JPS63106951A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPS63106951A JPS63106951A JP25071086A JP25071086A JPS63106951A JP S63106951 A JPS63106951 A JP S63106951A JP 25071086 A JP25071086 A JP 25071086A JP 25071086 A JP25071086 A JP 25071086A JP S63106951 A JPS63106951 A JP S63106951A
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- JP
- Japan
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- coating
- substrate
- solvent
- optical recording
- recording layer
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光記録媒体の製造方法に関し、更に詳しくは光
デイスク記録媒体の記録層の塗布方法に関するものであ
る。
デイスク記録媒体の記録層の塗布方法に関するものであ
る。
［従来の技術］
従来、光学的有機記録媒体はプラスチックなどの透明な
基板上に有機色素を主成分とする記録層を設け、該記録
層の表面に集束したレーザー光を走査し、レーザー光が
照射された表面の部分のみにピットが形成され、情報が
高密度に記録される。
基板上に有機色素を主成分とする記録層を設け、該記録
層の表面に集束したレーザー光を走査し、レーザー光が
照射された表面の部分のみにピットが形成され、情報が
高密度に記録される。
この記録された情報は１弱いレーザー光を走査して、ピ
ットが形成された部分とピットが形成されていない部分
の反射率、透過率等の光学的変化を検出することにより
読み出しが行われる。
ットが形成された部分とピットが形成されていない部分
の反射率、透過率等の光学的変化を検出することにより
読み出しが行われる。
上記の光学的有機記録媒体の記録層を形成する方法とし
ては、塗布による形成方法がスパッタ法、真空蒸着法等
の形成方法よりも生産性、コスト、歩留り等の点て有利
である。
ては、塗布による形成方法がスパッタ法、真空蒸着法等
の形成方法よりも生産性、コスト、歩留り等の点て有利
である。
塗布方法としてはスピンコード、浸漬法、ロールコート
、バーコード、ナイフコート、ブレードコート、スプレ
ーコート、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、
凹版印刷、スクリーン印刷、タンポ印刷等の方法が行わ
れているが、これらのうち継ぎ目がなく、均一でかつ平
滑な表面が得られ、低廉かつ生産性のよい塗布方法とし
ては浸漬塗布方法が好適である。
、バーコード、ナイフコート、ブレードコート、スプレ
ーコート、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、
凹版印刷、スクリーン印刷、タンポ印刷等の方法が行わ
れているが、これらのうち継ぎ目がなく、均一でかつ平
滑な表面が得られ、低廉かつ生産性のよい塗布方法とし
ては浸漬塗布方法が好適である。
第１図は浸漬塗布方法の一例を示す説明図である。同第
１図において、浸漬塗布方法は、駆動モーター５の駆動
により昇降ねじ４を回転し、基板ｌを支持している支持
棒６を上下に移動せしめて基板１を塗布槽３中の塗布液
２に浸漬し、次いで引き上げることにより基板上に記録
層を形成する方法である。
１図において、浸漬塗布方法は、駆動モーター５の駆動
により昇降ねじ４を回転し、基板ｌを支持している支持
棒６を上下に移動せしめて基板１を塗布槽３中の塗布液
２に浸漬し、次いで引き上げることにより基板上に記録
層を形成する方法である。
この場合、塗膜の膜厚は塗布液の濃度、塗布溶剤の蒸気
圧および引き上げ速度によって決定され、塗布液の濃度
が高く、引き上げ塗布速度が速く、塗布溶剤の蒸気圧が
高いはど膜厚は厚くなることが知られている。
圧および引き上げ速度によって決定され、塗布液の濃度
が高く、引き上げ塗布速度が速く、塗布溶剤の蒸気圧が
高いはど膜厚は厚くなることが知られている。
しかしながら、引き上げ速度が速い場合には、塗膜が乾
燥して固定されるまてに、だれを生じて被塗布体の上部
の膜厚は薄く、下部の膜厚は厚くなるという現象が起こ
る。特に、塗布液の濃度が低くて、塗布溶剤の蒸気圧が
低く、塗膜の乾燥がおそい場合には、だれ現象が非常に
発生しやすい。
燥して固定されるまてに、だれを生じて被塗布体の上部
の膜厚は薄く、下部の膜厚は厚くなるという現象が起こ
る。特に、塗布液の濃度が低くて、塗布溶剤の蒸気圧が
低く、塗膜の乾燥がおそい場合には、だれ現象が非常に
発生しやすい。
このような傾向は、特に光デイスク基板のように、中央
部に穴を有する被塗布体の場合、穴の周囲において４．
Ｖに著るしい。
部に穴を有する被塗布体の場合、穴の周囲において４．
Ｖに著るしい。
［発明が解決しようとする間届点〕
本発明は上記の様な従来技術の欠点を改善するためにな
されたものであり、浸漬塗布方法によって記録層を塗布
する工程において、特定の塗布溶剤を使用して塗布液の
濃度を３ｇ整し、さらに特定の塗布速度で基板を引き上
げることにより、良好な表面性および膜厚が得られるこ
