JPS63103895A - CdTeの結晶成長装置 - Google Patents
CdTeの結晶成長装置Info
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- JPS63103895A JPS63103895A JP24936486A JP24936486A JPS63103895A JP S63103895 A JPS63103895 A JP S63103895A JP 24936486 A JP24936486 A JP 24936486A JP 24936486 A JP24936486 A JP 24936486A JP S63103895 A JPS63103895 A JP S63103895A
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- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
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- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
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- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 2
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- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く産業上の利用分野〉
本発明はブリッジマン炉を用いたCdTe単結晶の成長
装置に関し、初期段階における単結晶育成のための種結
晶の配置J3よび容器底部の構造に関する。
装置に関し、初期段階における単結晶育成のための種結
晶の配置J3よび容器底部の構造に関する。
〈従来の技術〉
第4図(a)、(b)はブリッジマン炉を使用したCd
Te結晶の製造装置を示す概念構成図(a)および温
度分布図(b)である。第4図(a)、(b)にJ5い
て、1は上部にフック2を有する筒状の容器(例えば石
英アンプル・・・以下アンプルという)である。このア
ンプルの中にはcdおよびT 6の結晶を化学当0比の
割合で混合して合成した多結晶Cd Teのインゴット
が10−sパスカル(Pa)程度の真空度で封止されC
いる。
Te結晶の製造装置を示す概念構成図(a)および温
度分布図(b)である。第4図(a)、(b)にJ5い
て、1は上部にフック2を有する筒状の容器(例えば石
英アンプル・・・以下アンプルという)である。このア
ンプルの中にはcdおよびT 6の結晶を化学当0比の
割合で混合して合成した多結晶Cd Teのインゴット
が10−sパスカル(Pa)程度の真空度で封止されC
いる。
3は加熱炉、4は炉心管、5は炉心管4の外壁に設けら
れたヒータである。これらヒータは図示しない制御部に
より制御され、加熱炉3内を所定の温度に制御する。6
は容器1をつるし2図示しない位置制御l装置により所
定の場所に位置させ、または移動させるためのワイpで
ある。
れたヒータである。これらヒータは図示しない制御部に
より制御され、加熱炉3内を所定の温度に制御する。6
は容器1をつるし2図示しない位置制御l装置により所
定の場所に位置させ、または移動させるためのワイpで
ある。
上記の様に装置を構成し、(:d ”jeのインゴット
が真空封入されたアンプル1を加熱炉3内の(イ)部領
域(1120〜1150℃)に位置させて、充分に反応
させ、融体とした後一定の速度(例え$、r 5 m
m /時間〉で降下させる。その結果CdTeの融体は
A点の1092℃でアンプル1の先端より結晶化がはじ
まり、アンプル1の時下に従って全体が結晶化する(図
中8の部分が融体。
が真空封入されたアンプル1を加熱炉3内の(イ)部領
域(1120〜1150℃)に位置させて、充分に反応
させ、融体とした後一定の速度(例え$、r 5 m
m /時間〉で降下させる。その結果CdTeの融体は
A点の1092℃でアンプル1の先端より結晶化がはじ
まり、アンプル1の時下に従って全体が結晶化する(図
中8の部分が融体。
9の部分が結晶化した部分である)。そしてアンプル1
全体が(ロ)部領域(700〜950℃)に達した後炉
全体を徐々に冷却し、アンプル1から結晶を取出してい
る。
全体が(ロ)部領域(700〜950℃)に達した後炉
全体を徐々に冷却し、アンプル1から結晶を取出してい
る。
ところで、この様な結晶成長装置において結晶に粒界が
