JPS6292919A - Liquid crystal display element for multiplex driving system - Google Patents

Liquid crystal display element for multiplex driving system

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JPS6292919A
JPS6292919A JP60233914A JP23391485A JPS6292919A JP S6292919 A JPS6292919 A JP S6292919A JP 60233914 A JP60233914 A JP 60233914A JP 23391485 A JP23391485 A JP 23391485A JP S6292919 A JPS6292919 A JP S6292919A
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JP
Japan
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metal
liquid crystal
metallic
mim
crystal display
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Application number
JP60233914A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Urabe
孝之 占部
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6292919A publication Critical patent/JPS6292919A/en
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Abstract

PURPOSE:To set the pattern width of a metallic part to large value and produce liquid crystal display elememts uniformly with a good yield by providing two MIM elements in series between a connection terminal and each picture element electrode. CONSTITUTION:An insulating film 2b is interposed between a metallic line 2a and the second metallic part 6, and an MIM element is constituted in a terminal connection part 5 which is the connection part between a metallic wiring part 2 and the metallic part 6. The first metallic parts 8a and 8b are formed on both sides of the wiring part 2, and transparent picture element electrodes 4 are formed on end parts of long-sized metallic parts 8b. By this constitution, an MIM element similar to that in the connection part 5 is constitut ed in a picture element connection part 7 also. Thus, a ratio of the picture element area of the liquid crystal part to the area of the MIM connection end face of the MIM element is reduced considerably and the width of the metallic part which connects the metallic wiring part and the picture element electrode is set to a considerably large value, and metallic parts are formed uniformly with a good yield by the normal process.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、M I M (metal −1nsula
to r−rnetal)素子及びバリスタ等の非線形
な電流−電圧特性を有する素子によって高密度のマルチ
フレックス駆動を可能にした液晶表示素子に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention provides metal-1nsula
The present invention relates to a liquid crystal display element that enables high-density multiflex driving using elements having nonlinear current-voltage characteristics such as tor-rnetal elements and varistors.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、基板上に形成された金属配線部に、この金属配線
部に沿って並設された複数の透明な画素電極を金属部で
接続して成るマルチフレックス駆動方式の液晶表示素子
において、上記金属配線部と金属部との接続部に非線形
な電流−電圧特性を有する素子を形成したものがある。
Conventionally, in a multi-flex drive type liquid crystal display element in which a plurality of transparent pixel electrodes arranged in parallel along the metal wiring part are connected to a metal wiring part formed on a substrate by a metal part, the above-mentioned metal There are devices in which an element having nonlinear current-voltage characteristics is formed at the connection portion between the wiring portion and the metal portion.

例えば、第6図に示す液晶表示素子では、相対向して配
置される一方の基板11上に、金属ライン12b・・・
が縦縞状に設けられ、その端部には接続端子12aが形
成されている。金属ライン12bは上記接続端子12a
を除いて絶縁膜12Cで覆われ、これにより金属配線部
12が形成されている。この金属配線部12に沿って並
設された透明な画素電極13・・・と上記金属配線部1
2とが、金属部14a・14bにて接続されている。即
ち、金属配線部12と金属部14bとの接続部14にお
いて、金属ライン12b−絶縁膜12C−金属部14b
の結合によって、M I M (metal −1ns
ulato r −metal )素子が形成されてい
る。
For example, in the liquid crystal display element shown in FIG. 6, metal lines 12b...
are provided in the form of vertical stripes, and connection terminals 12a are formed at the ends thereof. The metal line 12b is connected to the connection terminal 12a.
The portions other than the portions are covered with an insulating film 12C, thereby forming a metal wiring portion 12. Transparent pixel electrodes 13 arranged in parallel along this metal wiring part 12 and the metal wiring part 1
2 are connected through metal parts 14a and 14b. That is, in the connection portion 14 between the metal wiring portion 12 and the metal portion 14b, the metal line 12b-insulating film 12C-metal portion 14b
By the combination of M I M (metal −1ns
ulator-metal) elements are formed.

