JPS63102050A - 光磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明覧よ、高速データファイルや映像記録等の記録媒
体として用いられる光磁気記録媒体およびその製造方法
に関し、詳しくは光磁気記録層の酸化防止を図った光磁
気記録媒体およびその製造方法に関するものである。

（従来の技術） 高密、度、大容量あるいはヘッドと媒体との非接触性等
多くの特長を有する光記録媒体の中でも消去、再配録か
容易ということから光磁気記録媒体か注目されている。

この光磁気記録媒体は、記録媒体材料として磁性体か用
いられ、この磁性体の磁化の変化により情報か記録され
る。この磁性体としては（３ｄ、丁す、ｌ）ｙ等の希土
類金属（ＲＥ）とＦｅ　、　Ｇｏ　。

Ｎｉ等の遷移金属を組合せ主成分とする非晶質（アモル
ファス）希土類遷移金属か用いられ、この非晶質希土類
遷移金属を層状にして光磁気記録層か形成される。

ところで、このような希土類遷移金属は、希土類金属を
含む関係上極めて酸化されやすく酸化されると保磁力等
の磁気特性か劣化してしまい、効率的な光学磁気記録お
よび再生か困難となるので、その希土類遷移金属（光磁
気記録層）の酸化を防止することか光磁気配録媒体の実
用化を図る上で大きな課題となっている。

（発明か解決しようとする問題点） 上述した光磁気記録層の酸化を防止する従来技術として
は、この記録層の大気との接触部分をＳｉ　０２　、　
Ｓｉ　ＮＸ　　（Ｘ　　：　　０．５〜１．３３　）等
の保護層により全面被覆したものか知られている（特開
昭６０−１８２５３５号）Ｃしかし、このような保護層
は、酸素と反応しない不活性物質【こより大気中の酸素
をある程度遮断する効果を有するのみてあって、酸素を
積極的にトラップする効果を有しないので上記記録層の
酸化を完全に防止することかできなかった。とくに、厚
みの薄い上記保護層のみを介して大気層と対向する記録
層側面部においては酸化防止効果か極めて不十分で、こ
の記録層の側面部からの酸イヒにより記録再生特性の劣
イヒおよびクラック、孔食、ピンホール等の発生による
外観不良か生じていた。

本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、記録層の
側面からの酸イヒを防止し、記録再生特性の劣化および
外観の不良化を防止し得る光磁気記録媒体およびその製
造方法を提供することを目的とするものである。

（問題点を解決するための手段） 不発明の光磁気記録媒体は、光磁気記録層の側面に活性
金属でめる希土類金属層を設けて記録層側面側の外部か
ら記録層に侵入する酸素をトラップするようにしたこと
を特徴とするものである。

ここでいう「光磁気記録媒体」とは、ディスク状のもの
に限らず種々の形状のものを含むものとする。

また［側面に希土類金、属、＠を設けて」とは、記録層
側面全面に亘って設けた場合に限らずその一部に設けた
場合、例えば側面全面のうちの一部を除いて設けた場合
あるいは光磁気記録媒体かディスク状のもので市る場合
においてその外側面もしくは内側面のいずれか一方の側
面にのみ設けた場合等も含むものとする。

また、「希土類金属層」とは、Ｇｄ、丁す、［）ｙ、１
−１ｏ等の希土類金属を含む層をいう。

本発明の光磁気記録媒体の製造方法は光磁気記録層の形
成後、記録領域の外径以上でおって上記記録層の外径以
下の外径を有する円形マスク、またはこの記録領域の内
径以下であって上記記録層の内径以上の内径を有する円
形マスクをその中心か該記録層の中心と略一致するよう
に該記録層上に配置し、希土類金属を主成分とする粒子
を上記マスクの方向に飛散させて上記記録層の少なくと
も外側面または内側面に、外部からの侵入酸素をトラッ
プするための活性記録層である希土類金属層を形成し、
この後上記マスクを該記録層上からはずし、上記光学気
記録喘上に誘電体保護層を形成することを特徴とするも
のである。

ここでいう「光磁気記録媒体」は、ディスク形状をした
いわゆる光ディスクをいうものとする。

また、１円形基板」とは光磁気記録層の他誘電体保護層
等を積層させるための基板であって、記録再生光侵入側
に配される場合にはガラス、　ＰＭＭＡ、ＰＣ，エポキ
シ樹脂等からなる、光に対して透明な基板でおることを
要する。