入らず単結晶として成長させるためには。
入らず単結晶として成長させるためには。
一般にアンプル1の管壁で発生ずる粒界を排除し。
アンプル1の底部で発生した粒界を1つに選択する必要
がある。このため、アンプル1の底部を種々の形状に加
工して粒界の成長を防止している。
がある。このため、アンプル1の底部を種々の形状に加
工して粒界の成長を防止している。
第5図は従来用いられているアンプルの底部な示すもの
で、〈a)はアンプル1の底部をf方へ向かって針状に
絞ったもの、(b)はアンプル1の底部にくびれを設け
その下方を絞ったもの。
で、〈a)はアンプル1の底部をf方へ向かって針状に
絞ったもの、(b)はアンプル1の底部にくびれを設け
その下方を絞ったもの。
(C)はアンプル1の底部を比較的緩い傾斜で絞ったも
のである。これらの図は、アンプル1の底部では粒W1
0a〜10dが次々と発生づるが。
のである。これらの図は、アンプル1の底部では粒W1
0a〜10dが次々と発生づるが。
粒界の一つが選択され、結晶の成長とともに単結晶部分
9が大きくなっていく状態を模式的に示している。
9が大きくなっていく状態を模式的に示している。
〈発明が解決しようとする問題点〉
このような形状によれば底部が平らな場合に比較すれば
2粒界はアンプル1の突端から発生していくので粒界の
発生の数を減少させることができる。しかし、これらの
形状においても例えば第6図に示すように2粒界はアン
プル1の底部突端の各所から発生したり、あるいは成長
途中の管壁より新たに発生したりするので、常に1つの
粒Wのみを上方へ成長させて単結晶を得るのは難しいと
いう問題点があった。
2粒界はアンプル1の突端から発生していくので粒界の
発生の数を減少させることができる。しかし、これらの
形状においても例えば第6図に示すように2粒界はアン
プル1の底部突端の各所から発生したり、あるいは成長
途中の管壁より新たに発生したりするので、常に1つの
粒Wのみを上方へ成長させて単結晶を得るのは難しいと
いう問題点があった。
本発明は上記従来技術に鑑みて成されたもので。
士として初期段階における多数の粒界が発生する部分に
、すでに製作した単結晶の樟を配置して。
、すでに製作した単結晶の樟を配置して。
径の大きな単結晶を効率良く製作することを目的とする
。
。
〈問題点を解決するための手段〉
上記問題点を解決するための本発明の構成は。
高純度のカドミウム(Cd )とテルリウム(Te)か
ら合成したCdTeの結晶を筒状の容器に真空封入し、
前記容器を一定の温度勾配を設定することが可能な一定
の長さを有する加熱炉に収納し。
ら合成したCdTeの結晶を筒状の容器に真空封入し、
前記容器を一定の温度勾配を設定することが可能な一定
の長さを有する加熱炉に収納し。
cdToの単結晶を成長させるようにした結晶成長装置
において、前記容器の底部に小径の段部を形成し、前記
小径の段部にcdTOの単結晶を配置し、前記小径の段
部をCd Teと同程度の熱伝導率を右づ−る断熱材で
覆ったことを特徴とするものである。
において、前記容器の底部に小径の段部を形成し、前記
小径の段部にcdTOの単結晶を配置し、前記小径の段
部をCd Teと同程度の熱伝導率を右づ−る断熱材で
覆ったことを特徴とするものである。
く実施例〉
一般に第7図(a)のように固液界面が液層側に凹であ
る場合にはアンプル1の管壁で生じる多数の核からの粒
界が結晶中へ向かうので単結晶の成長は困難となり、固
液界面が(b)のように凸である場合には結晶9内に粒
界があっても成長中に粒界が管壁の方へ移動し、またア
ンプル1の管壁で発生する粒界も結晶内に入らず単結晶
が成長する。本出願人はcdTe結晶はアンプルの底部
では固液界面が液層側に凹の状態で多結晶として成長す
るが、結晶がある程度成長した後は凸の状態となり単結
晶として成長することを実験により確認した。
る場合にはアンプル1の管壁で生じる多数の核からの粒
界が結晶中へ向かうので単結晶の成長は困難となり、固
液界面が(b)のように凸である場合には結晶9内に粒
界があっても成長中に粒界が管壁の方へ移動し、またア
ンプル1の管壁で発生する粒界も結晶内に入らず単結晶
が成長する。本出願人はcdTe結晶はアンプルの底部
では固液界面が液層側に凹の状態で多結晶として成長す
るが、結晶がある程度成長した後は凸の状態となり単結
晶として成長することを実験により確認した。
本発明はこの様な実験結果に基づいて成されたものであ
る。
る。
第1図は本発明の一実施例を示すもので、アンプル1の
底部にこのアンプル1の径よりも小さな径からなる段部
を設け、この段部にすでに製作した棒状の単結晶の種を
挿入し、従来と同様の圧力でCd 、!:T eの多結
晶インゴットを入れ、前記段部の小径部にCdTeと略
