JPS6290933A - 自動焦点合せ装置 - Google Patents
自動焦点合せ装置Info
- Publication number
- JPS6290933A JPS6290933A JP60230027A JP23002785A JPS6290933A JP S6290933 A JPS6290933 A JP S6290933A JP 60230027 A JP60230027 A JP 60230027A JP 23002785 A JP23002785 A JP 23002785A JP S6290933 A JPS6290933 A JP S6290933A
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- JP
- Japan
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- amount
- absolute value
- wafer
- drive
- air sensor
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
- G03F9/7026—Focusing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
- G03F9/7053—Non-optical, e.g. mechanical, capacitive, using an electron beam, acoustic or thermal waves
- G03F9/7057—Gas flow, e.g. for focusing, leveling or gap setting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は、ＩＣ，ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の半導体回路素子
製造用の投影焼付装置に適用される自動焦点合せ装置に
関し、特にマスクの一部の像または全体の像をウェハ上
に形成する結像光学系に対し、マスクとウェハを所定の
位置に、精度よく位置合せする自動焦点合せ装置に関す
る。
製造用の投影焼付装置に適用される自動焦点合せ装置に
関し、特にマスクの一部の像または全体の像をウェハ上
に形成する結像光学系に対し、マスクとウェハを所定の
位置に、精度よく位置合せする自動焦点合せ装置に関す
る。
［従来技術の説明］
半導体回路素子はその算出パターンの最小寸法が微細化
しており、このため投影焼付装置においても高い分解能
が必要とされる。高い分解能を得るためには、マスクお
よびウェハを結像光学系の互に共役な光学基準面位置に
、正確に位置合せしなければならない。
しており、このため投影焼付装置においても高い分解能
が必要とされる。高い分解能を得るためには、マスクお
よびウェハを結像光学系の互に共役な光学基準面位置に
、正確に位置合せしなければならない。
この位置合せのためには、ウェハまでの距離の測定系と
してエアマイクロセンサ（以下、エアセンサという）等
が、また、駆動系としてモータ、ピエゾ（圧電素子）等
が使用される。特に駆動系は、駆動量の大きい粗動系と
駆動量は少ないが駆動精度の高い微動系とを備える場合
がある。
してエアマイクロセンサ（以下、エアセンサという）等
が、また、駆動系としてモータ、ピエゾ（圧電素子）等
が使用される。特に駆動系は、駆動量の大きい粗動系と
駆動量は少ないが駆動精度の高い微動系とを備える場合
がある。
第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の要部断面図を示す。同図において、１は縮
小投影レンズ、２はエアセンサのノズル、３はパルスモ
ータ、４はパルスモータ３の駆動力を２ステージ６の移
動方向の駆動力に変換伝達する駆動力伝達機構、５はピ
エゾである。
影焼付装置の要部断面図を示す。同図において、１は縮
小投影レンズ、２はエアセンサのノズル、３はパルスモ