このMIM素子を有する液晶表示素子の等価回路は、第
8図に示すように、MIM素子の抵抗R、I、4及び静
電容量CM□、から成る並列回路15を、液晶部の抵抗
RLC及び静電容量CLCから成る並列回路16に直列
に接続したものとなる。上記の液晶表示素子では、第6
図の各画素電極13・・・の印加電圧をON・OFFす
るとき、その画素電極13・・・に第9図(a)に示し
た波形の電圧が印加され、この電圧により上記画素電極
13・・・に対応するMIM素子が駆動される。上記M
IM素子は、第7図に示すように非線形な電流■−電電
圧時特性有しており、このため、画素電極のON時には
R,、、は小さい値となり、選択期間1.中、静電容量
CLCを有する液晶部には多くの電荷が充電される。一
方、OFF時には、RMIMは大きな値となるので、上
記液晶部に充電された電荷は非選択期間t2中保持され
る。これによって、ON・OFF時の液晶部に印加され
る電圧の実効値の比V 、、4.rms / V OF
F、 rmsは、第9図(b)に示すように、非線形素
子を用いない場合と比較して著しく大きくなり、高密度
のマルチフレックス駆動が可能であった。
As shown in FIG. 8, an equivalent circuit of a liquid crystal display element having this MIM element connects a parallel circuit 15 consisting of resistors R, I, 4 of the MIM element and capacitance CM It is connected in series to a parallel circuit 16 made up of capacitance CLC. In the above liquid crystal display element, the sixth
When turning on and off the voltage applied to each pixel electrode 13 in the figure, a voltage having the waveform shown in FIG. 9(a) is applied to the pixel electrode 13, and this voltage causes the pixel electrode The MIM elements corresponding to... are driven. Above M
As shown in FIG. 7, the IM element has a non-linear current-voltage characteristic. Therefore, when the pixel electrode is turned on, R,... takes a small value, and during the selection period 1. Meanwhile, a large amount of charge is charged in the liquid crystal section having the capacitance CLC. On the other hand, when OFF, RMIM has a large value, so the charge charged in the liquid crystal section is held during the non-selection period t2. As a result, the ratio V of the effective value of the voltage applied to the liquid crystal section during ON and OFF times is 4. rms/V OF
As shown in FIG. 9(b), F, rms was significantly larger than in the case where no nonlinear element was used, and high-density multiflex driving was possible.

ところが、実使用に耐え得るマルチフレックス駆動方式
の液晶表示素子を得るのに必要な電圧の実効値の比■。
However, the ratio of the effective value of the voltage required to obtain a multi-flex drive type liquid crystal display element that can withstand actual use.

、、、rms/V。FF、rmSを実現するためには、
CMIM 〈<CLCであることが必要である。このた
めには、MIM素子におけるMIM結合端面の面積に対
する液晶部の画素面積の比S Lc/ S MIMが1
0000/ 1以上でなければならないことが知られて
いる。例えば、画素サイズが3QQg++’の場合には
、MIM素子を有する接続部14のパターン幅を少なく
とも18−以下にする必要がある。
,,rms/V. In order to realize FF, rmS,
It is necessary that CMIM <<CLC. For this purpose, the ratio S Lc/S MIM of the pixel area of the liquid crystal section to the area of the MIM coupling end face in the MIM element is 1.
It is known that it must be greater than or equal to 0000/1. For example, when the pixel size is 3QQg++', the pattern width of the connection portion 14 having the MIM element needs to be at least 18- or less.

