JPS629643A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｒ　　Ｊ？！ＲＲＲｅｓ　　會た　傷　ＬＸ　躯　）本
装置は半導体装置の製造工程におけるフォトマスクやウ
ェハ等の搬送装置の改良に関するものである＠ 〔発明の背景〕 近年半導体産業の成長に伴なって、フォトマスクを製作
するフォトリピータや製作されたマスクの検査装置の作
業の効率化が要求されている。特にフォトリピータやマ
スク検査装置におけるマスクホルダへのマスクの供給（
ロード）及び搬出（アンロード）は、従来その殆んどが
手作業で行なわれており、作業効率は極めて低い状態に
おかれている。またマスクのロード、アンロードの作業
が自動化されている場合でも、その対象となるマスクサ
イズは一種類に限られ、対象サイズ外のマスクについて
は従来通シの手作業によってロー゛ド、アンロードの作
業を打なうか、あるいはマスクサイズに応じてマスク搬
送機のマスク吸着用の配管を変えたシ、マスクを収納す
るマスクカセットの位置決め部材の位置を変えるなどの
手作業による潴ｍ礒２　、ｒｚ　’ｍφ太Ｍｌ＾孕−ｈ
　Ｗ　ＩイｔＡ−歯橢求糾群いものである。更に手作業
による場合は、作業者から発生する塵埃のため！！！造
されたマスクに欠陥を生じるなどの不都合もあるＯこの
ことはマスクに限らず、半導体ウェハ等の搬送の場合も
同様のことが雪見る。

〔発明の目、的〕

本発明は上記のような欠点を解消し、複数サイズのマス
クやウェハ等を７オトリビータ（露光装置）あるいは検
査装置の基板ホルダ上に、使い勝手よくかつ自動的にロ
ード、アンロードしうる基板搬送装置を提供することを
目的としている。

〔発明の概要〕

本発明はマスクやウェハ等の基板の搬送装置において、
複数個のロード用及びアンロード用のカセツ）！を合の
夫々に、カセットサイズ検知手段を備え、該各検知手段
より発する信号を比較して、該信号が一致すれば上記搬
送装置のシーケンスを開始し、不一致の場合は停止する
ように構成したことを技術的要点としている０ 〔発明の実施例〕 第１図は本発明の一実施例を示すマスク露光装置に付設
したマスク搬送装置の斜視図、第２図はカセット設置台
上のカセットの詳細図、第３図はカセットサイズの検知
装置の説明図、第４図はアライメントの説明図、第５図
はローダの斜視図、第６図は搬送装置の制御ブロック図
である。

第１図に示すようにマスク搬送装置は大別して３つの部
分から構成されている。第１の部分は未露光のマスク及
び露光済みのマスクを収容するマスクカセット２ａ　、
２ｂを載置するロード及びアンロードのカセット設置台
１ａ、１ｂの部分、第２の部分はマスクホルダにマスク
を供給するに当って、マスクを位置決めするプリアライ
メント部分（２０，２１，２２）、更に第３の部分は、
マスクホルダよシ露光済みのマスクを取υ出し、アンロ
ード用カセットに収納し、続いてロード用カセットから
未露光のマスクを搬出し、プリアライメントを行なった
後マスクホルダに供給するローダ部（３０，３１，３２
，４０，４１）の部分である＠以下各部分の構成につい
て第１の部分であるロード及びアンロードカセット台の
部分から述べることとする〇 第２図において、力＋ット設置台（１）上に係着された
クランプレバ（３）の把手（３ａ）を、支点（３ｂ）を
中心に矢印（４）の方向に回転させると、クランプレバ
（３）の当接部材（３Ｃ）は、カセット設置台（１）上
に載置されたロード用又はアンロード用マスクカセット
（２）を押圧し、カセット（２）は押されて位置決め部
材（５）及び（６）に当接する０位置決め部材（５）　
、　（６）はカセットサイズ（例えば５＃　、　６＃及
び７１）に応じて異なる当接部（５ａ）　＝　（５ｂ）
　ｅ　（５ｃ）及び（６ａ）。

（６ｂ）、（６ｃ）を備えているので、カセットのサイ
ズに応じ、いずれかの当接部に当接し、カセット（２）
の位置決めが行なわれる。又カセット設置台（１）Ｋは
、第３図にみるように３個のカセットサイズ検知用の突
起（７）　、　（８）　、　（９）が装着されておシ、
各検知用突起は穴部、αＤ、αの内にばね（７，ｂ）　
、　（８ｂ）　。

