JPS6310781A

JPS6310781A - γ−ピロン誘導体の製造法

Info

Publication number: JPS6310781A
Application number: JP11634586A
Authority: JP
Inventors: Yukihisa Goto; 幸久後藤; Kazuhisa Masamoto; 正本　和久
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1986-03-28
Filing date: 1986-05-21
Publication date: 1988-01-18
Anticipated expiration: 2010-04-05
Also published as: JPH0730067B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−力ルボキサ
ミド化合物の新規な製造法に関するものである。この発
明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいはそれら
の合成中間体として有用である。

（従来技術）この発明に係る４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボ
キサミド化合物を製造する方法としては、従来幾つかの
方法が報告されている。エイ、マラムス（Ａ、Ｍａ　ｌ
　Ｉ　ａｍｓ）等はアセトアセトアニリド誘導体のある
ものが、ポリリン酸と加熱下に処理することによって、
対応する２、６−シメチル−４−オキソ−４日−ピラン
−３−カルボキサミド化合物を与えることを見出してい
る［ジャーナル、オブ、オルガニック、ケミストリー（
Ｊ。

Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、＞、２９．３５４８および３５５５
　（１９６４）参照コ。アール、ガーナ−（Ｒ，Ｇａｒ
ｎｅｒ）等［シャーｔ）Ｉ、ｔ、　オフ、　＋ｆ。

ケミカル、ソサエティ（Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、）（Ｃ
）　、１８６　（１９６６）参照コはマラムス等の報告
が電子吸引性の置換基を有するアセトアセトアニリド誘
導体に特徴的な反応性であることを支持している。しか
し、この方法によると、アセトアセトアニリドそのもの
を用いると、２−ヒドロキシキノリン誘導体を与え、ピ
ロン化合物は生成すら認められていない。

特公昭４５−３１６６３号公報はイソシ）ノナート類と
ジケテンとを酸性触媒の存在下反応させることを特徴と
する、３，４−シバイドロー２，４−ジオキソ−６−メ
チル−２Ｈ−１，３−オキサジン類および（又は）２．
６−シメチルー４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボ
キサミド類（上記公報には３−カルバミル−２，６ジメ
チルー４−ピロン類としている）の製造法を記載してお
り、この併発反応においてＯ−クロロフェニルイソシア
ナート、Ｏ−ニトロフェニルイソシアナート等のオルト
置換体、ｍ−ニトロフェニルイソシアナート等のメタ置
換体は後者の２．６−シメチルー４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド類への反応が優勢であると観
測している。この方法は原料のイソシアナートが容易に
入手出来る場合には有効でおるが、イソシアナートの構
造が反応選択性に重大な影響を有している結果、一般的
に応用できる方法であるとは言い難い。

また、ジケテンと第１級アリールアミン類との反応成績
体として、２，６−シメチルー４−オキソ−４日−ピラ
ン−３−カルボキサミド化合物が得られることは知られ
ており、次記のごとくアニリン誘８体、アミノトロポン
類、アミノピリジン類についてその反応が詳細が報告さ
れている。

加藤等［薬学雑誌、旦ユ、１２１２　（１９６７）参照
］はジケテンとアニリン誘導体との反応を検討し、塩基
性触媒の存在下ではピリドン型閉環体が得られることを
報告しており、例外として、ｐ−ニトロアニリンは２．
６−シメチルーＮ−（４−ニトロフェニル）−４−オキ
ソ−４日−ピラン−３−カルボキサミドを与えることを
明らかにしている。

エイチ、トダ（Ｈ，ＴＯｄａ）等［ケミカル、アンド、
ファーマシューテイカル、ブリティン（Ｃｈｅｍ、ｌ）
ｈａｒｍ、１３ｕ　ｌ　ｌ　）、皿、１４７７　（１９
７１）参照］はアミノトロポン類のジケテンとの反応を
報告しているが、４−アミノトロポンおよび２−アミノ
トロポンを用いた場合には４−ピロン体が得られ、５−
アミノトロボロンを用いた場合にはピリドン閉環体が得
られている。アミノピリジン類の反応の検討の結果［テ
ィ。

カド−（Ｔ、Ｋａ↑０）等、Ｃｈｅｍ、Ｐｈａｍ。

Ｂｕｌｌ、、２０．１３３　（１９７２）参照１．２−
アミノおよび４−アミノピリジン１体は主として４−ピ
ロン体を生成し、３−アミノピリジン誘導体では主とし
てピリドン型閉環体を生成することが明らからされた。