そのため、前記金属部14a・14bの形成には、LS
I製造プロセスに近いクリーン度とフォトリソグラフィ
ー技術を用いなければならず、さらに、大面積を有する
液晶表示素子にあっては、上記の条件下では、均一かつ
歩留り良く作成することが困難であるといった問題を有
するものであった。
Therefore, in forming the metal parts 14a and 14b, LS
It is necessary to use photolithography technology with a cleanliness close to that of the I manufacturing process, and furthermore, it is difficult to manufacture uniformly and with high yield under the above conditions for liquid crystal display elements that have a large area. This was problematic.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、上記従来の問題点を考慮してなされたもので
あって、金属配線部と画素電極とを接続する金属部のパ
ターン幅を従来より大きく設定できるように構成し、通
常の液晶表示素子の製造プロセスによって、均一かつ歩
留まりの良い製造が可能なマルチフレックス駆動方式の
液晶表示素子の提供を目的とするものである。
The present invention has been made in consideration of the above conventional problems, and is configured so that the pattern width of the metal part connecting the metal wiring part and the pixel electrode can be set larger than that of the conventional liquid crystal display. The object of the present invention is to provide a multi-flex drive type liquid crystal display element that can be manufactured uniformly and with high yield through an element manufacturing process.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明に係るマルチフレックス駆動方式の液晶表示素子
は、基板上に形成した接続端子と導通ずる金属配線部と
、画素電極とを第1金属部により接続し、上記金属配線
部と第1金属部との接続部に非線形な電流−電圧特性を
有するMIM素子を形成したマルチフレックス駆動方式
の液晶表示素子において、上記接続端子と金属配線部と
を第2金属部により接続し、金属配線部と第2金属部と
の接続部に非線形な電流−電圧特性を有するMIM素子
を形成して、上記第1金属部のパターン幅を従来より大
きく設定できるように構成したことを特徴とするもので
ある。
A multi-flex drive type liquid crystal display element according to the present invention connects a pixel electrode to a metal wiring part that is electrically connected to a connection terminal formed on a substrate, and connects the metal wiring part and the first metal part to a pixel electrode. In a multi-flex drive type liquid crystal display element in which an MIM element having non-linear current-voltage characteristics is formed at the connection part with the metal wiring part, the connection terminal and the metal wiring part are connected by the second metal part, and the metal wiring part and the The present invention is characterized in that an MIM element having non-linear current-voltage characteristics is formed at the connection portion between the two metal parts, so that the pattern width of the first metal part can be set larger than that of the conventional one.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の一実施例を第1図乃至第5図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
An embodiment of the present invention will be described below based on FIGS. 1 to 5.

本実施例に係る液晶表示素子には、第1図に示すように
、相対向して配置される一方の硝子基板1上に、金属配
線部2・・・と、この各金属配線部2に対応し、金属配
線部2と分離した接続端子3・・・とが縦縞状に形成さ
れている。接続端子3はTa・Cr−Cr−Ni或いは
ITO等から成っている。金属配線部2は第2図に示す
ように、Ta・Cr−Cr−Ni等の金属ライン2aの
表面を、Taz os−3in、−3iNa等の絶縁膜
2bで覆って成り、この金属配線部2と接続端子3とは
、Ta−Cr−Cr−Ni等から成る第2金属部6にて
接続されている。従って、金属ライン2aと第2金属部
6との間には、絶縁膜2bが介装されていることになる
。この構造により、金属配線部2と第2金属部6との接
続部である端子接続部5にはMIM素子が構成される。
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display element according to this embodiment includes metal wiring portions 2 on one glass substrate 1 disposed facing each other, and metal wiring portions 2 on each of the metal wiring portions 2. Correspondingly, the metal wiring portion 2 and the separate connection terminals 3 are formed in a vertical striped shape. The connection terminal 3 is made of Ta, Cr-Cr-Ni, ITO, or the like. As shown in FIG. 2, the metal wiring section 2 is formed by covering the surface of a metal line 2a such as Ta, Cr-Cr-Ni, etc. with an insulating film 2b such as Tazos-3in or -3iNa. 2 and the connecting terminal 3 are connected by a second metal portion 6 made of Ta-Cr-Cr-Ni or the like. Therefore, the insulating film 2b is interposed between the metal line 2a and the second metal part 6. With this structure, an MIM element is configured in the terminal connection portion 5, which is the connection portion between the metal wiring portion 2 and the second metal portion 6.