（９ｂ）を介して上下動自在に挿嵌されている。カセッ
ト峻置台（１）上のカセット（２）は、位置決め部材（
５）　、　（６）により、そのサイズに応じて位置が固
定するので、検知用突起（７）　、　（８）　、　（９
）いずれかを押圧することになシ、その結果押圧された
上記突起はその下端に設けた遮光羽根（７ａ）　、　（
８ａ）　、　（９ａ）のいずれかを７オトセンサα３　
、　（１４）　、αω中に挿入させ、遮光された７オト
センサは信号を発信する。これによりカセット設置台（
１）上のカセットのサイズを知ることができる０なお上
記検知装置において、ばね（７ｂ）　、　（８ｂ）　、
　（９ｂ）は突起（７）　、　（８）　、　（９）を上
方向に付勢しているが、その付勢力はカセットの自重よ
シ小さく設定されている。またカセットはそのサイズに
応じ、検知用突起（７）　、　（８）　、　（９）のう
ちの唯１個だけを押圧するように構成されておシ、１個
のカセツ）Ｋ対し２個以上の検知用突起が干渉して押圧
されることはない。

カセット（２）内のマスクをローダ部へ搬出入するに当
ってカセット（２）の位置を決めるため、第２図にみる
ようにカセット設置台（１）の下部にカセット設置台昇
降装置ａｌ１９が設けられておシ、さらにカセット（２
）内の最下段のマスクを捜・索検知する近接センサも備
えられている。

カセット（２）内のマスクの搬出入は、ロード用カセッ
トの場合は、最下段に収納されたマスクから順次上方へ
搬出し、アンロード用カセットの場合はカセット内に収
納されているマスクの内設下段のマスクの一段下の空き
収納溝から順次下方へ搬入するようＫＷ成されている。

次に第２の部分のプリアライメント部の構成について述
べる。第４図においてプリアライメントベース（？１上
に位置決め部材（２１）と押圧部材（２２）とがＡ、Ｂ
方向にのみ摺動可能に設けられておシ、位置決め部材（
２１）と押圧部材（２２）　Ｋは夫々９゜６Ｉ、７１の
ｖｘり用の位置決めビン（２１ａ）　−（２１ｂ）＊（
２１ｃ）と（２２ａ）　、　（２２ｂ）　、　（２２ｃ
）とがその高さを違えて固着されている。プリアライメ
ント開始信号によシ上記位置決め部材（２１）と押圧部
材（２２）とは退避機構（図示せず）によシ所定の位置
に退避し、検知手段（図示せず）により退避完了信号を
発信する０該退避完了信号によシ、搬送すべきマスク（
２５）を載置したアーム（４１）は、垂直方向−に上下
し、マスク（２５）のサイズに応じてその垂直方向の所
定位置に停止する。すなわち搬送するマスク（２５）の
サイズに対応する位置決めビン　　　“（２１ａ）　、
　（２１ｂ）　、　（２１ｃ）及び（２２ａ）−（２２
ｂ）　。

（２２ｃ）の何れかにマスクを当接せしめうる位置に停
止するのである。この垂直方向の停止位置の設定は後述
するローダ部の垂直駆動機構（３２）の固定部分に備え
た３個の７オトセンサ（３５）、（３６）。

（３７）によシ決定される。

ローダがアーム（４１）上のマスク（２５）を所定位置
に位置せしめた後、位置決め部材（２１）の前記退避機
構（図示せず）を消勢すると、位置決め部材（２１）は
ばね（２１ｄ）によ＃）Ｂ方向に移動し、ストッパ（２
３）に当接し停止する。位置決め部材（２１）がストッ
パ（２３）　Ｋ当接したことが検知されると、次に押圧
部材（２２）の退避機構を消勢する。その結果押圧部材
（２２）はばね（２２ｄ）　ＫよシＡ方向に摺動し、マ
スク（２５）の両端部（２５ａ）及び（２５ｂ）をマス
ク（２５）のサイズに対応する位置決めビンに当接して
停止する。第４図においては６Ｉのマスクであるから、
マスク（２５）の両端部（２５ａ）　、　（２５ｂ）は
位置決めビン（２１ｂ）　、　（２２ｂ）　Ｋ当接して
いる。