ータ、４はパルスモータ３の駆動力を２ステージ６の移
動方向の駆動力に変換伝達する駆動力伝達機構、５はピ
エゾである。
パルスモータ３は粗動系として、ピエゾ５は微動系とし
て用いており、これらを駆動することによりＺステージ
６とウェハ７とを縮小投影レンズ１の光軸方向に移動す
ることができる。エアセンサノズル２はウェハ７の上に
位置し、ウェハ７と縮小投影レンズ１との距離を測定す
る。この測定値を基に、マスクおよびウェハが結像光学
系の互に共役な光学基準面位置となるように、レンズ光
軸方向の駆初母を算出する。その量を粗動系としてのパ
ルスモータ３および微動系としてのピエゾ５に振り分け
てそれぞれを駆動し、Ｚステージ６を移動する。
て用いており、これらを駆動することによりＺステージ
６とウェハ７とを縮小投影レンズ１の光軸方向に移動す
ることができる。エアセンサノズル２はウェハ７の上に
位置し、ウェハ７と縮小投影レンズ１との距離を測定す
る。この測定値を基に、マスクおよびウェハが結像光学
系の互に共役な光学基準面位置となるように、レンズ光
軸方向の駆初母を算出する。その量を粗動系としてのパ
ルスモータ３および微動系としてのピエゾ５に振り分け
てそれぞれを駆動し、Ｚステージ６を移動する。
従来、上記の測定および駆動は各々１回ずつ行なわれ位
置合せ完了としていた。この１回の駆ｖＪにおいて、駆
動量の大きさが微動系の最大ストロークよりも大きい場
合は、粗動系を駆動して微動系のストローク不足を補う
ことになる。この結果、駆動系全体としての位置合せ精
度は、微動系よりも精度の低い粗動系の駆動精度に依存
する。従って、粗動系の駆動力伝達機構４の機械的ガタ
等に起因する位置合せ誤差が発生し、駆動系全体として
精度の高い位置合せができないという欠点があった。
置合せ完了としていた。この１回の駆ｖＪにおいて、駆
動量の大きさが微動系の最大ストロークよりも大きい場
合は、粗動系を駆動して微動系のストローク不足を補う
ことになる。この結果、駆動系全体としての位置合せ精
度は、微動系よりも精度の低い粗動系の駆動精度に依存
する。従って、粗動系の駆動力伝達機構４の機械的ガタ
等に起因する位置合せ誤差が発生し、駆動系全体として
精度の高い位置合せができないという欠点があった。
［発明の目的］
本発明は、上述の従来形の問題点に鑑み、前記微動系の
最大駆動ストロークがどれ程の大きさであるかというこ
とに制約されずに、常に精度の高い位置合せを可能とす
る自動焦点合せ装置を提供することを目的とする。
最大駆動ストロークがどれ程の大きさであるかというこ
とに制約されずに、常に精度の高い位置合せを可能とす
る自動焦点合せ装置を提供することを目的とする。
［実施例の説明］
以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
本発明は、第３図に示したような投影焼付装置に適用が
可能である。
可能である。
第４図は、縮小投影レンズ１とエアセンサのノズルおよ
びウェハ７の上面図を示す。１２〜１５は縮小投影レン
ズに取付けられた４ケのエアセンサのノズルであり、ウ
ェハ７の表面までの距離を測定している。ノズル１２〜
１５で測定した縮小投影レンズの端面からウェハ７の表
面までの距離を各々ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４とすると、
その平均距離は （ｄｌ ＋ｄ２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ） ／４
となる。所定の縮小投影レンズ１の結像面位置と縮小投
影レンズ１の端面間の距離をｄＯとすると、結像面位置
にウェハを移動させるのにはΔｄ＝ｄＯ−（ｄｌ ＋ｄ
２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４なる量Δｄだけウェハ７を
移動させれば良い。この結果、ウェハの平均面が結像面
位置となる。
びウェハ７の上面図を示す。１２〜１５は縮小投影レン
ズに取付けられた４ケのエアセンサのノズルであり、ウ