同様の熱伝導率を有する断熱材(例えば八!203とS
!02の混合物)31を形成したものである。この断熱
材31はアンプル1の外径とほぼ同様に形成する(実験
ではアンプル1の内径d1を25mm、段部(小径)の
内径d2を8.5mm、段部ノ長さpを45mm、アン
プルの全長を100mmとした)。なお。
底部にこのアンプル1の径よりも小さな径からなる段部
を設け、この段部にすでに製作した棒状の単結晶の種を
挿入し、従来と同様の圧力でCd 、!:T eの多結
晶インゴットを入れ、前記段部の小径部にCdTeと略
同様の熱伝導率を有する断熱材(例えば八!203とS
!02の混合物)31を形成したものである。この断熱
材31はアンプル1の外径とほぼ同様に形成する(実験
ではアンプル1の内径d1を25mm、段部(小径)の
内径d2を8.5mm、段部ノ長さpを45mm、アン
プルの全長を100mmとした)。なお。
33は種9が多結晶インボッ1〜30と接する位置近傍
に配置されたモニタ用の熱電対である。上記のように構
成したアンプルを先に従来例で示した炉中に入れて熱処
理するが1本実施例においては高温部を1120℃、低
温部を1000℃程度とし、1092℃付近で約6℃/
cmの温度勾配を有するように制御I 丈る。はじめに
アンプル全体を1000℃の位置に配置し数時間〈実験
では8時間どした)加熱する。次にアンプルを5 mm
/ h程度の速さで引上げ、モニタ用の熱雷対33の温
度が1092℃を示した位置で停止し、そのまま10時
間程度放置する。この結果、多結晶インボッ1への部分
および挿9の先端部が溶融状態となり。
に配置されたモニタ用の熱電対である。上記のように構
成したアンプルを先に従来例で示した炉中に入れて熱処
理するが1本実施例においては高温部を1120℃、低
温部を1000℃程度とし、1092℃付近で約6℃/
cmの温度勾配を有するように制御I 丈る。はじめに
アンプル全体を1000℃の位置に配置し数時間〈実験
では8時間どした)加熱する。次にアンプルを5 mm
/ h程度の速さで引上げ、モニタ用の熱雷対33の温
度が1092℃を示した位置で停止し、そのまま10時
間程度放置する。この結果、多結晶インボッ1への部分
および挿9の先端部が溶融状態となり。
種の上部の固液開面の形状が第2図に示すような。
融液側に凸な形状となる。次にアンプルを1mm/h程
度で低温側に降下させると固液界面が凸の状態に安定し
た状態で単結晶を成長させる事が出来る。従って多結晶
インボッI−の全てを単結晶として成長させることが出
来る。
度で低温側に降下させると固液界面が凸の状態に安定し
た状態で単結晶を成長させる事が出来る。従って多結晶
インボッI−の全てを単結晶として成長させることが出
来る。
上記構成によれば多結晶となって無駄になる部分がない
ので対人材料に対づ′る単結晶の割合いが飛躍的に増大
する。
ので対人材料に対づ′る単結晶の割合いが飛躍的に増大
する。
第3図は他の実施例を示づもので、この実施例において
はアンプルの底部の段部を前述の実施例に比較して短く
形成してこの部分に種となる単結晶を配置し、断熱材3
1を下方に長く(例えば全長100mmPi!度に対し
て断熱部の長さが45mm程度)形成したものである。
はアンプルの底部の段部を前述の実施例に比較して短く
形成してこの部分に種となる単結晶を配置し、断熱材3
1を下方に長く(例えば全長100mmPi!度に対し
て断熱部の長さが45mm程度)形成したものである。
上記構成においても見掛は上アンプルの長さを長くした
状態どなる。このことにより、溶融した多結晶インボッ
I・が固化しはじめるアンプル底部において、固液界面
形状をはじめから凸状にできるため、対人材料の全てを
単結晶どして取出す事ができる。なお、アンプルの寸法
は本実陥例に限ることなく種々変形が可能である。
状態どなる。このことにより、溶融した多結晶インボッ
I・が固化しはじめるアンプル底部において、固液界面
形状をはじめから凸状にできるため、対人材料の全てを
単結晶どして取出す事ができる。なお、アンプルの寸法
は本実陥例に限ることなく種々変形が可能である。
以上実施例と共に具体的に説明したように1本発明によ
れば、初期段階における多数の粒界の発生する部分がな
くなり、封入したCdTeの邑のすべてを単結晶化する
ことができ、効率よく単結晶を得る事が出来る。
れば、初期段階における多数の粒界の発生する部分がな
くなり、封入したCdTeの邑のすべてを単結晶化する
ことができ、効率よく単結晶を得る事が出来る。
第1図は本発明の一実施例を示す説明図、第2図は段部
終端で固液界面が凸状となっている状態を承り図、第3
図は他の実施例を示す説明図、第4図(a)、(b)は
ブリッジマン炉の一般的構成を示−J Ue明図、第5