また、異項環アミンの反応性についての知見はアール、
エフ、ローエル（Ｒ，Ｆ、Ｌａｕｅｒ）等、　シｖ　−
す）Ｉ、ｔ　、　オフ　。

ヘテロサイクリック、ケミストリー（Ｊ、ト１ｅｔｅｒ
ｏｃｙｃｌｉｃ　　Ｃｈｅｍ、＞１３．２９１（’１９
７６）参照コの報告にも見出すことができ、２−アミノ
−１，３，４−チアジアゾールが収率は不明ながら４−
ピロン体を与える。以上のことから明らかなように、ジ
ケテンと第１級アリールアミン類との反応は、アリール
）アミノの構造が反応の選択性に重質な影響を及ぼし、
原料として１級のアリールアミン類を用いる限り、この
選択性を４−ピロン体生成に有利となるように変化させ
ることは従来不可能であった。

同様にして、前記の方法で反応中間体と考えられるアリ
ールアミン類のアセトアセチル誘導体をジケテンと処理
した場合もアリールアミンの構造によってピリドン閉環
体が得られる場合および４−ピロン体が得られる場合が
報告されている。特筆すべきは、ピリドン閉環体の生成
が不可能である第２級アリールアミンであるＮ−メチル
アニリンの場合は、４級アンモニウムクロライドを触媒
としてほぼ定量的に４−ピロン体が得られる事実である
［ニー、ファウ、デームロウ（Ｅ、Ｖ、Ｄｅｈｍｌｏｗ
）、アー、エル、シエモウト（Ａ。

ＲｏＳｈａｍｏｕｔ）、リービッヒス、アンナーレン、
デア、ヒエミー（ＬｉｅｂｉＱＳ　　Ａｎｎ。

Ｃｈｅｍ、＞、２０６２　（１９８２）参照］。

また、２．２．６−ドリメチルー１，３−ジオキシン−
４−オンを用いて４−ピロン体を得る反応は知られてい
る。ディ、カド−等［Ｃｈｅｍ。

Ｐｈａｒｍ、Ｂｕｌ　１０．３０．１３１５　（１９８
２）参照］は、アミド類ならびにそのアセトアセチル体
と、２，２．６−ドリメチルー１，３−ジオキシン−４
−オンとの反応を検討しており、その中でＮ−ホルミル
アセトアセトアミドは＼。

Ｎ−ジメチルアニリン存在下、２．２．６−ドリメチル
ー１，３−ジオキシン−４−オンと反応し、主生成物と
してピリドン型閉環体を、副生成物として４−ピロン体
を与えることを報告している。

上）ホした範囲の４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カル
ボキサミド化合物を製造する従来法は、出発物質の＠造
によって選択率が影響をうける点で共通した特徴を有し
ており、一般的に応用しうる方法ではない。この困難さ
を回避する方法も従来知られており、加藤等［薬学雑誌
、１０１．４０（１９８１）参照］は３−モルホリノク
ロトンアニリド誘導体とジケテンとを加熱反応すると、
対応する４−ピロン体が得られることを報告しておリ、
３−モルホリノクロトンアニリド誘導体の唱道の変化は
、収率に重大な影響を与えないように推測される。この
方法は、しかしなから、３−へンシルアミノクロトンア
ニリド誘導体を用いたｊＷ合には、ピリドン閉環体の混
合物を生成してしまう。

（発明の目的）この発明は、４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボキ
サミド化合物をＨａするために、一般的に応用可能な方
法を示すものであり、従来の知見から予想される結果と
は相異なる観察に基いて完成したものでおる。

（発明の構成）この発明は一般式（１）、〈工′）、（■”）、（Ｉ′
）または（Ｉ　”）　：Ｎ−Ｒ２Ｒ２′ ≦ Ｒ３−Ｃ＝ＣＣＯＮＨ−Ｒ１（Ｉ＞ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３Ｒ２Ｒ３〜Ｃ−ＣＨＣｏＮＨＲ１＜Ｉ’）ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３［Ｒ１、Ｒ２およびＲ２／は同一もしくは異って、水素
原子、アルキル基、シクロアルキル阜、アリール基、ア
ラルキル基または異項環基；Ｒ３はアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル塞、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、アラルキル基、ハロゲン化低
級アルキル基、異項環基またはアリール暴を表わす］で
表される化合物を、一般式（Ｉ［）（Ｒ４・Ｒ５は水素原子、アルギル基あるいはフェニル
曇またはＲ４・およびＲ５が共にアルキル基のときシク
ロアルキル基を形成してもよい。］で表される化合物ま
たはジケテンの存在または非存在下に第３吸付機塩暴で
処理して、一般式（■）：［式中Ｒ１、Ｒ３は上記と同
じコの化合物を得ることを特徴とするγ−ピロン誘導体
の製造法を要旨する。