以上によシマスフ（２５）はアーム（４１）上において
Ａ、Ｂ方向の位置決めが完了する０マスク（２５）の位
置決め完了を検知するとアーム（４１）はマスク（２５
）を真空吸着し、位置決め部材（２１）及び押圧部材（
２２）は前記退避機構により夫々Ａ方向、Ｂ方向に移動
して所定の退避位置に停止し、Ａ、Ｂ方向のプリアライ
メントは完了するＯＡ。

Ｂ方向に直交するＣ、Ｄ方向（第１図参照）に関しても
同様の方法でプリアライメントを行なうことによシマス
フ（２５）のプリアライメントは完了する。

次にローダ部の構成を第５図について述べる。

マスク（２５）を搬送するアーム（４１）と一体となつ
九スライダ（４０）は、スライダ駆動機構（図示せず）
によシレール（３０）上を摺動する・アーム（４１）に
Ｆ１階段状に夫々１対のマスク載置面（４２）。

（４３）　、　（４４）が形成されており、マスク（２
５）のサイズ５＃　、　６＃　、　７’４Ｃ応じて載置
しうるようになっている。各載置面（４２）　、　（４
３）　、　（４４）にはマスク吸着用の夫々１対の吸着
溝（４２ａ）　、　（４３ａ）　−（４４ａ）が設けら
れていて、搬送マスクのサイズに応じて上記吸着溝のい
ずれかが電磁弁（図示せず）により真空源に接続され、
載荷されたマスクを真空吸着しうるように構成されてい
る。レール（５０）は回転駆動機構（３１）上に回転自
在に係着されており、その先端をロードカセット側、露
光機本体側、アンロードカセット側へ向けることができ
る〇更に回転駆動機ｕ（３１）は垂直駆動機構（６２）
上に上下動自在に係着されておシ、レール（６０）及び
回転駆動機構（３１）を上下方向に移動させることがで
きる０この上下動におけるレール（６０）の位置決めは
７オト七ンサ（３３）　、　（３４）　、　（３５）、
　（３６）。

（３７）を、回転駆動機構（３１）に固着された遮光羽
根（３８）が遮光することによシ行なわれる。前述のプ
リアライメント部へマスク（２５）を移動し、マスクの
サイ゛ズに応じて垂直方向の位置決めを行なうのもこの
７オトセンサ（３３）〜（３７）と遮光羽根（３８）と
の関係によるのである。上記のようにローダ部は腕伸縮
機構を構成するスライダ（４０）、アーム（４１）及び
レール（３０）と該腕伸縮機構を回転させる回転駆動機
構（３１）と、該腕伸縮機構と回転駆動機構（３１）と
を上下動させる垂直駆動機構（３２）とよシ所謂円筒座
標系の運動を行なえるように構成されている。

さて、第６図は上記第１図〜第５図に示した機構を統括
制御する制御系の回路ブロック図である。

主制御回路ＭＣは第２図に示したようなロード側・カセ
ット設置部ＬＣとアンロード用カセット設置台ＵＬＣ，
第５図に示したローダ部ＬＤ、及び第４図に示したプリ
アライメント機構部ＰＡＬ等を統括制御する。ロード側
カセット設置部ＬＣ１アンロード側カセット設置部ＵＬ
Ｃの夫々には、先に説明した通シカセットサイズを検出
するセンサー　１３．１４．１５と設置台の上下動のリ
ミット位置を検出するセンサー１７．１８とが設けられ
るとともに、近接センサーＰＳと、設置台を上下動させ
るためのパルスモータＰＭとが設けられる。またプリア
ライメント機構部ＰＡＬＫは、位置決め部材２１と押圧
部材２２との退避動作や、押圧動作を行なうための駆動
機構（退避機構）ＡＣＴが設けられ、さらにプリアライ
メント開始時に位置決め部材２１と押圧部材２２とがと
もに退避位置にきたとき、退避完了信号を出力する退避
検知センサーＳＳが設けられる。一方、ローダ部ＬＤに
は第５図に示すように１アーム４１を駆動するスライダ
４０と、アーム４１を水平面内で回転させる回転駆動機
構３１と、アーム４１全体を上下動させる垂直駆動機構
Ｓ２とが設けられる。さらに基板の露光装置や検査装置
等の本体装置５０への受ケ渡ジノ際に、アーム４０の高
′さ位置を２段階で検出するための２つのセンサー５５
．５４が設けられるとともに１プリアライメント時にア
ーム４１の高さ位置を基板のサイズに応じて３段階で検
出するための６つのセンサー３５．３６．３７とが設け
られている。またローダｇＬＤのアーム４１には、第５
図に示したように、基板サイズに対応した３つの吸着溝
４２ａ、４３ａ、４４ａが形成されているが、各吸着溝
はそれぞれ電磁弁Ｂ、　＃Ｂ２＃Ｂ、を介して共通の真
空源ＶＳＫ接続されている。この電磁弁Ｂ、。

