JPS63104941A - 高純度テレフタル酸の製造方法 - Google Patents
高純度テレフタル酸の製造方法Info
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- JPS63104941A JPS63104941A JP61247500A JP24750086A JPS63104941A JP S63104941 A JPS63104941 A JP S63104941A JP 61247500 A JP61247500 A JP 61247500A JP 24750086 A JP24750086 A JP 24750086A JP S63104941 A JPS63104941 A JP S63104941A
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- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 146
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 4-formylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 GOUHYARYYWKXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 26
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- WHDPTDWLEKQKKX-UHFFFAOYSA-N cobalt molybdenum Chemical compound [Co].[Co].[Mo] WHDPTDWLEKQKKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006324 decarbonylation Effects 0.000 description 1
- 238000006606 decarbonylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003969 polarography Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/14—Monocyclic dicarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/487—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to chemical modification
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度テレフタル酸の製造方法に関する。更に
詳しくは、4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CA
B)等の不純物を比較的多量に含む粗テレフタル酸を収
率よく精製して高純度テレフタル酸を製造する方法に関
する。
詳しくは、4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CA
B)等の不純物を比較的多量に含む粗テレフタル酸を収
率よく精製して高純度テレフタル酸を製造する方法に関
する。
通常バラジアルキルベンゼンの液相酸化によって得られ
る粗テレフタル酸中には4−CABをはじめとする不純
物が比較的多量に含まれており、そのままではグリコー
ルとの反応で直接ポリエステルとする用途には着色など
の問題により不適である。
る粗テレフタル酸中には4−CABをはじめとする不純
物が比較的多量に含まれており、そのままではグリコー
ルとの反応で直接ポリエステルとする用途には着色など
の問題により不適である。
とくに粗テレフタル酸製造時に、酢酸などの溶媒の燃焼
による損失を減らすために酸化反応条件を緩和すること
が行われるが、これによりこれらの不純物含量が増加す
る。
による損失を減らすために酸化反応条件を緩和すること
が行われるが、これによりこれらの不純物含量が増加す
る。
このような不純物を含む粗テレフタル酸を精製して高純
度のテレフタル酸を製造する技術はこれまでに多数提案
されている。このうち、粗テレフタル酸の水または水−
酢酸溶媒中、懸濁状態で酸化処理または水素添加処理す
るものとして、特公昭41−20820.同43−23