この発明の方法で原料として用いられる一般式（１）、
（Ｉ′）、（Ｉ“）、（Ｉ′）またはく■すの化合物は
、一般式（ＩＶ）：Ｒ３ＣＯＣＨ２Ｃ０ＮＨＲ”　　　　（ＩＶ）［式中Ｒ
１，Ｒ３は上記と同じ］の化合物と一般式（Ｖ）；Ｒ２Ｒ２’ＮＨ、（Ｖ）Ｃ式中Ｒ２、Ｒ２／は上記と同じ］の化合物との脱水縮
合反応の方法などによって得られる一般式％式％［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ２／、Ｒ３は上記と同じ］の化合
物あるいは、Ｒ２、Ｒ２’の少なくとも１つが水素原子
である場合には、その互変異性体と、ジケテンとを無溶
媒または不活性有機溶媒中、ジケテンを活性化しうる含
窒素有機化合物の存在下に、好ましくは６０’Ｃ以下の
温度で処理することによって容易に得られる。このうち
、一般式（Ｉ′）、（■す、（Ｉす、の化合物は、一般
式（Ｖｌ　”）におけるＲ２′が水素原子である場合に
得られる。ここで、用いられる含窒素有機化合物として
は、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソ
ブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ、Ｎ。

Ｎ−、Ｎ−−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ。

＼、Ｎ”、Ｎ−一テトラメチルー１．３−プロパンジア
ミン、Ｎ　、　Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、　Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチル−〇−トルイジン、ピ
リジン、α−ピコリン、Ｂ−ピコリン、γ−ピコリン、
４−ジメチルアミノピリジン、４−ピロリジノピリジン
、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ、
Ｎ”−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルモルホリン、１
．４ジアザビシクロ［２，２，０１オクタン、１，５−
ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−５などの脂
肪族、芳香族もしくは複索環式の第３級有機塩基；テト
ラメチルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルト
リブチルアンモニウムクロライド、Ｎ−ラウリルピリジ
ウムクロライド、Ｎ−ベンジルピコリニウムクロライド
などの第４級アンモニウム塩：アンバーリストＡ−２１
、アンバーリストＡ−２６（Ｃ１−形）、アンバーリス
トＡ−２７（ＣＩ−形）、ダイアイオン〜ＶＡ３０など
の交換基が第３＠アミノ基または第４＠アンモニウム塩
でおる陰イオン交換、樹脂：イミグソール、１，３−チ
アゾリジン−２−チオン、１゜３−オキサゾリン−２−
オン、１，３−オキシシリジン−２−オン、Ｎ−ヒドロ
キシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミド、
２−ピリジンチオールなどの活性アミド、活性エステル
、もしくは活性チオールエステルを形成しうる複素環化
合物などが挙げられる。

なお、このようにして、得られる一般式（Ｉ＞、（Ｉ″
）、（■つ、（Ｉすまたは（Ｉすの化合物は互変異性に
もとずく他の異性体構造式をとりうる。

これらの化合物の生成比率は、原料である（Ｖｌ）の種
類、用いる溶媒及び含窒素有機化合物の種類、楢、反応
温度、反応時間などによって異なる。又、これらの化合
物は、塩基性物質などの存在で相互に変換しうるちので
ある。

Ｒ１、Ｒ２およびＲγの定義において、アルキル基とし
てはメチル、エチル、プロピル、第３級ブチル、ペンチ
ル、オクチル、ドデシルのような炭素１〜１２のアルキ
ル基；シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シ
クロヘキシルのような炭素数３〜７のシクロアルキル基
；アリール基としては塩素、臭素、弗素のようなハロゲ
ン原子、メチル、エチルまたはプロピルのような低級ア
ルキル基：メトキシ、エトキシまたはプロポキシのよう
な低級アルコキシ塁：フエノキシ基、メトキシカルボニ
ル又はエトキシカルボニルのような低級アルコキシカル
ボニル基ニジアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基
で任意に置換されてもよいフェニル基またはナフヂル阜
；アラルキル基としては、上記に示したアリール基で置
換された低級アルキル基などが挙げられる。また異項ｔ
Ｗ　ｕとしては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、から
選択されたベテロ原子を１〜３個含有する５もしくは６
員の異項環基が含まれる。例えばフリル、テトラヒドロ
フリル、チェニル、チアゾリル、チアジアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、ピラゾ
リルなどの５員環の基：およびピリジル、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル、モルホリノ、などの６０環
が挙げられる。

