JPS6297310A - 低損失アモルフアス磁心 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高周波トランス、チョーク等に用いられる低
損失のアモルファス磁心に関するものであり、特に２０
ｋＨｚ以上の高い周波数での使用に好適なアモルファス
磁心に係るものである。

従来の技術 従来、高周波用のトランス、チョーク等の磁心材料とし
ては、高抵抗であって渦電流損が少ない等の利点を有す
るため、フェライトが主に用いられていた。しかし、フ
ェライトは飽和磁束密度が低く、温度特性も悪いため、
磁心を小形化することが困難であるという欠点があった
。

近年、従来の磁心材料に変るものとして非晶質磁性合金
が注目されている。しかし、高周波の鉄損は通常の処理
を行なっただけでは十分小さくならず、Ｆｅ系材料では
たとえば熱処理により結晶相を分散させて磁区を細分化
させることにより高周波の鉄損を下げたり、スクラッチ
等によりリボン表面に傷をつけて磁区を細分化させるこ
とにより損失を下げる等の方法が検討されている。

発明が解決しようとする問題点 上記従来のアモルファス磁心は、高周波磁気特性を改善
するために適当な結晶相を析出させる必要があるが、そ
のための熱処理条件範囲が狭く特性がばらつきやすい、
また磁区を細分化させるためのスクラッチに時間がかか
り、効率が悪くかつ特性がばらつきやすい等の欠点があ
る。

そこで本発明はアモルファス磁心を効率よく製造できる
ようにするとともに、高周波における鉄損を減少させか
つ特性にばらつきが生じないようにした低損失アモルフ
ァス磁心を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明は　、単ロール法等の液体急冷法により作成した
アモルファス合金薄板の表面にロウ付け、蒸着法、スパ
ッタ法、電着メッキ法等により数ＩＬｍ以下の金属層を
形成して、積層、あるいは巻回し、さらに熱処理するこ
とにより低損失のアモルファス磁心とした。

Ｓ　＋　ｘ　Ｂ　ｙ　　（ａ　ｔ％）で表わされ、ここ
でＭはＴｉ、　Ｚｒ、　Ｈｆ、　Ｖ、　Ｗｂ、　Ｔａ、
　Ｏｒ、　Ｍｅ、　Ｗ、　Ｍｎ、　Ｘｉ、　Ｃｏ、Ｃｕ
、Ａｇ、　Ａｕ、　Ｒｕ、　Ｒｈ、　Ｐｄ、　Ｐｔ、　
Ｙ希土類元素から選ばれる少なくとも１種であり、Ｏ≦
ａ≦０．１　、　ｘ≦１９．５≦ｙ≦２５．１５≦ｘ＋
ｙ≦３０の関係を有するものを用いた場合に、高周波に
おける鉄損低減の効果が著しいが、これに近い材料でも
よい。

Ｍは経時変化改善および鉄損の低減に効果があり１組成
比ａが０．１を越えるとリボンが脆化しゃすくなるため
、ａは０．１以下が望ましい。

またＳｉ量ＸはＸ≦１９．Ｂ量ｙは５≦ｙ≦２５、そし
て１５５　ｘ　＋　ｙ≦３０の範囲が、アモルファス形
成が容易であるため好ましく、リボンの板厚は２５ＪＬ
ｍ以下が特に望ましい。

磁心の熱処理は１通常結晶化温度以下の温度で不活性ガ
ス雰囲気あるいは真空中で行なわれるが、場合によって
は酸化雰囲気中で行なってもよい、また熱処理は場合に
応じて無磁場中、あるいは磁場中で行なわれる。

金属層は１例えばＣｕ、　Ｃｒ、　Ｋｎ、　Ｔｉ、　Ｗ
ｂ、　Ａ１．　Ｐｂ、Ｓｎ等の純金属、あるいはこれら
の合金が用いられる。また必要に応じてＳｉ、　Ｂ、　
Ｐ等の半金属を含んでも良い。

