、
4.92(ill、dd、J=4.8Hz、9.3H
z)、 5.48(111、d、J=4.2Hz)、5
.67(IH,d、J=4.2Hz)、7.34−7.
45(5H,m) 実施例3 (2S、6 R,8R,9r()−4、I O−ジオキ
ソ−9−フェノキシアセトアミド−3−才キサーフ−チ
ア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0″・6〕デ
カン−2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステ
ルの製造: a)参考例24で得た粗生成物の化合物(24)9.8
0gをジクロルメタン1501n1に溶かし、窒素気流
下これにジシクロへキシルカルボジイミド4.932g
を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に酢酸エチル1
00蔵を加え、析出しているジシクロへキシルウレアを
ろ去し、得られたろ液を減圧上濃縮した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、n−ヘキサン−酢酸エチル(1
:1)で溶出後、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮し
、白色粉末として連記化合物を519.5mg得た。
融点 174−177℃(分解)
[α]” +120.8°(c=Q、255. THF
)F D M S m/z: 513(M”)I R
vKBrcm−’: 3440.2960.2930.
1805゜flaX 1785、1765.1690.1520.1500.
1350.1305゜N M R(270MHz、da
DMSO) δ二 2.96(IH,dd、J=
5.0Hz、18.5Hz)、 3.30(IH,dd
、J=8.9Hz、18.5Hz)。
)F D M S m/z: 513(M”)I R
vKBrcm−’: 3440.2960.2930.
1805゜flaX 1785、1765.1690.1520.1500.
1350.1305゜N M R(270MHz、da
DMSO) δ二 2.96(IH,dd、J=
5.0Hz、18.5Hz)、 3.30(IH,dd
、J=8.9Hz、18.5Hz)。
4.63(2H,s)、 5.07(IH,dd、J=
5.0Hz、8.9Hz)。
5.0Hz、8.9Hz)。
5.41(2H,ABq、J=13.911z)、 5
.58(11,ddj=4.3Hz、7.6Hz)、
5.76(IH,d、J=4.3Hz)、 6.88−
6.98゜7.26−7.31(5f(、m)、 7.
73,8.26(4tl、2d、J=8.91fz)。
.58(11,ddj=4.3Hz、7.6Hz)、
5.76(IH,d、J=4.3Hz)、 6.88−
6.98゜7.26−7.31(5f(、m)、 7.
73,8.26(4tl、2d、J=8.91fz)。
8.89(18,d、J = 7.6Hz)b)参考例
24で得た化合物(24)の粗生成物490mgとトリ
フェニルホスフィン131mgをジクロルメタン5gに
溶かし、これに2.2′−ジピリジルジスルフィド11
0mgのジクロルメタン溶液l−を加えた後、室温で°
1時間かき混ぜた。反応液を減圧上濃縮し、得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エヂルーヘキサ
ン(9:11)で溶出した後、目的物を含む分画を集め
減圧上濃縮して連記化合物を18.5mg得、本品のN
MRスペクトルとa)で得られた化合物のNMRスペク
トルの比較同定した。
24で得た化合物(24)の粗生成物490mgとトリ
フェニルホスフィン131mgをジクロルメタン5gに
溶かし、これに2.2′−ジピリジルジスルフィド11
0mgのジクロルメタン溶液l−を加えた後、室温で°
1時間かき混ぜた。反応液を減圧上濃縮し、得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エヂルーヘキサ
ン(9:11)で溶出した後、目的物を含む分画を集め
減圧上濃縮して連記化合物を18.5mg得、本品のN
MRスペクトルとa)で得られた化合物のNMRスペク
トルの比較同定した。
C)参考例24で得た化合物(24)の粗生成物490
mgをジクロルメタン4dに溶かし、これに水冷下チオ
ニルクロリド40μQを加え、同温度で10分間かき混
ぜた。反応液をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル
−ヘキサン(1:1)で溶出した後、目的物を含む分画
を集め、減圧濃縮して連記化合物を5 、5 mg得、
本品のNMRスペクトルとa)で得られた化合物のNM
Rスペクトルと比較し同定した。
mgをジクロルメタン4dに溶かし、これに水冷下チオ
ニルクロリド40μQを加え、同温度で10分間かき混
ぜた。反応液をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル
−ヘキサン(1:1)で溶出した後、目的物を含む分画
を集め、減圧濃縮して連記化合物を5 、5 mg得、
本品のNMRスペクトルとa)で得られた化合物のNM
Rスペクトルと比較し同定した。
実施例4
(2S、6 R,8R,911)−4、10−ジオキソ
−9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア
−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカ
ン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例3で
得た化合物217mgを酢酸エチル20−と0.1Mの
pH7,0リン酸緩衝液20滅の混合溶媒に懸濁させ、
これに水冷攪拌下10%パラジウムー炭素1671gを
加えて水素ガスを通じた。反応開始後、45分、2時間
15分、3時間40分経過した時点で10%パラジウム
−炭素84mgを加えた。反応液をろ過し、ろ液の水層
を減圧上混入している酢酸エチルを除くために濃縮した
。得られた水溶液をアンバーライトXAD−2のカラム
に通し、水−エタノール(95:5)で溶出し、目的物
を含む分画を集め、エタノールを減圧下留去し、凍結乾
燥して、連記化合物を白色粉末として71mg得た。
−9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア
−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカ
ン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例3で
得た化合物217mgを酢酸エチル20−と0.1Mの
pH7,0リン酸緩衝液20滅の混合溶媒に懸濁させ、
これに水冷攪拌下10%パラジウムー炭素1671gを
加えて水素ガスを通じた。反応開始後、45分、2時間
15分、3時間40分経過した時点で10%パラジウム
−炭素84mgを加えた。反応液をろ過し、ろ液の水層
を減圧上混入している酢酸エチルを除くために濃縮した
。得られた水溶液をアンバーライトXAD−2のカラム
に通し、水−エタノール(95:5)で溶出し、目的物
を含む分画を集め、エタノールを減圧下留去し、凍結乾
燥して、連記化合物を白色粉末として71mg得た。
融点 149−152℃(分解)
S I MS m/z: 401(MH”)I Rv
KBrcm−’: 3400.1780.1660.
1800゜aw 1525、 1495. 1380. 1295. 1
22ON M R,(400MHz、DzO)δ:
3.02(IH,dd、J=4.5Hz。
KBrcm−’: 3400.1780.1660.
1800゜aw 1525、 1495. 1380. 1295. 1
22ON M R,(400MHz、DzO)δ:
3.02(IH,dd、J=4.5Hz。
19.511z)、 3.33(IH,dd、J=9
.511z、19.5Hz)、 4.74(211,
s)、 4.91(IH,dd、J=4.5Hz、9
.5Hz)、 5.59(111、d、J=4.2H
z)、 5.70(ill、d、J=4.2tlz)
、 7.00−7.12,7.36−7゜42(5H,
m)実施例5 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チアーI
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・e]デカン−
2−カルボン酸 メチルエステルの製造:実施例4で得
た化合物30mgを水3鑓に溶かし、水冷下酢酸エチル
3鑓とジアゾメタンのエーテル溶液5tn1を加えた。
.511z、19.5Hz)、 4.74(211,
s)、 4.91(IH,dd、J=4.5Hz、9
.5Hz)、 5.59(111、d、J=4.2H
z)、 5.70(ill、d、J=4.2tlz)
、 7.00−7.12,7.36−7゜42(5H,
m)実施例5 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チアーI
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・e]デカン−
2−カルボン酸 メチルエステルの製造:実施例4で得
た化合物30mgを水3鑓に溶かし、水冷下酢酸エチル
3鑓とジアゾメタンのエーテル溶液5tn1を加えた。
水冷下I規定塩酸83μgを加え30分間かき混ぜた。
30分後作アゾメタンのエーテル溶液8−を加え、水冷
下20分間かき混ぜた。反応液に水を加え酢酸エチルで
抽出した。
下20分間かき混ぜた。反応液に水を加え酢酸エチルで
抽出した。
有機層を乾燥(MgSO,)j、た後、溶媒を減圧下留
去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、n−ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1)で溶出後、目的物を含む分
画を集めて減圧濃縮して、連記化合物を白色結晶として
13.5mg得た。
去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、n−ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1)で溶出後、目的物を含む分
画を集めて減圧濃縮して、連記化合物を白色結晶として
13.5mg得た。
融点 182−184℃
FDMS m/z: 392(M”)I RvKBr
am−’: 3410.1815.1795.1755
.−ax 1700、1520.150O N M R(270MH2,do DMSO)δ:
2.99(IH,dd、J=5.311z、18.51
1z)、 3.26(LH,dd、J=9.211z、
18.5Hz)。
am−’: 3410.1815.1795.1755
.−ax 1700、1520.150O N M R(270MH2,do DMSO)δ:
2.99(IH,dd、J=5.311z、18.51
1z)、 3.26(LH,dd、J=9.211z、
18.5Hz)。
3.80(3+1.S)、 4.63C211,S)、
5.01(LH,dd、J=5’、311z、9.2
Hz)、 5.57(IH,dd、J=4J11z、7
.911z)、5.73(IH,d、に4.3Hz)、
6.89−6.99,7.26−7.32(5tl、
m)。
5.01(LH,dd、J=5’、311z、9.2
Hz)、 5.57(IH,dd、J=4J11z、7
.911z)、5.73(IH,d、に4.3Hz)、
6.89−6.99,7.26−7.32(5tl、
m)。
8.99(IH,d、J=7.9112)実施例6
(2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−[(2R)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサアミド)フェニルアセトアミ
ド]−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[
6,2,0,0’/’]デカン−2−カルボン酸 (4
−ニトロ)ベンジルエステルの製造参考例34で得た粗
生成物の化合物(34)1.4415gをジクロルメタ
ン30−に溶かし、これにジシクロへキシルカルボジイ
ミド295mgを加え、室温窒素気流下3時間攪拌した
。反応液に酢酸エチルIO戒を加え、析出したジシクロ
へキシルウレアをろ去した。得られたろ液を減圧下濃縮
し、その残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチ
ル−n−ヘキサン(8:2)で溶出後、目的物を含む分
画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物を白色粉末として
53n+g得た。
−[(2R)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサアミド)フェニルアセトアミ
ド]−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[
6,2,0,0’/’]デカン−2−カルボン酸 (4
−ニトロ)ベンジルエステルの製造参考例34で得た粗
生成物の化合物(34)1.4415gをジクロルメタ
ン30−に溶かし、これにジシクロへキシルカルボジイ
ミド295mgを加え、室温窒素気流下3時間攪拌した
。反応液に酢酸エチルIO戒を加え、析出したジシクロ
へキシルウレアをろ去した。得られたろ液を減圧下濃縮
し、その残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチ
ル−n−ヘキサン(8:2)で溶出後、目的物を含む分
画を集めて、減圧濃縮し、連記化合物を白色粉末として
53n+g得た。
F D M S m/z: 681(M”)I Rシ
KBrcm−’: 3290.2970.1790.1
755゜ax 1710、1680.1605.1520.1350.