これらの曇はメチル又はエチルのようなアルキル基：メ
トキシまたはエトキシのようなアルコキシ基：ハロゲン
原子またはフェニル基で置換されてもよい。フェニル基
で買換された場合、環内の２つの炭素原子と結合して縮
合環を形成してもよい。

縮合環を形成した場合の例としては、ベンゾチアゾリル
、ベンゾフリル、キナゾリニル、キノキサリニル基など
が挙げられる。またＲ２およびＲ２／が共にアルキル基
の場合は、それらが結合するアミノ塁の窒素原子及び場
合により他の異原子と共に、異工ｎ環阜を形成してもよ
い。この様な異項環基の具体例としては、ピロリジン環
、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環などが挙
げられる。Ｒ３の定義において、アルキル基、シクロア
ルキル基、アラルキル基、異項環基またはアリール基と
しては、Ｒ１における例示と同じものが含まれる。

また低級アルケニル基及び低級アルキニル基にはビニル
、アリル、イソプロペニル、２−ブテニル、１．３−ブ
タジェニル、２−ペンテニル、１゜４−ペンダジェニル
、１．６−へブタジェニル、１−へキセニル、エチニル
、２−プロピニルなどが含まれる。

低級アルコキシアルキル基にはメトキシメチル、エトギ
シメヂル、プロポキシメチル、ブトキシメチル暴などが
含まれる。

ハロゲン化低級アルキルｌにはトリフルオロメチル、ジ
フルオロメチル、フルオロメチル、クロロメチル、２−
クロロエチル、３−クロロプロピル、２−ブロモエチル
、ｔｌ−タロロブチルなどが含まれる。

一方；一般式（ＩＩ＞で表わせる化合物はジケテンとケ
トンあるいはアルデヒドとの付；１０物で、従来既知の
方法で製造することができる［エム、エフ。

キャロル（Ｍ、Ｆ、Ｃａｒｒｏ　ｌ　）　、ニー、７−
ル、ベーグー（Ａ、Ｒ，Ｂａｄｅｒ＞、ジエー。

アメリカン、ケミカル、ソサエティー（Ｊ、Ａｍｅｒ、
Ｃｈｅｍ、５ｏｃ）、７４．６３０５　（１９５２）：
同上、７５．５４００　（１９５３）：イー、ブイ、デ
ムロフ（Ｅ、Ｖ、Ｄｅｈｍｌｏｗ）、ニー、アール、シ
ャモウト（Ａ、Ｒ，Ｓｈａｍｏｕｔ）、リービイヒス、
アナーレン、デル、ヘミ−（Ｌ　ｉｅｂｉｇｓ　　Ａｎ
ｎ、Ｃｈｅｍ、、１７５３　（１９８２）参照］。

一般式（ＩＩ）におけるＲ４とＲ５は水素原子、アルキ
ル基あるいはフェニル基を意味し、又はＲ４とＲ５が共
にアルキル基のとき両者が結合してシクロアルキル基を
形成していてもよい。これらのＲ４とＲ５は、目的物に
導入されない基で必り、入手容易で安価なものを選択利
用するのが望ましい。一般式（ＩＩ）の好ましい化合物
としては、２．２．６−ドリメチルー４１−１−’１．
３−ジオキシンー４オンか埜げられる。

第３扱有機塩基としては、脂肪族もしくは芳香族第３＠
アミンおよび窒素含有複素環塩基が含まれる。脂肪族第
３級アミンとしては、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリイソブチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルベン
ジルアミン、Ｎ、　Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン
、Ｎ、Ｎ、Ｎ−。

Ｎ＝−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ、Ｎ。

Ｎ，Ｎ−−テトラメチル−１，３−プロパンジアミン、
など、芳香族第３級アミンとしては、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ
、Ｎ−ジメチル−〇−トルイジンなど、窒素含有複素環
塩基としては、ピリジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−
メチルピロリジン、Ｎ、Ｎ”−ジメチルピペラジン、Ｎ
−メチルモルボリン、１．４−ジアザビシクロ［２，２
，２］オクタンなどが挙げられる。

この発明において一般式（Ｉ＞、（Ｔ′）、（■つ、（
■すまたは（Ｉ′つの化合物は、単離して用いてもよい
が、一般式（Ｖｌ　）の化合物とジケテンとの反応混合
物のまま、おるいは、その反応混合物を濃縮、溶媒交換
、濾過等の処理を施したものを用いることも可能でおる
。