ェハ７の表面までの距離を測定している。ノズル１２〜
１５で測定した縮小投影レンズの端面からウェハ７の表
面までの距離を各々ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４とすると、
その平均距離は （ｄｌ ＋ｄ２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ） ／４
となる。所定の縮小投影レンズ１の結像面位置と縮小投
影レンズ１の端面間の距離をｄＯとすると、結像面位置
にウェハを移動させるのにはΔｄ＝ｄＯ−（ｄｌ ＋ｄ
２ ＋ｄ３ ＋ｄ４ ）／４なる量Δｄだけウェハ７を
移動させれば良い。この結果、ウェハの平均面が結像面
位置となる。
第５図は、ステップ・アンド・リピートタイプの投影露
光機で焼付ける際のウェハ７上のショットレイアウト並
びに縮小投影レンズ１およびエアセンサノズル１２〜１
５の配置を示す。同図において、１６はマトリックスで
示されるショットレイアウト、図中斜線で示した部分Ｓ
は現在、焼付を行なうショットを示す。
光機で焼付ける際のウェハ７上のショットレイアウト並
びに縮小投影レンズ１およびエアセンサノズル１２〜１
５の配置を示す。同図において、１６はマトリックスで
示されるショットレイアウト、図中斜線で示した部分Ｓ
は現在、焼付を行なうショットを示す。
第１図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
システムブロック図である。同図において、２１は装置
の操作を司どるコンソール、２１ａはコンソールの制御
を司どるコンソール制御ＣＰＵ（中央処理装置） 、２
１ｂはコンソール制御ＣＰＵの下で情報を一時的に記憶
するためのメモリ、２１ｃは種々の情報を入力するため
の入カキ−１２１ｄは入力した情報を表示するためのＣ
ＲＴディスプレイ、２１ｅは入力した情報等を記憶する
ための外部記憶装置である。２２は本体制御系、２２ａ
は本体制御を司どる本体制御ＣＰＵ、２２ｂは本体制御
ＣＰＵの下で情報を一時的に記憶するためのメモリであ
る。１２〜１５はウェハまでの距離を測定するエアセン
サノズル、２２ｄはエアセンサノズルの圧力を電圧に変
換するための電圧変換回路、２２ｃはその電圧変換回路
の出力をデジタル値に変換するだめのアナログ／デジタ
ル変換器（Ａ／Ｄコンバータ）である。２３は第３図の
３〜６に相当するＺユニット、２２ｅはそのＺユニット
を駆動するための７ユニツト駆動回路である。４０はエ
アセンサノズル１２〜１５やＺユニット２３以外の本体
ユニット、２２［はそれらの本体ユニットと本体制御Ｃ
ＰＵ２２ａとの仲立ちをするインターフェースである。
システムブロック図である。同図において、２１は装置
の操作を司どるコンソール、２１ａはコンソールの制御
を司どるコンソール制御ＣＰＵ（中央処理装置） 、２
１ｂはコンソール制御ＣＰＵの下で情報を一時的に記憶
するためのメモリ、２１ｃは種々の情報を入力するため
の入カキ−１２１ｄは入力した情報を表示するためのＣ
ＲＴディスプレイ、２１ｅは入力した情報等を記憶する
ための外部記憶装置である。２２は本体制御系、２２ａ
は本体制御を司どる本体制御ＣＰＵ、２２ｂは本体制御
ＣＰＵの下で情報を一時的に記憶するためのメモリであ
る。１２〜１５はウェハまでの距離を測定するエアセン
サノズル、２２ｄはエアセンサノズルの圧力を電圧に変
換するための電圧変換回路、２２ｃはその電圧変換回路
の出力をデジタル値に変換するだめのアナログ／デジタ
ル変換器（Ａ／Ｄコンバータ）である。２３は第３図の
３〜６に相当するＺユニット、２２ｅはそのＺユニット
を駆動するための７ユニツト駆動回路である。４０はエ
アセンサノズル１２〜１５やＺユニット２３以外の本体
ユニット、２２［はそれらの本体ユニットと本体制御Ｃ
ＰＵ２２ａとの仲立ちをするインターフェースである。
本実施例における装置の操作を司どるのはコンソール２
１である。オペレータはまず、入カキ−２１ｃからウェ
ハ７のサイズやＸＹ方向のステップ距離あるいは露光時
間等の諸情報をキーインする。