また、金属配線部20両側には、第3図に示すように、
Ta・Cr−Cr−Ni等から成る第1金属部8a−8
bが形成されており、長い寸法を育する第1金属部8b
の端部上には透明な画素電極4が形成されている。この
構造により、金属配線部2と第1金属部8bとの接続部
である画素接続部7においても、前記接続部5と同様の
MIM素子が構成される。ここで、上記の第1金属部8
a・8b及び第2金属部6は同一厚さで、かつ同一幅で
形成されている。
Further, as shown in FIG. 3, on both sides of the metal wiring section 20,
First metal part 8a-8 made of Ta, Cr-Cr-Ni, etc.
b is formed and the first metal portion 8b is formed with a long dimension.
A transparent pixel electrode 4 is formed on the end of the pixel electrode 4 . With this structure, the same MIM element as the connection part 5 is configured also in the pixel connection part 7, which is the connection part between the metal wiring part 2 and the first metal part 8b. Here, the above-mentioned first metal part 8
a, 8b and the second metal portion 6 are formed to have the same thickness and the same width.

上記構成を有するマルチフレックス駆動方式の液晶表示
素子は、以下の工程にて製造される。
The multi-flex drive type liquid crystal display element having the above configuration is manufactured through the following steps.

(1) 先ず、第4図及び第5図(a)に示すように、
スパッタリング法により、硝子基板1(コーニング#7
059等)上の全面にTa薄膜を形成し、フォトプロセ
ス終了後ドライエッチ(Dry  Etch )を行う
。これにより、縦縞状に配設される金属ライン2a・・
・と、この金属ライン2aと対応しかつ金属ライン2a
と分離する接続端子3・・・とから成る一単位の配線パ
ターン20aを複数組バターニングして、陽極酸化処理
用の大型基板20を得る。尚、硝子基板1上の一端部に
は、陽極酸化時に電源と接続するための共通取出ライン
21が形成され、この共通取出ライン21の分岐ライン
21a・・・と各配線パターン20aの金属ライン2a
・・・の一端とが接続されている。
(1) First, as shown in Figures 4 and 5 (a),
Glass substrate 1 (Corning #7
A Ta thin film is formed on the entire surface (such as 059), and after the photo process is completed, dry etching is performed. As a result, the metal lines 2a arranged in vertical stripes...
・corresponding to this metal line 2a and metal line 2a
A large substrate 20 for anodization treatment is obtained by patterning a plurality of sets of one unit wiring pattern 20a consisting of the wiring pattern 20a and the connecting terminals 3 to be separated. A common lead-out line 21 for connecting to a power source during anodization is formed at one end of the glass substrate 1, and a branch line 21a of this common lead-out line 21 and a metal line 2a of each wiring pattern 20a are formed at one end of the glass substrate 1.
... is connected to one end.

(2) 次に、上記大型基板20を0.01wt%クエ
ン酸水溶液中に浸漬し、共通取出ライン21に外部電源
を接続して陽極酸化を行う。これにより、第5図(b)
に示すように、金属ライン2aの表面をTazOsの絶
縁膜2bで覆った金属配線部2・・・を形成する。この
とき、接続端子3は、共通取出ライン21とは分離され
ており、通電されないため陽極酸化は行われない。
(2) Next, the large substrate 20 is immersed in a 0.01 wt% citric acid aqueous solution, and an external power source is connected to the common extraction line 21 to perform anodic oxidation. As a result, Fig. 5(b)
As shown in FIG. 2, a metal wiring portion 2 is formed by covering the surface of the metal line 2a with an insulating film 2b of TazOs. At this time, the connection terminal 3 is separated from the common extraction line 21 and is not energized, so that anodization is not performed.

(3) 次に、硝子基板1上に、所定の間隔をおいて、
第1図に示す第1金属部8a・8bを形成する共に、こ
れと同時に、かつ同一幅で、第2金属部6を形成する。
(3) Next, on the glass substrate 1, at a predetermined interval,
The first metal parts 8a and 8b shown in FIG. 1 are formed, and at the same time, the second metal part 6 is formed with the same width.