447、同43−23448などの各号公報に記載の発
明が提案されている。また粗テレフタル酸の水又は水−
酢酸溶液を酸化または還元処理するものは懸濁状態で処
理するものよりも接触効率がよいが、これらには特公昭
42−21819、同41−16860、同52−46
212、同53−10051、同56−32319、同
56−35174、同56−35653、同57−51
373、同57〜51374 、同57−51818、
特開昭48−1369 、同56−79635 、同5
6−103136などの各号公報に記載の発明が提案さ
れている。
度のテレフタル酸を製造する技術はこれまでに多数提案
されている。このうち、粗テレフタル酸の水または水−
酢酸溶媒中、懸濁状態で酸化処理または水素添加処理す
るものとして、特公昭41−20820.同43−23
447、同43−23448などの各号公報に記載の発
明が提案されている。また粗テレフタル酸の水又は水−
酢酸溶液を酸化または還元処理するものは懸濁状態で処
理するものよりも接触効率がよいが、これらには特公昭
42−21819、同41−16860、同52−46
212、同53−10051、同56−32319、同
56−35174、同56−35653、同57−51
373、同57〜51374 、同57−51818、
特開昭48−1369 、同56−79635 、同5
6−103136などの各号公報に記載の発明が提案さ
れている。
このほか、テレフタル酸の製造後、そのまま温度を上げ
て追酸化するもの(特公昭40−12695号公報)、
テレフタル酸の水溶液をパラジウムや亜鉛触媒で処理す
るもの(特公昭46−29131、同47−3607、
同44213 、同49−13780、同49−331
89の各号公報)、テレフタル酸のアルカリ水溶液を酸
素で処理するもの(特開昭56−113738号公報)
なども提案されている。
て追酸化するもの(特公昭40−12695号公報)、
テレフタル酸の水溶液をパラジウムや亜鉛触媒で処理す
るもの(特公昭46−29131、同47−3607、
同44213 、同49−13780、同49−331
89の各号公報)、テレフタル酸のアルカリ水溶液を酸
素で処理するもの(特開昭56−113738号公報)
なども提案されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前記の提案にかかるテレフタル酸の精製技術は、不純物
の含量が比較的少ない場合はある程度の効果はあるもの
の、不純物含量が多くなると必ずしも満足できる精製技
術とはなり得ない、また、主なる不純物である4−CB
A含量は低減できても、テレフタル酸の色相が改善され
ない場合が多い、さらに、不純物の4−CBAの大部分
はテレフタル酸に転換されずに失われるため、テレフタ
ル酸の収率が向上せず、その分精製工程から発生する残
渣が増加するという問題がある。
の含量が比較的少ない場合はある程度の効果はあるもの
の、不純物含量が多くなると必ずしも満足できる精製技
術とはなり得ない、また、主なる不純物である4−CB
A含量は低減できても、テレフタル酸の色相が改善され
ない場合が多い、さらに、不純物の4−CBAの大部分
はテレフタル酸に転換されずに失われるため、テレフタ
ル酸の収率が向上せず、その分精製工程から発生する残
渣が増加するという問題がある。
例えば、特公昭52−46212号公報に提案されてい
る技術によれば、粗テレフタル酸の高温水溶液を所定の
触媒の存在下に酸素含有混合ガスで処理し、次いでテレ
フタル酸を晶析する方法により、例えば4−CBA 2
300ppmがOppmまで低下できるとされている。
る技術によれば、粗テレフタル酸の高温水溶液を所定の
触媒の存在下に酸素含有混合ガスで処理し、次いでテレ
フタル酸を晶析する方法により、例えば4−CBA 2
300ppmがOppmまで低下できるとされている。
しかし、該方法では4−CBAの大部分はテレフタル酸
としては回収できずに系外に失われるので、4−CBA
の含量が多くなるにつれ精製の目的は達成できても、テ
レフタル酸の収率向上には繋がらない。また得られるテ
レフタル酸の色相は充分満足できるものとは言えないも
のである。すなわち酸化処理によっては色相悪化物質は
充分除去できないばかりか、条件によっては逆に増える
場合もある。
としては回収できずに系外に失われるので、4−CBA
の含量が多くなるにつれ精製の目的は達成できても、テ
レフタル酸の収率向上には繋がらない。また得られるテ
レフタル酸の色相は充分満足できるものとは言えないも
のである。すなわち酸化処理によっては色相悪化物質は