１である。オペレータはまず、入カキ−２１ｃからウェ
ハ７のサイズやＸＹ方向のステップ距離あるいは露光時
間等の諸情報をキーインする。
これらの情報はコンソール制御ｃ ｐ ｕ ２ｉａを通
じて−Ｈメモリ２１ｂに記憶される。コンソール制御Ｃ
Ｐ Ｕ ２１ａは、メモリ２１ｂに記憶された情報を計
算処理し、第５゛１に示すような各ショットの中心座標
や、エアセンサの有効／無効情報を算出する。
じて−Ｈメモリ２１ｂに記憶される。コンソール制御Ｃ
Ｐ Ｕ ２１ａは、メモリ２１ｂに記憶された情報を計
算処理し、第５゛１に示すような各ショットの中心座標
や、エアセンサの有効／無効情報を算出する。
ここで有効／無効情報というのは、エアセンサのノズル
がウェハ面上から外れているか否かを示すものである。
がウェハ面上から外れているか否かを示すものである。
即ち、ショット位置とエアセンサノズルの位置との関係
によりウェハ面上からノズルが外れる場合があるため、
これを予め算出しておき、測定時には有効なエアセンサ
ノズルのみ使用するための情報である。コンソール制御
ＣＰＵ２１ａにおけるこれらの算出結果は再びメモリ２
１ｂに記憶される。また、装置本体に起動をかける場合
も、やはりオペレータは入カキ−２１ｃから、起動指令
なるコードをキーインする。するとメモリ２１ｂに記憶
された情報が、コンソール制御ＣＰＵ２１ａを通じて本
体制御ＣＰ Ｕ ２２ａに伝達され、メモリ２２ｂに記
憶されて、本体に起動がかかる。本体装置の各ユニット
に対しては、本体ユニット制御系２２内の各インターフ
ェースを通じて、駆動あるいは信号処理が行なわれる。
によりウェハ面上からノズルが外れる場合があるため、
これを予め算出しておき、測定時には有効なエアセンサ
ノズルのみ使用するための情報である。コンソール制御
ＣＰＵ２１ａにおけるこれらの算出結果は再びメモリ２
１ｂに記憶される。また、装置本体に起動をかける場合
も、やはりオペレータは入カキ−２１ｃから、起動指令
なるコードをキーインする。するとメモリ２１ｂに記憶
された情報が、コンソール制御ＣＰＵ２１ａを通じて本
体制御ＣＰ Ｕ ２２ａに伝達され、メモリ２２ｂに記
憶されて、本体に起動がかかる。本体装置の各ユニット
に対しては、本体ユニット制御系２２内の各インターフ
ェースを通じて、駆動あるいは信号処理が行なわれる。
ウェハ７と縮小投影レンズ１との焦点合せは以下のよう
に行なう。まず、エアセンサノズル１２〜１５からの応
答圧力を電圧変換回路２２ｄによって、電気的信号に変
換する。この信号は、Ａ／Ｄコンバータ２２ｃによりデ
ジタルデータに変換され、本体制御ＣＰ ＩＪ ２２ａ
に伝達される。ＣＰ Ｕ ２２ａにおいては、前もって
メモリ２２ｂに記憶されているエアセンサの有効／無効
情報をもとに、有効なエアセンサによる測定値のみを抽
出して、瞬時に設定駆！＠Ｊ ｆｆｌを計算する。さら
に、ＣＰ Ｕ ２２ａはその設定駆動量よりパルスモー
タ３およびピエゾ５の駆動ωを計算し、その値を７ユニ
ツト駆動回路２２ｅに入力する。Ｚユニット２３におい
ては入力値に基づいて、パルスモータ３およびピエゾ５
が駆動され、ウェハの７方向への移動が行なわれる。
に行なう。まず、エアセンサノズル１２〜１５からの応
答圧力を電圧変換回路２２ｄによって、電気的信号に変
換する。この信号は、Ａ／Ｄコンバータ２２ｃによりデ
ジタルデータに変換され、本体制御ＣＰ ＩＪ ２２ａ
に伝達される。ＣＰ Ｕ ２２ａにおいては、前もって
メモリ２２ｂに記憶されているエアセンサの有効／無効
情報をもとに、有効なエアセンサによる測定値のみを抽
出して、瞬時に設定駆！＠Ｊ ｆｆｌを計算する。さら
に、ＣＰ Ｕ ２２ａはその設定駆動量よりパルスモー
タ３およびピエゾ５の駆動ωを計算し、その値を７ユニ
ツト駆動回路２２ｅに入力する。Ｚユニット２３におい
ては入力値に基づいて、パルスモータ３およびピエゾ５
が駆動され、ウェハの７方向への移動が行なわれる。
次に、第２図の）【］−チャートを参照して位置合ぜの
処理の流れについて説明する。位置合せが開始（ステッ