上記の工程を、第5図(cf)に示す第1金属部8a・
8bの製造工程で代表して説明する。先ず同図(c)に
示すように、前記(2)の工程を経た硝子基板1上にフ
ォトレジストを塗布し、プリベイク(Pre−Bake
 )する。
The above process is performed in the first metal part 8a shown in FIG. 5(cf).
The manufacturing process of 8b will be representatively explained. First, as shown in FIG. 2(c), a photoresist is coated on the glass substrate 1 that has undergone the step (2) above, and a pre-bake process is performed.
)do.

次に、金属配線部2及び第1金属部8a・8bの形成部
位を残して、フォトマスク31で硝子基板1の裏面を覆
い、その裏側よりUV光を照射した後、現像処理によっ
て、第1金属部8a・8b上のフォトレジスト32a・
32bを硝子基板1上より剥離する。次に、スパッタリ
ング法によってTa薄膜を形成し、リフトオフ法により
上記金属部8a・8b以外の部位上のフォトレジストを
除去することにより、第5図(d)に示す第1金属部8
a・8bが形成される。
Next, the back side of the glass substrate 1 is covered with a photomask 31, leaving the formation areas of the metal wiring part 2 and the first metal parts 8a and 8b, and after UV light is irradiated from the back side, the first Photoresist 32a on metal parts 8a and 8b.
32b is peeled off from the glass substrate 1. Next, a Ta thin film is formed by a sputtering method, and the photoresist on parts other than the metal parts 8a and 8b is removed by a lift-off method, thereby forming the first metal part 8 shown in FIG. 5(d).
a and 8b are formed.

(4) 最後に、スパッタリング法により、第1金属部
8bの端部を画素電極4の端部で覆うようにして、画素
電極4・・・を形成した後、大型基板20を分断線22
・・・で分割し、第1図で示した一単位の配線パターン
20aを形成した硝子基板1を得る。
(4) Finally, after forming the pixel electrode 4 by sputtering so as to cover the end of the first metal portion 8b with the end of the pixel electrode 4, the large substrate 20 is separated by the dividing line 22.
... to obtain the glass substrate 1 on which one unit of the wiring pattern 20a shown in FIG. 1 is formed.

(5) 以後、上記工程により形成された硝子基板Iを
用いて、通常の液晶表示素子の製造プロセスによって、
マルチフレックス駆動方式の液晶表示素子が製造される
(5) Thereafter, using the glass substrate I formed by the above steps, the manufacturing process of a normal liquid crystal display element is performed.
A multi-flex drive type liquid crystal display element is manufactured.

上記の構成において、本実施例に係る液晶表示素子は、
第1図に示したように、接続端子3と各画素電極4との
間の端子接続部5及び画素接続部7において、2つのM
IM素子が直列に設けられることになる。しかも、第1
金属部8a・8b及び第2金属部6は、同一材料、同一
幅かつ同一厚にて形成されているため、上記の各MIM
素子はほぼ同一の静電容量を有することになる。これに
より、接続端子3と各画素電極4との間の静電容量は、
上記MIM素子が1つしか形成されていない従来例の場
合に比べ、2となる。即ち、静電容量Cは、 C−ε□  で表され、 面積Sに比例するので、従来例と同一の静電容量にする
場合には、第1金属部8a・8b及び第2金属部6は、
従来と同一厚さで、その幅を従来の2倍とすることがで
きることになる。例えば、従来、画素サイズが300t
m6に対して1日−以下にする必要があった第1金属部
18a・18bのパターン幅を、36−以下に形成すれ
ばよいことになる。
In the above configuration, the liquid crystal display element according to this example is
As shown in FIG. 1, two M
IM elements will be provided in series. Moreover, the first
Since the metal parts 8a and 8b and the second metal part 6 are formed of the same material, the same width, and the same thickness, each of the above MIM
The elements will have approximately the same capacitance. As a result, the capacitance between the connection terminal 3 and each pixel electrode 4 is
The number of MIM elements is 2 compared to the conventional example in which only one MIM element is formed. That is, the capacitance C is expressed as C-ε□ and is proportional to the area S. Therefore, in order to have the same capacitance as the conventional example, the first metal parts 8a and 8b and the second metal part 6 teeth,
This means that while the thickness is the same as the conventional one, the width can be twice that of the conventional one. For example, conventionally, the pixel size was 300t.
The pattern width of the first metal portions 18a and 18b, which was required to be less than 1 day per m6, can now be formed to be less than 36 days.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明に係るマルチフレックス駆動方式の液晶表示素子
は、以上のように、接続端子と各画素電極との間に、2
つのMIM素子が直列に設けられた構成であるから、下
記の効果を奏する。
As described above, in the multi-flex drive type liquid crystal display element according to the present invention, there are two
Since the configuration is such that two MIM elements are provided in series, the following effects can be achieved.