この発明における反応溶媒として、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘキサンなどの炭化水素；クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化合物；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アニソールなどのエーテル等が用い
らねるが、無溶媒下で行うことも可能である。

反応温度は、−２０’Ｃ〜２００’Ｃの範囲で選ぶこと
ができるが、特に一般式（ＩＩ）の化合物を用いる場合
にはその熱分解温度を目安として、　約１００″Ｃから
１５０℃の範囲で行うのが好ましい。

本発明において一般式（ＩＩ＞で表される化合物または
ジケテンは必要不可欠ではないが、一般式（Ｉ＞、（Ｉ
″）、（■”）、（■す又は（■“つの化合物に対して
、０．２当は以上用いると好結果が得られる。特に好ま
しくは０．５〜４．０当旦の範囲である。４当量を越え
て用いてもよいが、より大きな効果はなく経演的に不利
である。第３級有機塩基の使用世は、一般式（Ｉ＞、（
Ｉ″）、（■つ、（Ｔ′）又は（Ｉ”’）の化合物に対
して０゜５当は以上、好ましくは１当旦以上用いた場合
に好結果が得られる。この第３級有ｌａ塩基を溶媒とし
て用いることも可能でおる。第３　＠′＋ｉ機塩基は上
記に例示したものから適宜選択利用すればよいが、トリ
エチルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ−−テトラメチルエチ
レンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチル
ピペリジンなどの使用が望ましい。

（発明の効果）この発明の方法によると、従来選択的な合成が不可能で
あった４−オキソ−４日−ピラン−３−力ルボキサミド
化合物が、入手しやずい原料を用い、簡単な操作によっ
て、収率よく得ることができるようになった。

以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。

実施例１２．６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド３−ベンジルアミノクロトンアニリド１．３３ｑ　（５
ｍｍｏ　ｌ　）　、イミダゾール０．１７ＣＪ（２゜５
ｍｍｏ　Ｉ　＞およびトルエン７威の混合物に、水冷下
、ジケテン０．５ｙ　（６ｍｍｏ　Ｉ　）のトルエン（
３ｍｌ）溶液を５分かけて滴下し、さらに水冷下、３時
間攪拌した。析出した結晶を濾別洗浄し、減圧下に乾燥
すると、１，４．５．６−テトラヒドロ−６−ヒドロキ
シ−２，６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−１
−フェニルメチル−３−ピリジン力ルポキサミド１．Ｏ
（１（収率６２゜４％）が得られた。

融点：８２．０〜８３．０’ＣＩＲ（Ｋ８ｒディスク）　　：　ｖ　　　　１６３０ｃ
ｍ−ＩＣ＝ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）δ値：１．３８　（ｓ、３Ｈ）　、２．４０　（ｓ、３Ｈ）、
２、　　７９　　（ｑ、　　　２Ｈ）　　、　　４．　
　６９　　（ｑ、　　　２　　ト１　）　、５．３５　
（ｂｒ、ＩＨ）、６．５０−７．７０　（ｍ。

１０Ｈ）、１１．４６　（ｓ、１Ｈ）上記化合物１．０５ｇ（３ｍｍｏ　ｌ　＞　、トリエチ
ルアミン１．８２ｇ及びトルエン４．６ｄの混合物を加
熱還流させながら、２，２．６−ドリメチルー４Ｈ−１
，３−ジオキシン−４オン（６ｍｍｏ　ｌ　）のトルエ
ン溶液３ｄを１０分間かけて滴下し、ざらに１時間加熱
還流を続けた。溶媒を沼去した残渣をトルエンとエーテ
ルの混合物から晶析し題詞化合物６２０ｍ！ｊ（収率８
５％）を得た。

融点：１４８．５〜１４９°ＣＩＲ（ＫＢｒディスク）：　’ｌ　６５２．１６８２ｃ
ｍ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３）δ値：２．２４　（ｓ、
　３Ｈ）２．８２　（ｓ、３Ｈ＞　、６．２０　（ｓ、
１Ｈ）、６．８０〜７．８０　（ｍ、５Ｈ）、１１．９
７（ｂｒ、ＩＨ）。

実施例２２．６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４日−
ピラン−３−カルボキサミド第３級有機塩基として、Ｎ、Ｎ、Ｎ−、Ｎ−−テトラメ
チルエチレンジアミン９ｍｍｏ　ｌを、また２、２．６
−ｉ−リッヂルー４８−１．３−ジオキシン−４オンの
かわりにジケテン３ｍｍ０　＋を用いた他は実施例１と
同様の操作を行い、題詞化合物５６２ｍｇ（収率７７％
）を得た。

