JPS63100980A - スピンコ−ト方法 - Google Patents
スピンコ−ト方法Info
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- JPS63100980A JPS63100980A JP61246109A JP24610986A JPS63100980A JP S63100980 A JPS63100980 A JP S63100980A JP 61246109 A JP61246109 A JP 61246109A JP 24610986 A JP24610986 A JP 24610986A JP S63100980 A JPS63100980 A JP S63100980A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、光記録ディスク、磁気ディスク等において、
ディスク基板に塗布液を塗布するスピンコート方法に関
する。
ディスク基板に塗布液を塗布するスピンコート方法に関
する。
先行技術とその問題点
例えば、光記録ディスクの記録層の塗布など、各種ディ
スク基板に各種塗膜を形成するためのスピンコートをす
る場合、従来より、ディスク基板を回転させその上に塗
布液を滴下し、一定の1膜厚の塗膜を得る方法が行なわ
れている。
スク基板に各種塗膜を形成するためのスピンコートをす
る場合、従来より、ディスク基板を回転させその上に塗
布液を滴下し、一定の1膜厚の塗膜を得る方法が行なわ
れている。
この場合、通常、雰囲気温度の変動中は±0.5℃であ
るとの前提の基に、塗布液の粘度、温度およびディスク
基板を回転させるスピンナーヘッドの回転数を一定にし
、塗膜厚を一定にするようにしている。
るとの前提の基に、塗布液の粘度、温度およびディスク
基板を回転させるスピンナーヘッドの回転数を一定にし
、塗膜厚を一定にするようにしている。
しかし、実際はスピンコート装置の駆動部の熱や室温の
変動等により、雰囲気温度を一定に保つことは極めて困
難であり、このため塗布液の溶媒の蒸発、乾燥速度が変
動し、塗布厚みが安定しない。 例えば光記録ディスク
のように記録層厚が0.2−程度以下ときわめて薄い場
合において、記録層塗布時の雰囲気温度が1 ”C変動
すると、記録層の厚みが変動し、これにより光透過率が
1%程度変動する。
変動等により、雰囲気温度を一定に保つことは極めて困
難であり、このため塗布液の溶媒の蒸発、乾燥速度が変
動し、塗布厚みが安定しない。 例えば光記録ディスク
のように記録層厚が0.2−程度以下ときわめて薄い場
合において、記録層塗布時の雰囲気温度が1 ”C変動
すると、記録層の厚みが変動し、これにより光透過率が
1%程度変動する。
このため、雰囲気温度の変動による影響を受けない安定
したスピンコート方法が望まれている。
したスピンコート方法が望まれている。
■ 発明の目的
本発明の目的は、安定した塗膜形成が可能で、かつ操作
の容易なスピンコート方法を提供することにある。
の容易なスピンコート方法を提供することにある。
■ 発明の開示
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、ディスク基板を回転し、このディス
ク基板上に塗布液を滴下して所定の膜厚に塗布するスピ
ンコート方法において、ディスク基板の近傍の雰囲気温
度の変動を検知し、温度が上昇したときはディスク基板
の回転数を増加し、温度が降下したときはディスク基板
の回転数を減少することを特徴とするスピンコート方法
である。
ク基板上に塗布液を滴下して所定の膜厚に塗布するスピ
ンコート方法において、ディスク基板の近傍の雰囲気温
度の変動を検知し、温度が上昇したときはディスク基板
の回転数を増加し、温度が降下したときはディスク基板
の回転数を減少することを特徴とするスピンコート方法
である。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明のスピンコート方法は、例えば光記録ディスク、
磁気ディスク等のディスク基板に各種塗膜を形成するに
際し、ディスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を検知し
、適宜ディスク基板の回転数を調整するものである。
磁気ディスク等のディスク基板に各種塗膜を形成するに
際し、ディスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を検知し
、適宜ディスク基板の回転数を調整するものである。
ディスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を検知するには
、温度センサーをディスク基板の近傍に設置すわばよい
。
、温度センサーをディスク基板の近傍に設置すわばよい
。
温度センサーの設置位置は特に制限はないが、好ましく
はディスク基板の塗膜形成面側の上方であることが好ま
しい。 この場合、ディスク基板と温度センサーとの距
離は5〜50mm程度であればよい。
はディスク基板の塗膜形成面側の上方であることが好ま
しい。 この場合、ディスク基板と温度センサーとの距
離は5〜50mm程度であればよい。
使用する温度センサーは公知のものであってよく、例え
