JPS63104421A - マスクホルダ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はたとえばＸ線霧光用として用いるメンブレンマ
スクを接着固定するためのマスクホルダに関し、特に接
着剤による塗布むらで生じるマスクの傾きを解消し得る
ようにしたマスクホルダの改良に関する。

〔従来の技術〕

この種従来のマスクホルダにおけるマスク固定構造は、
概略第２図に示す通りである。これを簡単に説明すると
、図中符号１はフレーム状のマスクホルダ、２はこのホ
ルダ１により側縁部分が支持されるメンブレンマスクで
、このマスク２には、Ｘ線阻止能の大きな材料によって
所要のパターンが形成されている。そして、このマスク
２は、その側縁部分がホルダ支持面１ａの表面に塗布さ
れた接着剤３を介して接着固定される。

すなわち、上述したようなメンブレンマスク２は、機械
的強度の弱い薄膜で形成されているため、これを外力で
保護するために剛性の大きなフレーム状のマスクホルダ
１を用い、このホルダｌのマスク支持面１　ａ−ににマ
スク側縁部分を位置して接着固定されるものであった。

そして、このようにホルダｌに固定した状７ｇのマスク
２を用いて電子ビーム露光が行なわれることで、パター
ン形成が行なわれるが、この場合に若干の問題が生じて
いる。すなわち、このような電子ビーム露光においてそ
のアライメントとフォーカスは一定の基準面で行なわれ
るが、この基準面が前記ホルダＩＪ−に接着固定されて
いるメンブレンマスク２の表面側にあり、このためこの
基準面を構成するマスク２が接着剤３の塗布むら等によ
ってホルダ１上で傾いていると、前述した電子ビーム露
光を行なう際に焦点位置にずれを生じ、製造−ヒで大き
な問題となるもので、充分な注意を要するものであった
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上述した従来のマスクホルダｌによれば
、メンブレンマスク２をホルダ１の支持面１ａ表面にそ
のまま接着剤３を用いて接着しなければならないもので
、その結果接着剤３の塗布むらによりホルダ１に対して
のマスク２の傾きを避けられないもので、何らかの対策
を講じることが必要とされている。

本発明は一ヒ述した事情に鑑みてなされたもので、メン
ブレンマスクを接着固定するにあたって、接着剤の塗布
むらによるメンブレンマスクの傾き等の問題を一掃する
ことが可能となるマスクホルダを得ることを目的として
いる。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明に係るマスクホルダは、メンブレンマスクの側縁
部分が嵌込み保持ｙれて面方向への位置ずれが規制され
る側壁を有する段差部を設け、かつそのマスク支持面に
接着剤を注入する接着用溝部を形成するようにしたもの
である。

〔作用〕

本発明によれば、メンブレンマスクを段差部ノ側壁で簡
単かつ確実に位置決めして保持し得るとともに前記溝部
内に注入された接着剤によりマスクをホルダに対し適切
に接着固定することができ、しかもマスクとホルダ側の
支持面との間に接着剤がはみ出るといった問題もなく、
これにより従来のような接着剤の厚みむらによるマスク
の傾き等の問題を一掃し得るものである。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示した実施例を用いて詳細に説明
する。

第１図は本発明に係るマスクホルダの一実施例を示すも
のであり、図において前述した第２図と同一または相当
する部分には同一番号を伺している。

さて、本発明によれば、メンブレンマスク２の側縁部分
が嵌込まれて保持されマスク面方向への位置ずれを規制
し得る側壁１０ａを有する段差部１０を設け、かつこの
段差部ｌＯのマスク支持面１ａに接着剤３を注入する接
着用溝部１１を凹設したところに特徴を有している。

そして、このような構成において前記溝部１１に適量の
接着剤３を注入し、次でメンブレンマスク２を前記段差
部１０の側壁１０ａに沿って嵌込んで保持させるととも
に、マスク支持面ｌａ上にマスク２側縁部分を接触させ
て載置することにより、前記溝部ｌｌ内の接着剤３でこ
のマスク２が接着固定される。この場合、メンブレンマ
スク２と接触した溝部１１内の接着剤３は、この溝部１
１内で拡がるため、マスク支持面ｌａ側へのはみ出し量
は少ない。したがって、接着剤３の厚みむらが少ないた
め、ホルダ１に対して高精度に平行状態を保ったマスク
２の接着固定状態が得られることになる。そして、この
ようにしてマスクホルダ１に固定されてなるマスク２で
、電子ビーム露光を行なうと、従来のような傾きがない
ため、露光中に焦点位置ずれ等といった問題が生じるこ
とはなく、適正で精度のよい半導体製造が簡単に行なえ
る。

なお１本発明は上述した実施例構造に限定されず、各部
の形状、構造等を、適宜変形、変更することは自由であ
る。たとえば上述した実施例では、接着剤３が注入され
るマスク支持面１ａの溝部１１が、断面矩形状である場
合を説明したが、たとえばＵ字溝やＶ溝であってもよい
ことは勿論である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明に係るマスクホルダによれ
ば、メンブレンマスクの側縁部分が嵌込み保持され面方
向への位置ずれを規制する側壁を有する段差部を設け、
かつそのマスク支持面に接着剤を注入する接着用溝部を
形成するようにしたので、簡単かつ安価な構成にもかか
わらず、ホルダのマスク支持面上に対し適切かつ確実に
メンブレンマスクを位置決め状態で設置し得るとともに
、マスク面方向への位置ずれ等も防１トでき、また溝部
内に接着剤を適量注入することで、接着時に接着剤がは
み出て接着剤の厚みむらによるマスクの傾きを生じる等
の問題を一掃することができ、高精度のマスクホルダが
得られる等の種々優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るマスクホルダの一実施例を示すマ
スク装着状態の概略断面図、第２図は従来例を示す概略
断面図である。 １・・・・マスクホルダ、１ａ・・・・マスク支持面、
２・・・・メンブレンマスク、３・・・・接着剤、ｌＯ
・・・・段差部、ｌｏａ・・・・側壁、１１・・・・接
着用溝部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. メンブレンマスクの側縁部分が接着固定されるマスクホ
   ルダにおいて、前記マスク側縁部分が嵌込み保持されて
   面方向への位置ずれが規制される側壁を有する段差部を
   設け、かつこの段差部のマスク支持面に接着剤を注入す
   る接着用溝部を形成したことを特徴とするマスクホルダ
   。