プ３０）されると、まずエアセ″ンサによりウェハ面ま
での距離を測定する（ステップ３１）。実際に測定して
いるのは、ウェハ７の表面とエアセンサノズル１２〜１
５の間の距離である。この測定により得られた値からウ
ェハ７の駆動量Δｄが算出される。この駆動■Δｄはパ
ルスモータ３の駆動量とピエゾ５の駆動量に振り分けら
れた後、Ｚ駆動が行なわれる（ステップ３２）。Ｚ駆動
後、再びエアセンサで計測を行ない駆動量Δｄを算出す
る（ステップ３３）。さらに、このΔｄの絶対値を定数
εと比較しくステップ３４）、Δｄの絶対値が定数ε以
下であれば位置合せ終了とする（ステップ３５）。前記
Δｄの絶対値がε以下でなければ前記４ｄを駆動口とし
てＺ駆動（ステップ３２）に戻り、再びステップ３２〜
３４の動作を繰り返す。即ち、位置合せ動作を反復する
。ここで、εの値は正に位置決め精度であるから適切に
設定する必要がある。また、εの値は入カキ−２１ｃか
ら入力するよ゛うにしてもよいし、予め外部記憶装置２
１ｅに記憶しておいてもよい。この値の設定および変更
が外部から可能となるようにしておけば、ユーザが位置
決め精度を適宜変更することができることとなり便宜で
ある。
処理の流れについて説明する。位置合せが開始（ステッ
プ３０）されると、まずエアセ″ンサによりウェハ面ま
での距離を測定する（ステップ３１）。実際に測定して
いるのは、ウェハ７の表面とエアセンサノズル１２〜１
５の間の距離である。この測定により得られた値からウ
ェハ７の駆動量Δｄが算出される。この駆動■Δｄはパ
ルスモータ３の駆動量とピエゾ５の駆動量に振り分けら
れた後、Ｚ駆動が行なわれる（ステップ３２）。Ｚ駆動
後、再びエアセンサで計測を行ない駆動量Δｄを算出す
る（ステップ３３）。さらに、このΔｄの絶対値を定数
εと比較しくステップ３４）、Δｄの絶対値が定数ε以
下であれば位置合せ終了とする（ステップ３５）。前記
Δｄの絶対値がε以下でなければ前記４ｄを駆動口とし
てＺ駆動（ステップ３２）に戻り、再びステップ３２〜
３４の動作を繰り返す。即ち、位置合せ動作を反復する
。ここで、εの値は正に位置決め精度であるから適切に
設定する必要がある。また、εの値は入カキ−２１ｃか
ら入力するよ゛うにしてもよいし、予め外部記憶装置２
１ｅに記憶しておいてもよい。この値の設定および変更
が外部から可能となるようにしておけば、ユーザが位置
決め精度を適宜変更することができることとなり便宜で
ある。
本実施例によれば、各ステップで７駆動する毎にエアセ
ンサで再計測して駆動位置を再確認し、ある一定の誤差
範囲に収まるまで再計測・駆動を繰返している。従って
、常に一定の精度を維持して焦点合せが実行でき、さら
に所定値として小さい値を設定することにより、より精
度の高い位置決めが可能となった。
ンサで再計測して駆動位置を再確認し、ある一定の誤差
範囲に収まるまで再計測・駆動を繰返している。従って
、常に一定の精度を維持して焦点合せが実行でき、さら
に所定値として小さい値を設定することにより、より精
度の高い位置決めが可能となった。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、位置検知手段の
出力から算出した設定駆動量の絶対値と所定値とを比較
し、この絶対値が所定値以下のときは焦点合せ動作を終
了し、そうでないときは再度焦点合せ動作を反復するよ
うにしているので、微動系の最大駆動ストロークがどれ
程の大きさであるかということに制約されずに、常に高
い位置決め精度を維持できる。
出力から算出した設定駆動量の絶対値と所定値とを比較
し、この絶対値が所定値以下のときは焦点合せ動作を終
了し、そうでないときは再度焦点合せ動作を反復するよ
うにしているので、微動系の最大駆動ストロークがどれ
程の大きさであるかということに制約されずに、常に高
い位置決め精度を維持できる。
第１図は、本発明の一実施例に係る自動焦点合せ装置の
システムブロック図、 第２図は、第１図の装置における処理手順を示ずフロー