Ｂ　２　ｍ　Ｂ　３は主制街部ＭＣＫよって択一的に選
択される。例えばロード側カセット設置部ＬＣ内のセン
サー１３が検出信号を出力し、アンロード側カセット設
置部ＵＬＣ内のセンサー１３も検出信号を出力している
状態において、主制御部ＭＣはロード側とアンロード側
のカセットがともに同一サイズ（ここでは５インチ用）
のものであると判断して、マスクの吸着の際は電磁弁Ｂ
、を使うように選択する。もちろん、カセットサイズが
異なる場合、又はアンロード側に空きカセットが装着さ
れていない場合、主制御部ＭＣはカセットサイズの検出
信号が一致しないことを判別して、オペレータに警報を
発するとともに１その時点で装置全体を待機状態にする
。

次に本発明に係るマスク搬送装置の動作について説明す
る・例として６Ｉのマスク（２５）を露光装置（５０）
　Ｋより露光する場合を設定し、これについて時系列的
に述べるととＫする。

第１図において、先づオペレーターはロード用カセット
設置台（１ａ）　、アンロード用カセット設置台（１ｂ
）Ｋ６＃のｖｘり用カセット（２ａ）、（２ｂ）を載置
する。このとき両力セット設置台（１ａ）　。

（１ｂ）は最上昇点に位置決めされる。６１のカセツ）
　（２ａ）　＃　（２ｂ）を載置することで、前記カセ
ット設置台（１ａ）、（１ｂ）上の検知用突起（８）が
押圧され、７オトセンサＩよりサイズ判別信号を発信す
る。

ロード用とアンロード用カセットのサイズ判別信号を比
較し、両力セット設置台（１ａ）、（１ｂ）からの信号
が異なる場合はアラームを発して停止し、信号が一致す
る場合は次工程に移る。すなわち両力セット設置台（１
ａ）、（１ｂ）は下降を開始し、カセツ）Ｋ格納されて
いるマスクの内設下段に収納されているマスクを検索し
更にローダの６１用マスク載置面（４３）上の真空吸着
＠　（４３ａ）　Ｋ電磁弁によシ真空源を接続する。ま
た（３５）、、　（３６）　、　（３７）の３１１１の
７オトセンサのうちるｌ用のセンナ（３６）を遮光羽根
’（！１８）が遮光する時のみ垂直駆動機構（３２）が
停止するようＫＨＨＩＪ回路を切替える。