118ON M R(270MHz、CDCl5)δ:
1.22(3H,t、J=7.3H2)。
KBrcm−’: 3290.2970.1790.1
755゜ax 1710、1680.1605.1520.1350.
118ON M R(270MHz、CDCl5)δ:
1.22(3H,t、J=7.3H2)。
2.89(IH,dd、J=3.OH2,18,8H2
)、 3.16(IH,dd、J= 8JHz、 18
.8t(z) 、 3.52−3.60(4H,m)
、4.02−4.09(2H,m)、 4.91(11
,dd、J=3.01lz、8.311z)、 5.3
9(2H,ABq、J=12.9Hz)、 5.43(
LH,d、J=6.31iz)、5.50(IH,d、
J=4.3Hz)、 5.67(ltl、dd、J=4
.3tlz、8.9Hz)、 6.54(IH,d、J
=8.911z)、 7.39(5H,s)、7.57
゜8.24(4H,2d、J=8.611z)、 9.
91(lit、d、J=6.3t(z)実施例7 (2S、6 R,8R,9R)−4、10−ジオキソ−
9−[(2r()−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサアミド)フェニルアセト
アミトコ−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイク
ロ[6,2,0,O’lIl]デカン−2−カルボン酸
ナトリウム塩の製造: 実施例6で得た化合物214.5mgを酢酸エチル8d
と0.1モルのp)(7,’0リン酸緩衝液io−の混
合溶媒に溶かし、水冷下10%パラジウム−炭素125
mgを加えた後、水素ガスを通じてかき混ぜた。反応開
始後45分、1時間30分、2時間15分にそれぞれ1
0%パラジウム−炭素を63mg加えた。合計3時間2
0分水素ガスを通じてかき混ぜた。反応液をろ過し、ろ
液を酢酸エチルで抽出した。水層を混在している酢酸エ
チルを除去するために減圧下濃縮し、得られた水溶液を
アンバーライトXAD−2のカラムに通し、水−エタノ
ール(95:5)で溶出後、目的物を含む分画を集めて
、減圧濃縮し凍結乾燥して、連記化合物を白色粉末とし
て101.5mg得た。
)、 3.16(IH,dd、J= 8JHz、 18
.8t(z) 、 3.52−3.60(4H,m)
、4.02−4.09(2H,m)、 4.91(11
,dd、J=3.01lz、8.311z)、 5.3
9(2H,ABq、J=12.9Hz)、 5.43(
LH,d、J=6.31iz)、5.50(IH,d、
J=4.3Hz)、 5.67(ltl、dd、J=4
.3tlz、8.9Hz)、 6.54(IH,d、J
=8.911z)、 7.39(5H,s)、7.57
゜8.24(4H,2d、J=8.611z)、 9.
91(lit、d、J=6.3t(z)実施例7 (2S、6 R,8R,9R)−4、10−ジオキソ−
9−[(2r()−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサアミド)フェニルアセト
アミトコ−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイク
ロ[6,2,0,O’lIl]デカン−2−カルボン酸
ナトリウム塩の製造: 実施例6で得た化合物214.5mgを酢酸エチル8d
と0.1モルのp)(7,’0リン酸緩衝液io−の混
合溶媒に溶かし、水冷下10%パラジウム−炭素125
mgを加えた後、水素ガスを通じてかき混ぜた。反応開
始後45分、1時間30分、2時間15分にそれぞれ1
0%パラジウム−炭素を63mg加えた。合計3時間2
0分水素ガスを通じてかき混ぜた。反応液をろ過し、ろ
液を酢酸エチルで抽出した。水層を混在している酢酸エ
チルを除去するために減圧下濃縮し、得られた水溶液を
アンバーライトXAD−2のカラムに通し、水−エタノ
ール(95:5)で溶出後、目的物を含む分画を集めて
、減圧濃縮し凍結乾燥して、連記化合物を白色粉末とし
て101.5mg得た。
融点 188−191’C(分解)
S IMS m/z: 568(MH”)I Rv
KBrcm−’: 3400.1’180.1715.
1675゜ax 1510、1365.119O N M R(270MHz、DtO)δ: 1.20(
3H,t、J=7.3tlz)。
KBrcm−’: 3400.1’180.1715.
1675゜ax 1510、1365.119O N M R(270MHz、DtO)δ: 1.20(
3H,t、J=7.3tlz)。
2.95(LH,dd、J=4.6tlz、19.5H
z)、 3.30(III、dd、J=9.6Hz、1
9.5Hz)、 3.52(211,qj=7.3Hz
)、 3.68−3.74,4.01−4.08(4H
,m)、 4.82(111,dd、J=4.6Hz。
z)、 3.30(III、dd、J=9.6Hz、1
9.5Hz)、 3.52(211,qj=7.3Hz
)、 3.68−3.74,4.01−4.08(4H
,m)、 4.82(111,dd、J=4.6Hz。
9.6Hz)、、5.51(ltl、s)、 5.53
(IH,d、J=4H2)、5.61(III、d、J
=4.011z)、 7.51(5H,s)実施例8 4、IO−ジオキソ−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,0す11]デカン−2−カ
ルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステルの製造: 参考例39で得た粗生成物の化合物(39)をジクロル
メタン5蔵に溶かし、これに窒素気流中ジシクロへキシ
ルカルボジイミドo、 t9igを加え、室温で1.5
時間かき混ぜた。反応液の溶媒を減圧上留去し、得られ
た残留物に酢酸エチル10dを加えた。不溶物をろ去し
て得られたろ液を減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル
のカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮して連記化合物
を粉末として0.035g得た。
(IH,d、J=4H2)、5.61(III、d、J
=4.011z)、 7.51(5H,s)実施例8 4、IO−ジオキソ−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,0す11]デカン−2−カ
ルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステルの製造: 参考例39で得た粗生成物の化合物(39)をジクロル
メタン5蔵に溶かし、これに窒素気流中ジシクロへキシ
ルカルボジイミドo、 t9igを加え、室温で1.5
時間かき混ぜた。反応液の溶媒を減圧上留去し、得られ
た残留物に酢酸エチル10dを加えた。不溶物をろ去し
て得られたろ液を減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル
のカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(1:1)で溶
出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮して連記化合物
を粉末として0.035g得た。
[RvKBrcm−’: 1788.1760.152
0. H46゜aX 1196、1171.1010 35FD m/z: 364(M”)N M R(9
0MH2,CDC13)δ: 2.87(ltl、dd
、J=411z、1811z)、 3.13(III、
dd、J=2H2,16H2)、 3.20(Ill、
dd、J−8Hz、18Hz)、 3.60(111,
dd、J=4Hz、、1611z)、5.08(ill
、dd、J=411z、8Hz)、 5J7(lILd
d、J=211z、4t(z)。
0. H46゜aX 1196、1171.1010 35FD m/z: 364(M”)N M R(9
0MH2,CDC13)δ: 2.87(ltl、dd
、J=411z、1811z)、 3.13(III、
dd、J=2H2,16H2)、 3.20(Ill、
dd、J−8Hz、18Hz)、 3.60(111,
dd、J=4Hz、、1611z)、5.08(ill
、dd、J=411z、8Hz)、 5J7(lILd
d、J=211z、4t(z)。
5.41(211,ABq、J=13Hz、17t(z
)、 7.58(2tl、d、J=9Hz)、 8.2
4(211,d、J=911z)実施例9 4,10−ジオキソ−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,O”/8]デカンー2−カ
ルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例8で得た化合物
0.15gを酢酸エチル5滅とpt−i 7.tのリ
ン酸緩衝液4−の混合物に懸濁し、水冷下これに10%
パラジウム−炭素0.15gを加え、水素気流中1.5
時間かき混ぜた。反応液に10%パラジウム−炭素0.
15gを追加し、さらに水素気流中2時間かき混ぜた。
)、 7.58(2tl、d、J=9Hz)、 8.2
4(211,d、J=911z)実施例9 4,10−ジオキソ−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,O”/8]デカンー2−カ
ルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例8で得た化合物
0.15gを酢酸エチル5滅とpt−i 7.tのリ
ン酸緩衝液4−の混合物に懸濁し、水冷下これに10%
パラジウム−炭素0.15gを加え、水素気流中1.5
時間かき混ぜた。反応液に10%パラジウム−炭素0.
15gを追加し、さらに水素気流中2時間かき混ぜた。
反応液の不溶物をろ去して得られたろ液の水層を、アン
バーライトXAD−2のカラムに通し、水で溶出後、目
的物を含む分画を集め、凍結乾燥して連記化合物を粉末
として0.069B得た。
バーライトXAD−2のカラムに通し、水で溶出後、目
的物を含む分画を集め、凍結乾燥して連記化合物を粉末
として0.069B得た。
I RvKBrcm−’+ 3450.1806.17
95.1783゜ax 1770、1625 N M R(90MHz、DtO)δ: 3.0g(
III、dd、J=6Hz、19Hz)。
95.1783゜ax 1770、1625 N M R(90MHz、DtO)δ: 3.0g(
III、dd、J=6Hz、19Hz)。
3.26(IH,ddj=211z、17Hz)、
3.42(III、dd、J=9Hz、19Hz)、
3.83(LH,dd、J=4Hz、17Hz)、
5.05(In。
3.42(III、dd、J=9Hz、19Hz)、
3.83(LH,dd、J=4Hz、17Hz)、
5.05(In。
dd、J=6!Iz、9+1z)、 5.54(111
,dd、J=211z、411z)実施例10 (8R,9S)−4,10−ジオキソ−9−[(IR)
=1−ヒドロキシコニチル−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”/’]デカンー
2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステルの製
造: 参考例43で得た化合物(43)5.04gをジクロル
メタン150dに溶かし、これに窒素気流中0℃で1−
エチル−3−[3−(ジメチルアミノ)プロビルコカル
ボジイミド塩酸塩(以下WSCと略記することがある。
,dd、J=211z、411z)実施例10 (8R,9S)−4,10−ジオキソ−9−[(IR)
=1−ヒドロキシコニチル−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”/’]デカンー
2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステルの製
造: 参考例43で得た化合物(43)5.04gをジクロル
メタン150dに溶かし、これに窒素気流中0℃で1−
エチル−3−[3−(ジメチルアミノ)プロビルコカル
ボジイミド塩酸塩(以下WSCと略記することがある。
)1.53gを加えた後、室温で1時間かき混ぜた。減
圧上溶媒を留去して得た残留物に酢酸エチル201ni
を加え、水洗、乾燥(MgS O、) した後、溶媒を
留去した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し
、酢酸エチル−ヘキサン(2:3)で溶出後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物の結晶を27
2B得た。
圧上溶媒を留去して得た残留物に酢酸エチル201ni
を加え、水洗、乾燥(MgS O、) した後、溶媒を
留去した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し
、酢酸エチル−ヘキサン(2:3)で溶出後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物の結晶を27
2B得た。
融点 170.5−172.0℃(分解)元素分析値:
C+d(+eNtOsS 計算値 C,50,00,H,3,95,N、6.86
実測値 C,50,12,H,4,03,N、6.76
I n v KBr cm−’ 二 3480.