図(a)〜(C)は従来のアンプルの底部の形状を示す
説明図、第6図はアンプルの壁面から多数の粒界が成長
している状態を示づ説明図、第7図はアンプルの中で結
晶が成長している段階の固液界面の状態を示す説明図で
ある。 1・・・容器(石英アンプル)、3・・・加熱炉、9・
・・種(Cd Te li多結晶 、 3 C1−Cd
Te多結晶インゴット、31・・・断熱材。 第1図 第2図 第3図
終端で固液界面が凸状となっている状態を承り図、第3
図は他の実施例を示す説明図、第4図(a)、(b)は
ブリッジマン炉の一般的構成を示−J Ue明図、第5
図(a)〜(C)は従来のアンプルの底部の形状を示す
説明図、第6図はアンプルの壁面から多数の粒界が成長
している状態を示づ説明図、第7図はアンプルの中で結
晶が成長している段階の固液界面の状態を示す説明図で
ある。 1・・・容器(石英アンプル)、3・・・加熱炉、9・
・・種(Cd Te li多結晶 、 3 C1−Cd
Te多結晶インゴット、31・・・断熱材。 第1図 第2図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)高純度のカドミウム(Cd)とテルリウム(Te)
から合成したCdTe(テルル化カドミウム)多結晶イ
ンゴットを筒状の容器に真空封入し、前記容器を一定の
温度勾配を設定することが可能な一定の長さを有する加
熱炉に収納し、CdTeの単結晶を成長させるようにし
たCdTeの結晶成長装置において、前記容器の底部に
小径の段部を形成し、前記小径の段部にCdTeの単結
晶を配置し、前記小径の段部をCdTeと同程度の熱伝
導率を有する断熱材で覆ったことを特徴とするCdTe
の結晶成長装置 2)前記断熱材は容器の外径と略同径に覆ったことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の結晶成長装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24936486A JPS63103895A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | CdTeの結晶成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24936486A JPS63103895A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | CdTeの結晶成長装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63103895A true JPS63103895A (ja) | 1988-05-09 |
Family
ID=17191925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24936486A Pending JPS63103895A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | CdTeの結晶成長装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63103895A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5777091A (en) * | 1980-10-28 | 1982-05-14 | Hitachi Metals Ltd | Manufacture of single crystal |
JPS61132588A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Fujitsu Ltd | 化合物単結晶の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-20 JP JP24936486A patent/JPS63103895A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5777091A (en) * | 1980-10-28 | 1982-05-14 | Hitachi Metals Ltd | Manufacture of single crystal |
JPS61132588A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Fujitsu Ltd | 化合物単結晶の製造方法 |
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