第２図においてカセット設置台（１）が下降し、該設置
台（１）Ｋ固着された遮光羽根へηが上部原点フォトセ
ンサ舖を遮光すると、カセット台昇降部（１υ内のパル
スモータ（図示せス）に備えたパルスエンコーダがパル
スカウントを開始する。カセット設置台＜１）が更に下
降し、最下段収納マスクが近接センナの検知距離内に達
すると、該センサよシ信号が発せられ、それによフその
時の上記パルスカウント数から最下段収納マスクの収納
溝のカセット下面からの段数を検知し、ロード用カセッ
トの場合はその収納溝（すなわち最下段収納マスク）を
、アンロード用カセットならばその収納溝直下の空き収
納溝をローダ部のマスク受は渡し位置に移動させる０カ
セツトの取付下面からの各収納溝位置までの寸法は、本
機構を動作せしむるに充分なだけの精度が保証されてい
るので、最下段マスク収納溝のカセット下面からの段数
を検知し得れば、その収納溝寸法に対応するパルスカウ
ント値だけカセットを移動することによりターゲットマ
スク又は収納溝をローダとの受は渡し位置に移動させる
ことができる。なお上記近接センナのマスク位置検知精
度は、カセットのマスク収納溝１ピッチ分内に納まれば
よいので、それ程高精度のセンナを使用する必要はない
。又アンロード用カセットにおいて、カセット内にマス
クが１枚も収納されていない場合は、カセット設置台（
１）は下降を続け、下部原点フォトセンサへ９を遮光羽
根Ｑ？）が遮光する時点でカセット設置台（１）は上昇
に転する。この時パルスカウント数は１度ＯＫリセット
され、この点から該パルスは再カウントされ最上部マス
ク収納溝をローダとのマスク受は渡し位ｔＫ移動させる
＠このようにパルスカウント数をＯにリセットするのは
上部原点７オトセンサ舖よシカラントを開始したパルス
のパルスサイクルの誤差が累積して生じるカセット設置
台（１）の移動量の誤差を上昇行程の移動ｆｆ１Ｋ加算
させないためであり、このように構成することで上部原
点７オトセンサα場と下部原点フォトセンサーとの機械
的な寸法位置を設定しておくだけで各マスク収納溝のロ
ーダ部受は渡し位置への移動精度が向上する・ 露光装置本体（５０）上のマスクホルダ（５１）上にマ
スク（２５）が載置されている場合は、両力セット設置
台（１ａ）、（１ｂ）が下降中にローダはレール（３０
）の先端を露光機側へ向け、垂直駆動機構（３２）によ
シレールの高さをマスクホルダー（５１）への進入高さ
Ｚｏ（第１図参照）に位置決めし、続いてレール（３０
）上をスライダ（４０）が移動して、マスクホルダ（５
１）に進入し所定位置にて停止、垂直駆動機構（３２）
を作動してアーム（４１）を定位置Ｚ、　（第１図参照
）ｔで上昇せしめ、上昇途中でマスク（２５）をアーム
（４１）のマスク載置面（４３）上に載置し真空吸着す
る。次にスライダー　（４０）がレール（３０）上を後
退してマスク（２５）を搬出、回転駆動機構（３１）を
作動してレール（５０）の先端をアンロード用カセット
の方へ向ける０両カセットの最下段収納マスク検索が終
了し、ターゲットマスク又はターゲット溝がローダとの
マスク受は渡し位置に移動されると、ローダはマスク（
２５）をアーム（４１）に吸着したま＼、アンロード用
カセット（２ｂ）に進入し、マスク（２５）をマスク収
納溝に挿入しながら定位置まで進んで停止する。この位
置ではマスク（２５）はカセット収納溝上に完全に収納
されている。ついでマスク載量面（４３）の真空吸着を
止め、アーム（４１）は垂直駆動機構（３２）によシ定
位置Ｚ。まで下降、下降途中にてマスク（２５）はカセ
ット収納溝に収納される〇 以上に′よりマスクの搬出工程は終了し、次に供給工程
に移る。ローダの回転駆動機構（３１）を作動してレー
〃□（３０）をロード用カセットの方に向け、スライダ
（４０）がレール（３０）上を前進して、ロード用カセ
ット（２ａ）の最下段収納マスクの下にアーム（４１）
を挿入し定位置で停止させる＠続いて垂直駆動機構（３
２）が作動してアーム（４１）は所定位置まで上昇し、
上昇中にマスク（２５）を載置面（４３）上に載置せし
め真゛空吸着する。その後スライダ（４０）はレール（
３０）上を定位置まで後退し、マスク（２５）をカセッ
トよシ完全に搬出すると回転駆動機構（３１）が作動し
てレール（３０）は露光装置本体（５０）の方へ向く０
このあとブリアライメント工程に移シ、レール（３０）
　Ｋ垂直駆動機構（３２）によシ下降し、遮光羽根（６
８）が７オトセンサ（３６）を遮光すると下降を停止し
、アーム（４１）はマスク（２５）の真空吸着を止め待
機する。この時前述のようにプリアライメント部の位置
決め部材（２１）と押圧部材（２２）とは所定位置に退
避している。ブリアライメントヲ完了するとアーム（４
１）は再びマスク（２５）を真空吸着し、定位置Ｚ、ｔ
で上昇した後停止し、アーム（４１）がマスクホルダ（
５１）上にマスクを進入させて定位置で停止し、マスク
（２５）の真空吸着を解除した後、アーム（４１）は下
降を開始し、下降途中でマスク（２５）はマスクホルダ
（５１）上に載置される。

アーム（４１）が定位置まで下降すると、レール（６０
）は後退して定位置で停止し、マスク供給工程は完了す
る。

マスクホルダ（５１）　Ｋ載置されたマスク（２５）は
、真空吸着され露光工程に入り、露光が終了すると露光
終了信号を受けた搬送装置が以後上記と同様のマスク搬
出、供給工程を繰返す。