1805. 1770. 1520゜aX 1345、105O NMR(40105ON、cL DMSO)δ: 1
.126(311,d、J−6,3511z)、 3.
335(IH,dd、J=7.33)1z、18.56
11z)。
C+d(+eNtOsS 計算値 C,50,00,H,3,95,N、6.86
実測値 C,50,12,H,4,03,N、6.76
I n v KBr cm−’ 二 3480.
1805. 1770. 1520゜aX 1345、105O NMR(40105ON、cL DMSO)δ: 1
.126(311,d、J−6,3511z)、 3.
335(IH,dd、J=7.33)1z、18.56
11z)。
3.216(18,dd、J=10,0IHz、18.
55tlz)、 3.421(LH。
55tlz)、 3.421(LH。
dd、J=1.71Hz、5.49Hz)、 3.99
8(II(、m)、 5.140(IH,dd、J=7
.33Hz、10.0111z)、 5.227(1)
1.d、J=4.89+1z)、5.376(2H,d
d、J= 13.67+1z、57.3711z)。
8(II(、m)、 5.140(IH,dd、J=7
.33Hz、10.0111z)、 5.227(1)
1.d、J=4.89+1z)、5.376(2H,d
d、J= 13.67+1z、57.3711z)。
5.554(LH,d、J= 1.71tlz)、 7
.989(4H,ABq、J=8.7911z) 実施例!1 (8R,9S)−4,10−ジオキソ−9−[(IR)
−1−ヒドロキシコニチル−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,O’l’コデカンー
2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例IOで得
た化合物192.7mgを酢酸エチル71n1とI)H
’ 7.0リン酸緩衝液(0,1モル濃度)8滅の混合
物に溶かし、10%パラジウム−炭素187mgの存在
下水素ガスを通じかき混ぜた。反応開始後55分後およ
び1時間45分後に10%パラジウム−炭素を94mg
ずつ追加した。合計2.5時間反応させた後、不溶物を
ろ去して得たる液の水層をアンバーライトXAD−2の
カラムに通し、水で溶出後、目的物を含む分画を集めて
凍結乾燥して連記化合物の粉末を73mgflた。
.989(4H,ABq、J=8.7911z) 実施例!1 (8R,9S)−4,10−ジオキソ−9−[(IR)
−1−ヒドロキシコニチル−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,O’l’コデカンー
2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例IOで得
た化合物192.7mgを酢酸エチル71n1とI)H
’ 7.0リン酸緩衝液(0,1モル濃度)8滅の混合
物に溶かし、10%パラジウム−炭素187mgの存在
下水素ガスを通じかき混ぜた。反応開始後55分後およ
び1時間45分後に10%パラジウム−炭素を94mg
ずつ追加した。合計2.5時間反応させた後、不溶物を
ろ去して得たる液の水層をアンバーライトXAD−2の
カラムに通し、水で溶出後、目的物を含む分画を集めて
凍結乾燥して連記化合物の粉末を73mgflた。
元素分析値:C+oH+oN Oas N a計算値
C,50,00; I−1,3,95,N、6.86
実測値 C,50,12,I−1,4,13; N、
6.7eI RvKBrcm−’: 3400.177
0.16501iaX N M R(90Mt(z、DtO)δ: 1.4(3
+1.d、J=6.3112)、3.10(IH,dd
、J=6.0flz、19.5Hz)、 3.47(I
H,dd、J=9Hz、19.511z)、 3.66
(111,dd、J=1,8IIz、5.711z)。
C,50,00; I−1,3,95,N、6.86
実測値 C,50,12,I−1,4,13; N、
6.7eI RvKBrcm−’: 3400.177
0.16501iaX N M R(90Mt(z、DtO)δ: 1.4(3
+1.d、J=6.3112)、3.10(IH,dd
、J=6.0flz、19.5Hz)、 3.47(I
H,dd、J=9Hz、19.511z)、 3.66
(111,dd、J=1,8IIz、5.711z)。
4.36(IH,m)、 5.07(1!I、dd、J
=8.0Hz、9.0Hz)。
=8.0Hz、9.0Hz)。
5.53(IH,d、J= 1.811z)実施例!2
(2S、6R,SR,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0″、e]デカン−
2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエステル(異
性体A)及び(2R,6S、8 R,9R)−4,10
−ジオキソ−9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ
−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”
・8]デカン−2−カルボン酸(4−ブロモ)ベンジル
エステル(異性体B)の製造:a)参考例45で得た化
合物(45)の粗生成物764 n+gをジクロルメタ
ン10dに溶かし、これに窒素気流下WS0 230D
を加えた後、室温で2.5時間かき混ぜた。反応液にジ
クロルメタン50蔵を加え水洗し、有機層を乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(9:1
1)で溶出し、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮し連
記化合物の異性体A(白色粉末、72.5mg)と異性
体B(油状物、50.5mg)をそれぞれ得た。
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0″、e]デカン−
2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエステル(異
性体A)及び(2R,6S、8 R,9R)−4,10
−ジオキソ−9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ
−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”
・8]デカン−2−カルボン酸(4−ブロモ)ベンジル
エステル(異性体B)の製造:a)参考例45で得た化
合物(45)の粗生成物764 n+gをジクロルメタ
ン10dに溶かし、これに窒素気流下WS0 230D
を加えた後、室温で2.5時間かき混ぜた。反応液にジ
クロルメタン50蔵を加え水洗し、有機層を乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧上留去した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(9:1
1)で溶出し、目的物を含む分画を集めて減圧濃縮し連
記化合物の異性体A(白色粉末、72.5mg)と異性
体B(油状物、50.5mg)をそれぞれ得た。
異性体A
融点 175−178℃(分解)
I RvKBrcm−’: 3430.1810.17
90.1760゜ax 1690、1595.1520.1495.1435.
1300.1230゜05O N M RC27C27O,de −DMSO)δ:
3.00(IH,dd、J=4.6Hz、18.5H
z)、 3.26(IH,dd、J=8.9Hz、18
.5tlz)。
90.1760゜ax 1690、1595.1520.1495.1435.
1300.1230゜05O N M RC27C27O,de −DMSO)δ:
3.00(IH,dd、J=4.6Hz、18.5H
z)、 3.26(IH,dd、J=8.9Hz、18
.5tlz)。
4.63(2H,s)、 5.03(LH,dd、J=
4.6Hz、8.9Hz)。
4.6Hz、8.9Hz)。
5.24(211,ABQj=12.5H2)、 5.
58(il+、ddj=44Hz)、5.74(IH,
d、J= 4JHz)、6.89−6.99,7.26
−7、32(511,m)、 7.41,7.60(4
11,2d、 J = 8.3+1z)、8.88(L
H,d、J= 7.9Hz) 異性体B I Rv ””13am−I: 3430.1820.
1770.1700゜ax 1600、1515.1495.1275.1075N
M R(270MHz、de DMSO)δ:
3.04(III、dd、J=44Hz、19.1Hz
)、 3.26(lH,dd、J=8.6Hz、19
.1Hz)。
58(il+、ddj=44Hz)、5.74(IH,
d、J= 4JHz)、6.89−6.99,7.26
−7、32(511,m)、 7.41,7.60(4
11,2d、 J = 8.3+1z)、8.88(L
H,d、J= 7.9Hz) 異性体B I Rv ””13am−I: 3430.1820.
1770.1700゜ax 1600、1515.1495.1275.1075N
M R(270MHz、de DMSO)δ:
3.04(III、dd、J=44Hz、19.1Hz
)、 3.26(lH,dd、J=8.6Hz、19
.1Hz)。
4、61 (211,s) 、 4.91(IH,dd
、 J = 4.311z、8.6Hz) 、 5.2
6(2H,s)、 5.38(18,d、J=4.0
Hz)、 5.53(IH,dd。
、 J = 4.311z、8.6Hz) 、 5.2
6(2H,s)、 5.38(18,d、J=4.0
Hz)、 5.53(IH,dd。
J=4.0Hz、7.9Hz)、 6.91−6.9
8,7.26−7.32(5H,m)。
8,7.26−7.32(5H,m)。
7.39−7.61(4H,2d、J=8.6112)
、 9.20(IH,d、J=7.911z) b)参考例45で得た化合物(45)の粗生成物382
mgとトリフェニルホスフィン131mgをジクロルメ
タン5滅に溶かし、これに2.2′−ジピリジルジスル
フィド131mgのジクロルメタン溶液IM/、を加え
た後、室温で2時間かき混ぜた。反応液を減圧上濃縮し
、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エ
チル−ヘキサン(2:3)モ溶出した後、目的物を含む
分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物の異性体Aおよ
び異性体Bをそれぞれ20o+gと7mgずつ得、a)
で得た異性体Aおよび異性体BのN M Rスペクトル
と比較し同定した。
、 9.20(IH,d、J=7.911z) b)参考例45で得た化合物(45)の粗生成物382
mgとトリフェニルホスフィン131mgをジクロルメ
タン5滅に溶かし、これに2.2′−ジピリジルジスル
フィド131mgのジクロルメタン溶液IM/、を加え
た後、室温で2時間かき混ぜた。反応液を減圧上濃縮し
、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エ
チル−ヘキサン(2:3)モ溶出した後、目的物を含む
分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物の異性体Aおよ
び異性体Bをそれぞれ20o+gと7mgずつ得、a)
で得た異性体Aおよび異性体BのN M Rスペクトル
と比較し同定した。
C)参考例45で得た化合物(45)の粗生成物382
mgをジクロルメタン4滅に溶かし、これに氷冷下チオ
ニルクロリド40μaを加え、同温度で20分間かき混
ぜた。反応液をそのままシリカゲルのカラムに通し、酢
酸エチル−ヘキサン(2:3)で溶出した後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物の異性体Aを
13mg得、a)で得た異性体AのNMRスペクトルと
比較し同定した。
mgをジクロルメタン4滅に溶かし、これに氷冷下チオ
ニルクロリド40μaを加え、同温度で20分間かき混
ぜた。反応液をそのままシリカゲルのカラムに通し、酢
酸エチル−ヘキサン(2:3)で溶出した後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して連記化合物の異性体Aを
13mg得、a)で得た異性体AのNMRスペクトルと
比較し同定した。
実施例13
(2S、6 R,8R,9R)−4、10−ジオキソ−
9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”)8]デカン−
2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエステル(異
性体A)及び(2R,6S、8R,9R)−4゜IO−
ジオキソ−9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7
−チア−1−アザトリサイクロ[6゜2.0.O’/@
]デカン−2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエ
ステル(異性体B)の製造:参考例46で得た化合物(
46)の粗生成物1.571gを乾燥ジクロルメタン2
0艷に溶かし、これに窒素気流下WSC730mgを加
えて室、益で2時間攪拌した。反応液にジクロルメタン
150M1を加え食塩水で洗浄した。有機層を乾燥(M
gSO,)した後、溶媒を減圧下留去した。
9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”)8]デカン−
2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエステル(異
性体A)及び(2R,6S、8R,9R)−4゜IO−
ジオキソ−9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7
−チア−1−アザトリサイクロ[6゜2.0.O’/@
]デカン−2−カルボン酸 (4−ブロモ)ベンジルエ
ステル(異性体B)の製造:参考例46で得た化合物(
46)の粗生成物1.571gを乾燥ジクロルメタン2
0艷に溶かし、これに窒素気流下WSC730mgを加
えて室、益で2時間攪拌した。反応液にジクロルメタン
150M1を加え食塩水で洗浄した。有機層を乾燥(M
gSO,)した後、溶媒を減圧下留去した。
残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキ
サン(1:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧
濃縮して、連記化合物の異性体A(白色粉末、250m
g)と異性体B(白色粉末、215mg)とA、Bの混
合物(油状物、 73 mg)をそれぞれ得た。
サン(1:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧
濃縮して、連記化合物の異性体A(白色粉末、250m
g)と異性体B(白色粉末、215mg)とA、Bの混
合物(油状物、 73 mg)をそれぞれ得た。
異性体A
FDMS m/z:530(M”、79Br)、53
2(M”、”Br)I RJ/KBrc111−’:3
300,3030,1790,1755,1675゜a
x 1510.1495,1275,1215,1185,
1160.105ONMR(4105ON、CDC1,
)δ: 2.90(Ill、dd、J=2、69Hz、
18.811z) 、 3.16(III、dd、
J = 8.30Hz、 18.8Hz) 、 3.6
3(211,ABq、 J = IS、 IHz) 、
4 、’90(IH,dd、 J =2.69Hz、
8.3(Iz)、5.24(2H,ABq、J= 12
.0Hz)、5.51(IH,d、J= 4.40Hz
)、5.65(III、dd、J= 4.40i1z、
9.04H2)、6.09(IH,dj=9.04H2
)、7.21−7.29.7.30−7.40(5tl
、m)、7.28,7.50(4H,2d、J= 8.
