JPS6291934A - ソルダ−レジスト組成物 - Google Patents

ソルダ−レジスト組成物

Info

Publication number
JPS6291934A
JPS6291934A JP23131185A JP23131185A JPS6291934A JP S6291934 A JPS6291934 A JP S6291934A JP 23131185 A JP23131185 A JP 23131185A JP 23131185 A JP23131185 A JP 23131185A JP S6291934 A JPS6291934 A JP S6291934A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
solder resist
silicon dioxide
thixotropic agent
resist composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23131185A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Ishibashi
正 石橋
Toshihiko Tanaka
稔彦 田中
Hiroaki Tezuka
手塚 博昭
Masayoshi Kobayashi
正芳 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toppan Inc
Toppan Precision Board KK
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Toppan Precision Board KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd, Toyo Ink Mfg Co Ltd, Toppan Precision Board KK filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP23131185A priority Critical patent/JPS6291934A/ja
Publication of JPS6291934A publication Critical patent/JPS6291934A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はプリント回路板用ソルダーレジスト組成物に関
するものである。
(従来の技術) 一般に銅張り積層板を加工したプリント配線板はプラス
チック等の絶縁基板上に銅箔を接着し、この銅箔上にエ
ツチングレジストインキを回路パターンに印刷し、この
印刷された回路パターン以外の部分をエツチングにより
除去し、その後レジストインキの除去、水洗いした後に
フラフクスを塗布し、半田付けにより部品やリード線な
どを取り付けることにより作製される。
プリント配線板においては、近年9回路の複雑化や微細
化が進められているので半田付けの際に半田によって回
路が短絡するおそれがあり、これを防止する必要が生じ
ている。このために、配線板上に半田付けをする部分を
除いてソルダーレジストインキをスクリーン印刷法等に
よって塗布し、焼付硬化し、半田保護膜を形成する。
ソルダーレジストは半田付は工程で半田付けすべき部分
以外には半田が付着せず又回路の腐食防止の両方の役目
をする。
従って、ソルダーレジストは回路パターンの被覆性2部
品を基板に半田付けする際に受ける熱に対する耐性、耐
薬品性等の諸物性が良好であることが必要である。
上記のような用途に使用されるソルダーレジストインキ
用のビヒクルとしては、エポキシ−メラミン樹脂、エポ
キシ−尿素樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、アルキッ
ド−尿素樹脂を主成分とするものが用いられてきた。し
かし、これらのビヒクルでは焼付温度が高いという欠点
やホルマリン臭の問題がある。従って、これらの問題の
ないビヒクルとしてエポキシ樹脂および硬化剤としての
イミダゾール系化合物や芳香族アミン系化合物からなる
ビヒクルが検討されている。
一般に、ソルダーレジストは上述のような樹脂を有機溶
剤にて溶解し、顔料または染料で着色し、二酸化ケイ素
(Styx) 、硫酸バリウム(Ba5O4) 、炭酸
カルシウム(CaC03) +クレー等を揺変剤として
用い、これらの成分を混合して、均一に分散させ。
スクリーン印刷適正をもたせ、しかる後にスクリーン印
刷法でプリント配線板に皮膜として印刷し、硬化してソ