1)  MIM素子におけるFvlTM結合端面の面積
に対する液晶部の画素面積の比SLC/SWIMを、従
来必要とされた10000/ 1から大幅に小さくする
ことができる。これによって、金属配線部と画素電極を
接続する金属部の幅を従来より大幅に大きく設定するこ
とが可能となり、その結果、上記金属部の形成に従来用
いられていたLSI並みのプロセスは必要がなくなる。
1) The ratio SLC/SWIM of the pixel area of the liquid crystal section to the area of the FvlTM coupling end face in the MIM element can be significantly reduced from the conventionally required 10000/1. This makes it possible to set the width of the metal part that connects the metal wiring part and the pixel electrode to be much larger than before, and as a result, the LSI-like process that was conventionally used to form the metal part is no longer necessary. It disappears.

従って、液晶表示素子製造用の通常のプロセスにより、
均一かっ歩溜まり良く製造することができ、生産性が著
しく向上する。
Therefore, by the normal process for manufacturing liquid crystal display elements,
It can be manufactured uniformly and with good yields, significantly improving productivity.

2) 画素電極接続部のMIM素子の機能障害を端子接
続部のMrM素子により軽減することができる。即ち、
従来、画素電極接続部のMIM素子が機能障害を生じた
場合、その画素が表示欠陥となり、表示品位の低下を招
来するものであったが、端子接続部のMIM素子の機能
により実使用上問題のないレベルの表示品位を維持する
ことができる。
2) Functional failure of the MIM element in the pixel electrode connection part can be reduced by the MrM element in the terminal connection part. That is,
Conventionally, if the MIM element in the pixel electrode connection part malfunctioned, the pixel would become a display defect, leading to a decline in display quality, but this has become a problem in actual use due to the function of the MIM element in the terminal connection part. It is possible to maintain a level of display quality that is not

3) 従来例に比較してMIM素子のOFFFF抗抵抗
きくなるため、時定数を−(RL CRM I H/R
LC+RMIM )  (CLC+CMIM )  も
大きくなり、液晶部からの放電速度が著しく遅くなる。
3) Compared to the conventional example, the OFF resistance of the MIM element is higher, so the time constant is -(RL CRM I H/R
LC+RMIM) (CLC+CMIM) also increases, and the discharge rate from the liquid crystal section becomes significantly slower.