尚ロードカセット内部のマ、スクブランクをすべて供給
し終った場合、又はアンロードカセット内゛部のすべて
のマスク収納溝にマスクが収納された場合Ｕ、＄７−ド
又はアンロードカセット設置台（１ａ）、（１ｂ）は最
高位置まで上昇し、警報を発しオペレータにカセット交
換を求める。

以上のマスク搬送装置の各部の動作は、第６図に示すよ
うに主制御装置ＭＣを中心として゛構成された制御回路
によシ制御されるので、全動作は自動的かつ作業効率高
く作動する。

なお上記実施例はマ゛スクの露光工程における例である
が、マスクの検査工程にも利用され、又マスクに限らず
（レチクル）にも使用することができる。さら和牛導体
ウェハの自動搬送にも全く同様に利用できる。

また本実施例では、ロードカセットからマスクを取シ出
し、処理の終ったマスクを別のアンロードカセットに搬
送するようにしたが、例えば検査装置等の場合は、不良
のマスク（又はウェハ）と正常のマスクとを分けるよう
表搬送方式も考えられる。

具体的には、検査の結果、不良と立ったマスクはアンロ
ードカセットに搬送し、正常なマスクは再びロードカセ
ットに戻すようなシーケンスにすればよい。

ところで、第５図に示したアーム（４１）のマスクサイ
ズに対応した吸着溝４２ａ、４３ａ、４４ａのうち、ど
の吸着溝を使うかを判断するのに、どちらか一方のカセ
ット設置台からのカセットサイズ検出信号（フォトセン
サー１３．１４．１５からの出力信号）のみを使って、
第６図に示した電磁弁Ｂ、　、Ｂ２．Ｂ３のいずれかを
選択するようＫしてもよい。

〔発明の効果〕

本発明は複数寸法の基板を搬送する基板搬送機において
、ロード用カセット及びアンロード用カセット設置台に
カセットサイズ（基板サイズ）判別のための検知手段を
備えて、上記両力セット設置台上に載置され九カセット
によシ基板のサイズ判別信号を発信せしめ、両力セット
設置台のサイズ判別信号を比較して、次のシーフェンス
を実行中すように構成したので、次に述べるよう々優れ
た効果を上げることができた。

（１）両力セット設置台上のカセットのサイズが異なっ
ている場合は機器は動作せず、従って誤動作によるトラ
ブルを防止しうる。

（２）上記サイズ判別信号により基板吸着溝の真空源へ
の接続及びプリアライメント部への停止位置の設定が行
なわれるためオペレーターはカセットをカセット設置台
上に載置するだけでそれ以後の工程はすべて自動化され
、作業効率を格段に向上せしめた。

特に今日の工場内の自動化の進展に伴い工場内で自動運
搬ロボットが基板収納カセットを運搬する様な場合、ロ
ボットがカセットをカセット収納台に乗せるだけで、搬
送装置が動作するため、ロボットに他の動作をさせる必
要もなく、省力化。

完全自動化の面でも有利である◇

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すマスク搬送装置の斜視
図、第２図はカセット設置台の斜視図、第３図はカセッ
ト設置台のサイズ判別装置の説明図、第４図はプリアラ
イメントの説明図、第５図はローダの斜視図、第６図は
制御ブロック図であるＯ 図中（１）はカセット設置台、（２）はマスクカセット
、（３０）はレール、（３１）は回転駆動機構、（５２
）は垂直駆動機構、（４０）はスライダ機構、（４１）
はアーム、（５０）は露出装置、（５１）はマスクホル
ダである。 代理人　弁理士　　佐　藤　正　年 第２図 Ｍ４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）サイズの異なるフォトマスク、ウェハ等の基板を
   夫々収納するような、サイズの異なるカセットを載置可
   能な少なくとも２個のカセット設置台を有する基板搬送
   装置において、該カセット設置台にカセットのサイズに
   応じて信号を発するカセットサイズ検知手段を備え、上
   記複数個のカセット設置台のカセットサイズ検知信号を
   比較して、基板搬送装置のシーケンス開始又は停止を行
   なうことを特徴とする基板搬送装置。
2. （２）上記基板搬送装置において、上記複数個のカセッ
   ト設置台からのサイズ検知信号が一致した場合のみ、該
   搬送装置の基板サイズに応じた吸着部の真空隙と接続可
   能とする手段を備えることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の基板搬送装置。