充分除去できないばかりか、条件によっては逆に増える
場合もある。
また、例えば特公昭41−16860号公報に提案され
ている粗テレフタル酸の水溶液の水素を用いた還元によ
る精製方法においては、4−CBAはp−)ルイル酸に
変化するので、やはりテレフタル酸の収率向上には繋が
らない。
ている粗テレフタル酸の水溶液の水素を用いた還元によ
る精製方法においては、4−CBAはp−)ルイル酸に
変化するので、やはりテレフタル酸の収率向上には繋が
らない。
本発明者らは、テレフタル酸の精製に関する技術の現状
に鑑み鋭意研究を進めた結果、特定の条件下で粗テレフ
タル酸水溶液を酸化し、次いで水素により処理すること
により、4−CBAの如き不純物を比較的多量に含む粗
テレフタル酸を用いても、該不純物含量を低減でき、ま
た得られるテレフタル酸の色相は良好であり、かつテレ
フタル酸の収率を向上させることができることを見い出
し、本発明を完成させることができた。
に鑑み鋭意研究を進めた結果、特定の条件下で粗テレフ
タル酸水溶液を酸化し、次いで水素により処理すること
により、4−CBAの如き不純物を比較的多量に含む粗
テレフタル酸を用いても、該不純物含量を低減でき、ま
た得られるテレフタル酸の色相は良好であり、かつテレ
フタル酸の収率を向上させることができることを見い出
し、本発明を完成させることができた。
すなわち本発明は、バラジアルキルベンゼンの酸化によ
り得られた粗テレフタル酸の高温水性溶液を、(A)酸
素含有ガス雰囲気下で、かつ粗テレフタル酸に含まれる
4−カルボキシベンズアルデヒド1モルに対する酸素の
供給量を0.4ないし10モルの範囲とする条件下で酸
化処理し、次いで(B)水素により処理することを特徴
とする高純度テレフタル酸の製造方法を要旨とする。
り得られた粗テレフタル酸の高温水性溶液を、(A)酸
素含有ガス雰囲気下で、かつ粗テレフタル酸に含まれる
4−カルボキシベンズアルデヒド1モルに対する酸素の
供給量を0.4ないし10モルの範囲とする条件下で酸
化処理し、次いで(B)水素により処理することを特徴
とする高純度テレフタル酸の製造方法を要旨とする。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に用いられる粗テレフタル酸はバラジアルキルベ
ンゼン、例えばバラキシレンを公知の方法により酸化し
て得られるものである。
ンゼン、例えばバラキシレンを公知の方法により酸化し
て得られるものである。
酸化反応は通常溶媒、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸
、イソ酪酸、n−吉草酸、トリメチル酢酸、カプロン酸
、あるいはこれらの水との混合物中、重金属化合物およ
び/または臭素含有化合物を触媒とし、空気などの酸素
含有ガスにより高温、高圧下、液相で行われる。
、イソ酪酸、n−吉草酸、トリメチル酢酸、カプロン酸
、あるいはこれらの水との混合物中、重金属化合物およ
び/または臭素含有化合物を触媒とし、空気などの酸素
含有ガスにより高温、高圧下、液相で行われる。
こうして得られる粗テレフタル酸には通常4−CBAを
はじめ、他の多くの不純物を含んでいる。
はじめ、他の多くの不純物を含んでいる。
本発明に用いられる粗テレフタル酸の純度は通常4−C
BAを1 、000ppm+以上、とくには2.OOO
ppm以上含む粗テレフタル酸に適用することが好まし
い。これは、高4−CBA含有粗テレフタル酸の製造に
おいては、酸化反応の条件を緩和することができるので
、酢酸などの反応溶媒の酸化反応による燃焼ロスを最小
限に抑えることが可能となるからである。
BAを1 、000ppm+以上、とくには2.OOO
ppm以上含む粗テレフタル酸に適用することが好まし
い。これは、高4−CBA含有粗テレフタル酸の製造に
おいては、酸化反応の条件を緩和することができるので
、酢酸などの反応溶媒の酸化反応による燃焼ロスを最小
限に抑えることが可能となるからである。
従って、この点において、前述の如き高4−CBA含量
の粗テレフタル酸を本発明に用いることが好ましい。
の粗テレフタル酸を本発明に用いることが好ましい。
本発明においては粗テレフタル酸の高温水性溶液を所定
の条件で酸化処理する。
の条件で酸化処理する。
粗テレフタル酸は高温水溶液に調製されるが、酸化処理
温度で水溶液となるように粗テレフタル酸と水を混合し
、通常加圧下で加熱溶解する。溶媒の水は純粋であるこ
とが好ましいが、少量の酢酸など粗テレフタル酸生産時
の反応溶媒が含まれていても構わない。