とを知見し本発明を完成したものである。
されたものであり、浸漬塗布方法によって記録層を塗布
する工程において、特定の塗布溶剤を使用して塗布液の
濃度を３ｇ整し、さらに特定の塗布速度で基板を引き上
げることにより、良好な表面性および膜厚が得られるこ
とを知見し本発明を完成したものである。
［問題点を解決するための手段］
即ち、本発明は基板に浸漬塗布方法により記録層を形成
する光記録媒体の製造方法において、塗布溶剤として蒸
気圧が２０°Ｃにおいて １．５■ｍ１１ｇ以上の溶剤
を使用し、不揮発分濃度を０．１〜１０％に調整した塗
布液に基板を浸漬し、次いで塗布速度１．３〜２５ｃｍ
／分で引き上げて記録層を形成することを特徴とする光
記録媒体の製造方法である。
する光記録媒体の製造方法において、塗布溶剤として蒸
気圧が２０°Ｃにおいて １．５■ｍ１１ｇ以上の溶剤
を使用し、不揮発分濃度を０．１〜１０％に調整した塗
布液に基板を浸漬し、次いで塗布速度１．３〜２５ｃｍ
／分で引き上げて記録層を形成することを特徴とする光
記録媒体の製造方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明は、光記録媒体の浸漬塗布法によって記録層を塗
布する工程において、最も良好な表面性および膜厚が得
られる塗布溶剤の蒸気圧、塗布液の不揮発分濃度および
引き上げ塗布速度の関係を示したものである。
布する工程において、最も良好な表面性および膜厚が得
られる塗布溶剤の蒸気圧、塗布液の不揮発分濃度および
引き上げ塗布速度の関係を示したものである。
光記録媒体において、記録層の膜厚は記録感度、再生信
号強度、再生信号の誤まり率等に影響を及ぼすもので、
使用される染料および樹脂等の種類によって最適値が定
められている０通常は０．０３〜０．７給の範囲に選ば
れるが、この定められた膜厚に塗布するためには、塗布
液の濃度が低い場合には、塗布溶剤として佛点が低く、
蒸発熱の小さいものを選び、引き上げ塗布速度を速くす
ればよい。
号強度、再生信号の誤まり率等に影響を及ぼすもので、
使用される染料および樹脂等の種類によって最適値が定
められている０通常は０．０３〜０．７給の範囲に選ば
れるが、この定められた膜厚に塗布するためには、塗布
液の濃度が低い場合には、塗布溶剤として佛点が低く、
蒸発熱の小さいものを選び、引き上げ塗布速度を速くす
ればよい。
他方、塗布液の濃度か高い場合には、塗布溶剤として洟
点が高く、蒸発熱の大きいものを選んで、引き上げ塗布
速度を遅くすればよい。
点が高く、蒸発熱の大きいものを選んで、引き上げ塗布
速度を遅くすればよい。
この様な観点から、本発明者等の実験の結果。
本発明においては、引き上げ塗布速度１．３〜２５ｃｓ
／分において、不揮発分濃度が０．１〜ｌＯ％、好まし
くは０．５〜５％に調整した塗布液を用いることが望ま
しい。
／分において、不揮発分濃度が０．１〜ｌＯ％、好まし
くは０．５〜５％に調整した塗布液を用いることが望ま
しい。
不揮発分濃度が０．１％未満の場合には、引き上げ塗布
速度を２５ｃｍ／分をこえる高速にしなくては所望の膜
厚が得られず、しかもこのような高速で引き上げると、
塗膜のだれ、すなわち重力による塗布面のすり落ちが発
生して膜厚のムラがひどくなって光デイスク媒体として
不適当である。また不揮発分濃度が１０％をこえると引
き上げ塗布速度を著しく遅くしても膜厚が厚くなりすぎ
たり、塗料としての流動性が低下して不適当である。
速度を２５ｃｍ／分をこえる高速にしなくては所望の膜
厚が得られず、しかもこのような高速で引き上げると、
塗膜のだれ、すなわち重力による塗布面のすり落ちが発
生して膜厚のムラがひどくなって光デイスク媒体として
不適当である。また不揮発分濃度が１０％をこえると引
き上げ塗布速度を著しく遅くしても膜厚が厚くなりすぎ
たり、塗料としての流動性が低下して不適当である。
本発明に用いられる塗布溶剤としては蒸気圧が２０℃に
おいて１．５ ｍｍ１１ｇ以上、好ましくは１０〜４０
口謬■ｌ１ｇの溶剤が望ましく、蒸気圧が１．５ ｍ５
１１ｇ未満の場合には引き上げ塗布速度を遅くしてもだ
れが生じ、特に基板の中央部の穴の付近で著しいために
塗布膜の形成が困難である。
おいて１．５ ｍｍ１１ｇ以上、好ましくは１０〜４０
口謬■ｌ１ｇの溶剤が望ましく、蒸気圧が１．５ ｍ５
１１ｇ未満の場合には引き上げ塗布速度を遅くしてもだ
れが生じ、特に基板の中央部の穴の付近で著しいために
塗布膜の形成が困難である。
また、本発明において基板を前記濃度の塗布液から引き
上げる塗布速度は１．３〜２５ｃｍ／分、好ましくは３
〜２０ｃＩｌ／分か望ましく、１．：ｌ ｃｍ／分未満
ては膜厚が薄くなりすぎ、また２５ｃ＋ｍ／分をこえる
と膜厚が厚くなり、だれが生ずるので好ましくない。
上げる塗布速度は１．３〜２５ｃｍ／分、好ましくは３
〜２０ｃＩｌ／分か望ましく、１．：ｌ ｃｍ／分未満
ては膜厚が薄くなりすぎ、また２５ｃ＋ｍ／分をこえる
と膜厚が厚くなり、だれが生ずるので好ましくない。
本発明の光記録媒体の製造方法において、記録層を形成
する塗布液に含有される不揮発分としては、シアニン、
メロシアニン、トリフェニルメタン、ナフトキノン、キ
サンチン、スクアリウム。
する塗布液に含有される不揮発分としては、シアニン、
メロシアニン、トリフェニルメタン、ナフトキノン、キ
サンチン、スクアリウム。
アズレン、メチンおよびピリリウムなどを含めて、アゾ
、スチルベン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、ア