54Hz)異性体B FDMS m/z: 530(M”、”Br)、53
2Q!”、”Br)I RvKB’ cm−’:330
0,3025.18L0,1’150.1670゜ax 1530.1490,1270,1210,1180,
1115,1070.101ON M R(400M
Hz、 CD CI3)δ: 2,5g(III、dd
、J=2.931(2,IL611z) 、3.05(
1)1.dd、 J = 1!、3011z、 18.
6Hz)、3.62(2H,ABq、J= 15.91
1z)、4.52(III、dd、J=2.93Hz、
8.3011z)、5.21(2H,s)、5.34(
III、d、丁=4.15Hz)、5.55(IH,d
d、J= 4.15Hz、8.30Hz)、6.21(
IH,d、 J= L3011z) 、 7.18−7
.27 、7.29−7.39(58,m)。
2(M”、”Br)I RJ/KBrc111−’:3
300,3030,1790,1755,1675゜a
x 1510.1495,1275,1215,1185,
1160.105ONMR(4105ON、CDC1,
)δ: 2.90(Ill、dd、J=2、69Hz、
18.811z) 、 3.16(III、dd、
J = 8.30Hz、 18.8Hz) 、 3.6
3(211,ABq、 J = IS、 IHz) 、
4 、’90(IH,dd、 J =2.69Hz、
8.3(Iz)、5.24(2H,ABq、J= 12
.0Hz)、5.51(IH,d、J= 4.40Hz
)、5.65(III、dd、J= 4.40i1z、
9.04H2)、6.09(IH,dj=9.04H2
)、7.21−7.29.7.30−7.40(5tl
、m)、7.28,7.50(4H,2d、J= 8.
54Hz)異性体B FDMS m/z: 530(M”、”Br)、53
2Q!”、”Br)I RvKB’ cm−’:330
0,3025.18L0,1’150.1670゜ax 1530.1490,1270,1210,1180,
1115,1070.101ON M R(400M
Hz、 CD CI3)δ: 2,5g(III、dd
、J=2.931(2,IL611z) 、3.05(
1)1.dd、 J = 1!、3011z、 18.
6Hz)、3.62(2H,ABq、J= 15.91
1z)、4.52(III、dd、J=2.93Hz、
8.3011z)、5.21(2H,s)、5.34(
III、d、丁=4.15Hz)、5.55(IH,d
d、J= 4.15Hz、8.30Hz)、6.21(
IH,d、 J= L3011z) 、 7.18−7
.27 、7.29−7.39(58,m)。
7.22,7.52(4H,2d、J=8.55Hz)
実施例14 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,O”/’コデカンー2
−カルボン酸 ジフェニルメチルエステルと(2R,6
S、8 R,9R)−4、10−ジオキソ−9−フェニ
ルアセトアミド−3−才キサーフ−チア−1−アザトリ
サイクロ[6,2,0,O’I’1デカン−2−カルボ
ン酸 ジフェニルメチルエステルの混合物の製造: 参考例48で得た粗生成物の化合物(48)2.838
5gを乾燥ジクロルメタン40−に溶かし、窒素気流下
これにWSCl、150gを加えて室温で2時間率攪拌
した。反応液にジクロルメタン200dを加え食塩水で
洗浄した。有機層を乾燥(MgSO,)した後、溶媒を
減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、
酢酸エチル−ヘキサン(9:11)で溶出後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉
末として740.5+ug得た。
実施例14 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,O”/’コデカンー2
−カルボン酸 ジフェニルメチルエステルと(2R,6
S、8 R,9R)−4、10−ジオキソ−9−フェニ
ルアセトアミド−3−才キサーフ−チア−1−アザトリ
サイクロ[6,2,0,O’I’1デカン−2−カルボ
ン酸 ジフェニルメチルエステルの混合物の製造: 参考例48で得た粗生成物の化合物(48)2.838
5gを乾燥ジクロルメタン40−に溶かし、窒素気流下
これにWSCl、150gを加えて室温で2時間率攪拌
した。反応液にジクロルメタン200dを加え食塩水で
洗浄した。有機層を乾燥(MgSO,)した後、溶媒を
減圧下留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、
酢酸エチル−ヘキサン(9:11)で溶出後、目的物を
含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉
末として740.5+ug得た。
F D M S m/Z: 528(M”)I Rv
KBrcn+−’:3300,3025,1790,1
750.1670゜ax 1495.1270,1210,1180,1045.
695N M R(90M Hz、 CD CI3)δ
: 2.40−3.20(211,m)。
KBrcn+−’:3300,3025,1790,1
750.1670゜ax 1495.1270,1210,1180,1045.
695N M R(90M Hz、 CD CI3)δ
: 2.40−3.20(211,m)。
3、55(21(、s) 、 4.43,4.82(i
ll、 2dd、 J= 311z、 8f(z) 。
ll、 2dd、 J= 311z、 8f(z) 。
5.31−5.66(211,m)、6.28,6.6
8(LH,2d、J= 9Hz)。
8(LH,2d、J= 9Hz)。
6、g2(IH,s)、7.29−7.34(1511
,m)実施例15 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−フ−チア−l−
アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカン−2
−カルボン酸 ナトリウム塩(異性体A)と(2R,6
S、8R,9R)−4,to−ジオキソ−9−フェニル
アセトアミド−3−才キサーフ−チア−1−アザトリサ
イクロ[6,2,0,0”・6コデカンー2−カルボン
酸 ナトリウム塩(異性体B)の混合物の製造: 実施例!4で得た2種の異性体の混合物214mgを乾
燥ジクロルメタン2滅とアニソール2gの混合溶媒に溶
かし、−50℃に冷却し窒素気流下、無水塩化アルミニ
ウム81mgを加え45分間攪拌した。反応液に炭酸水
素ナトリウム68mgを含む0.1モル濃度のpl(7
,0のリン酸緩衝液10成を加えた後、ろ過し、得られ
たろ液を酢酸エチルで洗浄した。水層をとり、減圧下こ
れに混入している酢酸エチルを留去した後、これをアン
バーライトXAD−2のカラムに通した。水−エタノー
ル(95:5)で溶出してくる分画を集めて、減圧下エ
タノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合物を白色
粉末として46mg得た。なお、氷晶は異性体A(実施
例2で得た化合物と同一物質)と異性体Bの比が4:9
の混合物であった。NMr(のデータは異性体Bに由来
するシグナルのみを以下に示した。
,m)実施例15 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−フ−チア−l−
アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカン−2
−カルボン酸 ナトリウム塩(異性体A)と(2R,6
S、8R,9R)−4,to−ジオキソ−9−フェニル
アセトアミド−3−才キサーフ−チア−1−アザトリサ
イクロ[6,2,0,0”・6コデカンー2−カルボン
酸 ナトリウム塩(異性体B)の混合物の製造: 実施例!4で得た2種の異性体の混合物214mgを乾
燥ジクロルメタン2滅とアニソール2gの混合溶媒に溶
かし、−50℃に冷却し窒素気流下、無水塩化アルミニ
ウム81mgを加え45分間攪拌した。反応液に炭酸水
素ナトリウム68mgを含む0.1モル濃度のpl(7
,0のリン酸緩衝液10成を加えた後、ろ過し、得られ
たろ液を酢酸エチルで洗浄した。水層をとり、減圧下こ
れに混入している酢酸エチルを留去した後、これをアン
バーライトXAD−2のカラムに通した。水−エタノー
ル(95:5)で溶出してくる分画を集めて、減圧下エ
タノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合物を白色
粉末として46mg得た。なお、氷晶は異性体A(実施
例2で得た化合物と同一物質)と異性体Bの比が4:9
の混合物であった。NMr(のデータは異性体Bに由来
するシグナルのみを以下に示した。
S I MS m/z :385(MH”)I Rv
KBrcm”−’:3420,1790.1780,1
65G、1530゜ax 1385.1290,1195.1040,775NM
R(400MH2,D、O) δ : 2.111
2(IH,dd、J=2.4tlz、 19.111z
)、3.26(IH,dd、J= 8.:IHz、 1
9.1Hz)。
KBrcm”−’:3420,1790.1780,1
65G、1530゜ax 1385.1290,1195.1040,775NM
R(400MH2,D、O) δ : 2.111
2(IH,dd、J=2.4tlz、 19.111z
)、3.26(IH,dd、J= 8.:IHz、 1
9.1Hz)。
3.68(2H,ABq、J= 14.9Hz)、4.
74(1■、dd、J=2.4Hz。
74(1■、dd、J=2.4Hz。
8.311z)、5.40(IH,d、J= 3.9H
z)、5.47(IH,d、J=3.9Hz)、7.3
2−7.44(5H,m)実施例16 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカン−
2−カルボン酸 ジフェニルメチルエステルと(2R,
6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9−フェノ
キシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−アザト
リサイクロ[6,2,0,O”!’]デカンー2−カル
ボン酸 ジフェニルメチルエステルの混合物の製造: 参考例49で得た粗生成物の化合物(49)2.883
gを乾燥ジクロルメタン40藏に溶かし、窒素気流下こ
れにWSCl、054gを加えて室温で2時間半攪拌し
た。反応液にジクロルメタン200dを加え食塩水で洗
浄した。有機層を乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減
圧上留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢
酸エチル−ヘキサン(2:’3)で溶出後、目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末
として671mgまたいずれか一方の異性体を白色結晶
として297.5mg得た。
z)、5.47(IH,d、J=3.9Hz)、7.3
2−7.44(5H,m)実施例16 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8]デカン−
2−カルボン酸 ジフェニルメチルエステルと(2R,
6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9−フェノ
キシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−アザト
リサイクロ[6,2,0,O”!’]デカンー2−カル
ボン酸 ジフェニルメチルエステルの混合物の製造: 参考例49で得た粗生成物の化合物(49)2.883
gを乾燥ジクロルメタン40藏に溶かし、窒素気流下こ
れにWSCl、054gを加えて室温で2時間半攪拌し
た。反応液にジクロルメタン200dを加え食塩水で洗
浄した。有機層を乾燥(MgSO,)した後、溶媒を減
圧上留去した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢
酸エチル−ヘキサン(2:’3)で溶出後、目的物を含
む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末
として671mgまたいずれか一方の異性体を白色結晶
として297.5mg得た。
両異性体の混合物
I Rv K”rcm−’:3425,1825,18
15,1790,1765.”ax 1690.1520,1500,1440,1240,
1205,1125,1060゜N M R(90M
Hz、 CD CI3)δ: 2.47−3.14(2
H,m)。
15,1790,1765.”ax 1690.1520,1500,1440,1240,
1205,1125,1060゜N M R(90M
Hz、 CD CI3)δ: 2.47−3.14(2
H,m)。
4.51(21+、S)、4.40−4.56,4.8
7−4.99(IH,n)、 5.40(1,d、J
= 4.0Hz)、5.52−5.77(IH,m)、
6.86−7.08゜7.21−7.50(17H,I
l) 単一の異性体(結晶) 融点 181−184℃(分解) P D M S m/ z: 544(M”)IRν
”Brcm−’:3420,1810,1795,17
50,1705゜ax 1520.1500,1295,1265.1225,
1180,1050.755N M R(90M Hz
、 CD CI3)δ: 2.81(III、dd、J
=41!z、 18H2) 、 3.11 (IH,d
d、 J = 7.511z、 18tlz)、 4.
52(2)1゜s)、4.93(IH,dd、J−4H
z、7.5Hz)、5.56(18,d、J=4、51
1z) 、 5.71(III、 dd、 J = 4
.511z、911z) 、 6.86−7、10゜7
.25−7,37(17H,m) 実施例l7 (2S、611,8R,9R)−4,10−ジオキソ−
9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−
1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8コデカン
−2−カルボン酸 ナトリウム塩(異性体A)と(2R
,6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9−フェ
ノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,O’l’]デカン−2−カ
ルボン酸 ナトリウム塩(異性体B)の混合物の製造: 実施例16で得た2種の異性体の混合物102mgを乾
燥ジクロルメタンldとアニソール11n1の混合溶媒
に溶かし、−50℃に冷却し窒素7気流下、無水塩化ア
ルミニウム38mgを加え45分間攪拌した。反応液に
炭酸水素ナトリウム31.5mgを含む0.1モルa度
のI)87.0のリン酸緩衝液5dを加えた後、ろ過し
、得られたろ液を酢酸エチルで洗浄した・。水層をとり
、減圧下これに混入している酢酸エチルを留去した後、
これをアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水
−エタノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて
、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化
合物を白色粉末として20mg得た。なお、本品は異性
体A(実施例4で得た化合物と同一物質)と異性体Bの
比り月:5の混合物であった。NMRのデータは異性体
Bに由来するシグナルのみを以下に示した。
7−4.99(IH,n)、 5.40(1,d、J
= 4.0Hz)、5.52−5.77(IH,m)、
6.86−7.08゜7.21−7.50(17H,I
l) 単一の異性体(結晶) 融点 181−184℃(分解) P D M S m/ z: 544(M”)IRν
”Brcm−’:3420,1810,1795,17
50,1705゜ax 1520.1500,1295,1265.1225,
1180,1050.755N M R(90M Hz
、 CD CI3)δ: 2.81(III、dd、J
=41!z、 18H2) 、 3.11 (IH,d
d、 J = 7.511z、 18tlz)、 4.
52(2)1゜s)、4.93(IH,dd、J−4H
z、7.5Hz)、5.56(18,d、J=4、51
1z) 、 5.71(III、 dd、 J = 4
.511z、911z) 、 6.86−7、10゜7
.25−7,37(17H,m) 実施例l7 (2S、611,8R,9R)−4,10−ジオキソ−
9−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−
1−アザトリサイクロ[6,2,0,0”・8コデカン
−2−カルボン酸 ナトリウム塩(異性体A)と(2R
,6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9−フェ
ノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−アザ
トリサイクロ[6,2,0,O’l’]デカン−2−カ
ルボン酸 ナトリウム塩(異性体B)の混合物の製造: 実施例16で得た2種の異性体の混合物102mgを乾
燥ジクロルメタンldとアニソール11n1の混合溶媒
に溶かし、−50℃に冷却し窒素7気流下、無水塩化ア
ルミニウム38mgを加え45分間攪拌した。反応液に
炭酸水素ナトリウム31.5mgを含む0.1モルa度
のI)87.0のリン酸緩衝液5dを加えた後、ろ過し
、得られたろ液を酢酸エチルで洗浄した・。水層をとり
、減圧下これに混入している酢酸エチルを留去した後、
これをアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水
−エタノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて
、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化
合物を白色粉末として20mg得た。なお、本品は異性
体A(実施例4で得た化合物と同一物質)と異性体Bの
比り月:5の混合物であった。NMRのデータは異性体
Bに由来するシグナルのみを以下に示した。
S IMS m/z: 401(Mlf+)IRν”
”cm−’:3400,1?80,1650,1595
,1525゜aX 1495.1385,1290,1220.755N
M R(270M Hz、da D M S O)δ
: 2,72(IH,dd。
”cm−’:3400,1?80,1650,1595
,1525゜aX 1495.1385,1290,1220.755N
M R(270M Hz、da D M S O)δ
: 2,72(IH,dd。
J=3.6Hz、18.5Hz)、3.06(IH,d
d、J=8.311z、18.5Hz)、 4.47(
III、dd、 J = 3.6Hz、 8.3Hz)
、 4.61 (2H,ABq。
d、J=8.311z、18.5Hz)、 4.47(
III、dd、 J = 3.6Hz、 8.3Hz)
、 4.61 (2H,ABq。
J= 15.01iz) 、5.25(1)1. d、
J = 4.0Hz) 、 5.35(111,dd
。
J = 4.0Hz) 、 5.35(111,dd
。
J = 4.0IIz、 7.9Hz) 、6.90−
7.01 、7.25−7.35(511,m) 。
7.01 、7.25−7.35(511,m) 。
9.00(!H,d、J=7.9tlz)実施例l8
(2S、SR,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0’・8」デカン−2
−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステル(異性
体A)及び(2R,6s、8R,9R)−4゜10−ジ
オキソ−9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−
チア−l−アザトリサイクロ[6゜2.0.0″、@]
デカンー2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエス
テル(異性体B)の製造:参考例23で得た化合物(2
3)の粗生成物6.552gを乾燥ジクロルメタン10
0dに溶かし、これに窒素気流下WSC2,726gを
加えて室温で1時間50分間攪拌した。反応液にジクロ
ルメタン600dを加え食塩水で洗浄した。有機層を乾
燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧上留去した。残留
物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン
(1:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮
して、連記化合物の異性体A(実施例Iで得た化合物と
同一物質、淡黄色粉末。
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロ[6,2,0,0’・8」デカン−2
−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエステル(異性
体A)及び(2R,6s、8R,9R)−4゜10−ジ
オキソ−9−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−
チア−l−アザトリサイクロ[6゜2.0.0″、@]
デカンー2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジルエス
テル(異性体B)の製造:参考例23で得た化合物(2
3)の粗生成物6.552gを乾燥ジクロルメタン10
0dに溶かし、これに窒素気流下WSC2,726gを
加えて室温で1時間50分間攪拌した。反応液にジクロ
ルメタン600dを加え食塩水で洗浄した。有機層を乾
燥(MgSO,)した後、溶媒を減圧上留去した。残留
物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン
(1:I)で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮
して、連記化合物の異性体A(実施例Iで得た化合物と
同一物質、淡黄色粉末。
1.273g)と異性体B(微黄色結晶887.5mg
)をそれぞれ得た。
)をそれぞれ得た。
異性体A
[α]”’+ 157.6°(c =0.425.CH
Cl3)F D M S m/ z: 497(M”
)I Rv KB’ cm−’:33g0,3025,
1790,1755,1675゜ll1a× 1515、1350.1275.1210.1185.
105ONMR(4105ON、CDC13)δ: 2
.93(1+1.dd、J=2.6911z、18.8
Hz)、3.18(IH,dd、J=8.54Hz、1
g、8fiz)、3.64(211,ABq、J= 1
6.1Hz)、4.94(LH,dd、J=2.691
1z、 3.54[1z) 、 5. :(9(28,
ABq 、 J= 12.911z) 、 5.53(
1B、d、J=4.39Hz)、5.66(IH,dd
、J=4J9Hz、8.79fiz)、6.09(LH
,d、J=8.7911z)、7.22−7.29.7
.30−7.41(5H,m)、7.56,8.24(
4H,2d、J−8,79Hz)異性体B 融点 160−163℃(分解) [α]32+176.9°(cm 0.45 、CHC
l3)F D M S m/z: 497(M”)I
RシKBrCm−’:3380,3025,1810.
1765.1675゜fiaX 1525.1350,1275,1215.1115N
M R(400M HZ、 CD CI3)δ: 2
.62(IH,dd、J=2.9311z、18.6H
z)、3.09(IH,dd、J=8.30Hz、18
.6112)、3.63(2H,ABQ、J= 15.