温度で水溶液となるように粗テレフタル酸と水を混合し
、通常加圧下で加熱溶解する。溶媒の水は純粋であるこ
とが好ましいが、少量の酢酸など粗テレフタル酸生産時
の反応溶媒が含まれていても構わない。
酸化処理においては、酸素含有ガス、例えば空気を必要
に応じ窒素ガスなどの不活性ガスと共に用いる。この場
合、酸化処理系における酸素の供給量を粗テレフタル酸
に含まれる4−CBA 1モルに対し0.4ないし1
0モルの範囲、とくに好ましくは0.5ないし5モルの
範囲とすることが必要である。
に応じ窒素ガスなどの不活性ガスと共に用いる。この場
合、酸化処理系における酸素の供給量を粗テレフタル酸
に含まれる4−CBA 1モルに対し0.4ないし1
0モルの範囲、とくに好ましくは0.5ないし5モルの
範囲とすることが必要である。
上記必須範囲未満の酸素量で処理すると、4−CBAは
脱カルボニル反応により安息香酸に変化しやすくなり、
その分テレフタル酸の収率が悪くなる。
脱カルボニル反応により安息香酸に変化しやすくなり、
その分テレフタル酸の収率が悪くなる。
本発明で採用する酸素量範囲では4−CBAの殆んどは
テレフタル酸に酸化される。なお酸素量が上記必須の上
限を越えるとテレフタル酸が酸化劣化し、収率の低下、
あるいは水素還元処理でも除去できない着色不純物の副
生が起こり、好ましくない。
テレフタル酸に酸化される。なお酸素量が上記必須の上
限を越えるとテレフタル酸が酸化劣化し、収率の低下、
あるいは水素還元処理でも除去できない着色不純物の副
生が起こり、好ましくない。
従って、酸素量は4−CBAが酸化されるに十分な量で
良く、なるべく少ない方が、後続の処理にとっても有利
である。
良く、なるべく少ない方が、後続の処理にとっても有利
である。
酸化処理においては、触媒は必須成分ではないが、反応
速度を上げるため、例えば活性炭、銅含有担持触媒、コ
バルト含有担持触媒、モリブデン含有担持触媒などを用
いることができる。後王者の例としては、銅、コバルト
、モリブテンの酸化物をAItos等に担持させたもの
が例示でき、このほかに銅−亜鉛、コバルト−モリブデ
ンの如き複合金属の酸化物触媒を用いてもよい。なお、
触媒を使用する場合は、固定床反応装置によるものが好
ましい、酸化処理の条件は粗テレフタル酸の純度などに
もよるが、通常水に対する粗テレフタル酸の濃度100
ないし700g/j!、温度230ないし300℃、圧
力30ないし100kg/cd、滞留時間2分ないし5
0分において行うことが好ましい。
速度を上げるため、例えば活性炭、銅含有担持触媒、コ
バルト含有担持触媒、モリブデン含有担持触媒などを用
いることができる。後王者の例としては、銅、コバルト
、モリブテンの酸化物をAItos等に担持させたもの
が例示でき、このほかに銅−亜鉛、コバルト−モリブデ
ンの如き複合金属の酸化物触媒を用いてもよい。なお、
触媒を使用する場合は、固定床反応装置によるものが好
ましい、酸化処理の条件は粗テレフタル酸の純度などに
もよるが、通常水に対する粗テレフタル酸の濃度100
ないし700g/j!、温度230ないし300℃、圧
力30ないし100kg/cd、滞留時間2分ないし5
0分において行うことが好ましい。
酸化処理を終えた粗テレフタル酸高温水溶液は、好まし
くは脱気槽若しくは酸素吸着層を経由したのち水素によ
り処理する。
くは脱気槽若しくは酸素吸着層を経由したのち水素によ
り処理する。
水素による処理方法は、テレフタル酸の精製に通常採用
される方法を利用することができるが、好ましい条件と
しては、温度270ないし300℃、水素分圧5ないし
15kg/cd、処理時間2分ないし50分である。水
素処理触媒としては特公昭41−16860号公報に記
載の如き活性炭に担持されたパラジウム、ルテニウム、
ロジウム、オスミウム、イリジウム又は白金、白金黒、
パラジウム黒、鉄−コバルト−ニッケルなどを用いるこ
とができる。
される方法を利用することができるが、好ましい条件と
しては、温度270ないし300℃、水素分圧5ないし
15kg/cd、処理時間2分ないし50分である。水
素処理触媒としては特公昭41−16860号公報に記
載の如き活性炭に担持されたパラジウム、ルテニウム、
ロジウム、オスミウム、イリジウム又は白金、白金黒、
パラジウム黒、鉄−コバルト−ニッケルなどを用いるこ
とができる。
処理を終えた水溶液から、テレフタル酸の析出、口過、
遠心分離などの手段により色相に優れる高純度テレフタ
ル酸を得ることが出来る。この場合、必要に応じて活性
炭化処理又は水洗などを適当に組み合わせてもよい。