さらに形成した金属層表面に絶縁層を形成し、層間絶縁
することにより高周波の損失は更に改善される。

実施例 本発明の実施例としてのアモルファス磁心は、液体急冷
法により作成したアモルファス合金の薄板表面に、スパ
ッタ法、蒸着法等により金属層を形成し、それを巻回し
て巻磁心を形成し、さらに熱処理したものである。この
ように形成した磁心は第１図に示され、ｌはアモルファ
ス合金、２は金属層であり、使用される際は通常磁心は
コーティングされるか、コアケースに入れられる。なお
、巻磁心の代りに第２図に示すように積層に形成しても
よい。

アモルファス合金としては１組成式（Ｆ　ｅｔ−Ｌ：１
Ｍ　Ｒ）　　Ｓｉ　　Ｂ　　（ａｔ％）で表わされるも
の２５種に／−６−ｘ−ｙ　Ｘ　　ｙ ついて実施し、リボン薄帯の板厚は２５．ｍ以下とした
。

金属層としては、Ｃｕ、　Ｃｒ、　Ａ１．　Ｔｉ、　Ｎ
ｂ、　Ｍｎ、　Ａｇ、　Ａｕ、　Ｖの純金属１合金Ｐｂ
−５ｎ、　Ｃｕ−Ａｇおよび半金属Ｐを含むものを使用
し、メッキ法、スパルタ法、ロウ付け、蒸着法、メッキ
法等によりアモルファス合金の薄帯の片面のみに形成し
た。なお金属層をアモルファス合金の薄板両面に形成し
てもよく、その場合片面の場合とほぼ同様な効果が得ら
れる。

アモルファス合金の薄板に金属層を付着した後の熱処理
は、Ｎ２雰囲気中でキュリ一温度以上結晶化温度以下に
２０〜６０分保持後空冷して行なった、また上記実施例
の巻磁心における金属層の表面にＭｇＯ粉末を塗布して
、絶縁層を形成したものも実施した。

上記実施例により作成した磁心について、周波数１００
　ｋ　Ｈｚ、磁束密度の波高値２ＫＧの場合の鉄損を測
定した例を、次の表に示した。

また比較のため、従来の通常の熱処理をしたアモルファ
ス磁心であって金属層を有しないものについても同一条
件で鉄損を測定し前記衣に示した。第１表から本発明の
実施例の方が鉄損が低く。

高周波トランス等に用いる磁心として優れていることが
わかる。

発明の効果 本発明のアモルファス磁心は、アモルファス合金薄板の
表面に金属層を設けることにより高周波における鉄損を
低下できるので、その製造効率が従来に比較して良く、
かつ特性のばらつきも比較的小さいためその効果は著し
いものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のアモルファス磁心を巻磁心型にした斜
視図、第２図は同じく積層型磁心の斜視図である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）アモルファス合金薄板を積層あるいは巻回わして
   形成する磁心において、液体急冷法により作成したアモ
   ルファス合金薄板の表面に、ロウ付け、蒸着法、スパッ
   タ法、電着メッキ法等の方法により金属層を形成したこ
   とを特徴とする低損失アモルファス磁心。
2. （２）金属層の表面に絶縁層を形成し、層間絶縁したこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の低損失ア
   モルファス磁心。
3. （３）組成式（Ｆｅ＿１＿−＿ａＭ＿ａ）＿１＿０＿０
   ＿−＿ｘ＿−＿ｙＳｉ＿ｘＢ＿ｙ（ａｔ％）で表わされ
   、ここでＭはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ
   、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｒ
   ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｙ希土類元素から選ばれる少な
   くとも１種であり、０≦ａ≦０．１、ｘ≦１９、５≦ｙ
   ≦２５、１５≦ｘ＋ｙ≦３０の関係を有するアモルファ
   ス合金を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   に記載の低損失アモルファス磁心。