ば熱電対、測温抵抗体等である。
ば熱電対、測温抵抗体等である。
また、設置する温度センサーの数量は、通常は1個であ
るか、必要に応じ測定点を増やす場合には複数の温度セ
ンサーを設置してもよい。
るか、必要に応じ測定点を増やす場合には複数の温度セ
ンサーを設置してもよい。
本発明では、このような温度センサーにより検知したデ
ィスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を基に、ディスク
基板の回転数を調整する。
ィスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を基に、ディスク
基板の回転数を調整する。
この場合、雰囲気温度が上昇すると、ディスク基板上に
塗設された塗布溶液からの溶媒の蒸散速度が速くなり塗
膜の厚さが大となるため、これを防止するためにディス
ク基板の回転数を増加し、ディスク基板上の塗布溶液量
を調節し塗膜の厚さを所定の厚さに保つようにするもの
である。
塗設された塗布溶液からの溶媒の蒸散速度が速くなり塗
膜の厚さが大となるため、これを防止するためにディス
ク基板の回転数を増加し、ディスク基板上の塗布溶液量
を調節し塗膜の厚さを所定の厚さに保つようにするもの
である。
また雰囲気温度が降下した場合は、上記とは逆に、ディ
スク基板の回転数を減少することにより塗膜の厚さを所
定の厚さに保つものである。
スク基板の回転数を減少することにより塗膜の厚さを所
定の厚さに保つものである。
この場合、雰囲気温度の変動量△Tとディスク基板の回
転数の変化量△Rとの関係は、塗布溶液の量、粘度、使
用する溶剤の蒸発速度、雰囲気の設定温度、雰囲気中の
気流の有無等により個々の状況に応じて、逐一実験的に
決定されるものである。
転数の変化量△Rとの関係は、塗布溶液の量、粘度、使
用する溶剤の蒸発速度、雰囲気の設定温度、雰囲気中の
気流の有無等により個々の状況に応じて、逐一実験的に
決定されるものである。
そして、△Tと△Rとの関係を満足するように、温度セ
ンサーの信号に基づきディスク基板の駆動部を制御すれ
ばよい。
ンサーの信号に基づきディスク基板の駆動部を制御すれ
ばよい。
通常、温度センサーからの?に気信号によって駆動部へ
の電流を制御する方法がとられる。
の電流を制御する方法がとられる。
なお、ディスク基板の回転数は6000r、p、m程度
以下とする。
以下とする。
そして、一般に△R/△Tは10〜50r、p、m/℃
程度である。
程度である。
また、塗膜を一定するための制御可能な雰囲気温度の変
動中は10℃程度以下である。
動中は10℃程度以下である。
本発明のスピンコート法によって、ディスク基板に各種
塗膜を形成するに際し、ディスク基板は用途に応じ、樹
脂板、ガラス板、金属板等を用いることができる。 光
記録ディスクの場合、このディスク基板は、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロン等が好ましく用い
られる。
塗膜を形成するに際し、ディスク基板は用途に応じ、樹
脂板、ガラス板、金属板等を用いることができる。 光
記録ディスクの場合、このディスク基板は、アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロン等が好ましく用い
られる。
また、塗布物としては、光記録ディスク用記録層、磁気
ディスク用記録層、各種ディスク用保護層、各種レジス
ト等がある。
ディスク用記録層、各種ディスク用保護層、各種レジス
ト等がある。
光記録ディスクの場合、記録層としては、種々のもので
あってよいが、色素単独からなるか、色素組成物からな
ることが好ましい。
あってよいが、色素単独からなるか、色素組成物からな
ることが好ましい。
用いる色素としては、書き込み光および読み出し光の波
長に応じ、これを有効に吸収するもののなかから、適宜
決定すればよい。 この場合、これらの光源としては、
装置を小型化できる点で、半導体レーザーを用いること
が好ましいので、色素はシアニン系、フタロシアニン系
、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、
ビリリウムないしチアピリリウム塩系等が好ましい。
長に応じ、これを有効に吸収するもののなかから、適宜
決定すればよい。 この場合、これらの光源としては、
装置を小型化できる点で、半導体レーザーを用いること
が好ましいので、色素はシアニン系、フタロシアニン系
、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメタン系、
ビリリウムないしチアピリリウム塩系等が好ましい。
また、色素組成物を記録層とする場合、ニトロセルロー
ス等の自己酸化性の樹脂や、ポリスチレン、ナイロン等
の熱可塑性樹脂を含有させることができる。 また、色
素の酸化劣化を防止するため、クエンチャ−を含有させ
ることもできる。 さらには、この他の添加剤を含有さ
せてもよい。
ス等の自己酸化性の樹脂や、ポリスチレン、ナイロン等
の熱可塑性樹脂を含有させることができる。 また、色
素の酸化劣化を防止するため、クエンチャ−を含有させ
ることもできる。 さらには、この他の添加剤を含有さ