遠心分離などの手段により色相に優れる高純度テレフタ
ル酸を得ることが出来る。この場合、必要に応じて活性
炭化処理又は水洗などを適当に組み合わせてもよい。
本発明によれば、4−CBA含有量の高い粗テレフタル
酸を用いても、色相並びに4−CBA含量の低い高純度
テレフタル酸を得ることができるほか、4−CBAをテ
レフタル酸として回収できるので、収率も向上する。
酸を用いても、色相並びに4−CBA含量の低い高純度
テレフタル酸を得ることができるほか、4−CBAをテ
レフタル酸として回収できるので、収率も向上する。
以下実施例によって本発明の効果を述べる。ただし、テ
レフタル酸中の4−カルボキシベンズアルデヒド(4−
CBA)の含有率はポーラログラフイによって測定し、
テレフタル酸の光線透過率はテレフタル酸を15重量%
の濃度で含有する2規定水酸化カリウム水溶液の400
mμでめ光線透過率(アルカリ透過率ともいう)T9゜
。(%)で示した。
レフタル酸中の4−カルボキシベンズアルデヒド(4−
CBA)の含有率はポーラログラフイによって測定し、
テレフタル酸の光線透過率はテレフタル酸を15重量%
の濃度で含有する2規定水酸化カリウム水溶液の400
mμでめ光線透過率(アルカリ透過率ともいう)T9゜
。(%)で示した。
実施例1
図1に本発明に用いた装置の流れ図を示した。
本装置はラインや機器について詰まり防止のため図に示
していない電気ヒーターと保温材で温度を正確に制御さ
れている。また各ラインのバルブや圧力、調整弁は図示
していない。
していない電気ヒーターと保温材で温度を正確に制御さ
れている。また各ラインのバルブや圧力、調整弁は図示
していない。
最初に図1の全系を窒素ガスで十分置換した後、加熱器
3を備えた容量21の攪拌器付きスラリー溶解槽1に、
4−CBA含有量5.100pp+m、アルカリ透過率
(T、。。)が52%である粗テレフタル酸100gを
仕込み、全系を80ksr/cIaゲージに加圧した。
3を備えた容量21の攪拌器付きスラリー溶解槽1に、
4−CBA含有量5.100pp+m、アルカリ透過率
(T、。。)が52%である粗テレフタル酸100gを
仕込み、全系を80ksr/cIaゲージに加圧した。
さらに熱水注入口10より熱水を400cc注入し、攪
拌しながら加熱3にて285℃まで昇温し30分間攪拌
を続けた。この時lの圧力は80kg/−ゲージで一定
となるよう制御した。
拌しながら加熱3にて285℃まで昇温し30分間攪拌
を続けた。この時lの圧力は80kg/−ゲージで一定
となるよう制御した。
次に活性炭を充填した内容積80ccの酸化槽にポンプ
4で内容積を循環させると共に注入ポンプ7より空気を
注入した。槽5での循環処理は時間当たり51の流量で
60分間行い、その間に分割して注入した空気量は全部
で0.29ノルマル!であった。
4で内容積を循環させると共に注入ポンプ7より空気を
注入した。槽5での循環処理は時間当たり51の流量で
60分間行い、その間に分割して注入した空気量は全部
で0.29ノルマル!であった。
その後ライン11より空気を注入して溶存している空気
を10分間かけて追い出した。
を10分間かけて追い出した。
次に、同温度のまま、水素添加処理槽6により同じく循
環処理を行った。処理槽6にはパラジウムを担持させた
活性炭を80cc充填してあり、循環処理の間に水素を
全部で約0.40ノルマル!1分割供給した。循環時間
は30分間とした。
環処理を行った。処理槽6にはパラジウムを担持させた
活性炭を80cc充填してあり、循環処理の間に水素を
全部で約0.40ノルマル!1分割供給した。循環時間
は30分間とした。
この後130℃まで脱圧冷却し、濾過器9にて加圧濾過
、熱水洗浄を行った。
、熱水洗浄を行った。
濾過器9を開放しテレフタル酸の物性を調べたところ4
−CBA含fit 5 ppmwでアルカリ透過率(T
、。。)は98%であった。また濾液中のパラトルイル
酸、4−CBAの総量は0.02gとなった。
−CBA含fit 5 ppmwでアルカリ透過率(T
、。。)は98%であった。また濾液中のパラトルイル
酸、4−CBAの総量は0.02gとなった。
実施例2
実施例1と同様の操作を、5.6の触媒をいれ換えずに
7回繰り返したが得られた製品の品質は殆ど変化がなか
った。
7回繰り返したが得られた製品の品質は殆ど変化がなか
った。
比較例1
実施例1において、酸化処理の後すぐに、130℃まで
冷却し、加圧濾過を行った。各操作は水素添加処理を行
わない以外は、同様の方法でおこなつた。なお、槽5.