融点：１４８．５〜１４９°Ｃ実施例３２．６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４日−
ピラン−３−カルレボキサミド第３級有機塩基として、Ｎ、Ｎ、Ｎ′、Ｎ−−テトラメ
チル−１，３−プロパンジアミン１２ｍｍｏｉを、また
２、２．６−ドリメチルー４Ｈ−１，３−ジオキシン−
４オンのかわりに、２−エチル−２，６−シメチルー４
Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン４．５ｍｍｏ　ｌを
用いた他は実施例１と同様の操作を行い、題詞化合物６
０６ｍｇ（収率８３％）を得た。

融点：１４８．５〜１４９°Ｃ０実施例４Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，６−ジメチル
−４−オキソ−４日−ビラン−３−カルボキサミド２．６−ジニチルアセトアセトアニリド２．３３ｙ　（
１０ｍｍｏ　ｌ　）　、ブチルアミン０．８０ｇ（１１
ｍｍ０　＋　）およびトルエン２７ｄの混合物に酢酸１
滴を加え、５０°Ｃで１時間ｍ拌した後、１時間加熱還
流し、その間に生成した水と未反応のブチルアミンをト
ルエン約１０ｍＩＱと共に留去した。この反応混合物に
、イミタゾール０．０７ｇ（１ｍｍＯ１）を加えた後、
水冷下にジケテン１゜０１Ｑ　（１２ｍｍＯｌ＞のトル
エ／（５ｍｌ＞溶液を１０分間かけて滴下し、ざらに水
冷下、７時間攪拌した。エーテル約１０彪を加えた後、
析出した結晶を濾別洗浄し、減圧下に乾燥すると、１−
ブチル−Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，４，
５，６−チトラヒドロー６−じドロキシ−２，６−シメ
チルー４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミドが２．
４６ｇ（収率６６．０％）得られた。

融点：１２１．５〜１２３．０’ＣＩＲ（ＫＢｒディスク）　ニジ　　　　　１６２５ｃｌ
’Ｃ≠ＯＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＩ３　＞δ埴：１．１７　　（１，６Ｈ）１．２８　　（８，３Ｈ）、
０．５０−１．９０　（ｍ、７Ｈ）、２．５２　　（ｓ
。

３Ｈ）、２．００−３．００　（ｍ、６Ｈ）３．００−
３．７０　（ｍ、２Ｈ＞５．６７　　（ｓ、１Ｈ）、７
．０２　（ｓ、３Ｈ）　、１０．８５　（ｓ、１Ｈ＞上
記化合物、トリエチルアミン及び２．２．６−ドリメチ
ルー４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オンを用い実施例
１に準じて反応を行った。、得られた反応混合物から溶
媒を留去し、その残漬をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフィーに１寸した後、ヘキサンから再結晶操作
を行い、題詞化合物を収率８５％で得た。

融点：８３．５〜８４，５℃ 工Ｒ（ＫＢｒディスク）：　１６５５．１６７５ｃｍ−
’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２　＞δ値：１．１７　（ｔ、６Ｈ
）、２．２９　（ｓ、３Ｈ＞、２．６１　（ｑ、４Ｈ＞
、２．８０　（ｓ、３Ｈ）　、６．２４　（ｓ、１Ｈ＞
、７．０８　（５，３Ｈ）、１１．０　（ｂｒ、１Ｈ）
実施例５Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，６−シメチル
ー４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボキサミド２．６−ジニチルアセトアセトアニリド２．３３ｃＪ（
１０ｍｍｏ　ｌ　）　、β−フェネチルアミン１゜２１
　’Ｊ　（１０ｍｍｏ　ｌ　）およびトルエン１７威の
混合物に酢酸１滴を加え、１時間加熱還流し、その間に
生成した水をトルエン約１０ｍと共に留去した。この反
応混合物に、トリエチルアミンを１゜０１９　（１０ｍ
ｍｏ　ｌ　）および塩化メチレン２ｒｎＩｌ加え、これ
に水冷下、ジケテン１．１８ｇ（１４ｍｍｏ　ｌ　）の
トルエン（３威）溶液を１０分間かけて滴下し、ざらに
水冷下、６時間攪拌した。塩化メチレンを減圧下に留去
した後、エーテルを約１０ｄ加えた。析出した結晶を濾
別洗浄し、減圧下に乾燥すると、Ｎ−（２，６−ジニチ
ルフエニル）−１，４，５，６−テトラヒドロ−６−ヒ
ドロキシ−２，６−シメチルー４−オキソ−１−（２−
フェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミド３．６
２ｙ　（収率８６．１％）が得られた。