ントラキノン、トリフェニルメタン、キサンチン、アジ
ン系の酸性染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニ
ルメタン、アズレン、メチン、ピリリウム系の塩基性染
料、アゾ。
、スチルベン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、ア
ントラキノン、トリフェニルメタン、キサンチン、アジ
ン系の酸性染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニ
ルメタン、アズレン、メチン、ピリリウム系の塩基性染
料、アゾ。
アントラキノン、キサンチン、トリフェニルメタン系の
媒染、酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴイド系
の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシアニン、
トリフェニルメタン系の拘溶染料、硫化染料、およびジ
チオール系の金属錯体等が単独又は複数適宜混合して使
用される。
媒染、酸性媒染染料、アントラキノン、インジゴイド系
の建染染料、アゾ、アントラキノン、フタロシアニン、
トリフェニルメタン系の拘溶染料、硫化染料、およびジ
チオール系の金属錯体等が単独又は複数適宜混合して使
用される。
また、必要に応じてＪ＆膜性および塗膜安定性を考慮し
てバインダーを混合することもできる。
てバインダーを混合することもできる。
好適なバインダーとしては、広範な樹脂から選択するこ
とができる。具体的にはニトロセルロース、リン酸セル
ロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、醋酸セルロース、ミリスチン酸セルロー
ス、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セル
ロース、酢酸・醋酸セルロースなどのセルロースニスデ
ル類、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピル
セルロース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテ
ル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル
樹脂類、スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−
アクリロニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−
アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル
コポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレー
ト、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類、
ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポ
リ（４，４’−イソプロビリデンジフェニレンーコ−１
，４−０シクロヘキシレンジメチレンカーボネート）、
ポリ（エチレンジオキシ−３，３′−）ユニしンチオカ
ーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフ
ェニレンカーボネートーコーテレフタレート）、ポリ（
４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
）、ポリ（４，４’−５ｅｃ−ブチリデンジフェニレン
カーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジ
フェニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン）
などのポリアリ−レート樹脂類、あるいはポリアミド類
、ポリイミド類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類、フ
ェノール樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素
化ポリエチレン、ポリブテン、ポリイソブチレンなとの
ポリオレフィン類、天然ゴム、インブレンゴム、クロロ
プレンゴム等のエラストマー類などを用いることができ
、その他場合により樹脂以外の鯨ロウ、ミツロウ、ラノ
リン、カルナバワックス、キャンデリラワックス、モン
タンワックス、セレシンワックス等の天然ワックス、パ
ラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス等の
石油ワックス。
とができる。具体的にはニトロセルロース、リン酸セル
ロース、硫酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、醋酸セルロース、ミリスチン酸セルロー
ス、パルミチン酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セル
ロース、酢酸・醋酸セルロースなどのセルロースニスデ
ル類、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピル
セルロース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテ
ル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル
樹脂類、スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−
アクリロニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−
アクリロニトリルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル
コポリマーなどの共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレー
ト、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類、
ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポ
リ（４，４’−イソプロビリデンジフェニレンーコ−１
，４−０シクロヘキシレンジメチレンカーボネート）、
ポリ（エチレンジオキシ−３，３′−）ユニしンチオカ
ーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフ
ェニレンカーボネートーコーテレフタレート）、ポリ（
４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート
）、ポリ（４，４’−５ｅｃ−ブチリデンジフェニレン
カーボネート）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジ
フェニレンカーボネート−ブロック−オキシエチレン）
などのポリアリ−レート樹脂類、あるいはポリアミド類
、ポリイミド類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類、フ
ェノール樹脂類、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素
化ポリエチレン、ポリブテン、ポリイソブチレンなとの
ポリオレフィン類、天然ゴム、インブレンゴム、クロロ
プレンゴム等のエラストマー類などを用いることができ
、その他場合により樹脂以外の鯨ロウ、ミツロウ、ラノ
リン、カルナバワックス、キャンデリラワックス、モン
タンワックス、セレシンワックス等の天然ワックス、パ
ラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス等の
石油ワックス。
酸化ワックス、エステルワックス、フィッシャートロプ
シュワックス等の合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸等の高
級脂肪酸、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール
等の高級アルコール、ショ糖の脂肪酸エステル、ソルビ
タンの脂肪酸エステル等のエステル類、オレイルアミド
等のアミド類を適宜混合させることかてきる。
シュワックス等の合成ワックス、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、バルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸等の高
級脂肪酸、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール
等の高級アルコール、ショ糖の脂肪酸エステル、ソルビ
タンの脂肪酸エステル等のエステル類、オレイルアミド
等のアミド類を適宜混合させることかてきる。
本発明において、塗布溶剤は蒸気圧が２０°Ｃにおいて
１．５ｍｍ１１ｇ以上の溶剤か用いられ、その具体例を
示すと、エタノール、ｎ−プロパツール、ｎ−ブタノー
ル、ｎ−ペンタノール、 １ｓｏ−プロパツール、
１ｓｏ−ブタノール等が挙げられる。
１．５ｍｍ１１ｇ以上の溶剤か用いられ、その具体例を
示すと、エタノール、ｎ−プロパツール、ｎ−ブタノー
ル、ｎ−ペンタノール、 １ｓｏ−プロパツール、
１ｓｏ−ブタノール等が挙げられる。
［作用］
本発明の光記録媒体の製造方法は、塗布溶剤として蒸気
圧が２０℃において１．５ｍｍ＋Ｉｇ以上の溶剤を使用
し、不揮発分濃度を０．１〜ｌＯ％にＸｇＪ整した塗布
液に基板を浸漬し、塗布速度１．３〜２５ｃ＋ｓ／分で
引き上げて記録層を形成するので、塗布液は含有されて
いる不揮発分により粘度が７ＪＪ整されると共に前記塗
布溶剤の蒸発速度および引き上げ塗布速度との相乗作用
により、膜厚０．０３〜０，７ ＪＬの塗膜の記録層を
だれが生ずることなく基板上に形成することができるも
のと推定される。
圧が２０℃において１．５ｍｍ＋Ｉｇ以上の溶剤を使用
し、不揮発分濃度を０．１〜ｌＯ％にＸｇＪ整した塗布
液に基板を浸漬し、塗布速度１．３〜２５ｃ＋ｓ／分で
引き上げて記録層を形成するので、塗布液は含有されて
いる不揮発分により粘度が７ＪＪ整されると共に前記塗
布溶剤の蒸発速度および引き上げ塗布速度との相乗作用
により、膜厚０．０３〜０，７ ＪＬの塗膜の記録層を
だれが生ずることなく基板上に形成することができるも
のと推定される。
［実施例］
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１
ｉ１図に示す様な形状の、一方の中央部に２０ａｍφの