6の触媒はあらかじめ新しいものと交換した。
冷却し、加圧濾過を行った。各操作は水素添加処理を行
わない以外は、同様の方法でおこなつた。なお、槽5.
6の触媒はあらかじめ新しいものと交換した。
得られたテレフタル酸の品質は、4−CBA含量100
PP!lであったもののT9゜。は30%と悪化してい
た。
PP!lであったもののT9゜。は30%と悪化してい
た。
比較例2
実施例1において、酸化処理を行わないで水素添加処理
のみを行った。得られたテレフタル酸の品質は、4−C
BA含量15ppmでT4゜。は98%であった。また
濾液中のパラトルイル酸と4−CBAの総量は0.47
gであった。
のみを行った。得られたテレフタル酸の品質は、4−C
BA含量15ppmでT4゜。は98%であった。また
濾液中のパラトルイル酸と4−CBAの総量は0.47
gであった。
比較例3
比較例2の操作を繰り返し5回実施したところ、5回目
に急激にT4゜。が悪化し、81%となった。
に急激にT4゜。が悪化し、81%となった。
図1は本発明を実施する装置の一例である0図中の各機
器は以下の通りである。 1ニスラリ−溶解槽 2:冷却器 3:加熱器 4:循環ポンプ5二酸化槽
6:水素添加処理槽7:空気/水素注入ポ
ンプ 8:空気/水素注入口
器は以下の通りである。 1ニスラリ−溶解槽 2:冷却器 3:加熱器 4:循環ポンプ5二酸化槽
6:水素添加処理槽7:空気/水素注入ポ
ンプ 8:空気/水素注入口
Claims (1)
- (1)パラジアルキルベンゼンの酸化により得られた粗
テレフタル酸の高温水性溶液を、(A)酸素含有ガス雰
囲気下で、かつ粗テレフタル酸に含まれる4−カルボキ
シベンズアルデヒド1モルに対する酸素の供給量を0.