ルダーレジスト膜を形成するようになされている。
従来9部品やリード線をプリント基板に取り付けする際
プリント基板に溶剤系フラックスを塗布後。
部品やリード線を載せて半田付けを行い、その後フラッ
クスを溶剤で洗浄することにより取り除くが。
溶剤使用のため作業環境が悪い等の欠点があった。
最近1作業環ψ等を良くするため、f4剤系フラ・ンク
スの代わりに水溶性フラックスを使用し1部品取り付は
後、洗浄効率を上げるため温水(約70°C)でフラッ
クスを洗浄する傾向にある。しかし、従来のソルダーレ
ジストは水溶性フラックス除去時の湯洗で白化を起こす
という欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、ソルダーレジストとしての性能の他に
水溶性フラックス使用時に白化等の性能変化を起こさな
いソルダーレジスト組成物を提供するものである。
「発明の構成」 (問題点を解決するための手段) 本発明者等は、このような問題点を解決するため。
鋭意研究の結果、エポキシ樹脂、硬化剤、揺変剤。
着色剤などの添加剤および溶剤を含むソルダーレジスト
組成物において、揺変剤が実質的に二酸化ケイ素からな
ることを特徴とする水溶性フラックス使用時に白化しな
いソルダーレジスト組成物が得られることを見出した。
なお2本発明における揺変剤とは、主としてソルダーレ
ジスト組成物に適当な流動特性を保持させるためのもの
であり、一般的にはチキソトロピー性を付与し、印刷適
正を与えるものである。
以下1本発明を具体的に説明する。
本発明で使用するエポキシ樹脂としては、エピクロルヒ
ドリンとビスフェノールAとの縮合によって得られる樹
脂、またはエピクロルヒドリンと多価フェノールとの反
応によって得られるノボラックエポキシ樹脂などが好ま
しい。特にノボラックエポキシ樹脂を用いた場合、耐熱
性、耐薬品性等に優れたソルダーレジスト組成物を得る
ことができる。該樹脂の代表的なものはダウ・ケミカル
(Dow Chemical)社製の商品名り、E、N
 431 、 D、E、N 438 、シェル化学@製
エピコート 152.エピコート 154である。
本発明に係わるソルダーレジスト組成物は前記した基材
のエポキシ樹脂の硬化剤として、イミダゾール系化合物
、芳香族アミン系化合物を用いるものである。該イミダ
ゾール系化合物は比較的低温短時間の硬化により機械的
特性の優れたソルダーレジスト硬化皮膜が得られる。該
イミダゾール化合物は、基材であるエポキシ樹脂に対し
、3重量%以下では十分な硬化皮膜が得られず、耐熱性
、耐薬品性が大巾に低下する。また、硬化剤添加量が増
えるにつれ硬化皮膜の吸湿率が増加するためと考えられ
るが、水溶性フラックスを用いた場合白化を起こしやす
いため515重量%以下に添加量をおさえるべきである
。本発明に用いるイミダゾール化合物の代表的なものは
、四国化成工業■製の商品名キュアゾール2MZ−CN
、  IB2MZである。該芳香族アミン系化合物は、
一般にイミダゾール系化合物より高い温度で長時間の硬
化により機械的特性の優れたソルダーレジスト硬化皮膜
が得られる。該芳香族アミン系化合物の活性水素基の数
と基材であるエポキシ樹脂のエポキシ基の数の比は0.
5 / 1〜2/1が望ましく、0.5/1以下では硬
化度が小さいため半田vi1+熱性等の物性が劣り、2
/1以上では硬くもろくなり9機械的強度が劣る傾向に
ある。
本発明に用いる芳香族アミン化合物の代表的なものは、
旭電化工業側製の商品名アデカハードナーEll−53
1,Ell−551,住友化学工業@製の商品名スミキ
ュア門等である。
水溶性フラックス除去時の湯洗での白化は、未硬化また
はソルダーレジスト皮膜への水の吸着等が考えられるが
、耐溶剤性の良好な充分に硬化したソルダーレジスト皮
膜でも白化を起こすため、主原因は水の吸着であると考
えられる。鋭意研究の結果、揺変剤の種類により白化を
起こさない系があることが判明した。一般に揺変剤とし
て使用される二酸化ケイ素、硫酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、クレー、タルク等の中で、二酸化ケイ素使用時の
み白化を起こさず、他はすべて白化を起こす。該二酸化
ケイ素は、粒径により添加量は異なるが、基材であるエ
ポキシ樹脂に対し、1重量%未満ではスクリーン印刷に
必要なチキソトロピー性が充分でなく、25重量%を超
えるとチキソトロピー性が大きすぎ印刷適正が悪く、更
に基板との密着性も劣るため1〜25重量%が望ましい
。本発明に用いるシリカの適当なものは1日本アエロジ
ル社製の商品名アエロジル200、アエロジル300.