融点：１２１．Ｏ〜１２２．０’ＣＩＲ（Ｋ１３ｒデイスク）ニジ　　　　　１６２０ｃｍ
−’ｃ＝ｏ’ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ１０）δ値：１、　　１５　　（ｔ、　　　６Ｈ）　　、　１．　　
２７　　（ｓ、　　３　　トＩ・）　、２．５７　（ｓ
、３Ｈ）、２．１０−３．３０　（ｍ。

８Ｈ）　、３．３０−４．００　（ｍ、２Ｈ）　、４゜
３０−５．７０　（ｂｒ、ＩＨ）、６．８５−７．６０
　（ｍ、８Ｈ）１０．８４　（ｓ、１Ｈ）上記化合物、
トリエチルアミン及び２．２．６−ドリメチルー４Ｈ−
１，３−ジオキシン−４オンを用い実施例１に準じて反
応を行った。得られた反応混合物から溶媒を留去し、そ
の残漬をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー
に付した後、ヘキサンから再結晶操作を行い、題詞化合
物を収率８３％で得た。

融点：８３．５〜８４．５°Ｃ０実施例６四−（２−クロロフェニル）−２，６−シメチルー４−
オギソー４Ｈ−ピラン−３−カルポギサミ０−クロロア
セトアセトアニリド及びベンジルアミンを出発原料とし
、実施例５と同様の操作により１−（２−クロロフェニ
ル）−６−ヒトロキシー６−メチルー３−（１−フェニ
ルメチルアミノエチリデン）−２，４−ピペリジンジオ
ン（融点：１６１〜１６２℃）を得た。この化合物と、
トリエチルアミン及び２．２．６−トリメチル−４日−
１，３−ジオキシン−４−オンを用いて実施例１に準じ
た操作を行い、題詞化合物を収率９２％で得た。

融点：２０６〜２０７°Ｃ０ＩＲ（ＫＢｒディスク）　：　１６５０．　１６９５ｃ
ｆｆｌＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　）δ値：２．２８　（ｓ、３Ｈ）、２．８３　（ｓ、３Ｈ）、６
．２４　（ｓ、１Ｈ）　、６．７０−８．６０　（ｍ。

４Ｈ＞　、１２．４２　（ｂｒ、　　１１−１＞。

実施例７Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−６−メチル−４−
オキソ−２−プロピル−４日−ピラン−３−カルボキサ
ミドＮ−（２，６−ジニチルフエニル）−３−オキソヘキサ
ン酸アミド及びベンジルアミンを出発原料とし、実施例
５と同様の操作により、Ｎ−（２゜６−ジニチルフエニ
ル）−１’、４，５．６−テトラヒドロ−６−ヒドロキ
シ−６−メチル−４−オキソ−１−フェニルメチル−２
−プロピル−３−ピリジンカルボキサミドを得た。融点
：１３９〜１４０’Ｃ。

この化合物とトリエチルアミン及び２．２．６−ドリメ
チルー４Ｈ−１，３−ジオキシン−４オンを用いて実施
例５に準じた操作を行い、題詞化合物を収率８２％で得
た。　　゛融点：６３〜６９．５゜ＩＲ（ＫＢｒディスク）：１６２７，１６４０゜１６７
０ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　）６１直：０．９８　（ｔ、３Ｈ＞、１．１７　（↑、６Ｈ）、１
、　　７５　　（ｓｉｘ　　、　　　２Ｈ）　　、　　
２．　　２８　　（ｓ、　　　３　　ト１　）　。

２．６３　（、Ｑ、４Ｈ）　、３．２４　（ｔ、２Ｈ）
。

６．２４　（ｓ、ＩＨ）　、７．０６　（ｓ、３Ｈ）。

１０．９８　（ｂｒ、ＩＨ＞実施例８２．６−ジメチル〜Ｎ−（１−メチル−１−〕工二ルエ
チル）−４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボキサミ
ド＼−（１−メチル−１−フェニルエチル）−３−オキソ
酪酸アミド及びメチルアミンを出発原料として、実施例
５に準じた操作を行い角化合物を収率７３％で得たく油
状物）。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　＞δ値：１．７２　（ｓ、６Ｎ＞、２．２３　（ｓ、３Ｈ）、２
．６４　（ｓ、３Ｈ）、６．１５　（ｓ、１Ｈ＞、７．
００−７．５０　（ｍ、５Ｈ）、９．８９　（ｂｒ。