9H2)、4.59(IH,dd、J=2.93Hz、
8.30Hz)、5J6(2H,ABqj= 12.9
Hz)、5.37(1B、d、J=4.15Hz)、5
.56(IH,dd、J=4.15Hz、8.05Hz
)、6.24(LH,dj= 8.05Hz)、7.2
5−7.28,7.3O−749(5[(、m) 、
7.53,8.26(41,2d、 J= 8.79H
z)元素分析値:CtsH+eN30sS 計算値 C,55,53,H,3,85,N、8.45
実測値 C,55,63,H,3,93,N、8.35
実施例19 (2R,6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロE6,2,0.O”!’]デカンー2
−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例18で得た
異性体B223mgを酢酸エチル8−と0.1モル濃度
のpH7,0のリン酸緩衝液9.5−の混合溶媒に溶か
し、これに水冷下lO%CW/W)パラジウム−炭素1
78mgを加え、攪拌上水素ガスを通じた。反応開始後
、30分、1時間15分、2時間経過した時点で、それ
ぞれ10%(W/W)パラジウム−炭素89mgを加え
、水冷攪拌上水素ガスを合計2時間半通じた。反応液を
ろ過し、得られたろ液に酢酸エチルを加えて抽出した。
Cl3)F D M S m/ z: 497(M”
)I Rv KB’ cm−’:33g0,3025,
1790,1755,1675゜ll1a× 1515、1350.1275.1210.1185.
105ONMR(4105ON、CDC13)δ: 2
.93(1+1.dd、J=2.6911z、18.8
Hz)、3.18(IH,dd、J=8.54Hz、1
g、8fiz)、3.64(211,ABq、J= 1
6.1Hz)、4.94(LH,dd、J=2.691
1z、 3.54[1z) 、 5. :(9(28,
ABq 、 J= 12.911z) 、 5.53(
1B、d、J=4.39Hz)、5.66(IH,dd
、J=4J9Hz、8.79fiz)、6.09(LH
,d、J=8.7911z)、7.22−7.29.7
.30−7.41(5H,m)、7.56,8.24(
4H,2d、J−8,79Hz)異性体B 融点 160−163℃(分解) [α]32+176.9°(cm 0.45 、CHC
l3)F D M S m/z: 497(M”)I
RシKBrCm−’:3380,3025,1810.
1765.1675゜fiaX 1525.1350,1275,1215.1115N
M R(400M HZ、 CD CI3)δ: 2
.62(IH,dd、J=2.9311z、18.6H
z)、3.09(IH,dd、J=8.30Hz、18
.6112)、3.63(2H,ABQ、J= 15.
9H2)、4.59(IH,dd、J=2.93Hz、
8.30Hz)、5J6(2H,ABqj= 12.9
Hz)、5.37(1B、d、J=4.15Hz)、5
.56(IH,dd、J=4.15Hz、8.05Hz
)、6.24(LH,dj= 8.05Hz)、7.2
5−7.28,7.3O−749(5[(、m) 、
7.53,8.26(41,2d、 J= 8.79H
z)元素分析値:CtsH+eN30sS 計算値 C,55,53,H,3,85,N、8.45
実測値 C,55,63,H,3,93,N、8.35
実施例19 (2R,6S、8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェニルアセトアミド−3−オキサ−7−チア−1−
アザトリサイクロE6,2,0.O”!’]デカンー2
−カルボン酸 ナトリウム塩の製造:実施例18で得た
異性体B223mgを酢酸エチル8−と0.1モル濃度
のpH7,0のリン酸緩衝液9.5−の混合溶媒に溶か
し、これに水冷下lO%CW/W)パラジウム−炭素1
78mgを加え、攪拌上水素ガスを通じた。反応開始後
、30分、1時間15分、2時間経過した時点で、それ
ぞれ10%(W/W)パラジウム−炭素89mgを加え
、水冷攪拌上水素ガスを合計2時間半通じた。反応液を
ろ過し、得られたろ液に酢酸エチルを加えて抽出した。
水層をとり、減圧下これに混入している酢酸エチルを留
去した後、これをアンバーライトXΔD−2のカラムに
通した。水−エタノール(95:5)で溶出してくる分
画を集めて、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥
して連記化合物を微黄色粉末として94.5mg得た。
去した後、これをアンバーライトXΔD−2のカラムに
通した。水−エタノール(95:5)で溶出してくる分
画を集めて、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥
して連記化合物を微黄色粉末として94.5mg得た。
融点 130−134℃(分解)
S I MS m/z: 385(MH”)I n
vKB’ cIIl−’:3420,3025,17
90,1655,1535゜ax 1500.1390,1290,1220.1200.
77ONMR(270MH2,DtO)δ: 2.80
(IH,dd、J=2.6411z、19.1Hz)、
3.28(111,dd、J=8.25Hz、19.1
Hz)。
vKB’ cIIl−’:3420,3025,17
90,1655,1535゜ax 1500.1390,1290,1220.1200.
77ONMR(270MH2,DtO)δ: 2.80
(IH,dd、J=2.6411z、19.1Hz)、
3.28(111,dd、J=8.25Hz、19.1
Hz)。
3.70(2H,ABq、J= 15.2)12)、4
.74(II、dd、J= 2.64)Iz、8.25
tlz) 、 5.39(IH,d、 J = 3.9
6Hz) 、 5.49(ltl、 d。
.74(II、dd、J= 2.64)Iz、8.25
tlz) 、 5.39(IH,d、 J = 3.9
6Hz) 、 5.49(ltl、 d。
J= 3.9611z)、7J4−7.45(58,m
)実施例20 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−ニ
ーアザトリサイクロ[6,2,0,0’、”]]デカン
ー2−カルボン酸(4−ニトロ)ベンジルエステルの製
造: 実施例!で得た化合物100mgを乾燥ジクロルメタン
IO−に溶かし、−78℃に冷却下N、N−ジメチルア
ニリン102μCと粉末状の五塩化リン84mgを加え
て1時間20分攪拌した。窒素気流下、−78℃で乾燥
メタノール0.2−を5分間で徐々に滴下した。滴下後
、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2時間半攪
拌した。水冷下、水3−を加え、40分間攪拌した後、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて水層のpHを7
に調整した。有機層をとり、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。残留物を乾燥ジクロルメタン
4dに懸濁し゛、水冷下トリエチルアミン34μgとフ
ェノキシアセチルクロリド34μQを加えて45分間攪
拌した。反応液にジクロルメタン15dを加え、2規定
塩酸ついで飽和食塩水で洗浄した。有機層を乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(9:1
1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮して
、連記化合物を白色粉末として35mg得た。氷晶のN
MRスペクトルと実施例3で得た化合物のNMRスペク
トルとを比較し同定した。
)実施例20 (2S、6R,8R,9R)−4,10−ジオキソ−9
−フェノキシアセトアミド−3−オキサ−7−チア−ニ
ーアザトリサイクロ[6,2,0,0’、”]]デカン
ー2−カルボン酸(4−ニトロ)ベンジルエステルの製
造: 実施例!で得た化合物100mgを乾燥ジクロルメタン
IO−に溶かし、−78℃に冷却下N、N−ジメチルア
ニリン102μCと粉末状の五塩化リン84mgを加え
て1時間20分攪拌した。窒素気流下、−78℃で乾燥
メタノール0.2−を5分間で徐々に滴下した。滴下後
、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2時間半攪
拌した。水冷下、水3−を加え、40分間攪拌した後、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて水層のpHを7
に調整した。有機層をとり、乾燥(MgSO,)した後
、溶媒を減圧下留去した。残留物を乾燥ジクロルメタン
4dに懸濁し゛、水冷下トリエチルアミン34μgとフ
ェノキシアセチルクロリド34μQを加えて45分間攪
拌した。反応液にジクロルメタン15dを加え、2規定
塩酸ついで飽和食塩水で洗浄した。有機層を乾燥(Mg
SO,)した後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、酢酸エチル−ヘキサン(9:1
1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、減圧濃縮して
、連記化合物を白色粉末として35mg得た。氷晶のN
MRスペクトルと実施例3で得た化合物のNMRスペク
トルとを比較し同定した。
実施例21
(2S、6R,8R,9R)−9−[2−(2−クロロ
アセトアミドチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3
−才キサーフ−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,
0,0”’]デカンー2−カルボン酸(4−ニトロ)ベ
ンジルエステルの製造:実施例1で得た化合物100m
gを乾燥ジクロルメタン20戒に溶かし、−78℃に冷
却下N、N−ジメチルアニリン102μaと粉末状の五
塩化リン84mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下
−78℃で乾燥メタノール0.21n1.を5分間で徐
々に滴下した。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇
温しながら2時間40分攪拌した。水冷下、水2gを加
え30分間攪拌した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて水層のpHを7に調整した。有機層をとり、乾
燥(MgSO4)した後、減圧濃縮した。
アセトアミドチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3
−才キサーフ−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,
0,0”’]デカンー2−カルボン酸(4−ニトロ)ベ
ンジルエステルの製造:実施例1で得た化合物100m
gを乾燥ジクロルメタン20戒に溶かし、−78℃に冷
却下N、N−ジメチルアニリン102μaと粉末状の五
塩化リン84mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下
−78℃で乾燥メタノール0.21n1.を5分間で徐
々に滴下した。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇
温しながら2時間40分攪拌した。水冷下、水2gを加
え30分間攪拌した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えて水層のpHを7に調整した。有機層をとり、乾
燥(MgSO4)した後、減圧濃縮した。
得られた濃縮液に水冷下、トリエチルアミン56μgと
2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4−イル)
−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド塩酸塩67
mgを加え1時間攪拌した。反応液にジクロルメタン2
0戒を加え、2規定塩酸ついで飽和食塩水で洗浄した。
2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4−イル)
−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド塩酸塩67
mgを加え1時間攪拌した。反応液にジクロルメタン2
0戒を加え、2規定塩酸ついで飽和食塩水で洗浄した。
有機層を乾燥(MgSOJした後、溶媒を減圧下留去し
た。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチルー
ヘキザン(2:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め
減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末として83mg
得た。
た。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチルー
ヘキザン(2:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め
減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末として83mg
得た。
IRシKBram−’+3300.2945.1?95
,1760,1690゜ax 1605.1550,1525,1350,1270,
1215,1185,1155゜1110.104Q、
85O N M R(90M HZ、 CD CI3)δ: 2
.93(IH,dd、J=4Hz、 HtJ(z) 、
3.25(III、dd 、 J = 811z 、
18Hz) 、 4.07 (3H。
,1760,1690゜ax 1605.1550,1525,1350,1270,
1215,1185,1155゜1110.104Q、
85O N M R(90M HZ、 CD CI3)δ: 2
.93(IH,dd、J=4Hz、 HtJ(z) 、
3.25(III、dd 、 J = 811z 、
18Hz) 、 4.07 (3H。
s)、4.27(211,s) 、 5.05(IH,
dd、 J = 4112.8+1Z)、 5.40(
2H,ABq、 J = 12Hz)、 5.68(I
H,d、 J = 4112) 、 5.81(il!
。
dd、 J = 4112.8+1Z)、 5.40(
2H,ABq、 J = 12Hz)、 5.68(I
H,d、 J = 4112) 、 5.81(il!