水沢化学工業■製の商品名ミズカシールP−526であ
る。なお9本発明に使用される揺変剤としては、実質的
に二酸化ケイ素であればよく、アルミナ、酸化鉄等の混
入物が5重量%以下程度含まれたものであってもよい。
溶剤は、ソルダーレジストを構成する各成分の溶解また
は希釈のために用いる。該溶剤として適当なものはブチ
ルカルピトール、エチルセロソルブアセテート、ブチル
セロソルブなどの揮発性有機溶媒である。
本発明に使用される水溶性フラックスとして適当なもの
は、米国アルファメタル社製の品名番号#842、米国
ケンコ社製の品名番号#183である。
添加剤としては9着色剤、レベリング剤9発泡防止剤な
どである。
以下、実施例により本発明の効果を詳しく説明する。
実施例1 (成分A) (a)ノボラックエポキシ樹脂[1,E、8.438 
(タウ・ケミカル社製)         75重量%
(b)揺変剤アエロジル200  (日本アエロジル■
社製)              6重量%(c)消
泡剤シリコーン樹脂      0.2重量%(d)着
色剤リオノールグリーン    1重量%(e)ブチル
カルピトール      13.EII%(f)ブチル
セロソルブ        4M量%(成分B) (a)キュアゾール2MZ−CN  (四国化成工業■
製イミダゾール化合物       50重量%(b)
ブチルセロソルブ       50重量%成分Aは所
定の配合比でポニーミキサーを用いて混合後、更に3本
ロール混練機を用いて充分に練肉する。次に練肉された
成分Aを100重量部と成分815重量部とを適当な攪
拌装置中で混合する。成分Aと成分Bの混合物は混合後
、150メツシユのスクリーン版を用いて基板上に印刷
する。混合後。
5時間以内に行った方が作業性および仕上がり効果もよ
い。次に、印刷物を130℃のオーブン中で20分間加
熱し硬化する。
次に本発明に係わる硬化されたソルダーレジストの特性
を評価するため次の方法で試験を行った。ソルダーレジ
ストの硬化皮膜は、気泡を含まず、タブおよびランド上
を汚染することなく高精度の被覆が実現された。銅、ガ
ラスエポキシ、紙フェノール。
紙エポキシに対し良好な密着性を示し、ゴバン目剥離試
験で剥離は認められなかった。また、この該硬化皮膜を
クロロセンに室温で2時間浸漬しても異常は認められず
、更にI P C(INTERCONNECTIONO
3PACKAGING CIRCUITRY ) −S
 M −840に記載されている溶剤でも異常は認めら
れず耐薬品性も良好であった。さらに該硬化皮膜に水溶
性フラックス(米国メタル社製1品名番号#842.比
重0.848.表面張力27.3 dyne/ cm)
を塗布した状態で30秒間にわたる260℃の半田浴処
理、水洗、70℃の温水に5分間浸漬後、異常は全く認
められず良好な半田耐熱性、耐フラツクス性を示した。
また、  IPC−B−25テスト板を用い、測定電圧
500■での絶縁抵抗は3 X 10  ohm−c+
w以上であり、ソルダーレジスト硬化皮膜の絶縁特性が
優れていることが示された。
比較例1 (成分A) (a)ノボラックエポキシ樹脂り、E、R,43B65
重量% (b)揺変剤タルクLM−R(上屋カオリン工業■製)
25重量% (c)消泡剤シリコーン樹脂      0.2重量%
(d)着色剤リオノールグリーン    1重量%(e
)ブチルカルピトール       6.8重量%(f
)ブチルセロソルブ        2重量%実施例1
の成分Aを上述の様に代えて、実施例1と同様に行う。
ソルダーレジストの硬化皮膜は、気泡を含まず、タブお
よびランド上を汚染することなく高精度の被覆が実現さ
れた。銅、半田、ガラス。
エポキシ、紙フェノール、紙エポキシに対し良好な密着
性を示し、ゴバン目剥離試験で剥離は認められなかった
。また、耐薬品性、絶縁特性も良好であった。水溶性フ
ラックスを用いた時、湯洗の状態は著しく白化を起こし
た。
実施例2 (成分A) (a)ノボランクエポキシ樹脂り、E、R,43875
重量% (b)揺変剤エアロジル300 (日本アエロジル■社
製)              6重量%(c)消泡
剤シリコーン樹脂      0.2重量%(d)着色
剤螢光増白剤        1重量%(e)ブチルカ
ルピトール      13.EII%(f)ブチルセ
ロソルブ        4重量%(成分B) (a)アデカハードナーE11531 (旭電化工業@
製芳香族アミン化合物)       70重量%(b
)ブチルセロソルブ       30重量%実施例3 (成分A) (a)ノボラックエポキシ樹脂り、E、N、431 (
ダウ・ケミカル社製)         75重量%(
b)揺変剤ミズカシールP−526(水沢化学工業側型
)              12重量%(C)消泡
剤シリコーン樹脂      0.2重量%(d)着色
剤リオノールブルー     0.8ffiff1%(
6)ブチルカルピトール       9重量%(f)
ブチルセロソルブ        3重量%(成分B) (a)スミキュアーM(住友化学工業■製芳香族アミン
化合物)          60重量%(b)ブチル
カルピトール      20重量%(C)シクロへキ
サノン       20重量%実施例4 (成分A) (a)ビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート82
8 (シェル化学■製)    74重量%(b)揺変
剤アエロジル200    6重量%(c)難燃剤三酸
化アンチモン     1重量%(d)消泡剤シリコー
ン樹脂      0.2重量(e)着色剤リオノール
グリーン    1重量%(f)ブチルカルピトール 
     13.8重量(g)ブチルセロソルブ   
     4重量%(成分B) (a)スミキュアーM         60重量%(
b)ブチルカルピトール      20重量%(C)
シクロへキサノン       20重量%実施例2〜
4は実施例1の成分Aと成分Bとの配合比を表1の値に
代えて同様に行う。特性の結果を表1に示す。
(以下余白) 表 1  実施例2〜4の特性 【 % % [ 比較例1の成分Aの揺変剤タルクLM−Rに代えて表2
の揺変剤を用いて同様に行う。表2に特性を示す。
表 2   階12〜7淵生 比較例8〜13 実施例4の成分Aの揺変剤アエロジル200に代えて表
3の揺変剤を用いて同様に行う。表3に試験した特性を
示す。
(以下余白) 表 3   階18〜13唖生 〔発明の効果〕 以上説明したごとく本発明による組成物で製造したソル
ダーレジストは、従来のソルダーレジストとしての性能
の他に水溶性フラックス使用時に白化等の性能変化を起
こさない優れた耐水溶性フラックス性を示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. エポキシ樹脂、硬化剤、揺変剤、着色剤などの添加剤お