また、１円形マスク」とは、記録領域上に希土類金属か
付着するのを排除するためのものであり、その材質は問
わない。また、この円形マスクは、上）ホしたように、
少なくとも記録領域の外径以上でのって記録層の外径以
下の外径を有する円形マスクか、少なくとも記録領域の
内径以下であって記録層の内径以上の内径を有する円形
マスクであれば良い。記録層の少なくとも外側面に希土
類金属層を形成する場合には前者のマスクか、少なくと
も内側面に希土類金属層を形成する場合には後者のマス
クか使用される。なお、前者および後者のいずれのマス
クの概念の中にも、記録領域の外径以上で必って記録層
の外径以下の外径と記録領域の内径以下であって記録層
の内径以上の内径を有する円形マスクか含まれ、記録層
の内外両側面に希土類金属層を形成する場合にはこのマ
スクを使用すれば良い。

（発明の効果） 本発明の光磁気記録媒体によれば、光磁気記録層の側面
に希土類金属層を設置″ｊで側面側外部からの侵入酸素
をトラップするようにしており、光磁気記録媒体の構造
上酸化されやすい記録層側面の酸化防止効果を向上せし
めているので、記録再生特性の劣化およびクラック、孔
食、ピンホール等の発生による外観の不良化を防止する
ことができる。

また、本発明の光磁気記録媒体の製造方法によれば光磁
気記録層上に円形マスクを配置することにより記録媒体
の側面のみに希土類金属層を形成するようにしているの
で、簡易かつ迅速に上記効果を有する光磁気記録媒体を
製造することができる。

なお、光磁気記録層を、各々希土類金属および遷移金属
からなる蒸着源もしくはスパッタリング用ターゲットを
用いて２元同時蒸着法もしくは２元同時スパッタリング
法により形成する場合には、上記希土類金属層を形成す
る際に上記希土類金属からなる蒸着源もしくはターゲッ
トのみを用いた蒸着もしくはスパッタリングを行なえば
よく、記録層を形成するための蒸着源もしくはターゲッ
トを兼用できるので効率的かつ経済的に上記光磁気記録
媒体を製造することができる。

（実　施　例） 以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明
する。

第１図は本発明に係る光磁気記録媒体の一実施例を示す
側断面概略図である。この光磁気記録媒体１は、中心に
スピンドルシャフト挿入用の穴を穿設した円形の非磁性
透明基板２上に第１透明誘電体保護層３および光磁気記
録層４が積層され、これら両層３，４の内外側（内外周
）全面に亘って希土類金属層５ａ、　５ｂか形成され、
さらにこれらの層３．４．５ａ、　５ｂを全て被覆する
ように第２透明誘電体保護層６か形成されてなる。

上記透明基板２の材料としては、カラス、ホウケイ酸カ
ラス、石英、エポキシ、ＰＣ，ＰＭＭＡ等か使用される
。また、透明誘電体保護層３，６は酸素と反応しない不
活性なＳ！　０．Ｓ！　０２　。

３ｉ３Ｎａ等の物質で形成され、記録層４への酸素の侵
入を遮断する効果を有する。さらに、記録層４は例えば
Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　、　Ｔｂ　Ｄｙ　Ｆｅ　、　ＧｄＦ
ｅ　Ｃｏ　、Ｇｄ　Ｔｂ　Ｃｏ等の非晶質希土類遷移金
属により、例えば５０〜３ｏｏｏＡ程度の厚さに形成さ
れ、磁化反転により情報を記録し得る磁性層である。

ところで上記記録層４は極めて酸化されやすいので、上
述したように記録層４の全面に亘って誘電体保護層を設
けて酸素の侵入を遮断するようにしたものか存在するが
、その誘電体保護層は酸素を積極的にトラップする効果
を有ざず、しかも製造の都合上、記録層側面方向におけ
るこの誘電体保護層の厚みか薄く形成されやすいことか
ら、この記録層側面方向からの酸素の侵入を完全に遮断
することは難しい。そこで上記本実施例における光磁気
記録媒体１においては記録層４の内外側面全面に亘り、
酸素を吸収しやすい希土類金属層５ａ。

５ｂを設け、保護層３，６によっても阻止し得なかった
側面からの侵入酸素をトラップすることにより記録層４
の酸化を防止している。このため、従来の光磁気記録媒
体に比べて記録再生特性が良好で、クラック、孔食、ピ
ンホール等の発生を大幅に減少させることかできる。

本実施例では、希土類金属層５ａ、　５ｂの外側にさら
に誘電体保護層６が設けられているか、もちろんこの希
土類金属層の外側を覆う誘電体保護層６かなく、希土類
金属層５ａ、　５ｂのみか記録層４の側面に形成されて
いる場合にも、該層５ａ、　５ｂは酸素をトラップする
機能を有するのでその様な機能を有しない上記従来の誘
電体保護層で側面を覆っている場合よりもより効率的に
酸化防止を図ることかできる。