せてもよい。
このような場合、特に好ましくは、インドレニン系のシ
アニン色素とビスフエニルジチオール系等のクエンチャ
−との混合物が好ましい。
アニン色素とビスフエニルジチオール系等のクエンチャ
−との混合物が好ましい。
またこれらを色素のカチオンと、クエンチャ−のアニオ
ンとのイオン結合体、あるいはこれと色素との混合物と
して用いるものも好ましい。
ンとのイオン結合体、あるいはこれと色素との混合物と
して用いるものも好ましい。
記録層厚は50〜2000人、特に100〜1500人
程度である。
程度である。
さらに、本発明は、種々の下地層、表面層等の設層にも
有効である。
有効である。
■ 発明の具体的作用効果
本発明のスピンコート方法は、ディスク基板上に各種塗
膜をスピンコートによって形成するに際し、ディスク基
板の近傍の雰囲気温度の変動を検知し、温度が上昇した
ときはディスク基板の回転数を増加し、温度が降下した
ときはディスク基板の回転数を減少するものである。
膜をスピンコートによって形成するに際し、ディスク基
板の近傍の雰囲気温度の変動を検知し、温度が上昇した
ときはディスク基板の回転数を増加し、温度が降下した
ときはディスク基板の回転数を減少するものである。
このため、ディスク基板上に形成される塗膜の厚さは極
めて安定なものとなり、同一基板内および製造ロット間
における塗膜厚さのバラツキが解消されるものである。
めて安定なものとなり、同一基板内および製造ロット間
における塗膜厚さのバラツキが解消されるものである。
特に、光記録デイグの記録層、下地層、表面層など10
0〜2000人程度の塗膜Jvの場合には、本発明はき
わめて有効である。
0〜2000人程度の塗膜Jvの場合には、本発明はき
わめて有効である。
本発明者は、本発明の効果を確認するために、下記に示
される実験を行フた。
される実験を行フた。
実験例
プリグループ付きのポリカーボネート[Jディスクにイ
ンドレニン系シアニン色素をシクロヘキサノンを溶媒と
して塗布液とし、これを600 r、p、+nにてスピ
ンコートにより600人の塗膜とした。
ンドレニン系シアニン色素をシクロヘキサノンを溶媒と
して塗布液とし、これを600 r、p、+nにてスピ
ンコートにより600人の塗膜とした。
この場合、雰囲気設定温度は23℃、雰囲気の気流は無
しとした。
しとした。
そして、雰囲気温度を設定温度から±0.5℃の範囲で
変動させた場合の塗膜の厚さを測定した結果、本発明の
スピンコート法で塗膜を形成した場合の塗膜の厚さには
バラツキかみら九なかった。
変動させた場合の塗膜の厚さを測定した結果、本発明の
スピンコート法で塗膜を形成した場合の塗膜の厚さには
バラツキかみら九なかった。
これに対し、従来の方法に従い、回転速度を一定とした
場合は200人程大のバラツキか発生した。
場合は200人程大のバラツキか発生した。
なお、この場合、本発明のスピンコート方法における雰
囲気温度の変動に対するディスク基板の回転数の変化の
割合は20 r、p、m/”Cとした。
囲気温度の変動に対するディスク基板の回転数の変化の
割合は20 r、p、m/”Cとした。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ディスク基板を回転し、このディスク基板上に塗布液を
滴下して所定の膜厚に塗布するスピンコート方法におい
て、 ディスク基板の近傍の雰囲気温度の変動を検知し、温度
が上昇したときはディスク基板の回転数を増加し、温度
が降下したときはディスク基板の回転数を減少すること
を特徴とするスピンコート方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61246109A JPS63100980A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | スピンコ−ト方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61246109A JPS63100980A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | スピンコ−ト方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63100980A true JPS63100980A (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=17143615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61246109A Pending JPS63100980A (ja) | 1986-10-16 | 1986-10-16 | スピンコ−ト方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63100980A (ja) |
-
1986
- 1986-10-16 JP JP61246109A patent/JPS63100980A/ja active Pending
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