。
dd、J= 411z、 9H2)、7.25(III
、d、J= 9Hz)、7.41(IH。
、d、J= 9Hz)、7.41(IH。
s)、7.56,8.22(4H,2d、J= 9Hz
)、9.99(IH,br)実施例22 (2S、6 R,8R,9R)−9−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−オキサ−
7−チア−l−アザトリサイクロ[6,2゜o、o’、
”3デカン−2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジル
エステルの製造: a)実施例1で得た化合物100mgを乾燥ジクロルメ
タン10−に溶かし、−78℃に冷却下N。
)、9.99(IH,br)実施例22 (2S、6 R,8R,9R)−9−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−オキサ−
7−チア−l−アザトリサイクロ[6,2゜o、o’、
”3デカン−2−カルボン酸 (4−ニトロ)ベンジル
エステルの製造: a)実施例1で得た化合物100mgを乾燥ジクロルメ
タン10−に溶かし、−78℃に冷却下N。
N−ジメチルアニリン102μeと粉末状の五塩化リン
84+ngを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.2dを5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間45分間攪拌した。水冷下、水2−を加え30分間
攪拌した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え水層
のpHを約6.5に調整した。有機層をとり、乾燥(M
gSO+)した後、減圧濃縮した。得られた濃縮液に特
開昭60−84293に記載の方法により合成した活性
エステルS−(ベンゾチアゾール−2−イル)2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキ
シイミノエタンチオエート74Jの乾燥テトラヒドロフ
ラン溶液3蔵を水冷下加え、室温で3時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルのカラ
ムに通した。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール(
10:10:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、
減圧濃縮して、連記化合物を白色粉末として53mg得
た。
84+ngを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.2dを5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間45分間攪拌した。水冷下、水2−を加え30分間
攪拌した後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え水層
のpHを約6.5に調整した。有機層をとり、乾燥(M
gSO+)した後、減圧濃縮した。得られた濃縮液に特
開昭60−84293に記載の方法により合成した活性
エステルS−(ベンゾチアゾール−2−イル)2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキ
シイミノエタンチオエート74Jの乾燥テトラヒドロフ
ラン溶液3蔵を水冷下加え、室温で3時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルのカラ
ムに通した。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール(
10:10:1)で溶出後、目的物を含む分画を集め、
減圧濃縮して、連記化合物を白色粉末として53mg得
た。
[α]g3+ 147.9°(c=0.48.酢酸エチ
ル)S I MS m/z: 563(MH”)IR
シKBrcm−’:3350,2960,1795.1
7B0.1680゜ax !605,1525,1350,1270,1215,
1185,1045.85ONMR(400MHz、d
s−DMSO)δ: 3.04(ill、dd。
ル)S I MS m/z: 563(MH”)IR
シKBrcm−’:3350,2960,1795.1
7B0.1680゜ax !605,1525,1350,1270,1215,
1185,1045.85ONMR(400MHz、d
s−DMSO)δ: 3.04(ill、dd。
J= 5.62Hz、 L8.56Hz)、3.25(
II(、dd、J= 9.28Hz。
II(、dd、J= 9.28Hz。
18.56Hz)、3.83(3■、s)、5.04(
IH,dd、J=5.62Hz。
IH,dd、J=5.62Hz。
9、28Hz) 、 5.40(211,ABq、 J
= 13.68Hz) 、 5.63(ltl、 d
d 。
= 13.68Hz) 、 5.63(ltl、 d
d 。
J=4.39!lz、7.57Hz)、5.80(LH
,d、J=4.39Hz)。
,d、J=4.39Hz)。
6.76(LH,s)、7.21(2)1.s)、?、
72.8.24(4H,2d、J= 8.79Hz)、
9.68(1)1.d、J= 7.57Hz)b)実施
例21で得た化合物24.5mgGN、N−ジメチルホ
ルムアミド0.6蔵と0.1モル濃度のpl(7,0の
リン酸緩衝液0.3戒の混合溶媒に溶かし、水冷下これ
にN−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム5 、5
mgを加え、水冷下で1時間40分、室温で1時間攪拌
した。反応液に酢酸エチル20滅を加え水洗し、有機層
を乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧上留去した。
72.8.24(4H,2d、J= 8.79Hz)、
9.68(1)1.d、J= 7.57Hz)b)実施
例21で得た化合物24.5mgGN、N−ジメチルホ
ルムアミド0.6蔵と0.1モル濃度のpl(7,0の
リン酸緩衝液0.3戒の混合溶媒に溶かし、水冷下これ
にN−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム5 、5
mgを加え、水冷下で1時間40分、室温で1時間攪拌
した。反応液に酢酸エチル20滅を加え水洗し、有機層
を乾燥(MgSQ、)した後、溶媒を減圧上留去した。
残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エヂルークロ
ロホルムーメタノール(10:10:I)で溶出後、目
的物を含む分画を集め減圧濃縮して、連記化合物を白色
粉末としてIO,5N得た。氷晶のNMRスペクトルと
a)で得た化合物のNMRスペクトルとを比較し同定し
た。
ロホルムーメタノール(10:10:I)で溶出後、目
的物を含む分画を集め減圧濃縮して、連記化合物を白色
粉末としてIO,5N得た。氷晶のNMRスペクトルと
a)で得た化合物のNMRスペクトルとを比較し同定し
た。
実施例23
(2S、6R,8R,9R)−9−[2−(2−アミノ
デアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−才キサーフ
−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0.0″、1
1]デカン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造: 実施例22で得た化合物100mgを酢酸エチル3滅と
0.1モル濃度のpH7、0のリン酸緩衝液4gの混合
溶媒に溶かし、これに水冷下10%(W/W)パラジウ
ム−炭素71mgを加え、攪拌下水素ガスを通じた。反
応開始後、30分、1時間15分、2時間、2時間55
分、3時間50分経過した時点で、それぞれ10%(W
/W)パラジウム−炭素35mgを加え、水冷下で4時
間半、10〜13℃で45分、合計5時間15分水素ガ
スを通じた。反応液をろ過し、得られたろ液に酢酸エチ
ルを加えて抽出した。水層をとり、減圧下これに混入し
ている酢酸エチルを留去した後、これをアンバーライト
XAD−2のカラムに通した。
デアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−才キサーフ
−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0.0″、1
1]デカン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造: 実施例22で得た化合物100mgを酢酸エチル3滅と
0.1モル濃度のpH7、0のリン酸緩衝液4gの混合
溶媒に溶かし、これに水冷下10%(W/W)パラジウ
ム−炭素71mgを加え、攪拌下水素ガスを通じた。反
応開始後、30分、1時間15分、2時間、2時間55
分、3時間50分経過した時点で、それぞれ10%(W
/W)パラジウム−炭素35mgを加え、水冷下で4時
間半、10〜13℃で45分、合計5時間15分水素ガ
スを通じた。反応液をろ過し、得られたろ液に酢酸エチ
ルを加えて抽出した。水層をとり、減圧下これに混入し
ている酢酸エチルを留去した後、これをアンバーライト
XAD−2のカラムに通した。
水−エタノ−)u(,95+ 5 )で溶出してくる分
画を集めて、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥
して連記化合物を白色粉末として45.5mg得た。
画を集めて、減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥
して連記化合物を白色粉末として45.5mg得た。
融点 +87−191’C(分解)
sr〜IS m/z: 450(Ml++)I Rv
KBrcm−’:3350,1780,1660,1
650,1530゜max 。
KBrcm−’:3350,1780,1660,1
650,1530゜max 。
13g0,1290,1190.103ON M n
(400M Hz、 D t O)δ: 3.07(I
H,dd、J=4.6411z、 19.2911z)
、 3.37(IH,dd、 J = 9.28Hz
、 19.29Hz) 。
(400M Hz、 D t O)δ: 3.07(I
H,dd、J=4.6411z、 19.2911z)
、 3.37(IH,dd、 J = 9.28Hz
、 19.29Hz) 。
4.00(311,s)、4.96(IH,dd、J−
4,64tlz、9.2811z)。
4,64tlz、9.2811z)。
5.67(lit、d、J=4.15Hz)、5.79
(IH,d、J=4.15Hz)。
(IH,d、J=4.15Hz)。
7.06(IH,s)
実施例24
(2R,6S、8R,9R)−9−[2−(2−クロロ
アセトアミドチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3
−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,
0,0”/”コテカン−。2−カルボン酸(4−ニトロ
)ベンジルエステルの製造:実施例18で得た異性体B
150mgを乾燥ジクロルメタン15dに溶かし、−7
8℃に冷却下N。
アセトアミドチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−4,10−ジオキソ−3
−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,
0,0”/”コテカン−。2−カルボン酸(4−ニトロ
)ベンジルエステルの製造:実施例18で得た異性体B
150mgを乾燥ジクロルメタン15dに溶かし、−7
8℃に冷却下N。
N−ジメチルアニリン153μQと粉末状の五塩化リン
126mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.3戒を5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間45分攪拌した。
126mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.3戒を5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間45分攪拌した。
水冷下、水3tR1を加え30分間攪拌した後、5%炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えて水層のp)[を7に調
整した。有機層をとり、乾燥(MgS O4) した後
、減圧濃縮した。得られた濃縮液に水冷下、トリエチル
アミン84μeと2−(2−クロロアセトアミドチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸ク
ロリド塩酸塩100mgを加え1時間攪拌した。反応液
にジクロルメタン25meを加え、2規定塩酸ついで飽
和食塩水で洗浄した。
酸水素ナトリウム水溶液を加えて水層のp)[を7に調
整した。有機層をとり、乾燥(MgS O4) した後
、減圧濃縮した。得られた濃縮液に水冷下、トリエチル
アミン84μeと2−(2−クロロアセトアミドチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ酢酸ク
ロリド塩酸塩100mgを加え1時間攪拌した。反応液
にジクロルメタン25meを加え、2規定塩酸ついで飽
和食塩水で洗浄した。
有機層を乾燥(MgSO4)した後、溶媒を減圧下留去
した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル
−ヘキサン(7:3)で溶出後、目的物を含む分画を集
め減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末としてf16
mg得た。
した。残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチル
−ヘキサン(7:3)で溶出後、目的物を含む分画を集
め減圧濃縮して、連記化合物を淡黄色粉末としてf16
mg得た。
I n シKBrcm−’:3280.2940.1
810,1760,1690゜max 1605.1550,1530,1345,1315,
1270,1210,1180゜1110.104O N M R(90M Hz、 CD CI 3)δ:
2.73(LH,dd、J=4Hz、18Hz)、3.
15(111,dd、J=8Hz、18Hz)、4.0
3(3H。
810,1760,1690゜max 1605.1550,1530,1345,1315,
1270,1210,1180゜1110.104O N M R(90M Hz、 CD CI 3)δ:
2.73(LH,dd、J=4Hz、18Hz)、3.
15(111,dd、J=8Hz、18Hz)、4.0
3(3H。
s)、4.27(2■、s)、4.68(IH,dd、
J=4Hz、8Hz)、5.39(21+、S)、5.