チャート、 第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の縮小投影レンズおよびエアセンサ部分の断
面図、 第４図は、縮小投影レンズとエアセンサのノズルおよび
ウェハの上面図、 第５図は、ウェハ上のショットレイアウト並びに縮小投
影レン、ズおよびエアセンサノズルの配置を示す図であ
る。 １・・・縮小投影レンズ、 ２．１２〜１５・・・エアセンサノズル、３・・・パル
スモータ、４・・・駆動力伝達機構、５・・・ピエゾ、
６・・・Ｚステージ、７・・・ウェハ、２１・・・コン
ソール、２２・・・本体制御系。
システムブロック図、 第２図は、第１図の装置における処理手順を示ずフロー
チャート、 第３図は、従来例であり本発明の適用対象例でもある投
影焼付装置の縮小投影レンズおよびエアセンサ部分の断
面図、 第４図は、縮小投影レンズとエアセンサのノズルおよび
ウェハの上面図、 第５図は、ウェハ上のショットレイアウト並びに縮小投
影レン、ズおよびエアセンサノズルの配置を示す図であ
る。 １・・・縮小投影レンズ、 ２．１２〜１５・・・エアセンサノズル、３・・・パル
スモータ、４・・・駆動力伝達機構、５・・・ピエゾ、
６・・・Ｚステージ、７・・・ウェハ、２１・・・コン
ソール、２２・・・本体制御系。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、平板状物体を水平方向にステップ移動させる移動手
段と、投影光学系の結像面と上記物体面との距離を測定
する位置検知手段と、該位置検知手段の測定値出力から
算出される位置情報を設定駆動量として上記物体および
投影光学系を光軸方向に相対的に駆動する駆動手段とを
備え、各ステップ移動後、該物体面の各領域を順次投影
光学系の結像面に一致することを可能とする自動焦点合
せ装置であつて、 上記設定駆動量の絶対値と所定値とを比較する手段と、 上記比較において上記絶対値が上記所定値以下のときは
焦点合せ動作を終了し、上記絶対値が上記所定値を越え
るときは焦点合せのための一連の動作を反復する動作制
御手段と を有することを特徴とする自動焦点合せ装置。 ２、前記所定値が、外部から変更可能である特許請求の
範囲第１項記載の自動焦点合せ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230027A JPS6290933A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 自動焦点合せ装置 |
| US06/843,392 US4714331A (en) | 1985-03-25 | 1986-03-24 | Method and apparatus for automatic focusing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230027A JPS6290933A (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | 自動焦点合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6290933A true JPS6290933A (ja) | 1987-04-25 |
Family
ID=16901420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60230027A Pending JPS6290933A (ja) | 1985-03-25 | 1985-10-17 | 自動焦点合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6290933A (ja) |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP60230027A patent/JPS6290933A/ja active Pending
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