その結果、第9図(C)に示したように、0N−OFF
時の印加電圧の実効値の比V ON、 rms/ V 
OFF、 rmsが大きくなり、従来に比べ高コントラ
ストを実現し得る。
As a result, as shown in Figure 9(C), 0N-OFF
The ratio of the effective value of the applied voltage at the time V ON, rms/V
OFF, rms is increased, and higher contrast can be achieved than in the past.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す平面図、第2図は第1
図のB−B矢視拡大断面図、第3図は第1図のA−A矢
視拡大断面図、第4図並びに第5図(a)乃至(d)は
第1図の製造工程を示す説明図、第6図は従来例を示す
平面図、第7図はMIM素子の電流■−電電圧時特性示
すグラフ、第8図はMIM素子を有する液晶表示素子の
等価回路図、第9図(a)はMIM素子を有する液晶表
示素子の駆動波形図、同図(b)は従来のMIM素子を
有する液晶表示素子の液晶部に印加される電圧波形図、
同図(C)は本発明の一実施例に係るMIM素子を有す
る液晶表示素子の液晶部に印加される電圧波形図である
。 1は硝子基板、2は金属配線部、2aは金属ライン、2
bは絶縁膜、3は接続端子、4は画素電極、5は端子接
続部、6は第2金属部、7は画素接続部、8a・8bは
第1金属部である。 特許出願人     シャープ株式会社第1図 ・月2図 第3図 第4図 第5図(a) 第6図 第7図 第8図 ]51◇ 第9図(a) 1訴期間  ii′M蓼期間 第9図(b)゛ B翻賓  井選ぶ期閣
Fig. 1 is a plan view showing one embodiment of the present invention, and Fig. 2 is a plan view showing an embodiment of the present invention.
Figure 3 is an enlarged cross-sectional view taken along line A-A in Figure 1, and Figures 4 and 5 (a) to (d) show the manufacturing process in Figure 1. FIG. 6 is a plan view showing a conventional example, FIG. 7 is a graph showing current-voltage characteristics of an MIM element, FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal display element having an MIM element, and FIG. Figure (a) is a driving waveform diagram of a liquid crystal display element having an MIM element, and Figure (b) is a voltage waveform diagram applied to the liquid crystal section of a liquid crystal display element having a conventional MIM element.
FIG. 3(C) is a voltage waveform diagram applied to the liquid crystal section of a liquid crystal display element having an MIM element according to an embodiment of the present invention. 1 is a glass substrate, 2 is a metal wiring section, 2a is a metal line, 2
b is an insulating film, 3 is a connection terminal, 4 is a pixel electrode, 5 is a terminal connection part, 6 is a second metal part, 7 is a pixel connection part, and 8a and 8b are first metal parts. Patent Applicant: Sharp Corporation Figure 1/Getsu Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 (a) Figure 6 Figure 7 Figure 8] 51◇ Figure 9 (a) Period of one action ii'M 蓼Period Figure 9 (b) ゛B Translation: I-Select Period Pavilion

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板上に形成した接続端子と導通する金属配線部と
、画素電極とを第1金属部により接続し、上記金属配線
部と第1金属部との接続部に非線形な電流−電圧特性を
有するMIM素子を形成したマルチフレックス駆動方式
の液晶表示素子において、上記接続端子と金属配線部と
を第2金属部により接続し、金属配線部と第2金属部と
の接続部に非線形な電流−電圧特性を有するMIM素子
を形成したことを特徴とするマルチフレックス駆動方式
の液晶表示素子。 2、上記第1金属部と第2金属部は同一幅で形成されて
いる特許請求の範囲第1項記載のマルチフレックス駆動
方式の液晶表示素子。
[Claims] 1. A metal wiring part that is electrically connected to a connection terminal formed on a substrate and a pixel electrode are connected by a first metal part, and a non-linear structure is formed in the connection part between the metal wiring part and the first metal part. In a multi-flex drive type liquid crystal display element in which an MIM element having a current-voltage characteristic is formed, the connection terminal and the metal wiring part are connected by a second metal part, and the metal wiring part and the second metal part are connected. 1. A multi-flex drive type liquid crystal display element, characterized in that an MIM element having nonlinear current-voltage characteristics is formed in a portion thereof. 2. The multi-flex driving type liquid crystal display element according to claim 1, wherein the first metal part and the second metal part are formed to have the same width.
JP60233914A 1985-10-18 1985-10-18 Liquid crystal display element for multiplex driving system Pending JPS6292919A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0398683A2 (en) * 1989-05-18 1990-11-22 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display unit

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