51(IH,d、J= 4Hz)、5.78(IH,d
d、J= 4■2゜9H2)、7.33(IH,S)、
7.76(IH,d、J= 9112)、7.56゜8
.27(41,2dl=、9Hz)、10.13(II
I、br)実施例25 (2R,6S、8R,9R)−9−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−オキサ−7
−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0 、0 ”
/”コブカン−2−カルボン酸 (4−“ニトロ)ベン
ジルエステルの製造: 実施例18で得た異性体8409mgを乾燥ジクロルメ
タン40−に溶かし、−78℃に冷却下N。
J=4Hz、8Hz)、5.39(21+、S)、5.
51(IH,d、J= 4Hz)、5.78(IH,d
d、J= 4■2゜9H2)、7.33(IH,S)、
7.76(IH,d、J= 9112)、7.56゜8
.27(41,2dl=、9Hz)、10.13(II
I、br)実施例25 (2R,6S、8R,9R)−9−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−4,10−ジオキソ−3−オキサ−7
−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0 、0 ”
/”コブカン−2−カルボン酸 (4−“ニトロ)ベン
ジルエステルの製造: 実施例18で得た異性体8409mgを乾燥ジクロルメ
タン40−に溶かし、−78℃に冷却下N。
N−ジメチルアニリン417μeと粉末状の五塩化リン
342mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.8滅を5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間55分攪拌した。
342mgを加えて1時間攪拌した。窒素気流下−78
℃で乾燥メタノール0.8滅を5分間で徐々に滴下した
。滴下後、徐々に−35〜−30℃まで昇温しながら2
時間55分攪拌した。
水冷下、水8−を加え30分間攪拌した後、5%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えて水層のpHを約6.5に調
整した。有機層をとり、乾燥(MgSO4)した後、減
圧濃縮した。得られた濃縮液に特開昭60−84293
に記載の方法により合成した活性エステル S−(ベン
ゾデアゾール−2−イル) 2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノエタン
チオエート303n+gの乾燥テトラヒドロフラン溶液
lO−を水冷下加え、室温で2時間半攪拌した。反応液
を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに
通した。酢酸エチル−ヘキサン(9:l)で溶出後、目
的物を含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を微
黄色粉末として180mg得た。
素ナトリウム水溶液を加えて水層のpHを約6.5に調
整した。有機層をとり、乾燥(MgSO4)した後、減
圧濃縮した。得られた濃縮液に特開昭60−84293
に記載の方法により合成した活性エステル S−(ベン
ゾデアゾール−2−イル) 2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミノエタン
チオエート303n+gの乾燥テトラヒドロフラン溶液
lO−を水冷下加え、室温で2時間半攪拌した。反応液
を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに
通した。酢酸エチル−ヘキサン(9:l)で溶出後、目
的物を含む分画を集め、減圧濃縮して、連記化合物を微
黄色粉末として180mg得た。
[α]o2+ 143 、ピ(c=0.174.酢酸エ
チル)S IMS m/z: 563(MH”)rR
ν””rcm−’:3350.2960.2855.1
805,1760゜ax 1675.1600,1520,1350,1270,
1210,1180,1115゜1030、 845 NMRC400MI4z、da−DMSO)δ:3,0
7(Hf、dd、J= 4.3911z、 18.80
!lz)、3.26(1B、dd、J= 8.54tl
z。
チル)S IMS m/z: 563(MH”)rR
ν””rcm−’:3350.2960.2855.1
805,1760゜ax 1675.1600,1520,1350,1270,
1210,1180,1115゜1030、 845 NMRC400MI4z、da−DMSO)δ:3,0
7(Hf、dd、J= 4.3911z、 18.80
!lz)、3.26(1B、dd、J= 8.54tl
z。
18.80Hz)、3.84(31,s)、4.94(
IH,dd、J= 4J9Hz。
IH,dd、J= 4J9Hz。
8.54Hz)、5.44(2H,s)、5.46(I
H,d、J= 4.15Hz)。
H,d、J= 4.15Hz)。
5.67(IH,dd、J=4.15Hz、8.30H
z)、6.77(IH,s)。
z)、6.77(IH,s)。
7.23(2H,br)、7.71,8.28(4H,
2d、J= 8.79Hz)。
2d、J= 8.79Hz)。
9.73(IH,d、J=8.30H2)実施例26
(2R,6S、8R,9R)−9−[,2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミ
ノアセトアミドコ−4−,10−ジオキソ−3−オキサ
−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0.0″
、g3デカン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造: 実施例25で得た化合物100mgを酢酸エチル5−と
0.1モル濃度のpH7,0のリン酸緩衝液71n1の
混合溶媒に溶かし、これに10−12℃で10%(W/
W)パラジウム−炭素7tmgを加え、攪拌下水素ガス
を通じた。反応開始後、30分、1時間、1時間半、2
時間15分経過した時点でそれぞれ10%(W/W)パ
ラジウム−炭素35mgを加え、10〜12℃で攪拌上
合計3時間水素ガスを通じた。反応液をろ過し、得られ
たろ液に酢酸エチルを加えて抽出した。水層をとり、減
圧下これ?こ混入している酢酸エチルを留去した後、こ
れをアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水−
エタノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて、
減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合
物を白色粉末として52mg得た。
ノチアゾール−4−イル)−(Z)−2−メトキシイミ
ノアセトアミドコ−4−,10−ジオキソ−3−オキサ
−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2゜0.0″
、g3デカン−2−カルボン酸 ナトリウム塩の製造: 実施例25で得た化合物100mgを酢酸エチル5−と
0.1モル濃度のpH7,0のリン酸緩衝液71n1の
混合溶媒に溶かし、これに10−12℃で10%(W/
W)パラジウム−炭素7tmgを加え、攪拌下水素ガス
を通じた。反応開始後、30分、1時間、1時間半、2
時間15分経過した時点でそれぞれ10%(W/W)パ
ラジウム−炭素35mgを加え、10〜12℃で攪拌上
合計3時間水素ガスを通じた。反応液をろ過し、得られ
たろ液に酢酸エチルを加えて抽出した。水層をとり、減
圧下これ?こ混入している酢酸エチルを留去した後、こ
れをアンバーライトXAD−2のカラムに通した。水−
エタノール(95:5)で溶出してくる分画を集めて、
減圧下エタノールを留去した後、凍結乾燥して連記化合
物を白色粉末として52mg得た。
融点 1 ’90−193℃(分解)
S IMS m/z: 450(MH”)I Rv
KBrcm−’:343G、17g5,1645.15
35,1380゜aX 1290.122G、1195.104ON M R(
400M HZ、 D ! O)δ: 2.88(LH
,dd、J=2.8811z、 19.04Hz) 、
3.29(IH,dd、 J = 8.30Hz、
19.04Hz) 。
KBrcm−’:343G、17g5,1645.15
35,1380゜aX 1290.122G、1195.104ON M R(
400M HZ、 D ! O)δ: 2.88(LH
,dd、J=2.8811z、 19.04Hz) 、
3.29(IH,dd、 J = 8.30Hz、
19.04Hz) 。
3.99C3H,s)、4.85CIH,dd、J=2
.68Hz、8.30Hz>。
.68Hz、8.30Hz>。
5.60(2H,s)、7.03(IH,s)発明の効
果 本発明の目的化合物は、前記した通り、抗菌作用を有し
ており、化学構造的に、かってなかった新しい系統の抗
菌剤あるいは細菌感染治療剤を提供することができる。
果 本発明の目的化合物は、前記した通り、抗菌作用を有し
ており、化学構造的に、かってなかった新しい系統の抗
菌剤あるいは細菌感染治療剤を提供することができる。
Claims (7)
- (1)基本構造として4,10−ジオキソ−3−オキサ
−7−チア−1−アザトリサイクロ[6,2,0,0^
2^,^6]デカン−2−カルボン酸骨格を有する化合
物またはそのエステルまたは塩。 - (2)9位に、アミノ基または窒素あるいは炭素を介す
る有機残基を置換基として有する請求の範囲第一項記載
の化合物 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素、アミノ基または窒素あるいは炭
素を介する有機残基を、R^2は水素、メトキシまたは
ホルミルアミノ基を、R^3、R^4およびR^5は、
同一または異なって、水素または有機残基を、それぞれ
示す。]で表わされる請求の範囲第一項記載の化合物ま
たはそのエステルまたは塩。 - (4)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル
)チオグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステ
ルまたは、2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノ
ン−4−イル)チオ−5−オキソ−テトラヒドロフラン
−2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステ
ルを閉環反応に付すことを特徴とする4,10−ジオキ
ソ−3−オキサ−7−チア−1−アザトリサイクロ[6
,2,0,0^2^,^6]デカン−2−カルボン酸骨
格を有する化合物またはそのエステルまたは塩の製造法
。 - (5)2−オキソ−3−(2−アゼチジノン−4−イル
)チオグルタル酸骨格を有する化合物またはそのエステ
ルまたは塩。 - (6)2位に脱離基を有する3−(2−アゼチジノン−
4−イル)チオ−5−オキソ−テトラヒドロフラン−2
−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエステルま
たは塩。 - (7)4,10−ジオキソ−3−オキサ−7−チア−1
−アザトリサイクロ[6,2,0,0^2^,^6]デ
カン−2−カルボン酸骨格を有する化合物またはそのエ
ステルまたは塩を含有する抗菌剤。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14225786 | 1986-06-17 | ||
JP61-142257 | 1986-06-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63107956A true JPS63107956A (ja) | 1988-05-12 |
JP2531183B2 JP2531183B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=15311117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62142019A Expired - Lifetime JP2531183B2 (ja) | 1986-06-17 | 1987-06-05 | 3環性ペナム化合物,その製造法及び用途 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0249909A1 (ja) |
JP (1) | JP2531183B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016175223A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | 塩野義製薬株式会社 | 三環性化合物、およびそれらの使用 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3339235B2 (ja) * | 1994-02-18 | 2002-10-28 | 日本メディカルリサーチ株式会社 | 抗生物質wap−8294a、その製造法及び抗菌剤 |
CA2305703A1 (en) | 1997-10-10 | 1999-04-22 | David W. Christianson | Compositions and methods for inhibiting arginase activity |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3947439A (en) * | 1973-03-30 | 1976-03-30 | American Home Products Corporation | 4-Hydroxy-4-phenyl-2,3-cycloalkylimino-2-thiazolidinealkylcarboxylic acid lactones |
LU77362A1 (ja) * | 1977-05-17 | 1979-01-19 | ||
US4148995A (en) * | 1977-07-18 | 1979-04-10 | Theodor Petrzilka | Process for preparing cephem lactones for cephalosporin-type antibiotics |
FR2496665A1 (fr) * | 1980-12-23 | 1982-06-25 | Ici Pharma | Nouveaux derives de penicilline et composition pharmaceutique les contenant |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP62142019A patent/JP2531183B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-09 US US07/059,951 patent/US4876251A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-06-12 EP EP87108535A patent/EP0249909A1/en not_active Ceased
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016175223A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | 塩野義製薬株式会社 | 三環性化合物、およびそれらの使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4876251A (en) | 1989-10-24 |
JP2531183B2 (ja) | 1996-09-04 |
EP0249909A1 (en) | 1987-12-23 |
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