穴を有する２０（ｌａｗφのポリカーボネート製の基板
を用いて実験を行った。
穴を有する２０（ｌａｗφのポリカーボネート製の基板
を用いて実験を行った。
下記の構造式［Ｉ］で示されるポリメチン染料を用いて
、不揮発分濃度が１２％、 １０％、５％、１％、 ０
．５％、 ロ、１％になるように、エタノール。
、不揮発分濃度が１２％、 １０％、５％、１％、 ０
．５％、 ロ、１％になるように、エタノール。
ｎ−プロパツール、ｎ−ブタノールおよびｎ−へキサノ
ールを塗布溶剤として塗布液をｉＸＪ整した。
ールを塗布溶剤として塗布液をｉＸＪ整した。
これらの塗布液を用いて乾燥後の膜厚か０．０７＃Ｌと
なるように浸漬法で塗布した。各塗布溶剤における不揮
発分濃度と引き上げ速度との関係を第１表乃至第４表に
示す。
なるように浸漬法で塗布した。各塗布溶剤における不揮
発分濃度と引き上げ速度との関係を第１表乃至第４表に
示す。
第１表
（塗布溶剤 エタノール：蒸気圧２０℃にて４４ｍ■Ｈ
ｇ）第２表 （塗布溶剤 ｎ−プロパツール：蒸気圧２０℃にて１５
１５−ｍ１Ｉ第３表 （塗布溶剤 ｎ−ブタノール：蒸気圧２０℃にて５．５
ｍ５１１ｇ ）第４表 （塗布溶剤 ｎ−ヘキサノール： 蒸気圧２０℃にて］、４５＋ａｍｌ１ｇ）以上の第１表
乃至第４表の結果から明らかな様に、ｎ−ヘキサノール
のように蒸気圧の小さい溶剤では良好な塗布を行うこと
ができなかった。
ｇ）第２表 （塗布溶剤 ｎ−プロパツール：蒸気圧２０℃にて１５
１５−ｍ１Ｉ第３表 （塗布溶剤 ｎ−ブタノール：蒸気圧２０℃にて５．５
ｍ５１１ｇ ）第４表 （塗布溶剤 ｎ−ヘキサノール： 蒸気圧２０℃にて］、４５＋ａｍｌ１ｇ）以上の第１表
乃至第４表の結果から明らかな様に、ｎ−ヘキサノール
のように蒸気圧の小さい溶剤では良好な塗布を行うこと
ができなかった。
［発明の効果］
以上説明した様に本発明の光記録媒体の製造方法によれ
ば、浸漬塗布工程においてだれが生ずることなく、膜厚
０．０３〜０．７鉢の良好な表面性を有する均一な厚さ
の記録層を基板上に形成した光記録媒体を容易に得るこ
とができる優れた効果がある。
ば、浸漬塗布工程においてだれが生ずることなく、膜厚
０．０３〜０．７鉢の良好な表面性を有する均一な厚さ
の記録層を基板上に形成した光記録媒体を容易に得るこ
とができる優れた効果がある。
第１図は浸漬塗布方法の一例を示す説明図である。
Claims (2)
- （１）基板に浸漬塗布方法により記録層を形成する光記
録媒体の製造方法において、塗布溶剤として蒸気圧が２
０℃において１．５ｍｍＨｇ以上の溶剤を使用し、不揮
発分濃度を０．１〜１０％に調整した塗布液に基板を浸
漬し、次いで塗布速度１．３〜２５ｃｍ／分で引き上げ
て記録層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造
方法。 - （２）基板が中央部に穴を有する特許請求の範囲第１項
記載の光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61250710A JP2515517B2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61250710A JP2515517B2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63106951A true JPS63106951A (ja) | 1988-05-12 |
| JP2515517B2 JP2515517B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=17211897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61250710A Expired - Fee Related JP2515517B2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2515517B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024517899A (ja) * | 2021-05-07 | 2024-04-23 | エシロール アンテルナショナル | 屈折力シフトの制御が改善された、レンズレットを有するレンズをコーティングする方法 |
-
1986
- 1986-10-23 JP JP61250710A patent/JP2515517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024517899A (ja) * | 2021-05-07 | 2024-04-23 | エシロール アンテルナショナル | 屈折力シフトの制御が改善された、レンズレットを有するレンズをコーティングする方法 |
| US12673472B2 (en) | 2021-05-07 | 2026-07-07 | Essilor International | Method for coating lenses with lenslets with an improved control on power shift |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2515517B2 (ja) | 1996-07-10 |
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