１Ｈ）。

実施例９＼−シクロへキシル−２，６−シメチルー４−オキソ−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミドＮ−シクロへキシル
−３−オキソ酪酸アミド及びベンジルアミンを出発原料
として、実施例５に準じた操作を行い題詞化合物を収率
７９％で得た。

融点＝１４０〜１４２．５°ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ３＞δ値：０．８０−２．２０　（ｍ、１０Ｈ）　、２．２９（Ｓ
、３Ｈ）　、２．７９　（ｓ、３Ｈ）　、３．９０（ｂ
ｒ、’ＩＨ）　、６．２２　（Ｓ、ＩＨ）　、９．６２
（ｓ、ＩＨ）。

実施例１０２．６−シメチルーＮ−（５−メチル−１，３゜４−デ
アジアゾール−２−イル）−４−オキソ−４Ｈ−ピラン
−３−カルボキサミド。

Ｎ−（５−メチル−１，３，４−ヂアジ）メゾ−ルー２
−イル）−３−オキソ酪酸アミド及びベンジルアミンを
出発原料として、実施例５に準じた操作を行い、題詞化
合物を収率７７％で衝た。

融点：２０３〜２０４°ＣＩＲ（ＫＢｒディスク）：　１６５５，１６９０ｃｍ−
’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　＞δ値：２．３３　（ｓ、３１−１＞　、２．６８　（ｓ、３Ｈ
）、２．８５　（ｓ、３Ｈ）　、６．２７　（ｓ、１ｌ
−１）。

１２．５０−１４．５０　（ｂｒ、ＩＨ）実施例１１６−メチル−４−オキソ−＼、２−ジフェニルー４日−
ビービラン−カルボキサミド α−ベンゾイルアセトアニリド及びベンジルアミンを出
発原料として、実施例５に準じた操作を行い題詞化合物
を収率８１％で得た。

融点：２２２〜２２６°ＣＩＲ（ＫＢｒディスク）：１６０７．１６５５．１６７５ｃｍ’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ６　）δ値：２．３６　（ｓ、３Ｈ）　、６．２８　（ｓ、ＩＨ）　
、。

６．８０−７．８０　（ｍ、１０Ｈ）　、１０．２３（
ｂｒ、１Ｈ）実施例１２＼−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメｆルー４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド０−クロロアセトアセトアニリド及び０−クロロアニリ
ンを出発原料とし、酢酸のかわりにｖ４塩酸を用いる他
は実施例５に準じた操作を行い題詞化合物を収率８８％
でＩＨ７だ。

融点：２０６〜２０７°Ｃ０実施例１３

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式（ I ）、（ I ′）、（ I ″）、（ I ′
″）または（ I ″″）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ″） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′″） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ″″）［Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾２＾′は同一もしくは異つ
て、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基または異項環基；Ｒ＾３はアルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアル
キル基、低級アルコキシアルキル基、アラルキル基、ハ
ロゲン化低級アルキル基、異項環基またはアリール基を
表わす］で表される化合物を、一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（Ｒ＾４、Ｒ＾５は水素原子、アルキル基あるいはフェ
ニル基またはＲ＾４、およびＲ＾５が共にアルキル基の
ときシクロアルキル基を形成してもよい。］で表される
化合物またはジケテンの存在または非存在下に第３級有
機塩基で処理して、一般式（III）：▲数式、化学式、
表等があります▼（III）［式中Ｒ＾１、Ｒ＾３は上記と同じ］の化合物を得るこ
とを特徴とするγ−ピロン誘導体の製造法。
（２）一般式（II）の化合物またはジケテンの存在下に
なされる特許請求の範囲第１項に記載の製造法。
（３）一般式（II）の化合物が、ジケテンとアセトン、
メチルエチルケトンもしくはメチルイソブチルケトンと
の付加物である特許請求の範囲第１項または第２項に記
載の製造法。
（４）一般式（II）の化合物またはジケテンが、一般式
（ I ）、（ I ′）、（ I ″）、（ I ′″）または（
I ″″）の化合物に対し、０．５〜４．０当量用いら
れる特許請求第１〜第３項のいずれか１つに記載の製造
法。
（５）第３級有機塩基がトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ
′、Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ
′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−プロパンジアミンで
ある特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１つに記
載の製造法。
（６）第３級有機塩基が一般式（ I ）、（ I ′）、（
I ″）、（ I ′″）または（ I ″″）の化合物に対
し、０．５当量以上用いられる特許請求第１項〜第５項
のいずれか１つに記載の製造法。