次に、本発明に係る光磁気記録媒体の製造方法の一実施
例を第２図（ａ＞、（ｂ）、（ｃ）を用いて説明する。

ます、第２図（ａ）に示すように透明基板２上【こ第１
マスク７を取り付け、蒸着よたはスパッタリングを用い
て第１透明誘電体保護＠３および光磁気記録層４を基板
２と同心的に形成するＣなお、この記録、響４は希土類
金属と遷移金属を用いた２元同時蒸着法または２元同時
スパッタリング法により形成する。この復、第１マスク
７を取りはずし、第２図（ｂ）に示すように記録層４上
に第２マスク８を配置する。この第２マスク８はこの記
録層４の記録領域Ａの全面をカバーするように、かつ記
録層４の外径以下の外径および記録層４の内径以上の内
径を有するように形成され、その中心か記録層４の中心
と略一致するように適当な保持部材（図示せず）により
保持される。このように第２マスク８を取り付けた状態
で、蒸着またはスパッタリングを用い、このマスク８方
向に希土類金属粒子を飛散させて第２図（Ｃ）に示すよ
うに第１透明誘電体保護層３および記録層４の内外側面
全面に亘って希土類金属層５ａ、　５ｂを形成する。な
お、この希土類金属＠５ａ。

５ｂは記録層４を形成した際【ご用いた希土類金属の蒸
着源またはスパッタリング用ターゲットを用いて形成す
る。この後第２マスク８を取りはずし、蒸着またはスパ
ッタリングを用い、第１図に示すように第１透明誘電体
保護層３．記録層４および希土類金属＠５ａ、　５ｂを
全て被覆するように第２透明誘電体保護層６を形成する
。本実施例において（よ、記録層４を形成する際に用い
る希土類金属の蒸着源もしくはスパッタリング用ターゲ
ットを用いて希土類金属層５ａ、　５ｂを形成するよう
にしているので効率的かつ経済的である。

なお、上記実施例においては、希土類金属層５ａ。

５ｂを光磁気記録層４の側面の伯、第１誘電体保護響３
の側面にも設けているか、光磁気記録層４の側面のみに
設けるようにしてもよい。

また、上記実施例では記録層を希土類金属の蒸＠源もし
くはスパッタリング用ターゲットと遷移金属の蒸着源も
しくはスパッタリング用ターゲットとを用いて形成し、
希土類金属層はその記録層形成用の希土類金属蒸着源も
しくはスパッタリング用ターゲットを用いて形成してい
るか、もちろん記録層および希土類金属層は他の方法、
例えば記録層はそれ専用の希土類遷移金属蒸着源もしく
はスパッタリング用ターゲットを用いて形成し、希土類
金属層はそれ専用の希土類金属蒸着源もしくはスパッタ
リング用ターゲットを用いて形成しても良い。

さらに、本発明の光磁気記録媒体においては、上記実施
例における下地層としての第１透明誘電体保護層３は必
ずしも必要ではない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る光磁気記録媒体の一実施例を示す
側断面概略図、 第２図（ａ＞、（ｂ）、（ｃ）は本発明に係る光磁気記
録媒体の製造方法の一実施例を示す側断面概略図である
。 １・・・光磁気記録媒体　　　？・・・透明基板３・・
・第１透明誘電体保護層 ４・・・光磁気記録層　　　　　５ａ、　５ｂ・・・希
土類金属層６・・・第２透明誘電体保舌層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板上に、希土類遷移金属よりなる光磁気記録層お
   よび誘電体保護層がこの順に積層されてなる光磁気記録
   媒体において、 前記光磁気記録層の側面に希土類金属層が設けられてい
   ることを特徴とする光磁気記録媒体。 ２）円形の基板上に、希土類遷移金属よりなる光磁気記
   録層および誘電体保護層をこの順に積層して成る光磁気
   記録媒体の製造方法において、前記光磁気記録層を形成
   した後、記録領域の外径以上であって前記光磁気記録層
   の外径以下の外径を有する円形マスク、または該記録領
   域の内径以下であつて前記光磁気記録層の内径以上の内
   径を有する円形マスクをその中心が該光磁気記録層の中
   心と略一致するように該光磁気記録層上に配置し、希土
   類金属を主成分とする粒子を該マスク方向に飛散させて
   前記光磁気記録層の少なくとも外側面または内側面に希
   土類金属層を形成し、この後、前記マスクを前記光磁気
   記録層上からはずし、この記録層上に誘電体保護層を形
   成することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。