    よび溶剤を含むソルダーレジスト組成物において、揺変
    剤が実質的に二酸化ケイ素からなることを特徴とする水
    溶性フラックス使用時に白化しないソルダーレジスト組
    成物。
JP23131185A 1985-10-18 1985-10-18 ソルダ−レジスト組成物 Pending JPS6291934A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23131185A JPS6291934A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 ソルダ−レジスト組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23131185A JPS6291934A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 ソルダ−レジスト組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6291934A true JPS6291934A (ja) 1987-04-27

Family

ID=16921637

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23131185A Pending JPS6291934A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 ソルダ−レジスト組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6291934A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS643648A (en) * 1987-06-12 1989-01-09 Ciba Geigy Ag Photoresist composition
JPH05156127A (ja) * 1991-05-15 1993-06-22 Somar Corp 揺変性エポキシ樹脂組成物
JPH05188593A (ja) * 1991-07-15 1993-07-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトイメージング用の改良された組成物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58176254A (ja) * 1982-04-09 1983-10-15 Hitachi Ltd 耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物
JPS59213779A (ja) * 1983-04-22 1984-12-03 Meidensha Electric Mfg Co Ltd 紫外線硬化型ソルダ−レジストインキ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58176254A (ja) * 1982-04-09 1983-10-15 Hitachi Ltd 耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物
JPS59213779A (ja) * 1983-04-22 1984-12-03 Meidensha Electric Mfg Co Ltd 紫外線硬化型ソルダ−レジストインキ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS643648A (en) * 1987-06-12 1989-01-09 Ciba Geigy Ag Photoresist composition
JPH05156127A (ja) * 1991-05-15 1993-06-22 Somar Corp 揺変性エポキシ樹脂組成物
JPH05188593A (ja) * 1991-07-15 1993-07-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトイメージング用の改良された組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4602970B2 (ja) 電気的安定性及び耐衝撃性の電子デバイス用導電性接着剤組成物
CN101124258A (zh) 热固性阻焊剂组合物及其固化产物
US4976813A (en) Process for using a composition for a solder mask
TWI688593B (zh) 樹脂組成物、導電性樹脂組成物、接著劑、導電性接著劑、電極形成用糊料、半導體裝置
JP2006278530A (ja) ソルダーレジスト用熱硬化性樹脂組成物およびソルダーレジスト
JPH06136341A (ja) 接着剤
JPS6291934A (ja) ソルダ−レジスト組成物
EP0166588B1 (en) Epoxy resin composition
JP2017145290A (ja) 接着剤組成物、それからなる接着剤シート、それらの硬化物および半導体装置
JP2005139274A (ja) 接着剤組成物
JPS6330578A (ja) エポキシ樹脂系レジストインク組成物
JPS58176254A (ja) 耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物
JPH03255185A (ja) アディティブ法プリント配線板用の接着剤
KR20000006744A (ko) 인쇄회로기판의 마스킹용 잉크조성물 및 그 제조방법
JPS6069174A (ja) 一液性接着剤
JP2009084384A (ja) 一液型エポキシ樹脂組成物
JP2006348178A (ja) 樹脂組成物及びこの樹脂組成物を含有する被膜形成材料
JP2008270717A (ja) ダイボンディング用樹脂ペースト組成物、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置
JPH0119834B2 (ja)
JPS63218776A (ja) 耐メツキソルダレジストインク組成物
JP2005298582A (ja) 層間絶縁シート
JP2005239921A (ja) 一液型液状エポキシ樹脂組成物
JP2001064365A (ja) 低温硬化型半導体封止用液状樹脂組成物
JPS63105080A (ja) エポキシ樹脂インキ組成物及びその製法
JPS59199714A (ja) 紫外線硬化組成物