4ないし10モルの範囲とする条件下で酸化処理し、次
いで(B)水素により処理することを特徴とする高純度
テレフタル酸の製造方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61247500A JPH078823B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
EP87309000A EP0265137B1 (en) | 1986-10-20 | 1987-10-12 | Purifying terephthalic acid |
DE87309000T DE3788555T2 (de) | 1986-10-20 | 1987-10-12 | Reinigung von Terephthalsäure. |
KR1019870011524A KR960006666B1 (ko) | 1986-10-20 | 1987-10-17 | 고순도 테레프탈산의 제조방법 |
CA000549616A CA1296742C (en) | 1986-10-20 | 1987-10-19 | Process for the production of high purity terephthalic acids |
CN87107051A CN1022182C (zh) | 1986-10-20 | 1987-10-20 | 高纯度对苯二甲酸的生产方法 |
IN938/CAL/87A IN168544B (ja) | 1986-10-20 | 1987-11-30 | |
US07/784,604 US5166420A (en) | 1986-10-20 | 1991-10-24 | Process for the production of high purity terephthalic acid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61247500A JPH078823B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63104941A true JPS63104941A (ja) | 1988-05-10 |
JPH078823B2 JPH078823B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=17164390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61247500A Expired - Lifetime JPH078823B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0265137B1 (ja) |
JP (1) | JPH078823B2 (ja) |
KR (1) | KR960006666B1 (ja) |
CN (1) | CN1022182C (ja) |
CA (1) | CA1296742C (ja) |
DE (1) | DE3788555T2 (ja) |
IN (1) | IN168544B (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4933492A (en) * | 1988-10-13 | 1990-06-12 | Amoco Corporation | Purification of crude isophthalic acid |
DE4300297C2 (de) * | 1993-01-08 | 1998-01-29 | Degussa | Verfahren zur selektiven katalytischen Hydrierung der Carbonylgruppe von 4-Carboxylbenzaldehyd |
KR100264749B1 (ko) * | 1997-02-17 | 2000-09-01 | 나까니시 히로유끼 | 고순도 테레프탈산의 제조 방법 |
MX2007002412A (es) * | 2004-09-02 | 2007-04-23 | Eastman Chem Co | Oxidacion en fase liquida optimizada. |
US7381836B2 (en) | 2004-09-02 | 2008-06-03 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7910769B2 (en) | 2004-09-02 | 2011-03-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7507857B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-24 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7361784B2 (en) * | 2004-09-02 | 2008-04-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7572936B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-08-11 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7504535B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-17 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US20060047153A1 (en) * | 2004-09-02 | 2006-03-02 | Wonders Alan G | Optimized liquid-phase oxidation |
US7692036B2 (en) | 2004-11-29 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
WO2006028809A2 (en) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Eastman Chemical Company | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids |
US7692037B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-04-06 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7589231B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-09-15 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7582793B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-09-01 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7683210B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-03-23 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7741515B2 (en) | 2004-09-02 | 2010-06-22 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7568361B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-08-04 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
US7884232B2 (en) | 2005-06-16 | 2011-02-08 | Eastman Chemical Company | Optimized liquid-phase oxidation |
JP5031354B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-09-19 | 三井化学株式会社 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
BR112016015320A2 (pt) * | 2013-12-30 | 2017-10-10 | Bp Corp North America Inc | misturas de alimentação de ácido carboxílico aromático bruto pressurizado |
US9394223B2 (en) * | 2013-12-31 | 2016-07-19 | Bp Corporation North America Inc. | Oxidation process for preparing purified aromatic carboxylic acids |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3584039A (en) * | 1967-08-30 | 1971-06-08 | Standard Oil Co | Fiber-grade terephthalic acid by catalytic hydrogen treatment of dissolved impure terephthalic acid |
JPS52122333A (en) * | 1976-04-06 | 1977-10-14 | Kuraray Yuka Kk | Preparation of highly pure terephthalic acid by reoxidation process |
US4476242A (en) * | 1981-10-29 | 1984-10-09 | Standard Oil Company (Indiana) | Process for preparing palladium on carbon catalysts for purification of crude terephthalic acid |
JPS58116439A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-11 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高純度芳香族ポリカルボン酸の製造法 |
-
1986
- 1986-10-20 JP JP61247500A patent/JPH078823B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-10-12 DE DE87309000T patent/DE3788555T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-12 EP EP87309000A patent/EP0265137B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-17 KR KR1019870011524A patent/KR960006666B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-10-19 CA CA000549616A patent/CA1296742C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-20 CN CN87107051A patent/CN1022182C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-30 IN IN938/CAL/87A patent/IN168544B/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0265137A3 (en) | 1989-07-26 |
DE3788555T2 (de) | 1994-04-21 |
CN1022182C (zh) | 1993-09-22 |
KR960006666B1 (ko) | 1996-05-22 |
DE3788555D1 (de) | 1994-02-03 |
EP0265137A2 (en) | 1988-04-27 |
KR880005064A (ko) | 1988-06-27 |
IN168544B (ja) | 1991-04-20 |
CA1296742C (en) | 1992-03-03 |
CN87107051A (zh) | 1988-05-04 |
JPH078823B2 (ja) | 1995-02-01 |
EP0265137B1 (en) | 1993-12-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |